CN103451665A - 一种触摸屏引线的加工工艺 - Google Patents

一种触摸屏引线的加工工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN103451665A
CN103451665A CN201310387333XA CN201310387333A CN103451665A CN 103451665 A CN103451665 A CN 103451665A CN 201310387333X A CN201310387333X A CN 201310387333XA CN 201310387333 A CN201310387333 A CN 201310387333A CN 103451665 A CN103451665 A CN 103451665A
Authority
CN
China
Prior art keywords
acid
nitric acid
phosphoric acid
touch screen
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310387333XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN103451665B (zh
Inventor
李林波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongguan Pingbo Electronic Co Ltd
Original Assignee
Dongguan Pingbo Electronic Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongguan Pingbo Electronic Co Ltd filed Critical Dongguan Pingbo Electronic Co Ltd
Priority to CN201310387333.XA priority Critical patent/CN103451665B/zh
Publication of CN103451665A publication Critical patent/CN103451665A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103451665B publication Critical patent/CN103451665B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

本发明涉及触摸屏引线加工技术领域,具体涉及一种触摸屏引线的加工工艺,它以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为300-400埃,控制Al中间层的厚度为2400-2600埃,控制Mo表层的厚度为400-500埃;然后采用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,其中的硫酸对Al层起到了一定程度的钝化作用,减缓了Al层的刻蚀速度,用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,醋酸钠钠起到了缓冲剂的作用,使Al层的刻蚀速度得到控制,本发明工艺简单,只用过两次蚀刻液进行蚀刻就能使刻蚀后的Mo-Al-Mo触摸屏引线在断面处为斜坡状的结构。

