CN103508658A - 玻璃板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种利用溢流下拉法的玻璃板的制造方法、且抑制玻璃带的宽度方向端部的失透的效果高的制造方法。设为如下方法,即,使用成形装置,该成形装置包括:上表面,形成着供给熔融玻璃的供给槽;及一对壁面,引导溢出至供给槽的两侧且从所述上表面的两端部向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在下端融合,而制成玻璃带;且构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度为120000dPa·s以下,液相温度为1100℃~1250℃,利用以从该端部突出的方式相互对向地形成在壁面的宽度方向两侧的端部的一对导件,一面限制熔融玻璃的宽度,一面使熔融玻璃沿壁面流下,且以流下的熔融玻璃的导件附近的部分的粘度从成形装置的上表面至下端保持小于液相粘度的方式,沿导件加热该部分。

Description

玻璃板的制造方法
技术领域
本发明涉及一种玻璃板的制造方法及玻璃板制造装置,更具体来说,涉及一种利用溢流下拉(overflow down draw)法的玻璃板的制造方法及玻璃板制造装置。
背景技术
所谓溢流下拉法是如下方法,即,(1)将熔融玻璃供给至在上部形成着熔融玻璃的供给槽且具有楔形剖面的成形装置,(2)将从供给槽溢出的熔融玻璃引导至与成形装置中的所述楔形的两侧面相当的一对壁面,使熔融玻璃沿该壁面流下,(3)使沿各壁面流下的熔融玻璃在成形装置的下端融合,而使玻璃带连续成形。之后,所获得的玻璃带经过厚度调整、缓冷等步骤,被切断成所需的尺寸,而成为玻璃板。溢流下拉法适合制造大面积且薄的玻璃板、例如在液晶显示器、有机EL(Electroluminescence,电致发光)显示器、等离子显示器等平板显示器(FPD,Flat Panel Display)中使用的玻璃基板。
有时会在成形装置的宽度方向的两端部、更具体来说、熔融玻璃流下的壁面的宽度方向两侧的端部,设置以从该端部突出的方式相互对向地形成的一对导件(guide)。通过配置导件,而限制沿壁面流下的熔融玻璃的宽度。专利文献1(日本专利特开2010-189220号公报)中揭示了包括具有特定形状的导件的成形装置。专利文献1中记载着利用该成形装置,即便在熔融玻璃的粘度相对较高的情况下,也可使两端部(耳部)的形状稳定的玻璃带成形。
专利文献2(日本专利特开2010-215428号公报)中揭示了防止玻璃带的端部的形状不良的技术。更具体来说,专利文献2中揭示了如下技术,即,在成形装置的下端与位于最靠近该装置的位置的玻璃带的搬送辊之间的空间,配置加热器,一面利用该加热器局部地加热融合后的玻璃带的端部,一面实施玻璃带的成形及搬送。
[背景技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2010-189220号公报
[专利文献2]日本专利特开2010-215428号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
在溢流下拉法中使用包括导件的成形装置的情况下,当希望使液相粘度小的玻璃成形时,有容易在导件附近流下的熔融玻璃中产生失透、即、在已成形的玻璃带的宽度方向的端部(以下将“宽度方向的端部”简称为“端部”)产生失透的问题。专利文献1中无与所述玻璃带端部的失透相关的记载。专利文献2中记载着可通过利用配置在成形装置的下端与比成形装置靠下游侧的搬送辊之间的加热器加热导件下端,而仅防止导件下端附近的熔融玻璃长时间保存在容易产生失透的温度范围内。但是,在专利文献2的技术中,所述加热器加热的只是导件的下端,不能说必定可充分抑制在导件附近流下的熔融玻璃的失透。尤其是在构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度小的情况下,难以抑制已成形的玻璃带的端部的失透。作为液相粘度小的玻璃组合物,例如可列举使应变点上升以使热收缩率减小的低温多晶硅(p-Si)用玻璃组合物。
本发明的目的在于提供一种利用溢流下拉法的玻璃板的制造方法及制造装置、且抑制已成形的玻璃带端部的失透的效果高、尽管构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度小也可获得抑制该端部的失透的效果的制造方法及制造装置。
[解决问题的技术手段]
本发明的玻璃板的制造方法包括使用成形装置且利用溢流下拉法使玻璃带成形的成形步骤,该成形装置包括:上表面,形成着供给熔融玻璃的供给槽;一对壁面,引导溢出至所述供给槽的两侧且从所述上表面的两端部向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在下端融合,而制成玻璃带。在本发明的玻璃板的制造方法中,构成所述熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度为120000dPa·s以下,该玻璃组合物的液相温度为1100℃~1250℃。在本发明的玻璃板的制造方法的所述成形步骤中,(1)利用以从该端部突出的方式相互对向地形成在所述壁面的宽度方向两侧的端部的一对导件,一面限制该熔融玻璃的宽度,一面使所述熔融玻璃沿所述壁面流下,(2)以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的粘度从所述成形装置的上表面至下端保持小于所述液相粘度的方式,沿所述导件加热该部分。
[发明的效果]
本发明的玻璃板的制造方法及制造装置的抑制已成形的玻璃带端部的失透的效果高。根据本发明的玻璃板的制造方法或制造装置,尽管构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度小而为120000dPa·s以下,也可获得抑制该端部的失透的效果。
附图说明
图1是表示在本发明的制造方法中可使用的成形装置的一例的示意图。
图2是使用图1所示的装置的本发明的制造方法的一例的示意图。
图3是表示在本发明的制造方法中加热熔融玻璃的导件附近的部分的加热装置的一例的示意图。
图4是表示在本发明的制造方法中加热熔融玻璃的导件附近的部分的加热装置的另一例的示意图。
