KR100883280B1 - 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치 및 세정방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 초음파의 상호 간섭에 의한 공진을 이용하여 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정방법과 세정장치로서, 상기 세정장치는 상기 평판 디스플레이 글라스의 상부에 설치되는 세정본체와, 상기 세정본체내에 서로 대향되게 일정각도로 배치되어 공진을 발생시키는 주파수가 형성되게 되며 상기 글라스의 표면상에 상기 초음파가 공진을 발생시켜 상기 글라스표면상에 부착된 파티클을 진동으로 부상시키는 서로 대향되게 배치된 울트라소닉과, 상기 울트라소닉의 하부의 세정본체의 저면에 형성되고 상기 글라스의 표면에서 상기 울트라소닉의 초음파공진에 의하여 부상된 파티클을 흡입하는 파티클 흡입부와, 상기 울트라소닉의 전면 하부에 설치되며 상기 파티클 흡입부의 흡입에 의한 감압을 해소하기 위해 블로워를 통해 에어를 공급받아 슬롯형태의 에어 분사구를 통해 상기 글라스의 표면에 에어를 분사하도록 하는 에어 분사부와, 상기 세정되는 글라스의 양단부에 외부공기의 유입이나 유출을 차단하게 공기가 분사되는 에어커튼공과, 상기 에어 분사부내에 설치되며 상기 에어의 분사와 함께 분사되며 상기 글라스와 이물질 사이에 발생하는 정전기를 방지할 수 있도록 하는 이온나이저를 포함하는 것을 특징으로 한다.

울트라소닉, 세정장치, 초음파, 평판 디스플레이 글라스

Description

평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치 및 세정방법{Ultrasonic cleaning apparatus using by resonance}

본 발명은 초음파를 이용하여 평판 디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게 설명하면, 초음파를 발생하는 울트라소닉을 일정한 각도의 기울기를 준 상태로 설치하여 상기 일측과 타측에 대향되게 설치된 양 울트라소닉에서 초음파가 발생하면 상기 초음파가 단면상의 한점으로 모아져 공진이 발생되어 상기 초음파의 파장이 극대화할 수 있으며 에어커튼이 양단부에 설치되어 외부의 공기와는 차단되어 내부의 기류를 보존하여 세정효율이 월등하게 높아지게 되며, 상기 초음파는 상기 세정장치의 하단의 밑면에 한점으로 모이면서 공진이 발생됨과 동시에 상기 세정장치의 밑면 전체로 퍼져 진동이 발생되면서 상기 세정장치의 밑면 전체가 초음파진동을 발생할 수 있도록 하여 상기 평판 디스플레이용 글라스에 직접적인 영향을 줄 수 있는 초음파를 발생함으로써 상기 세정효과를 극대화할 수 있고 에어커튼에 의하여 외부공기와는 차단되게 되어 세정효율이 제고되는 공진을 이용한 초음파 세정장치 및 세정방법에 관한 것이다.

일반적으로 평판 디스플레이(Flat Panel Display, FPD)의 제조공정은 FAB 내에 기류하는 파티클 뿐 아니라, 유기물, 금속 이온, 산화물 등의 오염 물질과, 장비로부터의 오염, 공정진행 중의 반응물 또는 생성물에 의한 오염 등 다양한 오염물질이 평판 디스플레이용 글라스의 표면에 부착할 수 있으며, 이러한 오염 물질이 제거되지 않는 경우에는 제품의 불량을 야기시킬 수 있으므로 여러 공정단계를 거치는 동안에 글라스의 표면을 깨끗하게 유지할 수 있도록 한다. 그러나, 회로가 미세화되고 소자가 초고집적화하면서 과거에는 중요하게 생각하지 않았던 0.1㎛ 정도의 매우 작은 오염원들도 제품의 성능에 커다란 영향을 미치게 되어 오염원의 제거를 위한 세정기술의 중요성도 날로 증가하고 있다.

상기와 같은 세정기술로는 분사되는 에어에 초음파를 부여함으로써 글라스의 표면에 부착된 오염물질을 제거하는 초음파 세정장치가 이용되었으며, 상기와 같은 초음파 세정장치로는 그 주파수에 따라 울트라소닉(ultrasonic) 세정장치와 메가소닉(megasonic) 세정장치로 나눌 수 있다.

그러나 종래의 울트라소닉을 이용한 초음파 세정장치는 분사되는 에어에 울트라소닉을 인가하거나, 피리와 같은 기구적 구조를 통해 에어에 음파를 인가하는 방식이었으나, 상기 종래의 방법은 5KHz 이하의 저주파이거나 직진성을 갖는 초음파의 적용한계를 벗어나지 못하여 세정력의 효과가 미약한 특성을 지녔다.

본 발명은, 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 초음파를 발생하는 한쌍 내지 다수 쌍의 울트라소닉을 기울기를 준 상태로 공진이 발생되기 용이하도록 대향되게 설치하여 상기 일측에 형성된 울트라소닉과 타측에 형성된 울트라소닉에서 초음파를 발생하여 상기 초음파가 세정장치의 하단에 한점에서 모아지면서 공진 또는 공진과 유사한 파동이 발생되게 되어 상기 세정장치의 하단 밑면 전체에 초음파가 공진현상에 의하여 넓게 퍼지게 되어 넓은 공간에 초음파를 발생함으로써 하단에 위치한 글라스에 초음파를 전달하여 상기 글라스의 넓은 면적에 초음파를 인가하여 상기 글라스상에 부착된 파티클을 부상시키게 됨으로써 상기 세정 효율을 극대화할 수 있음은 물론이고 세정되는 평판 디스플레이 글라스의 양단부는 에어커튼에 의하여 외부공기와는 차단되어 내부의 기류를 보존하고 외부의 이물질이 유입되지 않게 되므로 보다 세정효율을 높일 수 있는 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치 및 세정방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

본 발명의 이러한 목적은 초음파를 이용하여 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치로서,

상기 평판 디스플레이 글라스의 상부에 설치되는 세정본체와;

상기 세정본체내에 서로 대향되게 일정각도로 배치되어 공진을 발생시키는 주파수가 형성되게 되며 상기 글라스의 표면상에 상기 초음파가 공진을 발생시켜 상기 글라스표면상에 부착된 파티클을 진동으로 부상시키는 서로 대향되게 배치된 울트라소닉과;

상기 울트라소닉의 하부의 세정본체의 저면에 형성되고 상기 글라스의 표면에서 상기 울트라소닉의 초음파공진에 의하여 부상된 파티클을 흡입하는 파티클 흡입부와;

상기 울트라소닉의 전면 하부에 설치되며 상기 파티클 흡입부의 흡입에 의한 감압을 해소하기 위해 블로워를 통해 에어를 공급받아 슬롯형태의 에어 분사구를 통해 상기 글라스의 표면에 에어를 분사하도록 하는 에어 분사부와;

상기 세정본체의 저면의 파티클 흡입부와 에어분사구가 설치된 저면판의 외측 가장자리에 설치된 에어커튼부와;

상기 에어 분사부내에 설치되며 상기 에어의 분사와 함께 분사되며 상기 글라스와 이물질 사이에 발생하는 정전기를 방지할 수 있도록 하는 이온나이저;를 포함하는 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치에 의하여 달성된다.

본 발명의 이러한 목적은 초음파가 공진을 일으킬 수 있도록 서로 대향되게 울트라소닉을 공진 발생각도로 경사지게 배치하는 단계와;

상기 서로 대향되게 경사진 울트라소닉을 작동시켜 세정되는 글라스의 표면상에서 초음파가 공진이 발생되는 단계와;

공진이 발생되어 글라스표면상에 부착된 파티클을 글라스에서 부상시키는 단 계와;

공진이 발생됨과 함께 세정되는 글라스의 양단에는 에어커튼이 발생되게 공기가 분사되어 외부로 부터의 공기를 차단하고 내부의 기류를 보존하는 에어커튼 발생단계와;

상기 글라스에서 초음파 공진에 의하여 부상된 파티클을 흡입하여 제거하는 파티클 제거단계와;

상기 글라스표면상에 흡입단계에서 흡입된 부분에 공기를 흡입된 만큼 공기를 분사시켜 진공형성을 방지하는 동시에 분사되는 공기내에 음이온 또는 양이온을 분사시켜 정전기를 제거하면서 글라스의 표면의 공기분사에 의한 데미지를 최소화하는 송풍단계;를 포함하는 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정방법에 의하여 달성된다.

또한, 상기 울트라소닉은 공진이 발생되도록 일정한 각도로 기울기를 준 대향된 상태로 일측과 타측에 한쌍 내지 다수의 쌍으로 설치되어 상기 울트라소닉에서 초음파 발생 시 일측과 타측에서 발생한 초음파가 하단에서 모여 공진이 발생되어 상기 초음파 세정장치 전체에 초음파에 의한 진동이 인가되어 글라스에 진동을 줄 수 있는 것을 이용한 것과 세정되는 글라스의 양단에 에어커튼이 발생되어 외부로부터 이물질이 유입이 차단되고 내부의 기류를 보존하여 세정효율을 제고하는 것이 본 발명의 최대의 특징이라고 할 것이다.

본 발명은 초음파를 발생하는 한쌍 내지 다수 쌍의 울트라소닉을 기울기를 준 상태로 설치하여 상기 일측에 형성된 울트라소닉과 타측에 형성된 울트라소닉에서 초음파를 발생하여 상기 초음파가 세정장치의 하단에서 모아져 공진이 발생되고 상기 발생된 공진에 의하여 상기 세정장치의 하단 밑면 전체에 초음파가 퍼지게 됨으로써 상기 세정장치 전체에서 초음파의 공진에 의한 진동을 발생시킬 수 있으며, 세정되는 글라스의 양단에 에어커튼이 분무되어 세정되는 글라스의 표면이 외부공기로부터 차단되고 내부의 기류가 보존되게 되므로서 외부로부터의 이물질이 유입되지 않게 되고 내부의 기류가 효율적으로 작동되게 되어 세정효율이 월등히 향상되게 되게 되고, 이로 인해 상기 글라스에 전체면에 공진주파수를 갖는 초음파 진동을 유발하여 상기 글라스의 표면에 부착된 파티클과 같은 이물질을 글라스 표면에서 부상시키고 이와 같이 부상된 파티클을 흡입함으로서 대단히 용이하게 글라스 표면의 이물질에 대한 제거 효율을 극대화할 수 있는 효과가 있다.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 공정도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 커버가 씌워진 단면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 세정본체의 저면도이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 글래스상에 초음파를 공진시켜 파티클을 부상시키는 작동을 도시한 작동도이고, 도 6 은 본 발명의 일실시예에 따른 세정장치내의 공기의 흐름을 도시한 작동도이다.

본 발명의 일실시예에 따른 공진을 이용한 세정방법은, 도 1에 도시된 바와 같이, 초음파가 공진을 일으킬 수 있도록 서로 대향되게 울트라소닉을 공진 발생각도로 경사지게 배치하는 단계와;

상기 서로 대향되게 경사진 울트라소닉을 작동시켜 세정되는 글라스의 표면상에서 초음파가 공진이 발생되는 단계와;

공진이 발생되어 글라스표면상에 부착된 파티클을 글라스에서 부상시키는 단계와;

공진이 발생됨과 함께 세정되는 글라스의 양단에는 에어커튼이 발생되게 공기가 분사되어 외부로 부터의 공기를 차단하고 내부의 기류를 보존하는 에어커튼 발생단계와;

상기 글라스에서 초음파 공진에 의하여 부상된 파티클을 흡입하여 제거하는 파티클 제거단계와;

상기 글라스표면상에 흡입단계에서 흡입된 부분에 공기를 흡입된 만큼 공기를 분사시켜 진공형성을 방지하는 동시에 분사되는 공기내에 음이온 또는 양이온을 분사시켜 정전기를 제거하면서 글라스의 표면의 공기분사에 의한 데미지를 최소화하는 송풍단계;를 포함한다.

'공진'이라는 용어는 물체가 외부로부터 진동을 받으면 특정주파수에서 가장 강하게 진동하게되는데, 이 때의 진동을 공진이라고 하며, 그 주파수를 공진 주파수라고 하며, 본 발명에서는 1개의 울트라소닉에서 발생되는 주파수의 곱하기 2에 근접한 주파수에서는 초음파의 음파가 공진현상에 의하여 진동하게 되는 증폭현상이 발생되는 주파수가 공진주파수라고 할 것이다.

이와 같이 글라스상에서 초음파공진이 발생되면 글라스상에 부착된 파티클은 진동에 의하여 부상되면서 떠오르게 되고 이와 같이 떠오른 파티클은 흡입부의 흡입작용에 의하여 흡입되면서 이물질이 제거되게 되면 글라스의 세정작업이 종료되게 되는 원리를 이용한 발명이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치(A)는, 도 2 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 평판 디스플레이 글라스(G)의 상부에 설치되는 세정본체(1)와;

상기 세정본체(1)내에 서로 대향되게 일정각도로 배치되어 공진을 발생시키는 주파수가 형성되게 되며 상기 글라스(G)의 표면상에 상기 초음파가 공진을 발생시켜 상기 글라스표(G)면상에 부착된 파티클(P)을 진동으로 부상시키는 서로 대향되게 배치된 울트라소닉(2)과;

상기 울트라소닉(2)의 하부의 세정본체(1)의 저면(1a)에 형성되고 상기 글라스(G)의 표면에서 상기 울트라소닉(2)의 초음파공진에 의하여 부상된 파티클(P)을 흡입하는 파티클 흡입부(3)와;

상기 울트라소닉(2)의 전면 하부에 설치되며 상기 파티클 흡입부(3)의 흡입에 의한 감압을 해소하기 위해 블로워(41)를 통해 에어를 공급받아 분사관(42)상에서 모아져 슬롯형태의 에어 분사구(43)를 통해 상기 글라스(G)의 표면에 에어를 분사하도록 하는 에어 분사부(4)와;

상기 세정되는 글라스(G)의 양단부에 외부공기의 유입이나 유출을 차단하게 상기 세정본체(1)의 저면(1a)의 가장자리에 빙둘러 형성되어 공기가 분사되는 에어커튼공(11)과;

상기 에어 분사부(4)의 분사관(42)내에 설치되며 상기 공기의 분사와 함께 분사되며 상기 글라스(G)와 이물질인 파티클(P)사이에 발생하는 정전기를 방지할 수 있도록 하는 이온나이저(5);를 포함한다.

상기 세정본체(1)는 울트라소닉(2), 파티클 흡입부(3), 에어 분사부(4)와 이오나이저(5)가 모두 내부에 설치되어 이들 구성요소를 감싸고 지지하는 기능을 수행한다.

상기 세정본체(1)의 저면(1a)에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 그 가장자리에는 하방으로 공기를 분사하여 상기 세정본체(1)의 저면(1a)을 외부의 공기와 차단시키는 에어커튼공(11)이 가장자리에 빙둘러 형성되고, 상기 에어커튼공(11)의 내측으로 2열로 배열된 에어분사구(43)와, 상기 에어분사구(43)사이의 중간과 상기 에어분사구(43)의 외측에 인접해 설치된 파티클을 흡입하는 흡입구(31)이 형성되어 있어, 상기 에어커튼공(11)에 의하여 외부와 차단되고 내부의 기류가 보존된 상태에서 글라스(G)상에 부착되었다가 부상된 파티클들을 파티클을 흡입하는 흡입 구(31)에 의하여 흡입하는 구조를 갖는다.

본 발명에서는 이들 울트라소닉(2)이 공진을 발생시킬 수 있게 대향되게 배치하고 공진에 필요한 각도로 배치한 것으로, 본 실시예에서는 수평면상에서 약 35도의 각도로 배치되게 설계하였으나, 이에 한정되는 것은 아니고 글라스의 크기나 글라스와의 이격거리 또는 기타의 가변되는 세정요구조건에 따라 각도가 달라질 수 있음은 물론이라고 할 것이고, 본 실시예에서는 일예로 대향되게 배치된 울트라소닉(2)이 2열이 배치된 형태이나 세정본체(1)를 따라서 10열이상이 배치된 상태로 사용된다.

상기 파티클 흡입부(3)는 도 6에 도시된 바와 같이, 세정본체(1)의 저면(1a)의 중간과 양측 가장자리에 흡입구(31)가 설치되어 있어, 상기 울트라소닉(2)에 의하여 부상된 파티클(P)의 흡입제거를 위한 것이다. 상기 파티클 흡입부(3)는 도 3에 도시된 석션(Suction, 32)에 의하여 파티클(P)이 포함된 글라스(G)표면상의 공기를 흡입하게 된다.

상기 공기 분사부(4)는 도시되지 않은 공기순환장치에 의하여 상기 파티클 흡입부(3)와 협동하여 흡입된 양만큼 공기를 다시 글라스(G)표면상에 공급하는 구조로서, 공기순환장치에서 공급된 에어가 블로워(41)를 통하여 유입되고 유입된 공기는 분사관(42)에 모아져 분사관(42)상에 연통되게 형성된 슬롯형태의 에어 분사구(43)를 통하여 글라스(G)상에 분사되는 구조이다.

상기 이오나이저(5)는 상기 에어 분사부(4)에서 분사되는 공기가 글라스(G)에 분사시 에어와 글라스(G)표면과의 마찰력에 의하여 발생되는 정전기를 제거하기 위하여 음이온이나 양이온형태의 이온입자를 에어와 함께 분사하여 정전기의 발생을 방지한다.

상기 이오나이저(5)는 본 발명에서는 상기 분사관(42)의 내부에 설치되어 있어 에어와 함께 분사되므로 분사되므로 에어와 글라스(G)의 표면과의 마찰에 의한 정전기가 최소로 발생되게 되는 구조를 갖으므로 글라스(G)상에 공기분사에 의한 데미지를 최소화하는 구조를 갖고 있다.

이와 같은 구조를 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치(A)의 작용효과를 이하에 설명한다.

글라스(G)가 세정장치(A)로 인입되면, 대향되게 배치된 울트라소닉(2)이 작동되어 상기 울트라소닉(2)의 초음파가 합성되면서 한점에 집중되면서 집중된 지점에서 공진이 발생되게 되고, 이와 같이 공진이 발생된 초음파는 파동에서 진동으로 에너지가 변환되면서 글라스(G)의 표면을 두드리게 되고 이와 같은 초음파의 진동에 의하여 글라스(G)의 표면에 부착된 이물질인 파티클(P)은 초음파 진동을 따라서 부상하게 되고, 이와 같이 부상된 파티클(P)은 파티클 흡입부(3)의 흡입관(31)을 통하여 흡입되면서 제거되게 되며, 이와 같이 글라스(G)표면상에 흡입된 공기의 양만큼이나 이와 거의 대등한 양의 공기는 에어 분사부(4)의 에어 분사구(43)를 통해 분사되므로 항상 글라스(G)의 표면은 일정한 세정에 적당한 공기압으로 유지되면서 세정되게 되는 것이다.

또한, 글라스(G)가 세정장치(A)의 내부로 인입됨과 동시에 에어커튼공(11)에 서 공기가 분사되면서 글라스(G)의 외측과 글라스(G)의 내측의 공기를 차단하게 되어 외부로부터의 이물질의 유입을 원천적으로 차단하게 되며 글라스(G)내부의 기류를 보존할 수 있게 되는 것이다. 또한, 에어 분사부(4)의 분사기류를 보존함과 동시에 이오나이저(5)에서 발생된 이온을 함유하여 파티클(P)의 정전기 발생을 방지하게 되어 파티클(P)과 글라스(G)의 접착력을 제거시키게 되므로 월등하게 세정효율을 향상시킬 수 있게 되는 것이다.

상기 파티클 흡입부(3)를 통하여 흡입제거된 파티클(P)은 도시되지 않은 파티클 제거필터에 의하여 모아져 폐기처리되게 되는 것이다.

상기 울트라소닉(2)은 한쌍 내지 다수의 쌍으로 기울기를 준 상태로 설치되어 상기 일측과 타측에 형성된 울트라소닉(2)에서 초음파를 발생하게 되면 상기 초음파는 세정장치의 하단의 한 점에서 모아지게 되고, 상기 모아진 초음파는 공진이 발생되면서 진동이 발생됨과 동시에 세정장치의 하단 밑면의 전체로 퍼지게 되어 상기 글라스(G)와 접하는 세정장치의 저면 전체에서 진동을 발생할 수 있도록 하여 상기 글라스(G)에 부착된 파티클(P)을 진동시켜 글라스(G)의 표면에서 부상시키고 이와 같이 부상된 파티클(P)을 파티클 흡입부(3)에서 흡입하여 제거하므로써 글라스의 표면에 초음파에 의한 진동을 인가함으로써 글라스의 세정 효과를 극대화시킬 수 있다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.

본 발명에 따른 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치 및 세정방법은 반복적으로 제조가능한 방법과 장치로서 반도체장비나 기타의 산업에서 사용될 수 있어 산업상 이용가능성이 있는 발명이라고 할 것이다.

도1은 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정방법의 공정도

도2는 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 사시도.

도3은 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 단면도.

도4는 본 발명에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 저면도.

도5는 본 발명의 일실시예에 따른 공진을 이용한 초음파 세정장치의 글래스상에 초음파를 공진시켜 파티클을 부상시키는 작동을 도시한 작동도이고,

도6은 본 발명의 일실시예에 따른 세정장치내의 공기의 흐름을 도시한 작동도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

1. 세정본체 2.울트라소닉

3. 파티클 흡입부 4.에어 분사부

5. 이오나이저

Claims (4)

1. 공진을 이용한 세정방법은,

   초음파가 공진을 일으킬 수 있도록 서로 대향되게 울트라소닉을 공진 발생각도로 경사지게 배치하는 단계와;

   상기 서로 대향되게 경사진 울트라소닉을 작동시켜 세정되는 글라스의 표면상에서 초음파가 공진이 발생되는 단계와;

   공진이 발생되어 글라스표면상에 부착된 파티클을 글라스에서 부상시키는 단계와;

   공진이 발생됨과 함께 세정되는 글라스의 양단에는 에어커튼이 발생되게 공기가 분사되어 외부로 부터의 공기를 차단하고 내부의 기류를 보존하는 에어커튼 발생단계와;

   상기 글라스에서 초음파 공진에 의하여 부상된 파티클을 흡입하여 제거하는 파티클 제거단계와;

   상기 글라스표면상에 흡입단계에서 흡입된 부분에 공기를 흡입된 만큼 공기를 분사시켜 진공형성을 방지하는 동시에 분사되는 공기내에 음이온 또는 양이온을 분사시켜 정전기를 제거하면서 글라스의 표면의 공기분사에 의한 데미지를 최소화하는 송풍단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 세정방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 대향되게 경사배치되는 울트라소닉의 경사각도는 1도 ~ 89도의 범위에서 배치되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 세정방법
3. 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치로서,

   상기 평판 디스플레이 글라스(G)의 상부에 설치되는 세정본체(1)와;

   상기 세정본체(1)내에 서로 대향되게 일정각도로 배치되어 공진을 발생시키는 주파수가 형성되게 되며 상기 글라스(G)의 표면상에 상기 초음파가 공진을 발생시켜 상기 글라스표(G)면상에 부착된 파티클(P)을 진동으로 부상시키는 서로 대향되게 배치된 울트라소닉(2)과;

   상기 울트라소닉(2)의 하부의 세정본체(1)의 저면(1a)에 형성되고 상기 글라스(G)의 표면에서 상기 울트라소닉(2)의 초음파공진에 의하여 부상된 파티클(P)을 흡입하는 파티클 흡입부(3)와;

   상기 울트라소닉(2)의 전면 하부에 설치되며 상기 파티클 흡입부(3)의 흡입에 의한 감압을 해소하기 위해 블로워(41)를 통해 에어를 공급받아 분사관(42)상에서 모아져 슬롯형태의 에어 분사구(43)를 통해 상기 글라스(G)의 표면에 에어를 분사하도록 하는 에어 분사부(4)와;

   상기 세정되는 글라스(G)의 양단부에 외부공기의 유입이나 유출을 차단하게 상기 세정본체(1)의 저면(1a)의 가장자리에 빙둘러 형성되어 공기가 분사되는 에어 커튼공(11)과;

   상기 에어 분사부(4)의 분사관(42)내에 설치되며 상기 공기의 분사와 함께 분사되며 상기 글라스(G)와 이물질인 파티클(P)사이에 발생하는 정전기를 방지할 수 있도록 하는 이온나이저(5);를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치
4. 제3항에 있어서, 상기 세정본체의 저면에는 가장자리에는 하방으로 공기를 분사하여 상기 세정본체의 저면을 외부의 공기와 차단시키는 에어커튼공이 형성되고, 상기 에어커튼공의 내측으로 2열로 배열된 에어분사구와, 상기 에어분사구사이의 중간과 상기 에어분사구의 외측에 인접해 설치된 파티클을 흡입하는 흡입구이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 글라스의 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 공진을 이용한 초음파 세정장치

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