CN104245855B - 黑色矩阵用炭黑及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供具备高绝缘性和优异隐蔽性的黑色矩阵用炭黑。一种黑色矩阵用炭黑，其是将炭黑的表面用阴离子性或非离子性的深色系染料被覆而成的。前述炭黑在表面具有至少1种酸性官能团，前述染料利用金属进行色淀化并固定于前述炭黑的表面或前述酸性官能团。

Description

黑色矩阵用炭黑及其制造方法

技术领域

本发明涉及黑色矩阵用炭黑。详细而言，涉及具备高绝缘性和优异隐蔽性的黑色矩阵用炭黑。

背景技术

对于液晶显示装置等中使用的彩色滤光片而言，通过在着色为不同色相的像素之间形成黑色矩阵来阻断光、提高对比度、防止色纯度的降低。

作为所述黑色矩阵的形成方法，一直以来进行了如下方法：在玻璃基板上通过溅射等形成Cr等的金属薄膜，在该金属薄膜上涂布光致抗蚀剂并通过光掩模来照射紫外线后，进行显影处理而得到抗蚀图案，通过蚀刻等来去除不需要的部分，但存在需要去除金属的设备等、制造成本也高的问题。

相对于此，已知使用向光聚合性化合物中分散有炭黑的黑色矩阵形成材料来形成黑色矩阵的方法。根据所述方法，由于材料廉价且制造工序也简单，因此能够以极低的成本来制造黑色矩阵，但由于炭黑具有导电性，为了提高遮光性而增加树脂中的炭黑浓度时，存在如下问题：所形成的黑色矩阵自身也具有导电性，彩色滤光片上的透明电极与黑色矩阵之间、对向电极之间发生导通而容易引起图像不良。

因而，提出了将炭黑用各种树脂进行被覆从而改善了绝缘性的黑色矩阵用炭黑（例如参照专利文献1~4）。根据这些方法，通过在炭黑的表面形成树脂被覆膜，Ca、Na等离子性物质被封在内部，导体彼此的接触得以绝缘，进而电子变得无法跃迁，因此实现了高绝缘性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平9-124969号公报

专利文献2：日本特开平11-080584号公报

专利文献3：日本特开2001-152046号公报

专利文献4：日本特开2002-249678号公报。

发明内容

发明要解决的课题

然而，在上述现有技术中，因所被覆的树脂的部分导致黑色矩阵中的炭黑的比率降低，因此存在隐蔽性（OD）变低、对比度或色纯度降低这一问题，从而存在必须加厚黑色矩阵的涂膜、制造成本增加这一问题。另外，存在如下问题：为了被覆树脂而使用有机溶剂，因此需要针对制造时的安全性、对环境的影响等采取对策，例如需要作业场所的排气设备、干燥机的防爆设备、废水的处理设备等庞大的设备投资。

本发明是鉴于上述现有技术中存在的问题点而进行的，其目的在于提供一种黑色矩阵用炭黑，其在液晶显示装置等的彩色滤光片中，保持高绝缘性且发挥优异的隐蔽性，即使涂膜较薄也能够实现高对比度、色纯度。

本发明的其它目的在于，提供不会环境造成不良影响、能够安全且低成本地制造的黑色矩阵用炭黑。

用于解决问题的手段

本发明的上述目的是通过下述手段而实现的。

（1）即，本发明是黑色矩阵用炭黑，其是将炭黑的表面用染料被覆而成的。

（2）本发明还是（1）所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述染料的含有率为0.5~10重量%。

（3）本发明还是（1）或（2）所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述染料为阴离子性或非离子性的染料。

（4）本发明还是（1）~（3）中任一项所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述染料为深色系的染料。

（5）本发明还是（1）~（4）中任一项所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述染料利用金属或金属盐进行色淀化。

（6）本发明还是（5）所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述金属或金属盐是铝、镁、钙、锶、钡或锰或者它们的盐。

（7）本发明还是（1）~（6）中任一项所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述炭黑的表面具有至少1种含有氧的官能团。