图5是表示使用图1所示的装置的本发明的制造方法的另一例的示意图。
图6是表示对在本发明的制造方法中可使用的成形装置的导件通电使其发热时的电极的配置的一例的示意图。
[符号的说明]
1             成形装置
2             供给槽
3             上表面
3a、3b        (上表面的)端部
4             下端
5             壁面
6a、6b        导件
7             液面
8             加热装置
11a、11b、11c 电极
50            玻璃带
50a           (玻璃带的)端部
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施方式进行说明。以下所示的实施方式是本发明的一例,本发明并不限定于这些实施方式。
图1是表示在本发明的制造方法中可使用的成形装置的一例,图2是表示使用图1所示的成形装置的本发明的制造方法的一例。成形装置1包括:上表面3,形成着供给熔融玻璃的供给槽2;一对壁面5(图1、图2中仅图示了一壁面),引导溢出至供给槽2的两侧且从上表面3的两端部3a、3b向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在装置1的下端4融合,而制成玻璃带50;及一对导件6a、6b,形成在壁面5的宽度方向两侧的端部5a、5b。导件6a、6b分别以从端部5a、5b突出的方式相互对向地形成。从供给槽2溢出的熔融玻璃分别沿一对壁面5流下。壁面5包括:垂直壁面,供从供给槽2溢出的熔融玻璃沿铅垂方向流下;及倾斜壁面,将沿垂直壁面流下的熔融玻璃引导至成形装置的下端4,且与垂直壁面相连接。沿壁面5流下的熔融玻璃的一对液流在成形装置1的下端4合流,而相互融合。此时,利用导件6a、6b限制沿壁面5流下的熔融玻璃的宽度,例如连续形成宽度方向的厚度的均匀性高的玻璃带50。成形装置1的下端4形成一对壁面5彼此(倾斜壁面彼此)连接而成的直线状脊线。图1、图2所示的符号2a为供给槽2的底面2a,图2所示的符号7为供给至供给槽2的熔融玻璃的液面7。
如图2所示,在各导件6a、6b的附近,以从成形装置1的上表面3侧延伸至下端4侧的方式配置着加热器8,包括成形装置1的未表示在图2中的一侧(在该侧也以与图2所示的一侧相同的方式配置着加热器8)在内,均利用该加热器8加热沿一对壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分。该加热是以沿壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的粘度从成形装置1的上表面3至下端4(熔融玻璃的该部分从成形装置1的上表面3流下而到达下端4)保持小于构成该熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度(以下也简称为“液相粘度”)的方式,沿导件6a、6b进行。
在利用使用包括导件的成形装置的溢流下拉法进行的玻璃带的成形(及对该玻璃带进行冷却而获得的玻璃板的制造)中,容易在导件附近、即、成形的玻璃带的端部(图2所示的符号50a)产生失透。可认为其原因在于:收纳成形装置的成形炉以在成形装置的下端使熔融玻璃为适合成形的粘度为目的,而通常设定为不仅以玻璃带的成形为目的而且以熔融玻璃的冷却为目的的温度、即、比熔融玻璃低的温度,所以导件夺取热,从而,导致导件附近的熔融玻璃的温度与熔融玻璃的其他部分的温度相比容易降低,且由于所述温度的降低及由与导件的接触引起的物理阻力,而导致导件附近的熔融玻璃的流下速度与熔融玻璃的其他部分相比容易降低,从而从接触于导件起至离开成形装置为止需要长时间等。
根据专利文献2(日本专利特开2010-215428号公报)的技术,有可抑制在导件的下端产生的失透的可能性。但是,在专利文献2的技术中,难以抑制在比导件的下端靠上游的区域、尤其是在熔融玻璃与导件接触而开始冷却的初期产生失透,也无法利用导件的下端的加热消除一旦产生的失透。而且,在使包含适合用于FPD的玻璃基板的无碱玻璃、含微量碱的玻璃等液相温度高且液相粘度小的玻璃组合物、例如在本发明的制造方法中使用的液相粘度为120000dPa·s以下且液相温度处于1100℃~1250℃的范围内的玻璃组合物的玻璃带成形的情况下,尤其容易产生所述失透。
在本发明的制造方法中,以沿成形装置1的壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的粘度从成形装置1的上表面3至下端4保持小于液相粘度的方式(以该部分的温度从成形装置1的上表面3至下端4成为液相温度以上的方式),沿导件6a、6b加热熔融玻璃的该部分。由此,可获得抑制熔融玻璃的导件附近的部分(熔融玻璃的端部)的失透的高效果,在构成熔融玻璃的玻璃组合物具有120000dPa·s以下的小液相粘度,且具有1100℃~1250℃的范围的液相温度的情况下,也可抑制在该端部产生失透。
在本说明书中,所谓液相温度是指熔融体与结晶的初相之间的平衡温度,且是如果在该温度以上则不存在结晶的温度,所谓液相粘度是指玻璃成为所述液相温度的粘度。
在本发明的制造方法中,优选以沿成形装置1的壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的温度从成形装置1的上表面3至下端4成为比液相温度高10℃以上的温度的方式加热该部分,更优选的是以成为比液相温度高15℃以上的温度的方式加热该部分。在这些情况下,可更确实地抑制在成形的玻璃带的端部产生失透。具体的液相温度因玻璃组合物的组成而异。
在本发明的制造方法中,在成形步骤中,优选以沿成形装置1的壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的温度从成形装置1的上表面3至下端4比液相温度高10℃~150℃的方式(以成为比液相温度高10℃以上、且液相温度加上150℃所得的温度以下的方式),沿导件加热该部分。由此,可抑制成形装置1的变形、及成形后的玻璃带50沿宽度方向的收缩。进一步优选的是以沿成形装置1的壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的温度从成形装置1的上表面3至下端4比液相温度高15℃~100℃的方式,沿导件加热该部分。
通过与在熔融玻璃离开成形装置1后进行的端部的急冷(玻璃带50端部的急冷)组合,而进一步确实地抑制在该端部产生失透。
根据本发明的制造方法,理论上,通过以沿成形装置1的壁面5流下的熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的温度从成形装置1的上表面3至下端4与液相温度相比充分高的方式,使沿成形装置1流下的熔融玻璃整体的温度与液相温度相比充分为高温,而非加热该部分,也可抑制失透。但是,在制造液相温度高的玻璃的情况下,现实情况下无法在溢流下拉法中应用这种方法。其原因在于:在利用溢流下拉法进行的玻璃带的成形中存在适当的熔融玻璃的粘度(为了不使如下所述的玻璃带的松弛或玻璃带的宽度收缩的问题产生,成形装置的下端的熔融玻璃的粘度优选40000dPa·s以上,更优选的是70000dPa·s以上)。如果以熔融玻璃的导件附近的部分的温度与液相温度相比充分高的方式,使沿成形装置流下的熔融玻璃整体的温度与液相温度相比充分为高温,或过度地在成形装置的下端进行加热,则有成形装置的下端的熔融玻璃的粘度会小于所述适当的范围的可能性。于是,产生以下问题,即,离开成形装置后的玻璃带的粘度未充分上升,玻璃带以配置在成形装置的下游侧的搬送辊的拉伸速度以上的速度落下,而导致玻璃带在该辊上松弛,或玻璃带的宽度收缩。而且,也产生以下问题,即,成形装置的温度越高,成形装置的潜变(creep)现象越明显,随着成形开始后的时间的经过,而玻璃带的中央部下垂等。如果考虑玻璃板所需的厚度及在成形后的缓冷步骤中实施的玻璃带的温度控制,则搬送辊的拉伸速度的增加存在极限(如果考虑在缓冷步骤中实施的玻璃带的温度控制,则玻璃带的搬送速度优选50~500m/小时,更优选的是100~400m/小时,进一步优选的是120~300m/小时)。如果成形的玻璃带的宽度收缩,则无法确保玻璃板的产品宽度。如果潜变现象变得明显,则制造的玻璃板的板厚的均匀性降低。
在本发明的制造方法中,并非使沿成形装置的壁面流下的熔融玻璃整体的温度均匀地上升,来使熔融玻璃的导件附近的部分的温度为液相温度以上。通过使尤其容易产生失透的、熔融玻璃的导件附近的部分的温度从成形装置的上表面至下端为液相温度以上,即,通过对沿成形装置的壁面流下的熔融玻璃局部地进行加热,可抑制熔融玻璃整体及成形装置整体过热,且可使该部分的粘度从成形装置的上表面至下端小于液相粘度,而抑制在玻璃带的端部产生失透。
在本发明的制造方法中,沿导件加热熔融玻璃的导件附近的部分的方法只要可使该部分的粘度从成形装置1的上表面3至下端4保持小于液相粘度,便无限定。
如图2所示,加热方法的一例是利用以从成形装置1的上表面3侧延伸至下端4侧的方式配置在导件6a、6b的附近的加热装置进行的加热。根据该方法,可相对简便地进行熔融玻璃的导件附近的部分的加热及该加热的控制。
加热装置只要能以该部分的熔融玻璃的粘度小于液相粘度的方式、即、以该部分的熔融玻璃的温度成为液相温度以上的方式,加热熔融玻璃,便无限定。加热装置例如为加热器。
加热器的种类只要可在玻璃带成形炉的温度环境下使用,且可通过利用该加热器对熔融玻璃进行加热,使熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的粘度小于液相粘度,便无限定。加热装置也包括利用激光或电磁波对熔融玻璃进行加热的加热装置。
加热装置的配置状态只要能以从成形装置的上表面侧延伸至下端侧的方式配置在成形装置中的导件附近,且可使沿成形装置的壁面流下的熔融玻璃的导件附近的部分的粘度从成形装置的上表面至下端保持小于液相粘度,便无限定。如图2所示,优选加热装置分别配置在存在于1个成形装置1中的4处“导件附近的部分”。
图2所示的例子中,作为加热装置的加热器8以沿导件6a、6b的方式配置。加热器8的形状是从成形装置的上表面侧延伸至下端侧的直线状。加热器8的形状只要整体上从成形装置的上表面侧延伸至下端侧即可(只要整体上为沿导件6a、6b的形状即可),也可不为直线状。
例如,如图3所示,加热装置也可为以从成形装置1的上表面3侧垂直地延伸至下端4侧的方式配置在成形装置1中的导件6b的附近的加热器8。另外,图3中表示了成形装置1的导件6b侧,该垂直地延伸的加热器8也能以相同的方式配置在导件6a侧。
例如,如图4所示,加热装置也可为以从成形装置1的上表面3侧向下端4侧延伸且也沿壁面5延伸的方式配置在成形装置1中的导件6b附近的加热器8。另外,图4中表示了成形装置1的导件6b侧,也沿该壁面5延伸的加热器8也能以相同的方式配置在导件6a侧。
关于导件6a、6b与加热装置的位置关系,加热装置(加热器8)例如可如图2所示配置在导件6a、6b的熔融玻璃侧的附近,也可如图5所示配置在导件6a、6b的熔融玻璃的相反侧的附近。在前者的情况下,可利用加热装置直接加热熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分。在后者的情况下,虽然因加热装置的具体的配置位置及构成导件6a、6b的材料而异,但也可利用加热装置使导件6a、6b发热,利用发热的导件6a、6b加热熔融玻璃的该导件附近的部分。就加热效率的观点来说,优选利用加热装置直接加热熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分。
对加热装置进行的具体的加热控制只要可使沿成形装置的壁面流下的熔融玻璃的导件附近的部分的粘度从成形装置的上表面至下端保持小于液相粘度,便可自由设定。例如利用加热装置进行的加热可连续也可间断。在配置着多个加热装置的情况下,也可独立地控制利用各加热装置进行的加热。也可预先对1个加热装置设定多个加热区,而独立地控制各加热区的加热。
加热方法的另一例是通过使导件发热而加热熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分的方法。
使导件发热的方法及程度只要可使沿成形装置的壁面流下的熔融玻璃的导件附近的部分的粘度从成形装置的上表面至下端保持小于液相粘度,便无限定。
