CN104164646A - 一种钕铁硼表面渗镝方法和一种钕铁硼表面渗铽方法 - Google Patents

一种钕铁硼表面渗镝方法和一种钕铁硼表面渗铽方法 Download PDF

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樊熊飞
陆刚峰
卢吉
郑为亮
王向东
陈小平
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Abstract

本发明涉及一种钕铁硼表面渗镝方法和一种钕铁硼表面渗铽方法，旨在解决在制造同等矫顽力的钕铁硼时，现有技术重稀土添加量较多的问题，主要包括前处理、制造混合液、涂覆和热处理。本发明在钕铁硼表面涂覆上氧化镝或氧化铽，通过表面渗镝或铽技术，使镝或铽融入带钕铁硼基体中，来提高钕铁硼的矫顽力；在制造同等矫顽力的钕铁硼时，可以使重稀土的使用量大大降低，节约了成本，减少了资源的浪费。

Description

一种钕铁硼表面渗镝方法和一种钕铁硼表面渗铽方法
技术领域
本发明涉及一种钕铁硼表面渗镝方法和一种钕铁硼表面渗铽方法。
背景技术
要保证钕铁硼具有一定的矫顽力，需要加入一定量的镝或铽；目前在钕铁硼的生产工艺中，通过添加重稀土，来保证镝或铽的添加量；但是目前的工艺加入重稀土的量比较多，不仅浪费资源，而且提高了生产成本。
发明内容
本发明提供了一种钕铁硼表面渗镝方法和一种钕铁硼表面渗铽方法，旨在解决在制造同等矫顽力的钕铁硼时，现有技术重稀土添加量较多的问题。
为了解决以上技术问题，本发明通过以下技术方案实现：一种钕铁硼表面渗镝方法，依次包括以下步骤：
A、去除钕铁硼表面黑皮和油，然后洗净、吹干；去除钕铁硼表面杂质，有利于后序的反应；
B、将氧化镝、氯化镝和酒精按照4g～6g：0.01g～0.03g：450ml～550ml的比例进行混合，形成混合溶液；氯化镝为催化剂起到催化剂的作用，有利于钕铁硼对氧化镝的吸收；酒精一方面可以使氧化镝均匀的涂覆在钕铁硼的表面，而且易挥发，有利于后序钕铁硼被快速吹干；
C、将步骤B中形成的混合溶液放入30℃～100℃的水浴中；然后将经过步骤A处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过4～6分钟后将钕铁硼取出，在氮气的保护下将钕铁硼吹干；在水浴中加热，一方面可以增加反应速度；另一方面因温度波动较小，有利于控制反应速率，防止因加热时间短，造成反应不充分，防止加热时间过长，造成能源和时间的浪费；
D、将经过步骤C处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在850℃～950℃的条件下真空时效处理4～8小时；然后在400℃～600℃的条件下真空时效处理4～8小时；有利于钕铁硼和氧化镝进行离子交换；用铁皮包裹住钕铁硼，使钕铁硼与外界隔离，可以防止钕铁硼被氧化；铁皮耐高温而且价格低，故采用铁皮。
进一步，在步骤B中，氧化镝、氯化镝和酒精按照5g：0.02g：500ml的比例进行混合；按照该比例混合为最佳比例，既不会造成浪费，而且效果最佳。
进一步，在步骤C中，将步骤B中形成的混合溶液放入65℃的水浴中；然后将经过步骤A处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过5分钟后将钕铁硼取出；放在65℃的水浴中，酒精挥发不会太快，又保证了较高的反应速度；在65℃的水浴加热条件下，钕铁硼放在溶液中经过5分钟反应，便可满足要求。
进一步，在步骤D中，将经过步骤C处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在900℃的条件下真空时效处理6小时；然后在500℃的条件下真空时效处理6小时；在该条件下钕离子的交换效果最佳。
一种钕铁硼表面渗铽方法，依次包括以下步骤：
(1)去除钕铁硼表面黑皮和油，然后洗净、吹干；去除钕铁硼表面杂质，有利于后序的反应；
(2)将氧化铽、氯化铽和酒精按照4g～6g：0.01g～0.03g：450ml～550ml的比例进行混合，形成混合溶液；氯化铽为催化剂起到催化剂的作用，有利于钕铁硼对氧化铽的吸收；酒精一方面可以使氧化铽均匀的涂覆在钕铁硼的表面，而且易挥发，有利于后序钕铁硼被快速吹干；
(3)将步骤(2)中形成的混合溶液放入30℃～100℃的水浴中；然后将经过步骤(1)处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过4～6分钟后将钕铁硼取出，在氮气的保护下将钕铁硼吹干；在水浴中加热，一方面可以增加反应速度；另一方面因温度波动较小，有利于控制反应速率，防止因加热时间短，造成反应不充分，防止加热时间过长，造成能源和时间的浪费；
(4)将经过步骤(3)处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在850℃～950℃的条件下真空时效处理4～8小时；然后在400℃～600℃的条件下真空时效处理4～8小时；有利于钕铁硼和氧化铽进行离子交换；用铁皮包裹住钕铁硼，使钕铁硼与外界隔离，可以防止钕铁硼被氧化；铁皮耐高温而且价格低，故采用铁皮。
进一步，在步骤(2)中，氧化铽、氯化铽和酒精按照5g：0.02g：500ml的比例进行混合；按照该比例混合为最佳比例，既不会造成浪费，而且效果最佳。
进一步，在步骤(3)中，将步骤(2)中形成的混合溶液放入65℃的水浴中；然后将经过步骤(1)处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过5分钟后将钕铁硼取出；放在65℃的水浴中，酒精挥发不会太快，又保证了较高的反应速度；在65℃的水浴加热条件下，钕铁硼放在溶液中经过5分钟反应，便可满足要求。
进一步，在步骤(4)中，将经过步骤(3)处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在900℃的条件下真空时效处理6小时；然后在500℃的条件下真空时效处理6小时；在该条件下钕离子的交换效果最佳。
与现有技术相比本发明的优点是：本发明在钕铁硼表面涂覆上氧化镝或氧化铽，通过表面渗镝或铽技术，使镝或铽融入带钕铁硼基体中，来提高钕铁硼的矫顽力；在制造同等矫顽力的钕铁硼时，可以使重稀土的使用量大大降低，节约了成本，减少了资源的浪费。
具体实施方式
一种钕铁硼表面渗镝方法，依次包括以下步骤：
A、去除钕铁硼表面黑皮和油，然后洗净、吹干；
B、将氧化镝、氯化镝和酒精按照5g：0.02g：500ml的比例进行混合，形成混合溶液；
C、将步骤B中形成的混合溶液放入65℃的水浴中；然后将经过步骤A处理过的钕铁硼放入混合溶液中，可以对钕铁硼玻璃棒进行搅拌，增加反应的接触面积，以增加反应速率，经过5分钟后将钕铁硼取出，在氮气的保护下将钕铁硼吹干；
D、将经过步骤C处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在900℃的条件下真空时效处理6小时；然后在500℃的条件下真空时效处理6小时。
一种钕铁硼表面渗铽方法，依次包括以下步骤：
(1)去除钕铁硼表面黑皮和油，然后洗净、吹干；
(2)将氧化铽、氯化铽和酒精按照5g：0.02g：500ml的比例进行混合，形成混合溶液；
(3)将步骤(2)中形成的混合溶液放入65℃的水浴中；然后将经过步骤(1)处理过的钕铁硼放入混合溶液中，可以对钕铁硼玻璃棒进行搅拌，增加反应的接触面积，以增加反应速率，经过5分钟后将钕铁硼取出，在氮气的保护下将钕铁硼吹干；
(4)将经过步骤(3)处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在900℃的条件下真空时效处理6小时；然后在500℃的条件下真空时效处理6小时。
本发明在钕铁硼表面涂覆上氧化镝或氧化铽，通过表面渗镝或铽技术，使镝或铽融入带钕铁硼基体中，来提高钕铁硼的矫顽力；在制造同等矫顽力的钕铁硼时，可以使重稀土的使用量大大降低，节约了成本，减少了资源的浪费。
以上所述仅为本发明的具体实施例，但本发明的技术特征并不局限于此，任何本领域的技术人员在本发明的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本发明的专利范围之中。

Claims (8)

1.一种钕铁硼表面渗镝方法，其特征是：依次包括以下步骤：
A、去除钕铁硼表面黑皮和油，然后洗净、吹干；
B、将氧化镝、氯化镝和酒精按照4g～6g：0.01g～0.03g：450ml～550ml的比例进行混合，形成混合溶液；
C、将步骤B中形成的混合溶液放入30℃～100℃的水浴中；然后将经过步骤A处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过4～6分钟后将钕铁硼取出，在氮气的保护下将钕铁硼吹干；
D、将经过步骤C处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在850℃～950℃的条件下真空时效处理4～8小时；然后在400℃～600℃的条件下真空时效处理4～8小时。
2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼表面渗镝方法，其特征是：在步骤B中，氧化镝、氯化镝和酒精按照5g：0.02g：500ml的比例进行混合。
3.根据权利要求1所述的一种钕铁硼表面渗镝方法，其特征是：在步骤C中，将步骤B中形成的混合溶液放入65℃的水浴中；然后将经过步骤A处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过5分钟后将钕铁硼取出。
4.根据权利要求1所述的一种钕铁硼表面渗镝方法，其特征是：在步骤D中，将经过步骤C处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在900℃的条件下真空时效处理6小时；然后在500℃的条件下真空时效处理6小时。
5.一种钕铁硼表面渗铽方法，其特征是：依次包括以下步骤：
(1)去除钕铁硼表面黑皮和油，然后洗净、吹干；
(2)将氧化铽、氯化铽和酒精按照4g～6g：0.01g～0.03g：450ml～550ml的比例进行混合，形成混合溶液；
(3)将步骤(2)中形成的混合溶液放入30℃～100℃的水浴中；然后将经过步骤(1)处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过4～6分钟后将钕铁硼取出，在氮气的保护下将钕铁硼吹干；
(4)将经过步骤(3)处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在850℃～950℃的条件下真空时效处理4～8小时；然后在400℃～600℃的条件下真空时效处理4～8小时。
6.根据权利要求5所述的一种钕铁硼表面渗铽方法，其特征是：在步骤(2)中，氧化铽、氯化铽和酒精按照5g：0.02g：500ml的比例进行混合。
7.根据权利要求5所述的一种钕铁硼表面渗铽方法，其特征是：在步骤(3)中，将步骤(2)中形成的混合溶液放入65℃的水浴中；然后将经过步骤(1)处理过的钕铁硼放入混合溶液中，经过5分钟后将钕铁硼取出。
8.根据权利要求5所述的一种钕铁硼表面渗铽方法，其特征是：在步骤(4)中，将经过步骤(3)处理后的钕铁硼用铁皮包裹住，在900℃的条件下真空时效处理6小时；然后在500℃的条件下真空时效处理6小时。
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