CN104538425B - 一种阻挡膜及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种阻挡膜及其制作方法、显示装置。本发明实施例提供一种阻挡膜，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。本发明实施例中通过将无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，使得无机层是不连续的，不在同一层中，这样在弯曲过程中就可避免出现应力集中的现象，降低了无机层断裂的风险。

Description

一种阻挡膜及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阻挡膜及其制作方法，已经包括该阻挡膜的显示装置。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管)器件在显示领域中的应用越来越多。OLED器件用于形成金属阴极的活泼金属容易与空气中的水汽和氧气发生反应，影响电荷的注入，渗透进来的水汽和氧气还会与有机材料发生化学反应，从而导致OLED器件的性能下降。对于由柔软的材料制成的柔性显示器来说，采用的阻挡膜通常是由有机层和无机层制成的叠层结构，将该阻挡膜封装在OLED器件上，以防止水汽和氧气与金属发生反应。

然而，由于柔性显示装置在变形弯曲的过程中，阻挡膜也发生形变，如图1所示，为阻挡膜发生形变的状态示意图，该阻挡膜包括有机层101和无机层102。当阻挡膜发生形变时，阻挡膜中的无机层间将产生应力，进而导致无机层发生断裂现象，如图2所示，为阻挡膜的无机层出现裂缝现象的状态示意图，由于无机层中裂缝103的出现，将会导致水汽和氧气能够通过裂缝103进入，进而破坏了阻挡膜的水氧阻隔作用，导致柔性显示装置中的OLED器件的性能下降，寿命缩短。

发明内容

本发明实施例提供一种阻挡膜及其制作方法、显示装置，用以实现解决现有技术中阻挡膜发生形变的过程中，阻挡膜中的无机层因应力而出现断裂现象的技术问题。

本发明实施例提供的一种阻挡膜，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。

本发明实施例提供一种显示装置，包括柔性基板及设置于所述柔性基板上的发光器件，所述柔性基板包括相对设置的第一面和第二面，所述发光器件设置在所述第一面上，所述发光器件上设置有上述实施例中所述的阻挡膜。

本发明实施例提供一种阻挡膜的制作方法，包括：

提供一基板，在所述基板上形成所述阻挡膜；

形成所述阻挡膜的过程包括在所述基板上形成第一有机膜层，所述第一有机膜层上形成有第一凹槽；在所述第一有机膜层上形成至少一层无机膜层；在所述无机膜层上形成第二有机膜层；

将所述阻挡膜与所述基板分离。

本发明实施例提供一种阻挡膜，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。本发明实施例中通过将无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，使得无机层是不连续的，不在同一层中，这样在弯曲过程中就可避免出现应力集中的现象，降低了无机层断裂的风险。

附图说明

图1为现有技术中阻挡膜发生形变的状态示意图；

图2为现有技术中阻挡膜的无机层出现裂缝现象的状态示意图；

图3为本发明实施例一提供的一种阻挡膜示意图；

图4为本发明实施例二提供的一种阻挡膜示意图；

图5为本发明实施例二提供的另一种阻挡膜示意图；

图6为本发明实施例二提供的第三种阻挡膜示意图；

图7为本发明实施例三提供的一种显示装置示意图；

图8为本发明实施例三提供的一种阻挡膜制作方法所对应的流程示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

本发明实施例提供一种阻挡膜，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。

具体地，如图3所示，图3为本发明实施例一提供的一种阻挡膜示意图，该阻挡膜包括第一有机膜层301、第二有机膜层302以及无机膜层303，第一有机膜层301形成有第一凹槽p31，设置于第一有机膜层301上的无机膜层303填充第一凹槽p31，第二有机膜层302设置于无机膜层303上，且第二有机膜层302为平坦化层。

为避免阻挡膜形变过程中，无机膜层产生的应力过于集中而出现龟裂现象，本发明实施例中可设置无机膜层303的厚度小于或等于第一凹槽p31的深度，以使得无机膜层303不在同一层上，降低无机膜层303出现龟裂现象的风险。

实施例二

图4为本发明实施例二提供的一种阻挡膜示意图。该阻挡膜包括第一有机膜层401、第二有机膜层402、无机膜层403以及有机膜层404；第一有机膜层401形成有第一凹槽p41，设置于第一有机膜层401上的无机膜层403填充第一凹槽p41，且无机膜层403的厚度小于或等于第一凹槽p41的深度；有机膜层404和无机膜层403交替间隔堆叠，无机膜层403的层数为至少两层，第一有机膜层401与设置在其上的无机膜层403相邻，第二有机膜层402与堆叠在有机膜层404上的无机膜层403相邻，且第二有机膜层402为平坦化层；第一有机膜层401、第二有机膜层402及有机膜层404的厚度均大于无机膜层403的厚度。