在本发明的制造方法中,使熔融玻璃的导件6a、6b附近的温度从成形装置的上表面至下端保持为液相温度以上。因此,优选使导件6a、6b发热,且使导件6a、6b的与熔融玻璃接触的部分(沿熔融玻璃流动的全长(路径)的部分)的温度为液相温度以上。也可使导件6a、6b发热,且使导件6a、6b整体的温度为液相温度以上。
导件6a、6b的发热优选以导件6a、6b的与熔融玻璃接触的部分的温度成为比液相温度高10℃以上的温度的方式实施,更优选的是以成为比液相温度高15℃以上的温度的方式实施。在这种情况下,可更确实地抑制在成形的玻璃带的端部产生失透。
导件6a、6b的发热优选以导件6a、6b的与熔融玻璃接触的部分的温度成为比液相温度高10℃~150℃的温度的方式实施,更优选的是以成为比液相温度高15℃~100℃的温度的方式实施。在这种情况下,可抑制成形装置1的变形、及成形后的玻璃带50沿宽度方向的收缩。
使导件发热的方法的一例是利用加热器等加热装置进行的加热。用来实现该目的的加热装置的配置及控制只要能使用利用该加热装置而发热的导件,使熔融玻璃的导件6a、6b附近的粘度从成形装置的上表面至下端小于液相粘度,便无限定。作为一例,利用图5所示的以从成形装置1的上表面3侧延伸至下端4侧的方式配置在导件6a、6b附近的加热装置(加热器8)对导件6a、6b进行加热。也可与所述方法不同地,例如将利用电流而发热的加热器配置在导件6a、6b的表面,或埋入在导件6a、6b的表面。该情况下的表面例如是导件6a、6b的面向熔融玻璃的面的相反侧的面(未与熔融玻璃接触的面)。
使导件发热的方法的另一例是在导件6a、6b包含金属的情况下通过对导件6a、6b通电而实现的发热(通电发热)。在本发明的制造方法中,也可通过导件6a、6b包含金属,对导件6a、6b通电,使该导件发热,而加热熔融玻璃的导件6a、6b附近的部分。该方法的热效率高,温度控制相对容易。
通过通电而使导件6a、6b发热的具体方法并无限定。将电极分别连接于导件6a、6b,使电流经由该电极流到导件6a、6b即可。连接于各导件的电极的个数及配置可任意设定。电极可连接于导件6a、6b的面向熔融玻璃的面,也可连接于该面的相反侧的面。
图6表示用来实现导件6b的通电发热的电极的配置例。在图6所示的例子中,在导件6b的下端附近的1个部位及上端附近的相互隔有间隔的2个部位连接着电极11a、11b、11c。可通过使电流在电极11a-11b间及11a-11c间流动,而使导件6b的与熔融玻璃接触的部分发热。此外,也能以电流在电极11b-11c间流动的方式设定各电极的电位。对于导件6a,也能以相同的方式配置电极。
在通过通电使导件6a、6b发热的情况下,也可通过使构成导件6a、6b的与熔融玻璃接触的部分的金属的组成为与构成导件6a、6b的其他部分的金属不同的组成,而使该接触部分的发热量大于该其他部分。在这种情况下,用来使熔融玻璃的导件附近的部分的粘度小于液相粘度的热效率进一步升高。各部分的金属的组成例如可根据该组成表现的导电率来决定。
也可并用通过使电流在该导件流动而实现的通电发热、与利用加热装置进行的加热,而使导件6a、6b发热。在导件6a与导件6b中也可采用不同的发热方法。
导件6a、6b的发热温度(包括加热装置的加热温度)为液相温度以上即可,优选比液相温度高10℃以上的温度,更优选的是比液相温度高15℃以上的温度。而且,导件6a、6b的发热温度优选比液相温度高10℃~150℃的温度,更优选的是比液相温度高15℃~100℃的温度。在导件包含金属的情况下,尤其是在包含热导率高的铂或铂合金的情况下,导件6a、6b的发热温度、与熔融玻璃的该导件附近的部分的温度大致相等。
在本发明的制造方法中,对熔融玻璃的导件附近的部分进行的加热也可并用利用所述加热装置实现的加热与利用导件的发热实现的加热。
在本发明的制造方法中,也可视需要而并用利用以沿水平方向延伸的方式配置在成形装置附近的加热装置对熔融玻璃进行的加热。
除了使导件6a、6b发热的情况以外,成形装置1中的各部分的构成(形状、材料等)与在溢流下拉法中使用的众所周知的成形装置中的该部分的构成相同即可。例如成形装置1中的除导件6a、6b以外的部分通常包括耐火砖。
构成导件6a、6b的材料并无限定,就耐热性及耐火性高、且不易污染熔融玻璃的方面来说,优选包含铂或铂合金。无论熔融玻璃的导件附近的部分的加热方法如何,所述情况尤其适合通过使导件发热而进行该加热的情况。由于铂及铂合金的热导率高,所以在利用使用包含铂或铂合金的导件的现有的溢流下拉法进行的玻璃带的成形中,熔融玻璃的导件附近的部分的温度容易降低,且容易在端部产生失透。但是,在通过使导件发热对熔融玻璃的导件附近的部分进行加热的情况下,通过使导件包含铂或铂合金,反而可利用该热导率的高低,使发热的导件6a、6b的热效率提高,温度控制也变得更容易。
无论熔融玻璃的导件附近的部分的加热方法如何,导件6a、6b的形状及尺寸本身与在溢流下拉法中使用的众所周知的成形装置中的导件相同即可。成形装置中的一对导件自壁面的高度优选在导件从倾斜壁面突出的区域整体中,在熔融玻璃未越过该一对导件的范围内设定得比沿壁面流动的熔融玻璃的厚度低。由此,可抑制成形的玻璃带的耳部开成二叉形状(当观察玻璃带的宽度方向的切断面时,耳部成为Y字状),而可使成形的玻璃带的耳部的形状稳定。在耳部的形状开成二叉形状的情况下,与未开成二叉形状的情况相比,在切断玻璃带的步骤中需要较大应力。更详细来说,如果耳部的形状开成二叉形状,则当在利用切割器将切痕刻到玻璃带上后,施加应力而切断该玻璃带时,切断所需的应力变大。如果切断玻璃带所需的应力变大,则有从利用所述切割器形成的切痕线以外的区域切断玻璃带的情况,在这种情况下,会导致切断不良。而且,如果耳部的形状开成二叉形状,则玻璃带容易破碎。即,通过使导件为所述优选的构成,可抑制玻璃带的切断不良的产生,或可抑制玻璃带的破碎,而可稳定地连续生产玻璃板。
优选成形装置中的导件自壁面的高度是越为成形装置的下方的位置越低。优选成形装置的下端4是两侧的倾斜壁面彼此连接而成的直线状脊线,且一对导件距倾斜壁面的高度在该脊线的位置为0(零)。由此,可进一步抑制玻璃带的耳部开成二叉形状,而可更稳定地连续生产玻璃板。
根据本发明的制造方法,即便在构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相温度高、液相粘度小的情况下,例如在玻璃组合物为无碱玻璃、含微量碱的玻璃等的情况下,也可获得抑制成形的玻璃带的端部的失透的效果。即,在构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相温度高、液相粘度小的情况下,本发明的制造方法所带来的优点大。
在本发明的制造方法中,构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度为120000dPa·s以下。如果为这种玻璃组合物,以往,在利用溢流下拉法进行的玻璃带的成形中容易产生端部的失透问题。但是,在本发明的制造方法中,可获得抑制失透的效果。
该液相粘度也可为100000dPa·s以下。在液相粘度为100000dPa·s以下的玻璃组合物中,所述失透的问题变得更明显,但在本发明的制造方法中,可获得抑制失透的效果。就可利用溢流下拉法稳定地实施玻璃带的成形的观点来说,该液相粘度优选40000dPa·s以上。该液相粘度例如为50000dPa·s以上120000dPa·s以下,也可为50000dPa·s以上100000dPa·s以下,也可为50000dPa·s以上80000dPa·s以下。
在本发明的制造方法中,构成熔融玻璃的玻璃组合物的液相温度为1100℃以上1250℃以下。如果为这种玻璃组合物,以往,在利用溢流下拉法进行的玻璃带的成形中容易产生端部的失透问题。但是,在本发明的制造方法中,可获得抑制失透的效果。
在本发明的制造方法中,熔融玻璃也可不含氧化锆及/或氧化锡。含有氧化锆的熔融玻璃与不含氧化锆的情况相比,玻璃组合物的液相温度上升。如果为这种熔融玻璃,以往,在利用溢流下拉法进行的玻璃带的成形中容易产生端部的失透问题。但是,在本发明的制造方法中,可获得抑制失透的效果。氧化锆除了原本便作为玻璃组合物的成分包含在熔融玻璃中的情况以外,也通过利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽及成形装置而溶出至熔融玻璃。尤其是在使用所述熔解槽使玻璃原料电熔解的情况下,有熔融玻璃中的氧化锆浓度变高的倾向。即,本发明的制造方法更适合利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽使玻璃原料电熔解的情况。
另外,使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽与以往广泛使用的使用氧化铝电铸耐火物构成的熔解槽相比,不易被玻璃腐蚀,作为熔解槽的寿命长。而且,也可抑制熔融玻璃的发泡。因此,适合熔融温度(玻璃组合物的粘度成为102.5泊(poise)的温度)高的玻璃组合物、例如无碱玻璃及含微量碱的玻璃的熔融玻璃的形成。
而且,在熔解槽中形成的熔融玻璃包括无碱玻璃或含微量碱的玻璃的情况下,玻璃组合物的比电阻容易变高,有电流在高氧化锆耐火物中流动而非在玻璃原料中流动的倾向。如果电流在该耐火物中流动,则氧化锆溶出至在熔解槽中形成的熔融玻璃。即,本发明的制造方法更适合利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽,通过电熔解而形成无碱玻璃或含微量碱的玻璃的熔融玻璃的情况。
液晶显示器、有机EL显示器等FPD用玻璃基板优选包括无碱玻璃或含微量碱的玻璃的玻璃板。其原因在于如果碱成分在面板制造步骤中从玻璃基板中溶出,则有薄膜晶体管(TFT,Thin Film Transistor)等电子元件的特性劣化的担忧。即,本发明的制造方法尤其适合利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽使玻璃原料电熔解,使用所获得的熔融玻璃且利用溢流下拉法制造FPD用玻璃基板的情况。另外,所谓无碱玻璃是指实质上不含碱金属氧化物(含有率小于0.05质量%)的玻璃组合物。含微量碱的玻璃是指含有0.05~2.0质量%的碱金属氧化物的玻璃组合物。
在含有氧化锡的熔融玻璃中,容易因氧化锡的晶化而产生失透。而且,在氧化锡与氧化锆共存的情况下,氧化锡具有使氧化锆晶化的作用。如果为这种熔融玻璃,以往,在利用溢流下拉法进行的玻璃带的成形中尤其容易产生端部的失透问题。但是,在本发明的制造方法中,可获得抑制失透的效果。
在本发明的制造方法中,构成熔融玻璃的玻璃组合物也可为无碱玻璃或含微量碱的玻璃。与含有超过2.0质量%的碱金属氧化物的碱玻璃相比,有所述无碱玻璃或含微量碱的玻璃的液相温度高、液相粘度小的倾向,但在本发明的制造方法中,可获得抑制失透的效果。如上所述,该效果在利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽,通过电熔解而形成无碱玻璃或含微量碱的玻璃的熔融玻璃的情况下尤其明显。
另外,就防止TFT等电子元件的特性的劣化的观点来说,FPD用玻璃基板宜为无碱玻璃。但是,就熔解性及澄清性的观点来说,FPD用玻璃基板宜为含微量碱的玻璃。通过铤而含有微量碱金属氧化物,制成含微量碱的玻璃,而使玻璃组合物的熔解性及澄清性提升。玻璃的碱性度因碱金属氧化物的存在而上升、且价数变动的金属的氧化变得容易有助于澄清性。而且,即便在使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽中通过玻璃原料的电熔解而形成熔融玻璃的情况下,与无碱玻璃相比,也可使玻璃的比电阻减小,且可抑制氧化锆朝熔融玻璃的溶出,而可抑制熔融玻璃的失透性上升。
在本发明的制造方法中,构成熔融玻璃的玻璃组合物表现102.5泊的粘度的温度(熔融温度)也可为1500℃~1750℃。由于这种玻璃组合物在熔融时需要高温,所以在利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽形成熔融玻璃的情况下,氧化锆容易溶出。对于这种玻璃组合物,在本发明的制造方法中也可获得抑制失透的效果。
以下,表示尤其可利用本发明的制造方法获得抑制失透的效果的玻璃组合物的例子。
(1)用作FPD用玻璃基板的玻璃组合物的例子
该例是包括SiO2:50~78质量%、B2O3:0~15质量%、Al2O3:3~25质量%、MgO:0~10质量%、CaO:0~20质量%、SrO:0~20质量%、BaO:0~10质量%、RO:3~20质量%的玻璃组合物。R是选自Mg、Ca、Sr及Ba中的至少1种元素。所谓RO是表示MgO、CaO、SrO与BaO的合量。更优选的是包括SiO2:55~65质量%、B2O3:5~14质量%、Al2O3:13~20质量%、MgO:0~5质量%、CaO:2~10质量%、SrO:0~10质量%、BaO:0~4质量%、RO:7~17质量%的玻璃组合物。就防止TFT等电子元件的特性的劣化的观点来说,该玻璃组合物优选实质上不含碱金属氧化物、即、为无碱玻璃。就使玻璃组合物的熔解性及澄清性提升的观点来说,优选含有微量的碱金属氧化物,在这种情况下,该玻璃组合物进一步包含超过0.05质量%且2.0质量%以下的R′2O,优选进一步包含超过0.1质量%且2.0质量%以下的R′2O。R′是选自Li、Na及K中的至少1种元素。R′2O表示Li2O、Na2O与K2O的合量。该玻璃组合物优选实质上不含As2O3及PbO(含有率为0.05质量%以下)作为澄清剂,且优选至少包含氧化锡作为澄清剂。而且,优选包括含有率为0.01~0.2质量%的氧化铁。
近年来,如果考虑要求FPD的轻量化,则该玻璃组合物中的SrO与BaO的含有率的合计优选0~10质量%。如果除了考虑轻量化以外还考虑作为产品的环境负荷,则BaO的含有率优选0~2质量%。
可利用所述玻璃组合物,实现满足FPD用玻璃基板所要求的特性的玻璃板。更具体来说,可实现满足应变点为650℃以上的玻璃板、满足密度为2.6g/cm3以下的玻璃板、满足杨式模数(Young Modulus)为70GPa以上的玻璃板。此外,可实现液相温度为1250℃以下的玻璃板,这种玻璃板可利用溢流下拉法制造。不过,由于难以实现液相温度小于1050℃且满足FPD用玻璃基板所要求的所述特性,所以优选以液相温度成为1050℃~1250℃的方式调整玻璃组合物的组成。
(2)用作覆盖玻璃(化学强化用玻璃)的玻璃组合物的例子
该例是可用作经化学强化的覆盖玻璃或太阳电池用玻璃板的玻璃组合物的例子。该例是包括SiO2:50~70质量%、Al2O3:5~20质量%、Na2O:6~30质量%、K2O:0~10质量%、MgO:0~10质量%、CaO:0~20质量%的玻璃组合物。
(3)用作多晶硅FPD用玻璃基板的玻璃组合物的例子
近年来,为了实现FPD的进一步的高精细化,而使用低温p-Si·TFT或氧化物半导体而非α-Si·TFT的FPD的开发不断发展。在低温p-Si·TFT及氧化物半导体的形成步骤中,在与α-Si·TFT的形成步骤相比为高温下实施热处理。因此,对形成低温p-Si·TFT及/或氧化物半导体的玻璃基板要求小热收缩率。为了使热收缩率减小,优选使玻璃组合物的应变点升高,但应变点高的玻璃组合物有液相粘度变小的倾向。而且,应变点高的玻璃组合物也有液相温度变高的倾向。因此,本发明的制造方法适合装载着低温p-Si·TFT的FPD用玻璃基板及装载着氧化物半导体的FPD用玻璃基板的制造。
构成装载着低温p-Si·TFT的FPD用玻璃基板及装载着氧化物半导体的FPD用玻璃基板的玻璃组合物的应变点例如为665℃以上,优选675℃以上,更优选的是680℃以上,尤其优选的是690℃以上。为了使应变点的提升与利用溢流下拉法的成形性的提升同时实现,该玻璃组合物的液相粘度例如为35000dPa·s以上120000dPa·s以下,优选40000dPa·s以上100000dPa·s以下,更优选的是50000dPa·s以上80000dPa·s以下。而且,为了使应变点的提升与利用溢流下拉法的成形性的提升同时实现,该玻璃组合物的液相温度例如为1100℃~1250℃,更优选的是1150℃~1250℃,进一步优选的是1180℃~1250℃,尤其优选的是1200℃~1250℃。
该玻璃组合物的具体的一例是具有包括SiO2:52~78质量%、Al2O3:3~25质量%、B2O3:3~15质量%、RO(其中RO为MgO、CaO、SrO与BaO的含有率的合计):3~20质量%的组成、质量比(SiO2+Al2O3)/B2O3为7.5以上、且应变点为670℃以上的玻璃组合物。就使玻璃组合物的应变点进一步升高的观点来说,质量比(SiO2+Al2O3)/RO优选7以上。而且,就同一观点来说,β-OH值优选0.1~0.3[mm-1]。该玻璃组合物优选无碱玻璃,但如果考虑降低玻璃的比电阻、且抑制电熔解时的氧化锆的溶出,则也可包含0.01~0.8质量%的R′2O(其中R′2O为Li2O、Na2O与K2O的含有率的合计)。也可通过包含0.01~1质量%的Fe2O3而降低玻璃的比电阻。为了实现高应变点,且抑制液相温度上升,该玻璃组合物中的质量比CaO/RO优选0.65以上,质量比(SiO2+Al2O3)/B2O3优选7.5~20。如果考虑将FPD用于移动设备等,则就轻量化的观点来说,SrO与BaO的含有率的合计优选小于0~2质量%。
本发明的制造方法只要可获得本发明的效果,便可包括除所述步骤以外的任意步骤。
该任意步骤例如为使玻璃原料熔解而形成熔融玻璃的熔解步骤。熔解步骤也可为利用使用高氧化锆系耐火物构成的熔解槽至少使玻璃原料电熔解的步骤。所述步骤适合无碱玻璃及含微量碱的玻璃的熔融玻璃的形成。在该步骤中,氧化锆从耐火物中溶出至熔融玻璃中(就玻璃的比电阻的关系来说,在形成无碱玻璃及含微量碱的玻璃的熔融玻璃时,尤其是在形成无碱玻璃的熔融玻璃时,有氧化锆的溶出量多的倾向),但在本发明的制造方法中,可抑制玻璃带的端部的失透。
而且,熔解步骤也可为使用氧化锡电极而在熔解槽中使玻璃原料电熔解的步骤。在该步骤中,氧化锡从电极中溶出至熔融玻璃中,但在本发明的制造方法中,可抑制玻璃带的端部的失透。
所述任意步骤例如为澄清在熔解槽中形成的熔融玻璃的澄清步骤。
所述任意步骤例如为在玻璃带离开成形装置后对该玻璃带端部进行急冷以防止失透的急冷步骤。在该步骤中,优选以玻璃带的端部的粘度成为109~1014泊的方式对玻璃带进行急冷。
所述任意步骤为对所形成的玻璃带进行缓冷的缓冷步骤。经过缓冷步骤的玻璃带被切断成所需尺寸而成为各种产品。产品的一例为FPD用玻璃基板。
可实施本发明的制造方法的玻璃板制造装置例如包括在所述本发明的制造方法的说明中所叙述的成形装置。
该玻璃板制造装置包括如下熔融玻璃的加热机构,即,以沿成形装置的壁面流下的熔融玻璃的导件附近的部分的粘度从成形装置的上表面至下端保持小于构成该熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度的方式,沿导件加热该部分。