Description

一种触摸屏引线的加工工艺
技术领域
 本发明涉及触摸屏引线加工技术领域,具体涉及一种触摸屏引线的加工工艺。
背景技术
在触摸屏制作过程中,通常采用Mo-Al-Mo 作为边缘引线( 上下两层Mo层分别起保护Al层和增加附着力作用) 将纵横向电极与FPC 连通。制作过程中,通常先在玻璃基片上依次溅镀底层Mo层、中间Al层和表层Mo层,溅镀体系通常是以氩气为保护气体;接着对溅镀好的Mo-Al-Mo层进行刻蚀,以得到相应的Mo-Al-Mo触摸屏引线,最后在上面再溅镀ITO层。实践证明,若刻蚀后的Mo-Al-Mo 断面处为斜坡状时,即在玻璃表面上Mo-Al-Mo层的刻蚀断面处底层Mo层延伸出中间Al层,而同时Al层又延伸出表层Mo层,再在其上溅镀的ITO层就与MO-Al-Mo层在断面处充分接触,不留间隙,最终制得的器件可靠性就比较高。
但是在实际工艺过程中,由于普通蚀刻液对Al的刻蚀速率比Mo 快,这样刻蚀出来的结果是Mo凸出,Al凹进,往往是中间的Al层刻蚀的多,而底层与表层的Mo刻蚀的少,在断面处容易出现底切现象。这样的话,一方面断面凹陷处Al的边缘容易残留蚀刻液,容易对Al层进行进一步的腐蚀,降低了最终制得的器件的可靠性和缩短了其寿命;另一方面,当在刻蚀后的Mo-Al-Mo层上面镀ITO时,由于断面处存在Al层的凹陷,不能保证Al层与ITO层的充分接触而容易形成断路。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种工艺简单、能使Mo-Al-Mo的断面处为斜坡状的触摸屏引线的加工工艺。
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:一种触摸屏引线的加工工艺,它包括以下工艺步骤:
步骤A、以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、 Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为300-400埃,控制Al中间层的厚度为2400-2600埃,控制Mo表层的厚度为400-500埃;
步骤B、用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,第一次蚀刻结束后冲洗干净;
步骤C、用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,第二次蚀刻结束后冲洗干净,得到Mo-Al-Mo触摸屏引线。
优选的,所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸50%~70%;硫酸10%~15%;硝酸5%~10%;2-溴-4-醛基噻唑1%~5%;水10%~30%。
更为优选的,磷酸50%~60%;硫酸12%~15%;硝酸5%~8%;2-溴-4-醛基噻唑1%~3%;水15%~25%。
优选的,所述步骤B中磷酸、硫酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硫酸98%、硝酸62%。
优选的,所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸40%~50%;硝酸5%~10%;醋酸钠10%~15%;3-噻唑-2-甲酰氯1%~5%;4-氯苯磺酸1%~5%;水10%~30%。
更为优选的,所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸45%~50%;硝酸8%~10%;醋酸钠12%~15%;3-噻唑-2-甲酰氯1%~3%;4-氯苯磺酸1%~2%;水10%~30%。 
优选的,所述步骤C中磷酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硝酸62%。
本发明与现有技术相比较,有益效果在于:本发明采用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,其中的硫酸对Al层起到了一定程度的钝化作用,减缓了Al层的刻蚀速度,用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,醋酸钠钠起到了缓冲剂的作用,使Al层的刻蚀速度得到控制,本发明工艺简单,只用过两次蚀刻液进行蚀刻就能使刻蚀后的Mo-Al-Mo触摸屏引线在断面处为斜坡状的结构。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1。
一种触摸屏引线的加工工艺,它包括以下工艺步骤:
步骤A、以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、 Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为300埃,控制Al中间层的厚度为2400埃,控制Mo表层的厚度为400埃;
步骤B、用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,第一次蚀刻结束后冲洗干净;
步骤C、用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,第二次蚀刻结束后冲洗干净,得到Mo-Al-Mo触摸屏引线。
所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸50%;硫酸15%;硝酸10%;2-溴-4-醛基噻唑5%;水20%。
所述步骤B中磷酸、硫酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硫酸98%、硝酸62%。
所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸40%;硝酸5%;醋酸钠15%;3-噻唑-2-甲酰氯5%;4-氯苯磺酸5%;水30%。
所述步骤C中磷酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硝酸62%。
将实施例1刻蚀出的引线放在扫描电镜下观测,其在断面处均为斜坡状。
实施例2。
一种触摸屏引线的加工工艺,它包括以下工艺步骤:
步骤A、以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、 Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为350埃,控制Al中间层的厚度为2500埃,控制Mo表层的厚度为450埃;
步骤B、用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,第一次蚀刻结束后冲洗干净;
步骤C、用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,第二次蚀刻结束后冲洗干净,得到Mo-Al-Mo触摸屏引线。
所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸60%;硫酸10%;硝酸5%;2-溴-4-醛基噻唑5%;水20%。
所述步骤B中磷酸、硫酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硫酸98%、硝酸62%。
所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸45%;硝酸10%;醋酸钠12%;3-噻唑-2-甲酰氯3%;4-氯苯磺酸5%;水25%。
所述步骤C中磷酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硝酸62%。
将实施例2刻蚀出的引线放在扫描电镜下观测,其在断面处均为斜坡状。 
实施例3。
一种触摸屏引线的加工工艺,它包括以下工艺步骤:
步骤A、以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、 Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为400埃,控制Al中间层的厚度为2600埃,控制Mo表层的厚度为500埃;
步骤B、用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,第一次蚀刻结束后冲洗干净;
步骤C、用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,第二次蚀刻结束后冲洗干净,得到Mo-Al-Mo触摸屏引线。
所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸70%;硫酸10%;硝酸5%;2-溴-4-醛基噻唑1%;水14%。
所述步骤B中磷酸、硫酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硫酸98%、硝酸62%。
所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸50%;硝酸10%;醋酸钠15%;3-噻唑-2-甲酰氯1%;4-氯苯磺酸1%;水23%。
所述步骤C中磷酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硝酸62%。
将实施例3刻蚀出的引线放在扫描电镜下观测,其在断面处均为斜坡状。
实施例4。
一种触摸屏引线的加工工艺,它包括以下工艺步骤:
步骤A、以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、 Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为400埃,控制Al中间层的厚度为2400埃,控制Mo表层的厚度为500埃;
步骤B、用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,第一次蚀刻结束后冲洗干净;
步骤C、用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,第二次蚀刻结束后冲洗干净,得到Mo-Al-Mo触摸屏引线。
所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸55%;硫酸15%;硝酸10%;2-溴-4-醛基噻唑5%;水15%。
所述步骤B中磷酸、硫酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硫酸98%、硝酸62%。
所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸45%;硝酸8%;醋酸钠12%;3-噻唑-2-甲酰氯5%;4-氯苯磺酸5%;水25%。
所述步骤C中磷酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硝酸62%。 
将实施例4刻蚀出的Mo-Al-Mo触摸屏引线放在扫描电镜下观测,其在断面处为斜坡状。
最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (7)

