CN103949164A - 反渗透膜元件化学清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及反渗透膜元件化学清洗方法,属于水处理技术领域,该方法包括如下步骤:步骤(1)用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间不少于6小时;步骤(2)判断反渗透膜元件受何种污染物污染,然后选择相应的化学清洗药剂;步骤(3)根据步骤(2)的选择的化学清洗药剂,分以下三种情况进行清洗:只含有酸性清洗药剂、只含有碱性清洗药剂和同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂进行清洗,其清洗效果明显优于传统清洗配方,能明显提高产水量和回收率,降低反渗透设备运行压差及产水电导率,同时减少化学清洗次数和清洗时化学药剂对膜元件的损伤。
Description
技术领域
本发明属于水处理技术领域,具体涉及反渗透膜元件化学清洗方法。
背景技术
反渗透膜分离作为一种全新的水处理技术,已经渗透到了各个工业领域。在实际应用过程中,反渗透膜生产企业提供的膜元件具有广泛的普遍性,缺乏针对性。各生产企业提供的清洗方法多数时候仅是简单的酸和碱反复清洗,如HCl、NaOH。但由于各企业的水源、水质差异较大,对膜的认识不足,缺乏膜工程应用的经验。特别是针对低温(夏季水温低于12℃)、低浊度(新鲜水浊度低于1~2ntu)、高有机物、高微生物水的处理,一直是水处理行业公认的难题。膜元件污染后会因清洗配方或清洗方法不当,而使膜元件的使用效率和寿命大为降低,通常都会导致系统实际处理效能低下、运行费用高、膜系统运行不稳定等现象,膜工艺往往被简化为不停地换膜,最后导致对膜技术丧失信心,并增加运行费用。
有的企业将反渗透膜的化学清洗工作委托专业清洗公司进行清洗,因膜的化学清洗配方及清洗方法具有普遍性而缺乏针对性,因此存在清洗方法和清洗药剂用量,以及清洗药剂选择不合理等问题,造成膜清洗不彻底,清洗效果不佳,清洗次数增加,且清洗后的产水电导率明显上升2~3μs/cm,导致反渗透设备产水电导率升高,回收率降低,影响反渗透膜的使用寿命。
因此亟需研制出一种适用于低温、低浊度、高有机物、高微生物水质的反渗透膜的清洗药剂及清洗方法,以提高清洗效果,延长清洗间隔周期,降低运行费用。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术的不足,提供反渗透膜元件化学清洗方法,该方法的清洗效果明显优于传统清洗,能明显提高产水量和回收率,降低反渗透设备运行压差及产水电导率,同时减少清洗时化学药剂对膜元件的损伤。
本发明采用的技术方案如下:
反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间不少于6小时;
步骤(2),判断反渗透膜元件受何种污染物污染,然后选择相应的化学清洗药剂,具体如下:
当所述的污染物为无机盐时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液;
当所述的污染物为金属氧化物时,化学清洗药剂为质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液;
当所述的污染物为无机胶体时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液;
当所述的污染物为生物膜时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为有机物时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液;
当所述的污染物为硅时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为细菌时,化学清洗药剂为活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液;
因为频繁清洗会缩短膜的使用寿命,或因为药剂选择不当会恶化膜的污染状况,所以在选择化学清洗药品时,必须严格针对污染原因对症下药,在化学清洗前先确定污染物的类型,保证清洗效果和不对膜元件造成损伤;在清洗过程中每15分钟监测一次清洗液pH值、颜色,当清洗液不合格时及时调整或更换;
步骤(3),根据步骤(2)选择的化学清洗药剂,分以下三种情况进行清洗:
第一种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有酸性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第二种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有碱性清洗药剂,则用碱性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第三种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;之后再用碱性清洗药剂对经过本步骤酸洗过的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
所述清洗过程中的压力为0.18~0.22MPa、流量为48~52m3/h。
用碱性清洗药剂进行清洗时,碱性清洗药剂的温度优选30℃。
用氢氧化钠水溶液进行清洗时,氢氧化钠水溶液的温度优选30℃。
清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的化学清洗药剂直接排放,而位于反渗透膜元件浓水侧的化学清洗药剂则流经浓水管道继续对浓水管道进行清洗。
所述清洗过程中的压力优选0.2MPa、流量优选50m3/h。
所述的金属氧化物为铁系金属氧化物。
所述的无机胶体为泥沙微粒。
步骤(3)所述的清洗过程中,每15分钟检测一次pH值,控制用酸性清洗药剂清洗时的pH值为2~3,用碱性清洗药剂清洗时的pH值为11.5;如果不合格,则需要用盐酸或氢氧化钠溶液调整至上述pH值,使之合格;调整时,采用普通市售的工业级盐酸或氢氧化钠溶液,并根据检测的pH值,计算出所需加入的盐酸或氢氧化钠溶液的浓度和加入量。
最佳清洗方法是在线清洗,且先酸洗后碱洗;并可针对水源为地表水,且有机物含量高、微生物含量高的特点,采用不同的杀菌剂进行冲击式杀菌,控制微生物的生长。化学水站原设计采用次氯酸钠进行杀菌,由于其含有游离氯,控制不好会对反渗透膜产生不可修复的损害,在原设计时采用还原剂进行还原,去除水中的游离氯,控制游离氯<0.05 mg/L。投产以后,由于长期使用同一种杀菌药剂,使有机物、微生物产生耐药性,杀菌效果逐渐变差,增加了膜的清洗频率。因此,选择了活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液浸泡,可有效提高杀菌效果,浸泡后再进行酸碱清洗。
清洗工艺所用设备及流程:清洗药液箱→保安过滤器→清洗泵→反渗透装置→回流至清洗药液箱。
本发明与现有技术相比,其有益效果为:(1)本发明针对低温、低浊度、高有机物、高微生物的地表水,其清洗效果明显优于传统清洗,能明显提高产水量和回收率,降低反渗透设备运行压差及产水电导率;(2)同时减少化学清洗次数和清洗时化学药剂对膜元件的损伤;(3)使用活性物含量为5~7%的异噻唑啉酮溶液浸泡后能有效避免细菌对膜元件的污染,延长清洗间隔周期和反渗透膜的使用寿命,并降低了后续设备的生产成本;(4)该项技术可在同类反渗透装置中推广应用。
具体实施例
下面结合实施例对本发明作进一步的详细描述。
如无特殊说明,本发明采用的药品均为普通市售产品。
实施例1
对反渗透装置进行化学清洗。该装置设计产水量为80 m3/h,设计回收率75%,分为两段膜元件。清洗前,产水电导率22.34μs/cm、运行压差0.42MPa、回收率59%,产水量63m3/h,经分析判断反渗透膜元件受细菌和有机物污染,所以其清洗方法包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为6%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间为12小时;
步骤(2),经判断反渗透膜元件受到细菌和有机物污染,故所用化学清洗药剂如下:活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液,以及质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液;
步骤(3),用步骤(2)选择的化学清洗药剂进行下列清洗:因为步骤(2)选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂,则用0.2%盐酸和活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为60min,二段清洗时间为60min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH为2~3,不合格时用盐酸溶液调整;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后的酸性清洗液除淡水侧排放外,浓水侧不直接排放到地沟,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,至排水水质为中性;之后再用碱性清洗药剂,即质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液的混合液,对经过本步骤酸洗过的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为60min,二段清洗时间为60min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH值为11.5,不合格时用氢氧化钠溶液调整;最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的碱性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的碱性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性;清洗过程中压力为0.2MPa、流量为50m3/h;用氢氧化钠水溶液清洗时,其温度为30℃。
清洗完成后,设备运行2小时后产水电导率9.86μs/cm、运行压差0.18MPa、回收率71%、产水量78t/h,取得了良好的清洗效果,并且,在之后的清洗过程中均能达到此效果,电导率没有明显上升。
实施例2
对反渗透装置进行化学清洗。该装置设计产水量为80 m3/h,,设计回收率75%,分类两段膜元件。清洗前产水电导率29.55μs/cm、运行压差0.42MPa、回收率58%、产水量65t/h。经分析判断反渗透膜元件受细菌、有机物污染、生物膜和硅污染。所以其清洗方法包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为6%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间为24小时;
步骤(2),经判断反渗透膜元件受到细菌、有机物污染、生物膜和硅污染,故所用化学清洗药剂如下:活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液,以及质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液,和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液,和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
步骤(3),用步骤(2)所选化学清洗药剂进行下列清洗:由于步骤(2)选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂,则用0.2%盐酸和活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液,对经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为80min,二段清洗时间为80min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH值为2~3,不合格时用盐酸溶液调整;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的酸性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的酸性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性;再用质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液的混合液,对经过本步骤酸洗过的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为80min,二段清洗时间为80min,清洗过程中控制每15分钟检测一次pH值,pH为11.5,不合格时用氢氧化钠溶液调整;最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的碱性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的碱性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性;清洗过程中压力0.22MPa、流量为52m3/h。用氢氧化钠水溶液清洗时,其温度为30℃。
清洗完成后,设备运行2小时后反渗透装置压差降低至0.20Mpa,产水电导率降低至16.32μs/cm,回收率增加至68%,产水量由68t/h增加至78t/h。 清洗效果良好,并且在之后的清洗过程中均能达到此效果,电导率没有明显上升。
实施例3
对反渗透装置进行化学清洗。该装置设计产水量为80 m3/h,设计回收率75%,分类两段膜元件。清洗前,产水电导率24.57μs/cm、运行压差0.42MPa、回收率59%,产水量64m3/h,经分析判断反渗透膜元件受细菌和无机盐污染。所以其清洗方法包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为5%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间为6小时;
步骤(2),经判断反渗透膜元件受到细菌和无机盐污染,故所用化学清洗药剂如下:活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液,以及质量分数为0.2%盐酸水溶液;
步骤(3),用步骤(2)选择的化学清洗药剂进行下列清洗:因为步骤(2)的选择的化学清洗药剂中只含有酸性清洗药剂,则用0.2%盐酸和活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液对经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50min,二段清洗时间为50min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH为2~3,不合格时用盐酸溶液调整;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的酸性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的酸性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性,清洗过程中压力0.18MPa、流量为48m3/h。
清洗完成后,设备运行2小时后产水电导率10.38μs/cm、运行压差0.19MPa、回收率72%、产水量78t/h,取得了良好的清洗效果。并且,在之后的清洗过程中均能达到此效果,电导率没有明显上升。
实施例4
对反渗透装置进行化学清洗。该装置设计产水量为80 m3/h,设计回收率75%,分类两段膜元件。清洗前,产水电导率25.85μs/cm、运行压差0.42MPa、回收率58%,产水量64m3/h,经分析判断反渗透膜元件受无机胶体、生物膜和硅污染。所以其清洗方法包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间为18小时;
步骤(2),经判断反渗透膜元件受到无机胶体、生物膜和硅污染,故所用化学清洗药剂如下:质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液,以及质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液,和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
步骤(3),用步骤(2)选择的化学清洗药剂进行下列清洗:因为步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有碱性清洗药剂,则用0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液的混合液,对经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为70min,二段清洗时间为75min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH为11.5,不合格时用氢氧化钠溶液调整;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的碱性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的碱性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性;清洗过程中压力0.21MPa、流量为51m3/h。用氢氧化钠水溶液清洗时,其温度为30℃。
清洗完成后,设备运行2小时后产水电导率11.25μs/cm、运行压差0.18MPa、回收率73%、产水量77t/h,取得了良好的清洗效果。并且,在之后的清洗过程中均能达到此效果,电导率没有明显上升。
实施例5
对反渗透装置进行化学清洗。该装置设计产水量为80 m3/h,设计回收率75%,分类两段膜元件。清洗前,产水电导率28.15μs/cm、运行压差0.42MPa、回收率58%,产水量62m3/h,经分析判断反渗透膜元件受无机盐、金属氧化物、无机胶体、生物膜、有机物、硅、和细菌污染。所以其清洗方法包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为6%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间为36小时;
步骤(2),经判断反渗透膜元件受到无机盐、金属氧化物、无机胶体、生物膜、有机物、硅、和细菌污染,故所用化学清洗药剂如下:质量分数为0.2%盐酸水溶液,以及质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液,和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液,和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液,和质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液的混合液,和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液,和活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液;
步骤(3),用步骤(2)选择的化学清洗药剂进行下列清洗:因为步骤(2)选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂,则用质量分数为0.2%盐酸、质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液的混合液,对经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为60min,二段清洗时间为65min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH为2~3,不合格时用盐酸溶液调整;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的酸性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的酸性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性;再用质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液的混合液,对经过本步骤酸洗过的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为55min,二段清洗时间为60min,清洗过程中每15分钟检测一次pH值,控制pH为11.5,不合格时用氢氧化钠溶液调整;最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件,清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的碱性清洗液向外排放,位于反渗透膜元件浓水侧的碱性清洗液不排放,让其流经浓水管道,继续对受细菌污染严重的浓水管道进行清洗,直至排水水质为中性;清洗过程中压力0.19MPa、流量为49m3/h;用氢氧化钠水溶液清洗时,其温度为30℃;所述的金属氧化物为铁系金属氧化物;所述的无机胶体为泥沙微粒。
清洗完成后,设备运行2小时后产水电导率15.46μs/cm、运行压差0.20MPa、回收率69%、产水量77t/h,取得了良好的清洗效果。并且,在之后的清洗过程中均能达到此效果,电导率没有明显上升。
Claims (8)
1.一种反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间不少于6小时;
步骤(2),判断反渗透膜元件受何种污染物污染,然后选择相应的化学清洗药剂,具体如下:
当所述的污染物为无机盐时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液;
当所述的污染物为金属氧化物时,化学清洗药剂为质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液;
当所述的污染物为无机胶体时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液;
当所述的污染物为生物膜时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为有机物时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液;
当所述的污染物为硅时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为细菌时,化学清洗药剂为活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液;
步骤(3),根据步骤(2)选择的化学清洗药剂,分以下三种情况进行清洗:
第一种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有酸性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第二种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有碱性清洗药剂,则用碱性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第三种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;之后再用碱性清洗药剂对经过本步骤酸洗的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
清洗过程中的压力为0.18~0.22MPa、流量为48~52m3/h。
2.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于用碱性清洗药剂进行清洗时,碱性清洗药剂的温度为30℃。
3.根据权利要求2所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于用氢氧化钠水溶液进行清洗时,氢氧化钠水溶液的温度为30℃。
4.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的化学清洗药剂直接排放,而位于反渗透膜元件浓水侧的化学清洗药剂则流经浓水管道继续对浓水管道进行清洗。
5.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于清洗过程中压力为0.2MPa、流量为50m3/h。
6.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于所述的金属氧化物为铁系金属氧化物。
7.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于所述的无机胶体为泥沙微粒。
8.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于步骤(3)所述的清洗过程中,每15分钟检测一次pH值,控制用酸性清洗药剂清洗时的pH为2~3,用碱性清洗药剂清洗时的pH为11.5;如果不合格,则需要用盐酸或氢氧化钠溶液调整至合格。
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