CN103995441B - 光阻剥离方法及光阻剥离装置 - Google Patents

光阻剥离方法及光阻剥离装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种光阻剥离方法及光阻剥离装置，所述光阻剥离方法包括：步骤1、提供待去除光阻层的基板；步骤2、采用紫外光照射待去除的光阻层；步骤3、在剥离槽中用光阻剥离液剥离该基板表面上的光阻；步骤4、完成光阻剥离之后，在缓冲区用风刀移除基板上的光阻剥离液；步骤5、风刀吹过之后，在水洗槽清洗基板上残留的光阻剥离液。本发明能最大限度的减少光阻剥离过程中铝腐蚀及IGZO腐蚀的发生，提高平板显示器的质量。

Description

光阻剥离方法及光阻剥离装置
技术领域
本发明涉及平板显示器加工领域，尤其涉及一种光阻剥离方法及光阻剥离装置。
背景技术
随着科技蓬勃发展，显示器从早期的阴极射线管(Cathode Ray Tude,CRT)显示器发展到现在的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)与有机电激发光显示器(organic light emitting display,OLED)。
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶面板的生产主要包括：“前段Array制程”、“中段Cell制程”、及“后段模组组装”三个工艺。其中，前段Array制程是在玻璃基板上形成前期设计好的ITO(Indium tinoxide，铟锡氧化物)电极图形；中段Cell制程是将TFT(薄膜晶体管)基板与CF(彩色滤光片)基板贴合，并在两者之间注入液晶材料，形成液晶基板；后段模组组装是将液晶基板的驱动IC压合与印刷电路板的整合。前段Array制程主要包括“成膜”、“光刻”、“蚀刻”及“光阻层剥离”四大步骤。其中，光阻层剥离步骤一般是使用专门的剥离设备及剥离液对蚀刻完毕后剩下的光阻层(光刻胶)进行去除。
有机电激发光显示器具有自发光、高亮度、高对比、宽视角、驱动电压低与高速响应等优点，为目前新世代显示器中被寄予厚望的平板显示器。常见的OLED结构为：基板、置于基板上的ITO透明阳极、置于ITO透明阳极上的空穴注入层、置于空穴注入层上的空穴传输层(HTL)、置于空穴传输层上的发光层(EML)、置于发光层上的电子传输层(ETL)、置于电子传输层上的电子注入层(EIL)以及置于电子注入层上的阴极。在OLED的制程中，光阻剥离是在半导体或显示器的黄光微影工艺的最后一个步骤，就是将上道蚀刻步骤中保护图案的光阻去除，避免光阻残留污染下一道黄光微影工艺，以获得干净的有线路图案的基板。如果有光阻残留于显示面板表面，特别是在ITO阳极发光区，会阻挡后续有机发光层与阴极材料的蒸镀，使得显示面板产生暗点，降低显示品质与工艺合格率。另外，由于后续工艺所蒸镀的有机电子发光膜厚度非常薄，由于光阻残留造成的厚度不均，易造成电场分布不均，甚至组件短路，进而影响显示器的寿命。由此可见，光阻剥离步骤的剥离效果对OLED的制程起着非常重要的影响。
当用于液晶显示器或OLED的基板设有铝层或IGZO层时，影响其光阻剥离步骤的剥离效果的一个问题是：在光阻剥离液与水接触时反应生成强碱物质，会造成对铝膜或IGZO(氧化铟镓锌)的腐蚀，使得生产的液晶显示器与有机电激发光显示器在点亮后产生肉眼可见斜条状水纹Mura，影响平板显示器的质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光阻剥离方法，可以减少铝腐蚀及IGZO腐蚀状况的发生，改善平板显示器生产中的缺陷，提高平板显示器的质量。
本发明的另一目的在于提供一种光阻剥离装置，通过增设一缓冲区，并在该增设的缓冲区中设置数个风刀和一防药液喷溅保护罩，从而在光阻剥离时可以最大限度的减少铝腐蚀及IGZO腐蚀状况的发生，提高平板显示器的质量。