1.一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:它包括以下工艺步骤:
步骤A、以氩气为保护气体,在玻璃基板上依次溅镀Mo底层、 Al中间层、Mo表层,控制Mo底层的厚度为300-400埃,控制Al中间层的厚度为2400-2600埃,控制Mo表层的厚度为400-500埃;
步骤B、用磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液进行第一次蚀刻,第一次蚀刻结束后冲洗干净;
步骤C、用磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液进行第二次蚀刻,第二次蚀刻结束后冲洗干净,得到Mo-Al-Mo触摸屏引线。
2.根据权利要求1 所述一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸50%~70%;硫酸10%~15%;硝酸5%~10%;2-溴-4-醛基噻唑1%~5%;水10%~30%。
3.根据权利要求2所述一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:所述步骤B的磷酸-硫酸-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸50%~60%;硫酸12%~15%;硝酸5%~8%;2-溴-4-醛基噻唑1%~3%;水15%~25%。
4.根据权利要求2或3 所述一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:所述步骤B中磷酸、硫酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硫酸98%、硝酸62%。
5.根据权利要求1 所述一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸40%~50%;硝酸5%~10%;醋酸钠10%~15%;3-噻唑-2-甲酰氯1%~5%;4-氯苯磺酸1%~5%;水10%~30%。
6.根据权利要求5所述一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:所述步骤C的磷酸-醋酸钠-硝酸体系蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸45%~50%;硝酸8%~10%;醋酸钠12%~15%;3-噻唑-2-甲酰氯1%~3%;4-氯苯磺酸1%~2%;水10%~30%。
7.根据权利要求5或6所述一种触摸屏引线的加工工艺,其特征在于:所述步骤C中磷酸、硝酸的质量百分比浓度分别为:磷酸86%、硝酸62%。
CN201310387333.XA 2013-08-30 2013-08-30 一种触摸屏引线的加工工艺 Expired - Fee Related CN103451665B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310387333.XA CN103451665B (zh) 2013-08-30 2013-08-30 一种触摸屏引线的加工工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310387333.XA CN103451665B (zh) 2013-08-30 2013-08-30 一种触摸屏引线的加工工艺

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103451665A true CN103451665A (zh) 2013-12-18
CN103451665B CN103451665B (zh) 2016-02-17

Family

ID=49734485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310387333.XA Expired - Fee Related CN103451665B (zh) 2013-08-30 2013-08-30 一种触摸屏引线的加工工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103451665B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104216569A (zh) * 2014-09-30 2014-12-17 江西省平波电子有限公司 一种改进的gf单层多点结构的触摸屏的制作工艺
CN110647255A (zh) * 2019-08-15 2020-01-03 信利光电股份有限公司 一种触摸屏金属线的制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007010864A1 (ja) * 2005-07-15 2007-01-25 Ulvac Coating Corporation グレートーンマスク用ブランクス、及びそれを用いたグレートーンマスク及びその製造方法
JP2007191773A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Kanto Chem Co Inc アルミニウム系金属膜およびモリブテン系金属膜の積層膜用エッチング液
CN101047145A (zh) * 2006-03-30 2007-10-03 京东方科技集团股份有限公司 一种制备有源驱动tft矩阵中金属连线的方法
CN101598989A (zh) * 2009-07-06 2009-12-09 中国南玻集团股份有限公司 触摸屏引线的加工工艺
JP2011154303A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Asahi Kasei E-Materials Corp ワイヤグリッド偏光子の製造方法
CN102168266A (zh) * 2011-03-21 2011-08-31 东莞市富默克化工有限公司 一种适用于高温、无卤板材的电路板棕化液

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007010864A1 (ja) * 2005-07-15 2007-01-25 Ulvac Coating Corporation グレートーンマスク用ブランクス、及びそれを用いたグレートーンマスク及びその製造方法
JP2007191773A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Kanto Chem Co Inc アルミニウム系金属膜およびモリブテン系金属膜の積層膜用エッチング液
CN101047145A (zh) * 2006-03-30 2007-10-03 京东方科技集团股份有限公司 一种制备有源驱动tft矩阵中金属连线的方法
CN101598989A (zh) * 2009-07-06 2009-12-09 中国南玻集团股份有限公司 触摸屏引线的加工工艺
JP2011154303A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Asahi Kasei E-Materials Corp ワイヤグリッド偏光子の製造方法
CN102168266A (zh) * 2011-03-21 2011-08-31 东莞市富默克化工有限公司 一种适用于高温、无卤板材的电路板棕化液

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104216569A (zh) * 2014-09-30 2014-12-17 江西省平波电子有限公司 一种改进的gf单层多点结构的触摸屏的制作工艺
CN104216569B (zh) * 2014-09-30 2017-06-13 江西省平波电子有限公司 一种改进的gf单层多点结构的触摸屏的制作工艺
CN110647255A (zh) * 2019-08-15 2020-01-03 信利光电股份有限公司 一种触摸屏金属线的制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103451665B (zh) 2016-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI543948B (zh) 玻璃基板及其製造方法
US8273262B2 (en) Method for etching glass substrate
CN101598989B (zh) 触摸屏引线的加工工艺
CN108220963B (zh) 多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法
CN103451665A (zh) 一种触摸屏引线的加工工艺
CN104851516B (zh) 导电图形的制作方法及导电膜
JP2007204295A (ja) ディスプレイ基板用ガラス板及びその製造方法
CN104746003B (zh) 氧化铟锡低温镀膜方法
WO2010120902A3 (en) Process to remove metal contamination on tco
CN104035637A (zh) 一种ogs触摸屏的制作工艺
CN110647255B (zh) 一种触摸屏金属线的制作方法
JP4986118B2 (ja) 透明電極の形成方法
WO2007083590A1 (ja) 積層構造、それを用いた電気回路用電極及びその製造方法
TWI663291B (zh) 用於銀奈米線的蝕刻劑組合物
CN105226016A (zh) 阵列基板及其制作方法
CN105448772A (zh) 腔室维护后的恢复方法
CN106560458A (zh) 一种薄化触摸屏玻璃的生产工艺
JP2007220965A (ja) 積層構造体を有する基板及びその製造方法
CN203894732U (zh) Ito架桥的ogs电容触摸屏
JP5165388B2 (ja) 積層構造及びそれを用いた電気回路用電極
CN106201079A (zh) 一种触控显示屏的制作方法及触控显示屏
CN202711220U (zh) 用于表面电容触摸屏的功能片
TW201604632A (zh) 銅導線結構及其製造方法
KR20080051249A (ko) 티타늄 또는 티타늄 합금막, 및 알루미늄 또는 알루미늄합금막을 포함하는 다층막 식각액 조성물
CN108539055B (zh) 一种oled产品的制作方法和oled产品

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20160217

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee