CN103576441B - 用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模 - Google Patents

用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模 Download PDF

Info

Publication number
CN103576441B
CN103576441B CN201310319871.5A CN201310319871A CN103576441B CN 103576441 B CN103576441 B CN 103576441B CN 201310319871 A CN201310319871 A CN 201310319871A CN 103576441 B CN103576441 B CN 103576441B
Authority
CN
China
Prior art keywords
phase shift
layer pattern
film
shift layer
photomask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201310319871.5A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
CN103576441A (zh
Inventor
南基守
李东镐
朴渊洙
徐成旼
金荣善
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
S&S Tech Co Ltd
Original Assignee
S&S Tech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by S&S Tech Co Ltd filed Critical S&S Tech Co Ltd
Publication of CN103576441A publication Critical patent/CN103576441A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103576441B publication Critical patent/CN103576441B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
    • H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
    • H01L21/0274—Photolithographic processes

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
CN201310319871.5A 2012-07-26 2013-07-26 用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模 Active CN103576441B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2012-0081883 2012-07-26
KR20120081883 2012-07-26
KR1020130007229A KR101282040B1 (ko) 2012-07-26 2013-01-23 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크
KR10-2013-0007229 2013-01-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103576441A CN103576441A (zh) 2014-02-12
CN103576441B true CN103576441B (zh) 2016-08-17

Family

ID=48996518

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310319871.5A Active CN103576441B (zh) 2012-07-26 2013-07-26 用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2014026281A (ja)
KR (1) KR101282040B1 (ja)
CN (1) CN103576441B (ja)
TW (1) TWI505019B (ja)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015049282A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 Hoya株式会社 表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法
JP6661262B2 (ja) * 2014-05-29 2020-03-11 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法
KR101624995B1 (ko) * 2014-09-26 2016-05-26 주식회사 에스앤에스텍 플랫 패널 디스플레이용 위상 반전 블랭크 마스크 및 포토마스크
JP6595766B2 (ja) * 2014-12-25 2019-10-23 住友金属鉱山株式会社 導電性基板、および導電性基板の製造方法
TWI584055B (zh) * 2015-03-27 2017-05-21 Ｓ＆Ｓ技術股份有限公司 相移式空白掩膜及相移式光掩膜
JP6767735B2 (ja) * 2015-06-30 2020-10-14 Hoya株式会社 フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法
JP6352224B2 (ja) * 2015-07-17 2018-07-04 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6626813B2 (ja) * 2016-03-16 2019-12-25 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
KR101801101B1 (ko) * 2016-03-16 2017-11-27 주식회사 에스앤에스텍 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크
KR102093103B1 (ko) * 2016-04-01 2020-03-25 (주)에스앤에스텍 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크, 포토 마스크 및 그의 제조 방법
KR101823854B1 (ko) * 2016-07-28 2018-03-14 주식회사 에스앤에스텍 블랭크 마스크 및 포토 마스크
JP2017033004A (ja) * 2016-09-21 2017-02-09 Hoya株式会社 表示装置製造用フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法
KR102431557B1 (ko) * 2016-09-26 2022-08-11 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크, 위상 시프트 마스크, 위상 시프트 마스크의 제조 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법
JP6812236B2 (ja) * 2016-12-27 2021-01-13 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP6983641B2 (ja) 2017-01-16 2021-12-17 Hoya株式会社 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
CN108319103B (zh) * 2017-01-16 2023-11-28 Hoya株式会社 相移掩模坯料及使用其的相移掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法
JP6891099B2 (ja) 2017-01-16 2021-06-18 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
CN108319104B (zh) * 2017-01-16 2023-05-02 Hoya株式会社 显示装置制造用相移掩模坯料、显示装置制造用相移掩模的制造方法及显示装置的制造方法
JP6518801B2 (ja) * 2017-03-10 2019-05-22 エスアンドエス テック カンパニー リミテッド 極紫外線リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法
JP7126836B2 (ja) * 2017-03-28 2022-08-29 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びそれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法
KR102170424B1 (ko) * 2017-06-28 2020-10-27 알박 세이마쿠 가부시키가이샤 마스크 블랭크스, 위상 시프트 마스크, 하프톤 마스크, 마스크 블랭크스의 제조 방법, 및 위상 시프트 마스크의 제조 방법
JP6999460B2 (ja) * 2018-03-23 2022-01-18 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク中間体及びこれらを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP2018173644A (ja) * 2018-05-31 2018-11-08 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
JP7217620B2 (ja) * 2018-11-22 2023-02-03 アルバック成膜株式会社 マスクブランクスおよびマスク
JP6840807B2 (ja) * 2019-09-10 2021-03-10 Hoya株式会社 フォトマスクの設計方法および製造方法、並びに表示装置の製造方法
KR102598440B1 (ko) * 2019-12-20 2023-11-07 주식회사 에스앤에스텍 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1286217A2 (en) * 2001-06-26 2003-02-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phase shift mask blanks, their manufacture and use
CN1400630A (zh) * 2001-07-26 2003-03-05 旺宏电子股份有限公司 无铬相移掩膜及使用该掩膜的设备
CN101937170A (zh) * 2009-06-30 2011-01-05 爱发科成膜株式会社 相移掩膜的制造方法、平板显示器的制造方法和相移掩膜
CN102207675A (zh) * 2010-03-31 2011-10-05 Hoya株式会社 光掩模及其制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3397933B2 (ja) * 1995-03-24 2003-04-21 アルバック成膜株式会社 位相シフトフォトマスクブランクス、位相シフトフォトマスク、及びそれらの製造方法。
JP3209257B2 (ja) * 1995-04-21 2001-09-17 凸版印刷株式会社 位相シフトマスク及びその製造方法
JP2004302078A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法
KR100848815B1 (ko) * 2004-11-08 2008-07-28 엘지마이크론 주식회사 하프톤 마스크 및 그 제조방법 및 이를 이용한평판패널디스플레이
JP5175932B2 (ja) * 2008-06-25 2013-04-03 Ｈｏｙａ株式会社 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク
TWI461833B (zh) * 2010-03-15 2014-11-21 Hoya Corp 多調式光罩、多調式光罩之製造方法及圖案轉印方法
KR101155415B1 (ko) * 2010-05-19 2012-06-14 주식회사 에스앤에스텍 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 그 제조방법
KR101151685B1 (ko) * 2011-04-22 2012-07-20 주식회사 에스앤에스텍 블랭크 마스크 및 포토마스크