（8）本发明还是（7）所述的黑色矩阵用炭黑，其中，前述含有氧的官能团是羟基、氧代基、过氧羟基、羰基、羧基、过氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亚硝基、酰胺基、酰亚胺基、磺酸基、亚磺酸基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亚碘酰基或碘酰基。

（9）进而，本发明是黑色矩阵用炭黑的制造方法，其具有向炭黑的浆料中添加染料，从而将炭黑的表面用染料被覆的染料被覆工序。

（10）本发明还是（9）所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其特征在于，前述染料被覆工序以所得染料被覆炭黑中的前述染料的含有率达到0.5~10重量%的方式添加前述染料。

（11）本发明还是（9）或（10）所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，前述染料为阴离子性或非离子性的染料。

（12）本发明还是（9）~（11）中任一项所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，前述染料是深色系的染料。

（13）本发明还是（9）~（12）中任一项所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其还具有：将前述染料被覆工序中得到的染料被覆炭黑表面的染料利用金属或金属盐进行色淀化的染料色淀化工序。

（14）本发明还是（13）所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，前述金属或金属盐为铝、镁、钙、锶、钡或锰或者它们的盐。

（15）本发明还是（9）~（14）中任一项所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其还具有：将供于前述染料被覆工序的前述炭黑的表面用氧化剂进行氧化处理的氧化处理工序。

（16）本发明还是（15）所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，前述氧化剂为臭氧气体、硝酸、次氯酸钠、过氧化氢、一氧化氮气体、二氧化氮气体、三氧化硫、氟气体、浓硫酸、硝酸或各种过氧化物。

发明的效果

本发明的黑色矩阵用炭黑是将炭黑的表面用染料被覆而成的，因此在用于液晶显示装置等的彩色滤光片的黑色矩阵时，会保持高绝缘性且发挥出优异的隐蔽性，即使涂膜较薄也能够实现高对比度、色纯度。另外，不需要如以往的树脂被覆炭黑那样地为了提高隐蔽性而加厚涂膜，能够抑制制造成本。

进而，不会如以往的树脂被覆炭黑那样地使用有机溶剂，因此能够安全性地制造而不会环境造成不良影响等，也不需要庞大的设备投资，因此能够进一步降低制造成本。

具体实施方式

以下，针对本发明的实施方式进行详细说明。

本发明的黑色矩阵用炭黑的特征在于，炭黑的表面用染料进行了被覆。

本发明中利用的原料炭黑的种类没有特别限定，可以利用灯黑、乙炔黑、热炭黑、槽法炭黑、炉法炭黑等已知的炭黑。

另外，原料炭黑的平均一次粒径优选为5~60nm、更优选为10~50nm、特别优选为20~45nm。此处，平均一次粒径是指用电子显微镜对1500个炭黑颗粒进行观察而求得的粒径的加权平均值。原料炭黑的平均一次粒径不足上述下限时，容易引起聚集、研磨料的稳定性变差，在高浓度下的分散变得困难，另一方面，超过上述上限时，黑色矩阵容易产生形状不良、表面粗糙度也变差，因此均不优选。

另外，原料炭黑的DBP吸油量优选为100ml/100g以下。此处，DBP吸油量是指100g炭黑所吸收的邻苯二甲酸二丁酯（DBP）的容量（JIS6217）。原料炭黑的DBP吸油量超过上述上限时，电阻值降低，另外粘度变高，因此涂布性变差、黑色度降低，故不优选。

进而，原料炭黑的pH值优选为2~10、更优选为5~9、特别优选为4~8。此处，pH值是指用玻璃电极pH计对炭黑与蒸馏水的混合液进行测定而得的值（JIS6221）。原料炭黑的pH不足上述下限时，整体的平衡会失衡、稳定性变差，而超过上述上限时，容易发生膜剥落，故均不优选。

进而，原料炭黑可适合地利用灰分为1.0%以下、比表面积为20~300m²/g的炭黑。灰分超过上述上限时，电阻值会降低，故不优选，另外，比表面积低于上述下限时，容易产生黑色矩阵的形状不良，而超过上述上限时，需要大量的分散剂、树脂、染料等，故均不优选。

另外，原料炭黑优选事先实施氧化处理而使表面具有至少1种含有氧的官能团，更优选实施多种氧化处理而使表面具有两种以上的含有氧的官能团。未事先实施氧化处理的炭黑在表面不具有含有氧的官能团或含有氧的官能团的数量不充分，因此无法充分地确保所得黑色矩阵用炭黑的分散性、电阻值降低而黑色矩阵的绝缘性变得不充分、彩色滤光片上的透明电极与黑色矩阵之间或对向电极之间发生导通而容易引起图像不良，故不优选。作为所述氧化处理，可列举出使用臭氧气体、硝酸、次氯酸钠、过氧化氢、一氧化氮气体、二氧化氮气体、三氧化硫、氟气体、浓硫酸、硝酸、各种过氧化物等的方法，作为前述含有氧的官能团，可列举出羟基、氧代基、过氧羟基、羰基、羧基、过氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亚硝基、酰胺基、酰亚胺基、磺酸基、亚磺酸基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亚碘酰基、碘酰基等。

作为本发明中利用的染料，只要是能够吸附于炭黑的表面的染料就没有特别限定，可以利用已知的碱性染料、酸性染料、直接染料、反应性染料等，由于磺基、羧基与炭黑上的官能团发生相互作用、氨基与碱可溶性树脂发生反应、能够以硫酸铝等进行不溶化等，因此可更适合地利用阴离子性或非离子性的染料。另外，为了使所得黑色矩阵的遮光性变得更高，优选使用光吸收性高的接近黑色的深色系染料。作为这样的染料的具体例，可列举出Food Black No.1、Food Black No.2、Food Red No.40、Food Blue No.1、Food YellowNo.7等食用色素染料；Bernacid Red 2BMN、Basacid Black X34(BASF X-34)（BASF公司制）、Kayanol Red 3BL(Nippon Kayaku Company公司制)、Dermacarbon 2GT(Sandoz公司制)、Telon Fast Yellow 4GL-175、BASF Basacid Black SE 0228、Basacid Black X34(BASF X-34)（BASF公司制）、Basacid Blue 750(BASF公司制)、Bernacid Red（Bemcolors,Poughkeepsie, N. Y.公司制）、BASF Basacid Black SE 0228（BASF公司制）等各色酸性染料；Pontamine Brilliant Bond Blue A及其它Pontamine Brilliant Bond Blue A及其它Pontamine（注册商标）染料（Bayer Chemicals Corporation、Pittsburgh，PA公司制)、Cartasol Yellow GTF Presscake（Sandoz, Inc公司制）；Cartasol Yellow GTF LiquidSpecial 110（Sandoz, Inc.公司制）；Yellow Shade 16948（Tricon公司制）、DirectBrilliant Pink B(Crompton & Knowles公司制)、Carta Black 2GT（Sandoz, Inc.公司制）、Sirius Supra Yellow GD 167、Cartasol Brilliant Yellow 4GF(Sandoz公司制)、Pergasol Yellow CGP(Ciba-Geigy公司制)、Pyrazol Black BG(JCI公司制)、DiazolBlack RN Quad(JCJ公司制)、Pontamine Brilliant Bond Blue; Berncolor A. Y. 34等各色的直接染料；Cibacron Brilliant Red 3B-A(Reactive Red 4)（Aldrich Chemical、Milwaukee，WI公司制)、Drimarene Brilliant Red X-2B(Reactive Red 56)（PylamProducts, Inc. Tempe，AZ公司制)、Levafix Brilliant Red E-4B，Levafix BrilliantRed F-6BA以及类似的Levafix（注册商标）dyes Dystar L. P.(Charlotte，NC公司制)制的染料、Procion Red H8B(Reactive Red 31)（JCI America公司制）等各色的反应性染料；Neozapon Red 492(BASF公司制)、Orasol Red G(Ciba-Geigy公司制)、Aizen SpilonRedC-BH(Hodogaya Chemical Company制)、Spirit Fast Yellow 3G、Aizen SpilonYellow C-GNH(Hodogaya Chemical Company制)、Orasol Black RL(Ciba-Geigy公司制)、Orasol Black RLP(Ciba-Geigy公司制)、Savinyl Black RLS(Sandoz公司制)、OrasolBlue GN (Ciba-Geigy公司制)、Luxol BlueMBSN (Morton-Thiokol公司制)、MorfastBlack Concentrate A(Morton-Thiokol公司制)等油溶性染料等。它们可以单独利用，或者也可以将两种以上组合利用。

另外，本发明的黑色矩阵用炭黑中的前述染料的含量优选为0.5~10质量%、更优选为1~7质量%、特别优选为1~5质量%。染料的含量不足上述下限时，被覆变得不充分、无法获得高电阻值，而超过上述上限时，未进行被覆的剩余染料会损害分散性、容易引起增稠·聚集，故均不优选。

进而，本发明的黑色矩阵用炭黑优选利用金属或金属盐对前述染料进行了色淀化。通过所述色淀化，染料通过金属或金属盐而被固定于炭黑的表面、前述含有氧的官能团，染料变得难以从炭黑的表面脱离，因此染料变得难以溶出、能够维持高的遮蔽性。作为所述色淀化中利用的金属或金属盐，可列举出铝、镁、钙、锶、钡或锰或者它们的盐酸盐、硫酸盐等，它们可以单独使用或者将两种以上组合使用。色淀化中利用的金属或金属盐的添加量相对于染料优选为0.3倍摩尔以上、更优选为0.5倍摩尔以上、特别优选为0.8倍摩尔以上。金属或金属盐的添加量不足上述添加量时，染料的固定变得不充分而容易从炭黑表面脱离、研磨料的稳定性差、电阻值也会降低，故不优选。

接着，针对本发明的黑色矩阵用炭黑的制造方法进行说明。首先，将作为原料的炭黑与水（向自来水中适当混合离子交换水以使电导率达到恒定从而制备的水，以下相同）混合而制成浆料，加热搅拌规定时间并对炭黑进行洗涤处理，冷却后再次水洗。接着，向所得炭黑中添加水而再次制成浆料，添加上述氧化剂而以规定温度搅拌规定时间，从而对炭黑的表面进行氧化处理，进行水洗。氧化处理根据需要多次变更氧化剂的种类来进行。接着，将所得进行了氧化处理的炭黑与水混合而再次制成浆料，以相对于目标黑色矩阵用炭黑达到前述规定含量的方式添加染料，以40~90℃搅拌1~5小时，使染料吸附于炭黑的表面而进行被覆。进而，添加与所添加的染料为等摩尔的上述金属或金属盐，以30~70℃搅拌1~5小时，将染料用金属或金属盐进行色淀化，从而使染料固定于炭黑的表面。并且，将其冷却后水洗，进行过滤干燥，从而能够获得目标黑色矩阵用炭黑。

使本发明的黑色矩阵用炭黑与光固化性树脂或光聚合性化合物以及溶剂混合、分散，从而能够用作黑色矩阵形成用组合物。作为所述光聚合性化合物，只要是照射紫外线时会固化而形成覆膜的光聚合性化合物就没有特别限定，可以利用已知的光聚合性化合物。具体而言，可列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、马来酰亚胺、巴豆酸、衣康酸、肉桂酸、乙烯醇等以及它们的衍生物；它们与具有异氰酸酯基、酸酐基等的化合物的反应产物；乙烯基树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂、聚醚树脂等主链或侧链通过酯键、酰胺键、氨酯键等而导入了丙烯酰基或甲基丙烯酰基的树脂等，优选为结构中具有羧基、酚性羟基等碱溶解性官能团且具有碱显影性的树脂，特别优选为具有双酚芴型环氧基二丙烯酸酯结构的树脂。另外，作为前述溶剂，可列举出丙二醇单甲醚乙酸酯、甲氧基丁基乙酸酯、环己酮、乙基溶纤素乙酸酯、丁基溶纤素乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、乙二醇二乙醚、二甲苯、乙基溶纤素、甲基正戊基酮、丙二醇单甲醚、甲苯、甲乙酮、乙酸乙酯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、异丁酮等，可特别适合地利用丙二醇单甲醚乙酸酯、甲氧基丁基乙酸酯、环己酮等。

接着，示出实施例来更详细地说明本发明的黑色矩阵用炭黑，但本发明不限定于这些实施例。

实施例 1

染料被覆炭黑（经氧化处理）的制备

将炭黑（TPX-1099：cabot公司制）1000g与水混合来制备10L浆料，以95℃搅拌1小时，自然冷却后进行水洗。将其再次与水进行混合处理来制备10L浆料，添加70%的硝酸42.9g，以40℃搅拌4小时。将其自然冷却并水洗后，再次与水混合而制备10L浆料，添加13%的次氯酸钠水溶液769.2g，以40℃搅拌6小时。将其自然冷却并水洗后，再次与水混合来制备10L浆料，添加纯度为38.4%的染料（Direct Deep BLACK）38.1g，以40℃搅拌1小时，其后进一步添加硫酸铝10.1g，以40℃搅拌1小时。将其自然冷却后进行水洗，过滤干燥而得到本发明的黑色矩阵用炭黑。

羧基量的测定

按照日本专利特开2000-248197号公报中记载的方法，如下那样测定所得染料被覆炭黑的含有氧的官能团量（羧基量）。

称量10g染料被覆炭黑，在0.1当量的碳酸氢钠水溶液50ml中振荡1小时，使其反应后过滤，采取滤液的上清液20ml，用0.01当量的盐酸水溶液进行滴定。羧基量以1g炭黑中的毫摩尔量（mmol/g）的形式按照下式来求得。

羧基量=（50/20×0.01×（滴定量-空滴定量））/炭黑试样质量

所得染料被覆炭黑的羧基量为53.9mmol/g。

实施例 2

染料被覆炭黑（未经氧化处理）的制备

除了未利用硝酸和次氯酸钠水溶液实施氧化处理之外，进行与实施例1基本相同的处理，从而得到本发明的黑色矩阵用炭黑。所得染料被覆炭黑的羧基量为3.4mmol/g。

[比较例1]

未被覆染料的炭黑的制备

除了未被覆染料和未利用硫酸铝实施色淀处理之外，进行与实施例1基本相同的处理，从而得到用于对比的黑色矩阵用炭黑。

[比较例2]

树脂被覆炭黑的制备

向聚氯乙烯（日产化学株式会社制造的ニッサンビニルE-430）中添加环己酮，加热至约90℃而使其溶解，制备了含有10重量%的聚氯乙烯的环己酮溶液。另一方面，将炭黑（炉法炭黑、三菱化学株式会社制造的#3050、平均一次粒径为0.04μm、比表面积为50m²/g（BET法））与水混合并强烈搅拌，制备了含有6重量%的炭黑的均匀悬浮液。接着，将悬浮液边搅拌边添加至前述环己酮溶液中，使水相的炭黑转移至溶剂相。接着，通过倾析来去除与炭黑分离了的水后，用具有加热至80~120℃的两根辊的辊磨机混炼约5分钟，从而得到树脂组合物。接着，将树脂组合物用加热辊切成片状，使其穿过具有常温的两根辊的辊磨机，在粉碎至约30mm以下的尺寸后，转移至水中，以约3000rpm的速度搅拌约3分钟，粉碎整粒以形成粒径为0.1~3mm的粒状物，从而得到整粒物。将该整粒物以80~150℃进行干燥，从而得到用树脂进行了被覆的炭黑。

[评价]

黑色矩阵用涂布液的制备

针对实施例1和2以及比较例1和2中得到的各个黑色矩阵用炭黑，将黑色矩阵用炭黑300g、氨酯系分散剂BYK-167（ビックケミー・ジャパン公司制）46.6g、以及具有芴骨架的环氧丙烯酸酯酸加成物的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液（树脂固体成分浓度=55.5质量%、新日铁化学株式会社制造的“V259ME”）189.2g用珠磨机进行分散，从而得到基质墨（base ink）。向该基质墨20g中添加具有芴骨架的环氧丙烯酸酯酸加成物的丙二醇单甲醚乙酸酯溶液（树脂固体成分浓度=55.5质量%、新日铁化学株式会社制造的“V259ME”）3.52g和丙二醇单甲醚乙酸酯21.9g，从而制备了涂布液。

