CN103450585A - 高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,包括聚氯乙烯,即PVC,聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物,氯化聚乙烯,稳定剂,加工改性剂,增塑剂,润滑剂,其改进在于:还包括环保耐磨剂,耐腐蚀剂,SiC纳米粉末,填料,紫外线吸收剂,颜料。将上述组分组合在一起,使塑料地板具有较高的强度、耐磨性和耐腐蚀性,满足室外运动场地长期使用的要求。
Description
技术领域
本发明涉及一种塑料地板,特别涉及一种纳米塑料地板。
背景技术
PVC塑料地板已被越来越广泛地应用到日常生活中,但是由于PVC塑料地板存在着耐磨性差、耐候性差等缺陷,使得PVC塑料地板在室外应用方面受到限制,特别是如应用到室外运动场上,需要PVC塑料地板具有较高的强度、耐磨性和耐腐蚀性,而现有技术的PVC塑料地板在这方面存在着明显的不足。
发明内容
本发明针对现有技术的不足,提出一种具有较高强度、耐磨性和耐腐蚀性的高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板。
本发明通过下述技术方案实现技术目标。
高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,包括聚氯乙烯,即PVC,聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物,氯化聚乙烯,稳定剂,加工改性剂,增塑剂,润滑剂,其特征在于:还包括环保耐磨剂,耐腐蚀剂,SiC纳米粉末,填料,紫外线吸收剂,颜料。
本发明的进一步的改进在于,所述各组分含量(重量份数):PVC 100,耐磨剂1~3,耐腐蚀剂1~5,SiC纳米粉末5~10,填料10~30,紫外线吸收剂0.5~2.5,颜料0.1~1。
本发明的进一步的改进在于,所述耐磨剂为FIAT-A。
本发明的进一步的改进在于,所述耐腐蚀剂为S-5373。
本发明的进一步的改进在于,所述紫外线吸收剂为UV-326。
本发明的进一步的改进在于,所述填料为6000目CaCO3。
本发明与现有技术相比,具有以下积极效果:
1、配料中加入聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物、氯化聚乙烯增加了地板的韧性。
2、配料中加入紫外线吸收剂使地板在自然光照下不会分解;
3、配料中加入耐磨剂使得地板的耐磨性显著提高。
4、配料中加入耐腐蚀剂,可有效地防治自然界的弱酸弱碱对地板的腐蚀,延长地板的使用寿命。
5、配料中加入SiC纳米粉末,大大增强了地板的耐磨性和强度,地板不易变形、开裂。
具体实施方式
实施例:
高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,包括聚氯乙烯,即PVC,聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物,氯化聚乙烯,稳定剂,加工改性剂,增塑剂,润滑剂,以及环保耐磨剂,耐腐蚀剂,SiC纳米粉末,填料,紫外线吸收剂,颜料;其中:耐磨剂为FIAT-A,耐腐蚀剂为S-5373,稳定剂为有机锡稳定剂,增塑剂为聚邻苯二甲酸二锌脂,润滑剂为环氧大豆油,加工改性剂为ACR401,紫外线吸收剂为UV-326,填料为6000目CaCO3;所述各组分含量(重量份数):PVC 100,聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物6~20,氯化聚乙烯3~15,耐磨剂1~3,有机锡稳定剂1.5~4,ACR4011.5~3,聚邻苯二甲酸二锌脂0.5~3,环氧大豆油0.5~1,耐腐蚀剂1~5,SiC纳米粉末5~10,填料10~30,紫外线吸收剂0.5~2.5,颜料0.1~1。
将PVC、聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物、颜料、稳定剂、增塑剂放入高混机中混合搅拌,温度达到80℃时开始抽湿,抽湿的同时将润滑剂放入高混机中继续混合,当温度升至120℃时,将高混机中混合料放进冷混机中进行冷却,冷却到70℃时加入其他改性剂,继续冷却到50℃时出料备用,然后经过双螺杆挤出机挤出造粒,再制备高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板。
Claims (6)
1.一种高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,包括聚氯乙烯,即PVC,聚甲基丙烯酸甲酯-聚丁二烯-聚苯乙烯共聚物,氯化聚乙烯,稳定剂,加工改性剂,增塑剂,润滑剂,其特征在于:还包括环保耐磨剂,耐腐蚀剂,SiC纳米粉末,填料,紫外线吸收剂,颜料。
2.根据权利要求1所述的高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,其特征在于:所述各组分含量(重量份数):PVC 100,耐磨剂1~3,耐腐蚀剂1~5,SiC纳米粉末5~10,填料10~30,紫外线吸收剂0.5~2.5,颜料0.1~1。
3.根据权利要求1所述的高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,其特征在于:所述耐磨剂为FIAT-A。
4.根据权利要求1所述的高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,其特征在于:所述耐腐蚀剂为S-5373。
5.根据权利要求1所述的高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,其特征在于:所述紫外线吸收剂为UV-326。
6.根据权利要求1所述的高韧性、高耐磨、耐腐蚀纳米塑料地板,其特征在于:所述填料为6000目CaCO3。
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20131218 |