CN103952084B - 一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：（1）原料选择、（2）煅烧、（3）比表面测试、（4）研磨、（5）放料、（6）固含量测试、（7）配料、（8）检测。本发明的有益效果是：本发明通过选取片状氧化铝提高切削量，通过加入硝酸增加光洁度，加入dispal使浆料悬浮性更好，不易沉淀。

Description

一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法
技术领域
本发明具体涉及一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法。
背景技术
目前，一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法抛光金属产生光洁度不好，并且切削量不够，而且现有的制备方法容易产生沉淀。
发明内容
本发明的目的：本发明提供一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，本发明通过选取片状氧化铝提高切削量，通过加入硝酸增加光洁度，加入dispal使浆料悬浮性更好，不易沉淀。
为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
（1）原料选择：通过扫描电镜图观察晶粒形貌，选择片状拟薄水铝石原料；
（2）煅烧：取片状的拟薄水铝石原料，通过隧道窑进行高温煅烧成α氧化铝；
（3）比表面测试：取煅烧完成的α氧化铝，通过全自动比表面仪测试比表面，比表面的合格要求为1-10㎡/g；
（4）研磨：取合适比表面的α氧化铝35kg，再加入50kg的去离子水，研磨3-4h，测试粒度合格要求为1.5-2.0μm；
（5）放料：通过150目筛过滤大颗粒；放料结束时取样测试粒度，合格备用，不合格返工；
（6）固含量测试：取上述5研磨原料搅拌均匀，取3个样品测试固含量；
（7）配料：根据固含量算出产品的调浆总量和每个辅料的加入量，然后PH调节，加入0.02%硝酸调节，PH=6-7（增加光洁度），搅拌1小时进入下一步，最后加入0.1%的dispal（增加悬浮性，防止沉淀），搅拌1小时。包装成产品。
（8）检测：通过斜轴抛光机测试切削量。肉眼观察光洁度和划伤。
所述步骤（2）中的高温煅烧温度为1000~1200℃。
本发明的有益效果是：本发明提供一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，本发明通过选取片状氧化铝提高切削量，通过加入硝酸增加光洁度，加入dispal使浆料悬浮性更好，不易沉淀。
具体实施方式
下面对本发明作进一步描述。
一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
（1）原料选择：通过扫描电镜图观察晶粒形貌，选择片状拟薄水铝石原料；
（2）煅烧：取片状的拟薄水铝石原料，通过隧道窑进行高温煅烧成α氧化铝；
（3）比表面测试：取煅烧完成的α氧化铝，通过全自动比表面仪测试比表面，比表面的合格要求为1-10㎡/g；
（4）研磨：取合适比表面的α氧化铝35kg，再加入50kg的去离子水，研磨3-4h，测试粒度合格要求为1.5-2.0μm；
（5）放料：通过150目筛过滤大颗粒；放料结束时取样测试粒度，合格备用，不合格返工；
（6）固含量测试：取上述5研磨原料搅拌均匀，取3个样品测试固含量；
（7）配料：根据固含量算出产品的调浆总量和每个辅料的加入量，然后PH调节，加入0.02%硝酸调节，PH=6-7（增加光洁度），搅拌1小时进入下一步，最后加入0.1%的dispal（增加悬浮性，防止沉淀），搅拌1小时。包装成产品。
（8）检测：通过斜轴抛光机测试切削量。肉眼观察光洁度和划伤。
所述步骤（2）中的高温煅烧温度为1000~1200℃。
以上是对本发明的描述而非限定，基于本发明思想的其他实施例，亦均在本发明的保护范围之中。

Claims (2)

1.一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
(1)原料选择：通过扫描电镜图观察晶粒形貌，选择片状拟薄水铝石原料；
(2)煅烧：取片状的拟薄水铝石原料，通过隧道窑进行高温煅烧成α氧化铝；
(3)比表面测试：取煅烧完成的α氧化铝，通过全自动比表面仪测试比表面，比表面的合格要求为1-10㎡/g；
(4)研磨：取合适比表面的α氧化铝35kg，再加入50kg的去离子水，研磨3-4h，测试粒度合格要求为1.5-2.0μm；
(5)放料：通过150目筛过滤大颗粒；放料结束时取样测试粒度，合格备用，不合格返工；
(6)固含量测试：取上述研磨原料搅拌均匀，取3个样品测试固含量；
(7)配料：根据固含量算出产品的调浆总量和每个辅料的加入量，然后pH调节，加入0.02％硝酸调节，pH＝6-7，增加光洁度，搅拌1小时进入下一步，最后加入0.1％的dispal，增加悬浮性，防止沉淀，搅拌1小时，包装成产品；
(8)检测：通过斜轴抛光机测试切削量，肉眼观察光洁度和划伤。
2.根据权利要求1所述的一种氧化铝基质的金属抛光液的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中的高温煅烧温度为1000～1200℃。
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