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1286217A2 (en) * 2001-06-26 2003-02-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Phase shift mask blanks, their manufacture and use
CN1400630A (zh) * 2001-07-26 2003-03-05 旺宏电子股份有限公司 无铬相移掩膜及使用该掩膜的设备
CN101937170A (zh) * 2009-06-30 2011-01-05 爱发科成膜株式会社 相移掩膜的制造方法、平板显示器的制造方法和相移掩膜
CN102207675A (zh) * 2010-03-31 2011-10-05 Hoya株式会社 光掩模及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI505019B (zh) 2015-10-21
TW201405238A (zh) 2014-02-01
KR101282040B1 (ko) 2013-07-04
CN103576441A (zh) 2014-02-12
JP2014026281A (ja) 2014-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103576441B (zh) 用于平板显示器的相移掩模坯件和光掩模
KR101586344B1 (ko) 포토마스크 블랭크, 포토마스크 및 그 제조 방법
TWI548931B (zh) 光罩空白基板、光罩及其製造方法
JP6626813B2 (ja) 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
JP6876737B2 (ja) 位相反転ブランクマスク及びフォトマスク
JP5306507B2 (ja) ブランクマスク及びフォトマスク
EP2418542B1 (en) Binary photomask blank and binary photomask making method
WO2010113474A1 (ja) マスクブランクおよび転写用マスク
KR101623206B1 (ko) 포토마스크 블랭크, 포토마스크 및 그 제조 방법
CN109491193B (zh) 光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法
KR20200126216A (ko) 극자외선 리소그래피용 펠리클 및 이의 제조방법
TWI758382B (zh) 相移光罩基底、相移光罩之製造方法、及顯示裝置之製造方法
JP2018116269A (ja) 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法
TWI801663B (zh) 遮罩基底、轉印用遮罩及半導體元件之製造方法
US20220043335A1 (en) Mask blank, transfer mask, and semiconductor-device manufacturing method
US20220043336A1 (en) Pellicle for euv lithography, and method for manufacturing the same
CN110456608B (zh) 相移空白掩膜和光掩膜
KR102093103B1 (ko) 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크, 포토 마스크 및 그의 제조 방법
KR101823854B1 (ko) 블랭크 마스크 및 포토 마스크
KR20170073232A (ko) 다계조 포토마스크

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant