CN103341405A - 玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置，所述方法包括：步骤1、提供一传送平台（20）及待清洗的玻璃基板（40）；步骤2、将待清洗的玻璃基板（40）置于该传送平台（20）上；步骤3、提供两个吹气装置（60）；步骤4、该两个吹气装置（60）向待清洗的玻璃基板（40）吹气，以使得附着于待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）脱离玻璃基板（40）；步骤5、提供吸附装置（80），该吸附装置（80)包括吸气装置（82)及磁吸装置（84）；步骤6、所述吸气装置（82）对待清洗的玻璃基板（40）进行吸气，且该磁吸装置（84）对待清洗的玻璃基板（40）上的磁性杂质产生磁吸力，进而将待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）吸入吸附装置（80）内。

Description

玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置

技术领域

本发明涉及一种清洗方法，尤其涉及一种玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置。

背景技术

液晶显示装置（LCD，Liquid Crystal Display）具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组（backlight module）。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板中放置液晶分子，通过给玻璃基板的电路通电来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。

在液晶显示面板的制作过程中，经常会有杂质残留于玻璃基板，而导致液晶显示面板出现亮点或亮线等缺陷，影响显示效果。

现有的玻璃基板清洗装置一般为干式清洗机，请参阅图1，该干式清洗机包括：用于承载及运输玻璃基板的传送平台100、位于传送平台100上方的两个吹气装置300及位于传送平台100上方的吸气装置500，所述吸气装置500具有一吸气口502及与吸气口502连通设置的储杂部504，该吸气口502位于所述两吹气装置300之间，所述储杂部504位于两吹气装置300上方，其中，两个吹气装置300上分别设有一超声波发生器302，用于发射超声波至玻璃基板700表面，以使得附着于该表面的杂质702受到振动而脱离玻璃基板700，同时，所述吸气装置500对该杂质702吸气，将杂质702吸入吸气装置500内，并存储于储杂部504内，进而实现玻璃基板700的表面除杂。

然而，请参阅图2，当杂质702为颗粒较大的金属杂质时，由于该杂质702的重量较大，可能导致该杂质702无法被吸附于吸气装置500内，导致玻璃基板700的清洗不彻底，进而影响用该玻璃基板700制得的液晶显示面板的显示效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种玻璃基板的清洗方法，能有效去除玻璃基板上的杂质，尤其对磁性杂质的除杂效果更为明显。

本发明的另一目的在于提供一种玻璃基板的清洗装置，其结构简单，对磁性杂质的除杂效果好。

为实现上述目的，提供一种玻璃基板的清洗方法，包括以下步骤：

步骤1、提供一传送平台及待清洗的玻璃基板，所述待清洗的玻璃基板上附着有杂质，所述杂质包括磁性杂质与非磁性杂质；

步骤2、将待清洗的玻璃基板置于该传送平台上；

步骤3、提供两个吹气装置，该两吹气装置间隔设置于传送平台上方；

步骤4、该两个吹气装置向待清洗的玻璃基板吹气，以使得附着于待清洗的玻璃基板上的杂质脱离玻璃基板；

步骤5、提供吸附装置，该吸附装置包括吸气装置及磁吸装置，该吸气装置包括置于两吹气装置之间的吸气口，所述磁吸装置位于吸气装置吸气口内；

步骤6、所述吸气装置对待清洗的玻璃基板进行吸气，且该磁吸装置对待清洗的玻璃基板上的磁性杂质产生磁吸力，进而将待清洗的玻璃基板上的杂质吸入吸附装置内。

所述每一吹气装置内设有一超声波发生器，该两个吹气装置内的两超声波发生器发出的超声波相对倾斜并汇聚于待清洗的玻璃基板上，超声波发生器的频率为30K～100K Hz。

所述吸气装置还包括连通吸气口的储杂部及设于储杂部远离吸气口端的抽气装置。

所述抽气装置与储杂部之间设有隔离网。

所述磁吸装置为一柱状电磁铁。

本发明还提供一种玻璃基板的清洗装置，包括：机架、安装于机架上的传送平台、安装于机架上且位于传送平台上方的间隔设置的两个吹气装置及安装于机架上的吸附装置，所述吸附装置包括吸气装置及磁吸装置，该吸气装置包括置于两吹气装置之间的吸气口，所述磁吸装置位于吸气装置吸气口内。

所述每一吹气装置内设有一超声波发生器，该两个吹气装置内的两超声波发生器发出的超声波相对倾斜并汇聚于待清洗的玻璃基板上，超声波发生器的频率为30K～100K Hz。

所述吸气装置还包括连通吸气口的储杂部及设于储杂部远离吸气口端的抽气装置。

所述抽气装置与储杂部之间设有隔离网。

所述磁吸装置为一柱状电磁铁。

本发明的有益效果：本发明的玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置，通过在吸气装置的吸气口内设置磁吸装置，配合吸气装置，能有效去除磁性杂质，进而克服了现有清洗装置对玻璃基板上重量较大的磁性杂质去除能力差的缺陷，避免了因此导致的使用该玻璃基板的液晶显示面板亮点、亮线等缺陷，有效提升液晶显示面板的品质。

为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。

附图中，

图1为现有的玻璃基板的清洗装置的简易结构示意图；

图2为玻璃基板附着有大体积金属杂质的示意图；

图3为本发明玻璃基板的清洗方法的流程图；

图4为本发明玻璃基板的清洗装置的简易结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。

请参阅图3及图4，本发明提供一种玻璃基板的清洗方法，包括以下步骤：

步骤1、提供一传送平台20及待清洗的玻璃基板40，所述待清洗的玻璃基板40上附着有杂质42，所述杂质42包括磁性杂质与非磁性杂质。

步骤2、将待清洗的玻璃基板40置于该传送平台20上。

步骤3、提供两个吹气装置60，该两吹气装置60间隔设置于传送平台20上方。

优选的，所述每一吹气装置60内设有一超声波发生器。

步骤4、该两个吹气装置60向待清洗的玻璃基板40吹气，以使得附着于待清洗的玻璃基板40上的杂质42脱离玻璃基板40。该两吹气装置60内的两超声波发生器62发出的超声波相对倾斜（如图4中朝向玻璃基板的箭头所示）并汇聚于待清洗的玻璃基板40上，所述杂质42受到两个方向的超声波气流的振动，与玻璃基板40分离。在本实施例中，所述超声波发生器62的频率为30K～100K Hz。

具体地，所述每一吹气装置60设有一出风口64，该两个吹气装置60的两出风口64相对倾斜设置，使两出风口64的出风方向（如图4中朝向玻璃基板的箭头所示）形成一定的夹角。所述两个吹气装置60分别通过出风口64向待清洗的玻璃基板40吹风，两超声波发生器62产生超声波使得由出风口64吹出的气流产生与超声波相同振动频率的振动，该振动传递到杂质42上，使得杂质42振动而脱离玻璃基板40。

步骤5、提供吸附装置80，该吸附装置80包括吸气装置82及磁吸装置84，该吸气装置82包括置于两吹气装置60之间的吸气口822，所述磁吸装置84位于吸气装置82吸气口822内。

值得一提的是，所述吸气装置82还包括连通吸气口822的储杂部824及设于储杂部824远离吸气口822端的抽气装置（未图示），所述抽气装置与储杂部824之间设有隔离网（未图示）以防止杂质进入抽气装置，而影响抽气装置的使用寿命。

所述磁吸装置84可选用磁铁或电磁铁，在本实施例中，磁吸装置84为一柱状电磁铁，且，该柱状电磁铁可选择安装于吸气装置82的吸气口822内。具体的，在现有的干式洗净机的吸气口设置一可旋转的柱状电磁铁，该柱状电磁铁的两端分别枢接于机架上，并设置触发开关（未图示），以根据实际情况开启或关闭该柱状电磁铁。

步骤6、所述吸气装置82对待清洗的玻璃基板40进行吸气，且该磁吸装置84对待清洗的玻璃基板40上的磁性杂质产生磁吸力，进而将待清洗的玻璃基板40上的杂质42吸入吸附装置80内。

请参阅图4，本发明还提供一种玻璃基板的清洗装置，包括：机架（未图示）、安装于机架上的传送平台20、安装于机架上且位于传送平台20上方的间隔设置的两个吹气装置60及安装于机架上的吸附装置80，该吸附装置80包括吸气装置82及磁吸装置84，该吸气装置82包括置于两吹气装置60之间的吸气口822，所述磁吸装置84位于吸气装置82吸气口822内。

所述每一吹气装置60内设有一超声波发生器62，该两吹气装置60内的两超声波发生器62发出的超声波相对倾斜（如图4中朝向玻璃基板的箭头所示）并汇聚于玻璃基板40上，所述杂质42受到两个方向的超声波气流的振动，与玻璃基板40分离。在本实施例中，所述超声波发生器62的频率为30K～100K Hz。

具体地，所述每一吹气装置60设有一出风口64，该两个吹气装置60的两出风口64相对倾斜设置，使两出风口64的出风方向（如图4中朝向玻璃基板的箭头所示）形成一定的夹角。所述两个吹气装置60分别通过出风口64向待清洗的玻璃基板40吹风，两超声波发生器62产生超声波使得由出风口64吹出的气流产生与超声波相同振动频率的振动，该振动传递到杂质42上，使得杂质42振动而脱离玻璃基板40。

值得一提的是，所述吸气装置82还包括连通吸气口822的储杂部824及设于储杂部824远离吸气口822端的抽气装置（未图示），所述抽气装置与储杂部824之间设有隔离网（未图示）以防止杂质进入抽气装置，而影响抽气装置的使用寿命。

所述磁吸装置84可选用磁铁或电磁铁，在本实施例中，磁吸装置84为一柱状电磁铁，且，该柱状电磁铁可选择安装于吸气装置82的吸气口822内。具体的，在现有的干式洗净机的吸气口设置一可旋转的柱状电磁铁，该柱状电磁铁的两端分别枢接于机架上，并设置触发开关（未图示），以根据实际情况开启或关闭该柱状电磁铁。

综上所述，本发明的玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置，通过在吸气装置的吸气口内设置磁吸装置，配合吸气装置，能有效去除磁性杂质，进而克服了现有清洗装置对玻璃基板上重量较大的磁性杂质去除能力差的缺陷，避免了因此导致的使用该玻璃基板的液晶显示面板亮点、亮线等缺陷，有效提升液晶显示面板的品质。

以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种玻璃基板的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供一传送平台（20）及待清洗的玻璃基板（40），所述待清洗的玻璃基板（40）上附着有杂质（42），所述杂质（42）包括磁性杂质与非磁性杂质；

步骤2、将待清洗的玻璃基板（40）置于该传送平台（20）上；

步骤3、提供两个吹气装置（60），该两吹气装置（60）间隔设置于传送平台（20）上方；

步骤4、该两个吹气装置（60）向待清洗的玻璃基板（40）吹气，以使得附着于待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）脱离玻璃基板（40）；

步骤5、提供吸附装置（80），该吸附装置（80)包括吸气装置（82)及磁吸装置（84），该吸气装置（82）包括置于两吹气装置（60）之间的吸气口（822），所述磁吸装置（84）位于吸气装置（82)吸气口（822)内；

步骤6、所述吸气装置（82）对待清洗的玻璃基板（40）进行吸气，且该磁吸装置（84）对待清洗的玻璃基板（40）上的磁性杂质产生磁吸力，进而将待清洗的玻璃基板（40）上的杂质（42）吸入吸附装置（80）内。

2.如权利要求1所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述每一吹气装置（60）内设有一超声波发生器（62），该两个吹气装置（60）内的两超声波发生器（62）发出的超声波相对倾斜并汇聚于待清洗的玻璃基板（40）上，超声波发生器（62）的频率为30K～100K Hz。

3.如权利要求1所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述吸气装置（82）还包括连通吸气口（822）的储杂部（824）及设于储杂部（824）远离吸气口（822）端的抽气装置。

4.如权利要求3所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述抽气装置与储杂部（824）之间设有隔离网。

5.如权利要求1所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述磁吸装置（84）为一柱状电磁铁。

6.一种玻璃基板的清洗装置，其特征在于，包括：机架、安装于机架上的传送平台（20）、安装于机架上且位于传送平台（20）上方的间隔设置的两个吹气装置（60）及安装于机架上的吸附装置（80），所述吸附装置（80）包括吸气装置（82)及磁吸装置（84），该吸气装置（82）包括置于两吹气装置（60）之间的吸气口（822），所述磁吸装置（84）位于吸气装置（82）吸气口（822）内。

7.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述每一吹气装置（60）内设有一超声波发生器（62），该两个吹气装置（60）内的两超声波发生器（62）发出的超声波相对倾斜并汇聚于待清洗的玻璃基板（40）上，超声波发生器（62）的频率为30K～100K Hz。

8.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述吸气装置（82）还包括连通吸气口（822）的储杂部（824）及设于储杂部（824）远离吸气口（822）端的抽气装置。

9.如权利要求8所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述抽气装置与储杂部（824）之间设有隔离网。

10.如权利要求6所述的玻璃基板的清洗装置，其特征在于，所述磁吸装置（84）为一柱状电磁铁。

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