为实现上述目的，本发明提供一种光阻剥离方法，包括以下步骤：
步骤1、提供待去除光阻层的基板；
步骤2、采用紫外光照射待去除的光阻层；
步骤3、在剥离槽中用光阻剥离液剥离该基板表面上的光阻；
步骤4、完成光阻剥离之后，在缓冲区用风刀移除基板上的光阻剥离液；
步骤5、风刀吹过之后，在水洗槽清洗基板上残留的光阻剥离液。
所述光阻剥离液包括30wt％-70wt％单乙醇胺与70wt％-30wt％二甲基亚砜。
在完成光阻剥离之后，从剥离槽到水洗槽之间以10000mm/min以上的速度将基板运送去清洗，且在运送过程中，进行步骤4。
所述步骤4采用数个风刀；所述步骤5采用两个水洗槽进行两次清洗。
在步骤4的缓冲区设置一防药液喷溅保护罩以防止步骤3剥离槽的光阻剥离液侵入步骤5的水洗槽。
设置水洗槽的排气压力小于剥离槽的排气压力以防止光阻剥离液挥发至水洗槽。
所述水洗槽的水洗流量大于85L/min，水刀流量大于40L/min。
所述基板设有铝层或IGZO层，用于液晶显示装置或OLED。
本发明还提供一种用于上述光阻剥离方法的光阻剥离装置，包括依次放置设置的入口区、紫外线照射单元、第一缓冲区、剥离槽、第二缓冲区、第一水洗槽与第二水洗槽，还包括一传输单元，其用于运送基板，从入口区依次经过紫外线照射单元、第一缓冲区、剥离槽、第二缓冲区、及第一水洗槽，最后运送到第二水洗槽。
所述第二缓冲区设置一防药液喷溅保护罩及数个风刀。
本发明的有益效果：本发明的光阻剥离方法及光阻剥离装置，通过在剥离槽与第一水洗槽之间设置第二缓冲区，在第二缓冲区中设置数个风刀，以移除基板表面残留的光阻剥离液，最大限度的减少在水洗槽中与水接触的光阻剥离液量；在第二缓冲区中还设置一防药液喷溅保护罩，防止剥离槽的光阻剥离液侵入第一水洗槽；同时通过提高传输单元对基板的传送速度，可以使基板快速脱离碱性环境；通过调节排气压力使水洗槽的排气压力小于剥离槽的排气压力，可以防止光阻剥离液挥发至水洗槽导致生成强碱物质；通过上述技术手段减少光阻剥离时铝腐蚀及IGZO腐蚀的发生，提高平板显示器的质量，同时该光阻剥离方法工序简单，易于操作。所述光阻剥离装置结构简单，提高所生产的平板显示器的质量，降低了生产成本。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为本发明光阻剥离方法的流程图；
图2为本发明光阻剥离装置的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种光阻剥离方法，包括以下步骤：
步骤1、提供待去除光阻层的基板；
步骤2、采用紫外光照射待去除的光阻层；
步骤3、在剥离槽中用光阻剥离液剥离该基板表面上的光阻；
步骤4、完成光阻剥离之后，在缓冲区用风刀移除基板上的光阻剥离液；
步骤5、风刀吹过之后，在水洗槽清洗基板上残留的光阻剥离液。
所述基板设有铝层或IGZO层，用于液晶显示装置或OLED。
所述光阻剥离液包括30wt％-70wt％单乙醇胺与70wt％-30wt％二甲基亚砜。由于单乙醇胺与二甲基亚砜均属于有机物质，当遇到大量水时将会导致其中的氢氧根脱落，溶于水中，生成强碱类物质，对IGZO或铝造成腐蚀。
在完成光阻剥离之后，从剥离槽到水洗槽之间以10000mm/min以上的速度将基板运送去清洗，以使基板快速脱离碱性环境，减少铝腐蚀或IGZO腐蚀状况的发生，且在运送过程中，进行步骤4。
所述步骤4采用数个风刀，所述风刀具有上下两个金属刀面，通入超纯空气后可产生均匀的出风，对基板表面进行液体去除的动作，通过设置数个风刀可使与水接触的光阻剥离液最大限度的减少，从而减少强碱物质的生成。
在步骤4的缓冲区设置一防药液喷溅保护罩以防止步骤3剥离槽的光阻剥离液侵入步骤5的水洗槽。
所述步骤5采用两个水洗槽进行两次清洗，以彻底去除基板上残留的光阻剥离液。所述水洗槽中的清洗溶液为去离子水。
设置水洗槽的排气压力小于剥离槽的排气压力，以防止光阻剥离液挥发至水洗槽。
控制所述水洗槽的水洗流量大于85L/min，水刀流量大于40L/min，以提高清洗速度，减少基板与碱性物质的接触时间，进而减少铝腐蚀或IGZO腐蚀腐蚀的发生。
请参阅图2，本发明提供一种用于上述光阻剥离方法的光阻剥离装置，该光阻剥离装置包括依次放置设置的入口区10、紫外线照射单元20、第一缓冲区30、剥离槽40、第二缓冲区50、第一水洗槽60与第二水洗槽70，还包括一传输单元80，其用于运送基板(未图示)，从入口区10依次经过紫外线照射单元20、第一缓冲区30、剥离槽40、第二缓冲区50、及第一水洗槽60，最后运送到第二水洗槽70。
所述第二缓冲区50设置一防药液喷溅保护罩52及数个风刀54。所述防药液喷溅保护罩52可以防止剥离槽40中的光阻剥离液侵入第一与第二水洗槽60、70。
在第一水洗槽60与第二水洗槽70里，对着基板喷洒清洗溶液，所述清洗溶液的成分是去离子水。
综上所述，本发明的光阻剥离方法及光阻剥离装置，利用紫外光曝光光阻层，再利用光阻剥离液对曝光后的光阻进行剥离，并利用清洗溶液移除基板表面残留的光阻剥离液，以达到去除光阻的目的；通过在剥离槽与第一水洗槽之间设置第二缓冲区，在第二缓冲区中设置数个风刀，以移除基板表面残留的光阻剥离液，最大限度的减少在水洗槽中与水接触的光阻剥离液量；在第二缓冲区中还设置一防药液喷溅保护罩，防止剥离槽的光阻剥离液侵入第一水洗槽；同时通过提高传输单元对基板的传送速度，可以使基板快速脱离碱性环境；通过调节排气压力使水洗槽的排气压力小于剥离槽的排气压力，可以防止光阻剥离液挥发至水洗槽导致生成强碱物质；通过上述技术手段减少光阻剥离时铝腐蚀及IGZO腐蚀的发生，提高平板显示器的质量，同时该光阻剥离方法工序简单，易于操作。所述光阻剥离装置结构简单，提高所生产的平板显示器的质量，降低了生产成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (5)

1.一种光阻剥离方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供待去除光阻层的基板；
步骤2、采用紫外光照射待去除的光阻层；
步骤3、在剥离槽中用光阻剥离液剥离该基板表面上的光阻；
步骤4、完成光阻剥离之后，在缓冲区用风刀移除基板上的光阻剥离液；
步骤5、风刀吹过之后，在水洗槽清洗基板上残留的光阻剥离液；
完成光阻剥离之后，从剥离槽到水洗槽之间以10000mm/min以上的速度将基板运送去清洗，且在运送过程中，进行步骤4；在步骤4的缓冲区设置一防药液喷溅保护罩以防止步骤3剥离槽的光阻剥离液侵入步骤5的水洗槽；
所述水洗槽的水洗流量大于85L/min，水刀流量大于40L/min；
水洗槽的排气压力小于剥离槽的排气压力以防止光阻剥离液挥发至水洗槽。
2.如权利要求1所述的光阻剥离方法，其特征在于，所述光阻剥离液包括30wt％-70wt％单乙醇胺与70wt％-30wt％二甲基亚砜。
3.如权利要求1所述的光阻剥离方法，其特征在于，所述步骤4采用数个风刀；所述步骤5采用两个水洗槽进行两次清洗。
4.如权利要求1所述的光阻剥离方法，其特征在于，所述基板设有铝层或IGZO层，用于液晶显示装置或OLED。
5.一种用于权利要求1所述的光阻剥离方法的光阻剥离装置，其特征在于，包括依次放置设置的入口区、紫外线照射单元、第一缓冲区、剥离槽、第二缓冲区、第一水洗槽与第二水洗槽，还包括一传输单元，其用于运送基板，从入口区依次经过紫外线照射单元、第一缓冲区、剥离槽、第二缓冲区、及第一水洗槽，最后运送到第二水洗槽；
所述第二缓冲区设置一防药液喷溅保护罩及数个风刀。
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