OD值、表面粗糙度以及表面电阻的测定

用旋涂机将上述得到的涂布液涂布在玻璃基板上，以90℃干燥2分钟，进而以220℃加热30分钟并使其固化，从而得到干燥涂膜。

分别利用反射浓度计来测定所得干燥涂膜的OD值、利用テンコール公司的アルファステップIQ来测定膜厚和表面粗糙度、利用表面电阻测定器（株式会社ダイアインスツルメント公司制造的“ハイレスタ”）来测定表面电阻，将其结果示于表1。

[表1]

由表1的结果明确可知：本发明的黑色矩阵用炭黑（实施例1和2）与未被覆染料的炭黑（比较例1）相比能够获得极高的表面电阻、且与以往的树脂被覆炭黑（比较例2）相比能够获得极高的OD值。

产业实用性

如上所述，本发明的黑色矩阵用炭黑具备高绝缘性和优异的隐蔽性，因此在用于液晶显示装置等的彩色滤光片的黑色矩阵时是极其有用的。

Claims (17)

1.黑色矩阵用炭黑，其是将预先用氧化剂实施了氧化处理的炭黑的表面用染料被覆，并且染料利用金属或金属盐进行色淀化而成的。

2.权利要求1所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述染料的含有率为0.5~10重量%。

3.权利要求1或2所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述染料为阴离子性或非离子性的染料。

4.权利要求1所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述染料为深色系的染料。

5.权利要求4所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述金属或金属盐是铝、镁、钙、锶、钡或锰或者它们的盐。

6.权利要求1所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述实施了氧化处理的炭黑的表面具有至少1种含有氧的官能团。

7.权利要求6所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述含有氧的官能团为羟基、氧代基、过氧羟基、羰基、羧基、过氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亚硝基、酰胺基、酰亚胺基、磺酸基、亚磺酸基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亚碘酰基或碘酰基。

8.黑色矩阵用炭黑的制造方法，其具有将炭黑的表面用氧化剂进行氧化处理的氧化处理工序，和向通过上述氧化处理工序而得的炭黑的浆料中添加染料从而将炭黑的表面用染料被覆的染料被覆工序，和将所述染料被覆工序中得到的染料被覆炭黑表面的染料用金属或金属盐进行色淀化的染料色淀化工序。

9.权利要求8所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其特征在于，所述染料被覆工序以所得染料被覆炭黑中的所述染料的含有率达到0.5~10重量%的方式添加所述染料。

10.权利要求8或9所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述染料为阴离子性或非离子性的染料。

11.权利要求8所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述染料为深色系的染料。

12.权利要求8所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述金属或金属盐为铝、镁、钙、锶、钡或锰或者它们的盐。

13.权利要求8所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述氧化剂为臭氧气体、硝酸、次氯酸钠、一氧化氮气体、二氧化氮气体、三氧化硫、氟气体、浓硫酸或各种过氧化物。

14.权利要求1所述的黑色矩阵用炭黑，其中，所述氧化处理是变更氧化剂的种类而多次实施的处理。

15.权利要求8所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述通过上述氧化处理工序而得的炭黑的表面具有至少1种含有氧的官能团。

16.权利要求15所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述含有氧的官能团为羟基、氧代基、过氧羟基、羰基、羧基、过氧羧酸基、醛基、酮基、硝基、亚硝基、酰胺基、酰亚胺基、磺酸基、亚磺酸基、次磺酸基、硫代羧酸基、一氯氧基、二氯氧基、全氯氧基、亚碘酰基或碘酰基。

17.权利要求8所述的黑色矩阵用炭黑的制造方法，其中，所述氧化处理工序是变更氧化剂的种类而多次实施的工序。