加热机构的构成并无特别限定。加热机构例如包括以从成形装置的上表面侧延伸至下端侧的方式配置在导件附近的加热装置。加热装置可使用在本发明的制造方法的说明中所叙述的加热装置。加热装置例如为加热器。此时,加热机构可包括控制该加热装置的控制机构、电力源、将电力从该电力源供给至加热机构的构件、测定熔融玻璃的导件附近的部分的温度的构件等。而且,加热机构例如包括导件的发热机构。发热机构的构成并无特别限定。在对导件通电使其发热的情况下,发热机构例如包括电流(电压)产生装置、从该装置对导件供给电流(施加电压)的构件、及将该构件与导件电性连接的电极。在利用加热器等加热装置使导件发热的情况下,发热机构例如包括加热装置、控制该加热装置的控制机构、电力源、将电力从该电力源供给至加热器的构件。
只要可获得本发明的效果,该玻璃板制造装置也可包括除成形装置及加热机构以外的任意装置、机构。
[实施例]
利用使用高氧化锆系耐火物的熔解槽,使以具有下述组成的方式调配而成的玻璃原料电熔解,而形成熔融玻璃。接着,在铂合金制的澄清槽中在1680℃下澄清所形成的熔融玻璃后,在搅拌槽中进行搅拌,且冷却至1250℃。接着,将熔融玻璃经过铂合金制的导件构件而供给至图1所示的成形装置1,利用溢流下拉法使玻璃带成形。此时,通过使电流在铂合金制的导件6a、6b中流动,对该导件通电使其发热,而以沿壁面5流下的导件6a、6b附近的熔融玻璃的温度不小于比作为构成该熔融玻璃的玻璃组合物的液相温度的1230℃高15℃的1245℃、且不大于比1230℃高100℃的1330℃的方式进行温度控制。将以此方式成形的玻璃带冷却、缓冷后,进行切断,而获得厚度为0.7mm、尺寸为2200mm×2500mm的FPD用玻璃基板。另外,该玻璃组合物的液相粘度为50000dPa·s,应变点为715℃。
SiO2:61.5质量%、
Al2O3:20质量%、
B2O3:8.4质量%、
CaO:10质量%、
SnO2:0.1质量%
在所获得玻璃基板中,包括宽度方向的端部在内,均未产生失透。而且,也可确保产品宽度。
(比较例)
除了未进行导件的发热,且根据专利文献2(日本专利特开2010-215428号公报)所记载的方法,在成形装置的下端与位于最靠近成形装置的下游的位置的搬送辊之间的空间配置加热器,而局部地加热从成形装置的下端向下方移动的玻璃带的端部以外,以与实施例相同的方式获得FPD用玻璃基板。另外,加热器沿成形装置的宽度方向配置在成形装置的下方,加热器的温度以成形装置下端的熔融玻璃的温度成为液相温度以上的方式得到控制。
在所获得的玻璃基板的宽度方向的端部产生失透。确认出在专利文献2所记载的方法中,在利用液相温度高、液相粘度小的玻璃组合物使玻璃带成形时,难以抑制端部的失透。
本说明书揭示与玻璃板的制造方法及玻璃板制造装置相关的以下所示的形态。
第1形态是一种玻璃板的制造方法,其包括使用成形装置且利用溢流下拉法使玻璃带成形的成形步骤,该成形装置包括:上表面,形成着供给熔融玻璃的供给槽;及一对壁面,引导溢出至所述供给槽的两侧且从所述上表面的两端部向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在下端融合,而制成玻璃带;且构成所述熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度为120000dPa·s以下,在所述成形步骤中,利用以从该端部突出的方式相互对向地形成在所述壁面的宽度方向两侧的端部的一对导件,一面限制该熔融玻璃的宽度,一面使所述熔融玻璃沿所述壁面流下,且以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的粘度从所述成形装置的上表面至下端保持小于所述液相粘度的方式,沿所述导件加热该部分。
第2形态是一种玻璃板的制造方法,其包括使用成形装置且利用溢流下拉法使玻璃带成形的成形步骤,该成形装置包括:上表面,形成着供给熔融玻璃的供给槽;及一对壁面,引导溢出至所述供给槽的两侧且从所述上表面的两端部向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在下端融合,而制成玻璃带;且构成所述熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度为120000dPa·s以下,液相温度为1100℃~1250℃,在所述成形步骤中,利用以从该端部突出的方式相互对向地形成在所述壁面的宽度方向两侧的端部的一对导件,一面限制该熔融玻璃的宽度,一面使所述熔融玻璃沿所述壁面流下,且以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的粘度从所述成形装置的上表面至下端保持小于所述液相粘度的方式,沿所述导件加热该部分。
第3形态的玻璃板的制造方法是附加于第1或第2形态,在所述成形步骤中,以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的温度从所述成形装置的上表面至下端比所述液相温度高10℃~150℃的方式,沿所述导件加热该部分。
第4形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第3形态中的任一形态,利用以从所述成形装置的上表面侧延伸至下端侧的方式沿所述导件配置的加热装置对所述熔融玻璃的所述部分进行加热。
第5形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第4形态中的任一形态,所述玻璃组合物为包括SiO2:50~78质量%、B2O3:0~15质量%、Al2O3:3~25质量%、MgO:0~10质量%、CaO:0~20质量%、SrO:0~20质量%、BaO:0~10质量%、及RO(其中RO为MgO、CaO、SrO与BaO的合计):3~20质量%的玻璃组合物。
第6形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第5形态中的任一形态,所述成形装置的下端为所述一对壁面彼此连接而成的直线状脊线,所述成形装置中的所述导件自所述壁面的高度是越为所述成形装置的下方的位置越低,并且在所述脊线的位置为零。
第7形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第6形态中的任一形态,通过使所述导件发热而对所述熔融玻璃的所述部分进行加热。
第8形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第7形态中的任一形态,所述玻璃组合物的液相粘度为35000dPa·s以上120000dPa·s以下。
第9形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第8形态中的任一形态,所述玻璃组合物的液相温度为1050℃以上。
第10形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第9形态中的任一形态,所述熔融玻璃含有氧化锆及/或氧化锡。
第11形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第10形态中的任一形态,所述玻璃组合物含有0~2.0质量%的碱金属氧化物。
第12形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第11形态中的任一形态,所述玻璃组合物表现102.5泊的粘度的温度为1500℃~1750℃。
第13形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第12形态中的任一形态,所述玻璃组合物为含有SiO2:52~78质量%、Al2O3:3~25质量%、B2O3:3~15质量%、RO(其中RO为MgO、CaO、SrO与BaO的合计):3~20质量%、质量比(SiO2+Al2O3)/B2O3为7.5以上、且应变点为670℃以上的玻璃组合物。
第14形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第13形态中的任一形态,所述玻璃板为液晶显示器用玻璃基板或有机EL显示器用玻璃基板。所述玻璃板也可为装载着低温p-Si·TFT的显示器用玻璃基板。
第15形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第14形态中的任一形态,以所述成形装置的下端的所述熔融玻璃的粘度成为40000dPa·s以上的方式进行温度控制。
第16形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第15形态中的任一形态,进一步包括对在所述成形步骤中成形的玻璃带进行缓冷的缓冷步骤,所述缓冷步骤中的所述玻璃带的搬送速度为50~500m/小时。
第17形态的玻璃板的制造方法是附加于第1~第16形态中的任一形态,进一步包括:熔解步骤,通过在包含高氧化锆系耐火物的熔解槽中,至少利用通电加热使玻璃原料熔解,而获得所述熔融玻璃。
第18形态的玻璃板制造装置包括成形装置及下述熔融玻璃的加热机构,该成形装置包括:上表面,形成着供给熔融玻璃的供给槽;所述一对壁面,引导溢出至供给槽的两侧且从所述上表面的两端部向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在下端融合,而制成玻璃带;及一对导件,以从该端部突出的方式相互对向地形成在所述壁面的宽度方向两侧的端部,且限制沿所述壁面流下的熔融玻璃的宽度;该熔融玻璃的加热机构是以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的粘度从所述成形装置的上表面至下端保持小于构成所述熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度的方式,沿所述导件加热该部分。
第19形态的玻璃板制造装置是附加于第18形态,所述加热机构包括以从所述成形装置的上表面侧延伸至下端侧的方式配置在所述导件的附近的加热装置。
第20形态的玻璃板制造装置是附加于第18或第19形态,所述加热机构包括所述导件的发热机构。
第21形态的玻璃板制造装置是附加于第18~第20形态中的任一形态,所述成形装置的下端为所述一对壁面彼此连接而成的直线状脊线,所述成形装置中的所述导件自所述壁面的高度是越为所述成形装置的下方的位置越低,并且在所述脊线的位置为零。
[产业上的可利用性]
利用本发明的制造方法而得的玻璃板可用于各种用途、例如FPD的玻璃基板。

Claims (4)

1.一种玻璃板的制造方法,其包括使用成形装置且利用溢流下拉法使玻璃带成形的成形步骤,该成形装置包括:上表面,形成着供给熔融玻璃的供给槽;及一对壁面,引导溢出至所述供给槽的两侧且从所述上表面的两端部向下流动的熔融玻璃,使熔融玻璃在下端融合,而制成玻璃带;且
构成所述熔融玻璃的玻璃组合物的液相粘度为120000dPa·s以下,液相温度为1100℃~1250℃,
在所述成形步骤中,
利用以从该端部突出的方式相互对向地形成在所述壁面的宽度方向两侧的端部的一对导件,一面限制该熔融玻璃的宽度,一面使所述熔融玻璃沿所述壁面流下,且
以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的粘度从所述成形装置的上表面至下端保持小于所述液相粘度的方式,沿所述导件加热该部分。
2.根据权利要求1所述的玻璃板的制造方法,其中
在所述成形步骤中,以所述流下的熔融玻璃的所述导件附近的部分的温度从所述成形装置的上表面至下端比所述液相温度高10℃~150℃的方式,沿所述导件加热该部分。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法,其中
利用以沿着所述导件从所述成形装置的上表面侧延伸至下端侧的方式配置的加热装置,对所述熔融玻璃的所述部分进行加热。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的玻璃板的制造方法,其中
所述成形装置的下端为所述一对壁面彼此连接而成的直线状脊线,
所述成形装置中的所述导件自所述壁面的高度是越为所述成形装置的下方的位置越低,并且在所述脊线的位置为零。
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