CN103241956A - 蚀刻衬底的装置 - Google Patents

Abstract

本发明揭示一种蚀刻衬底的装置，且更特定地说，涉及一种蚀刻衬底的装置，其中蚀刻剂是从顶部向下喷射到多个垂直装载衬底，以便随着蚀刻剂沿衬底的表面流动而使衬底的厚度变微薄；将蚀刻剂喷射到多个垂直装载衬底的喷射器件经排列为可从蚀刻腔的内部取出，以便促进维护；且安装到构成喷射器件的多个喷射模块的喷嘴的耦合位置经改进以防止渣滓积聚于喷嘴棒内部。

Description

蚀刻衬底的装置

相关申请案的交叉引用

本申请案主张2012年2月3日向韩国知识产权局(Korean IntellectualProperty Office)申请的韩国专利申请案第10-2012-0011490号的优先权和权利，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种蚀刻衬底的装置，且更特定地说，涉及一种蚀刻衬底的装置，其中蚀刻剂是从顶部向下喷射到多个垂直装载衬底，以便随着蚀刻剂沿衬底的表面流动而使衬底的厚度变微薄；将蚀刻剂喷射到多个垂直装载衬底的喷射器件经排列为可从蚀刻腔的内部取出，以便促进维护；且安装到构成喷射器件的多个喷射模块的喷嘴的耦合位置经改进以防止渣滓积聚于喷嘴棒内部。

背景技术

随着半导体和显示设备的近期工业发展，并根据需要轻型、薄、简单且紧密的产品的消费者的需求，已迫切需要使由玻璃自身制造或呈与玻璃耦合的形式的显示面板变薄的开发技术。

就是说，已要求用于液晶显示器(LCD)等等的衬底中的玻璃具有超微薄厚度，以便与设备的紧密度保持同步，且通过蚀刻显示面板而实现超微薄厚度。举例来说，浸渍方法、喷射方法等等已被广泛地称为使面板变薄的常规化学蚀刻方法。

然而，此类蚀刻方法必须不可避免地从外部喷射蚀刻剂或为浸渍中的蚀刻提供气泡，且因此，由于蚀刻表面上的微小颗粒或划痕而难以实现玻璃蚀刻和基于玻璃蚀刻的变薄工序。

为了解决此问题，本申请人已在2010年2月23日申请名为“自顶向下喷射型衬底蚀刻器件(top-down spray type substrate etching device)”的专利申请案(韩国专利申请案第10-2010-0016078号)，且此专利已发布。

“自顶向下喷射型衬底蚀刻器件”使用喷射器件将蚀刻剂喷射到装载于箱子中的多个衬底。具体来说，如图1所示，上述器件包括：箱子20，至少一个衬底垂直地装载于箱子20中；和喷射器件10，喷射器件10排列于箱子20的顶部上并将蚀刻剂喷射到垂直地装载于箱子20中的衬底。

因此，垂直地装载衬底，且接着将蚀刻剂从衬底的顶部喷射到衬底，使得可随着所喷射的蚀刻剂以蚀刻剂自重流动而蚀刻衬底的两侧。

此处，喷射器件10排列于蚀刻腔的顶部上，且箱子20设置于蚀刻腔内部，同时处于喷射器件10下方。在此结构的情况下，喷射器件10将蚀刻剂从顶部向下喷射到装载于箱子20中的多个衬底。

喷射器件10由工人周期性地清理。在前述结构中，喷射器件10固定于蚀刻腔内部，且因此存在如下问题：工人可能会不可避免地进入蚀刻腔，以便维护或清理喷射器件10，或即使她/他不进入蚀刻腔，也必须经历显著麻烦且复杂的工序。

此外，参看图2，应用于常规普通喷射器件10的喷射模块11经配置成使得喷嘴11b耦合到形成于喷嘴棒11a中的喷射孔11a。

然而，如图2所示，喷嘴棒11a的外径与内径之间的厚度如此薄以致于当喷嘴11b耦合到喷射孔11a时，喷嘴11b的耦合部分可从喷嘴棒11a向内伸出。

因此，当将蚀刻剂供应到喷嘴棒11a的内部且通过喷嘴11b而喷射蚀刻剂时，蚀刻剂连续地流入从喷嘴棒11a向内伸出的喷嘴11b的耦合部分，使得因为蚀刻剂未围绕从喷嘴棒11a向内伸出的喷嘴11b的耦合部分平滑地流动，所以渣滓可积聚于从喷嘴棒11a向内伸出的喷嘴b的耦合部分上。