可选地，本发明实施例可根据阻挡膜所需的水氧阻隔能力来设定第一有机膜层401和第二有机膜层402之间填充的无机膜层403和有机膜层404的层数。第一有机膜层401和第二有机膜层402之间填充的无机膜层403和有机膜层404的层数越多，则阻挡膜的水氧阻隔能力越强。

本发明实施例中所设置的无机膜层403的层数和有机膜层404的层数是相对应的。例如，若第一有机膜层401和第二有机膜层402之间填充的有机膜层404的层数为一层，则填充的无机膜层403的层数应为两层；若第一有机膜层401和第二有机膜层402之间填充的有机膜层404的层数为两层，则填充的无机膜层403的层数应为三层；以此类推。

下面结合图4以无机膜层403的层数为两层来做具体说明。

如图4所示，第一有机膜层401上形成有第一凹槽p41，设置在第一有机膜层401上的无机膜层403a填充第一凹槽p41；无机膜层403a上形成有第三凹槽p43，其上设置有机膜层404，且有机膜层404上形成有第二凹槽p42；设置于有机膜层404上的无机膜层403b填充第二凹槽p42，设置于无机膜层403a上的有机膜层404填充第三凹槽p43；无机膜层403b上设置有第二有机膜层402。

为避免阻挡膜形变过程中，无机膜层产生的应力过于集中而出现龟裂现象，无机膜层403的厚度小于等于第一凹槽p41和第二凹槽p42的深度。

第一凹槽p41、第二凹槽p42和第三凹槽p43底部的宽度相同，且由第一有机膜层401往上的方向上相对设置，即在第一有机膜层401的凹槽对应位置上依次设置第一凹槽p41、第三凹槽p43和第二凹槽p42。第一凹槽p41垂直于第一有机膜层401的横截面与第二凹槽p42、第三凹槽p43垂直于第一有机膜层401的横截面的形状相同，从而使得无机膜层403的应力可以均匀分散，防止弯曲过程中无机膜层403上的某一部分的应力过于集中而出现龟裂现象。

上述实施例一和实施例二中，第一凹槽垂直于第一有机膜层的横截面为矩形。以上仅为本发明实施例的一种实施方式，本发明的实施方式还可以为，第一凹槽垂直于第一有机膜层的横截面可以为梯形，其中，所述梯形顶部的宽度大于底部的宽度。如图5所示，为本发明实施例二提供的另一种阻挡膜示意图。该阻挡膜包括第一有机膜层501、第二有机膜层502、无机膜层503以及有机膜层504；第一有机膜层501上形成有第一凹槽p51，设置在第一有机膜层501上的无机膜层503a填充第一凹槽p51；无机膜层503a上设置有机膜层504，且有机膜层上形成有第二凹槽p52，无机膜层503a上形成有第三凹槽p53；设置于有机膜层504上的无机膜层503b填充第二凹槽p52，设置于无机膜层503a上的有机膜层504填充第三凹槽p53；无机膜层503b上设置有第二有机膜层502。第一凹槽p51、第二凹槽p52以及第三凹槽p53垂直于第一有机膜层501的横截面为梯形，且所述梯形顶部的宽度大于底部的宽度。

可选地，本发明实施例中交替堆叠的第二凹槽p52和第三凹槽p53底部的宽度可以相同，也由第一有机膜层501往上的方向上逐渐变小，本发明实施例对此不做限定。如图6为本发明实施例二提供的第三种阻挡膜示意图，如图中所示，交替堆叠的第二凹槽p52和第三凹槽p53底部的宽度由第一有机膜层501往上的方向上逐渐变小，更好地保障了无机膜层不易断裂且增大了水汽进入的难度。

本发明实施例提供一种阻挡膜，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。本发明实施例中通过将无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，使得无机层是不连续的，不在同一层中，这样在弯曲过程中就可避免出现应力集中的现象，降低了无机层断裂的风险。

实施例三

本发明实施例三提供一种显示装置，包括柔性基板及设置于所述柔性基板上的发光器件，所述柔性基板包括相对设置的第一面和第二面，所述发光器件设置在所述第一面上，所述发光器件上设置有第一薄膜，所述第一薄膜包括上述实施例中所述的阻挡膜。

如图7所示，为本发明实施例三提供的一种显示装置示意图，该显示装置包括柔性基板701及设置于柔性基板701上的发光器件702，本发明实施例中的发光器件702为OLED器件，柔性基板701包括相对设置的第一面和第二面，发光器件702设置在第一面上，第一薄膜703包括上述实施例中所述的阻挡膜，并通过封装胶设置在发光器件702上。由于上述阻挡膜的无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，使得无机层不在同一层中，因此在弯曲过程中不易出现断裂现象，具有良好的水氧阻挡作用，能够有效避免发光器件受到水氧的影响，延长显示装置的寿命。

较佳地，在柔性基板701的第二面上设置有第二薄膜704，第二薄膜704包括上述实施例中所述的阻挡膜，从而进一步提高显示装置的水氧阻隔作用。

图8为本发明实施例提供的一种阻挡膜的制作方法所对应的流程示意图，包括步骤801至步骤803：

步骤801，提供一基板；

步骤802，在所述基板上形成所述阻挡膜；

在步骤802中，形成所述阻挡膜的过程包括：采用压印、喷墨打印或者PVD配合干刻的方式在所述基板上形成第一有机膜层，在所述第一有机膜层上形成第一凹槽；采用气相沉积的方式在所述第一有机膜层上形成一层无机膜层，使所述无机膜层填充到第一凹槽中，在所述无机膜层上形成第二凹槽。

可选地，根据阻挡膜的水氧阻隔能力，可设置一层或一层以上的无机膜层。当设置一层无机膜层时，在所述无机膜层上设置第二有机膜层，使第二有机膜层填充到所述第二凹槽中，并将所述第二有机膜层设置为平坦化层；当设置一层以上的无机膜层时，在所述无机膜层上设置有机膜层，使所述有机膜层填充到所述第二凹槽中，在所述有机膜层上形成第三凹槽，在所述有机膜层上设置无机膜层，使所述无机膜层填充到所述第三凹槽中，采用上述方式，依次交替设置无机膜层、有机膜层，最后在形成的无机膜层上设置第二有机膜层，使第二有机膜层填充到所述第二凹槽中，并将所述第二有机膜层设置为平坦化层。

步骤803，将所述阻挡膜与所述基板分离，得到可用于显示装置中的阻挡膜。

从上述内容可以看出：本发明实施例提供一种阻挡膜，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。本发明实施例中通过将无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，使得无机层是不连续的，不在同一层中，这样在弯曲过程中就可避免出现应力集中的现象，降低了无机层断裂的风险。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种阻挡膜，其特征在于，所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层，所述第一有机膜层形成有第一凹槽，所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层，所述无机膜层填充所述第一凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，所述第一凹槽使得所述无机膜层为非连续结构；所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层，所述第二有机膜层为平坦化层。

2.如权利要求1所述的阻挡膜，其特征在于，所述第一有机膜层和所述第二有机膜层之间还设置有至少一层有机膜层，所述有机膜层和所述无机膜层交替间隔堆叠。

3.如权利要求2所述的阻挡膜，其特征在于，所述第一凹槽垂直于所述第一有机膜层的横截面为四边形，所述四边形为矩形或者梯形，其中，所述梯形顶部的宽度大于底部的宽度。

4.如权利要求3所述的阻挡膜，其特征在于，所述有机膜层形成有第二凹槽，且所述无机膜层的厚度小于等于所述第二凹槽的深度；所述无机膜层上形成有第三凹槽；所述第二凹槽、第三凹槽与所述第一凹槽相对设置。

5.如权利要求4所述的阻挡膜，其特征在于，所述第一凹槽垂直于所述第一有机膜层的横截面与所述第二凹槽、第三凹槽垂直于所述第一有机膜层的横截面的形状大小相同。

6.如权利要求4所述的阻挡膜，其特征在于，所述第一凹槽垂直于所述第一有机膜层的横截面与所述第二凹槽、第三凹槽垂直于所述第一有机膜层的横截面的形状相同；交替堆叠的所述第二凹槽和所述第三凹槽底部的宽度由所述第一有机膜层往上的方向上逐渐变小。

7.如权利要求2所述的阻挡膜，其特征在于，所述第一有机膜层、所述第二有机膜层及所述有机膜层的厚度均大于所述无机膜层的厚度。

8.一种显示装置，其特征在于，包括柔性基板及设置于所述柔性基板上的发光器件，所述柔性基板包括相对设置的第一面和第二面，所述发光器件设置在所述第一面上，所述发光器件上设置有如权利要求1至7中任一项所述的阻挡膜。

9.如权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述第二面上设置有如权利要求1至7中任一项所述的阻挡膜。

10.一种阻挡膜的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，在所述基板上形成所述阻挡膜；

形成所述阻挡膜的过程包括在所述基板上形成第一有机膜层，所述第一有机膜层上形成有第一凹槽；在所述第一有机膜层上形成至少一层无机膜层，所述第一凹槽使得所述无机膜层为非连续结构，在所述无机膜层上形成第二有机膜层；

将所述阻挡膜与所述基板分离。

11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，在所述第一有机膜层和所述第二有机膜层之间形成至少一层有机膜层，所述第一有机膜层与所述第二有机膜层分别与所述无机膜层相邻设置，所述有机膜层和所述无机膜层交替间隔堆叠。

12.如权利要求10或11所述的制作方法，其特征在于，采用压印、喷墨打印或者PVD配合干刻的方式形成所述第一层有机膜层、所述有机膜层和所述第二有机膜层。

13.如权利要求10或11所述的制作方法，其特征在于，采用气相沉积的方式形成所述无机膜层。