发明内容

因此，本发明经构思以解决前述问题，且本发明的一方面是提供一种蚀刻衬底的装置，其中蚀刻剂是从顶部向下喷射到多个垂直装载衬底，以便随着蚀刻剂沿衬底的表面流动而使衬底的厚度变微薄；将蚀刻剂喷射到多个垂直装载衬底的喷射器件经排列为可从蚀刻腔的内部取出，以便促进维护；且安装到构成喷射器件的多个喷射模块的喷嘴的耦合位置经改进以防止渣滓积聚于喷嘴棒内部。

根据本发明的示范性实施例，提供一种蚀刻衬底的装置，装置包括：蚀刻腔；箱子，箱子以至少一个衬底垂直地装载于箱子中的状态排列于蚀刻腔内部；和喷射器件，喷射器件排列于蚀刻腔内部以在箱子上方喷射蚀刻剂，喷射器件包括：框架供应管，框架供应管是通过在蚀刻腔中使四个框架管彼此连接而形成，框架供应管是矩形地且水平地安置并从外部接收蚀刻剂；支架，支架分别支撑构成框架供应管的四个框架管当中彼此相对的框架管以稳定地安放于蚀刻腔的内壁上；和多个喷射模块，每一个喷射模块的两端分别与构成框架供应管的四个框架管当中的相对框架管连通并耦合，且多个喷射模块从框架供应管接收蚀刻剂并将蚀刻剂喷射到衬底。

支架可固定地耦合到蚀刻腔的内壁。

支架可滑动地耦合到蚀刻腔的内壁，使得可通过形成于蚀刻腔的侧壁中的可拆卸门而取出喷射器件。

支架可包括在支架的下端中的滑件，且蚀刻腔的内壁包括导轨，滑件可在导轨上水平地移动。

喷射模块可耦合到除了由支架支撑并安放的相对框架管之外的相对框架管。

喷射模块可包括：喷嘴棒，喷嘴棒的两端都耦合到紧固部分，紧固部分分别形成于相对框架管中，且所述喷嘴棒具备多个喷射孔，多个喷射孔是按行纵长地排列并彼此隔开；喷嘴耦合板，喷嘴耦合板附接于喷嘴棒的纵向方向上并具备多个喷嘴耦合孔，多个喷嘴耦合孔分别在垂直方向上与多个喷射孔连通；和喷嘴，喷嘴耦合到喷嘴耦合孔并将蚀刻剂喷射到衬底，蚀刻剂从喷射孔出来。

耦合到喷嘴耦合孔的喷嘴的顶部可经定位成低于喷射孔。

如上文所描述，提供一种蚀刻衬底的装置，且因此存在如下优势：蚀刻剂是从顶部向下喷射到多个垂直装载衬底，以便随着蚀刻剂沿衬底的表面流动而使衬底的厚度变微薄；将蚀刻剂喷射到多个垂直装载衬底的喷射器件经排列为可从蚀刻腔的内部取出，以便促进维护；且安装到构成喷射器件的多个喷射模块的喷嘴的耦合位置经改进以防止渣滓积聚于喷嘴棒内部。

附图说明

根据示范性实施例的以下描述连同随附图式，本发明的上述方面和/或其他方面将变得显而易见且更容易被了解，其中：

图1是常规自顶向下喷射型衬底蚀刻器件的示意图；

图2是用于常规自顶向下喷射型衬底蚀刻器件中的喷射模块的详细视图；

图3是根据示范性实施例的蚀刻衬底的装置的透视图；

图4是根据示范性实施例的喷射器件的第一配置图，喷射器件用于蚀刻衬底的装置中；

图5是根据示范性实施例的喷射器件的第二配置图，喷射器件用于蚀刻衬底的装置中；

图6是根据示范性实施例的图示喷射器件的滑动状态的示意图，喷射器件用于蚀刻衬底的装置中；

图7是根据示范性实施例的包括于喷射器件中的喷射模块的分解透视图，喷射器件用于蚀刻衬底的装置中；和

图8图示根据示范性实施例的包括于喷射器件中的喷射模块的耦合视图和部分详细视图，喷射器件用于蚀刻衬底的装置中。

具体实施方式

在下文中，将参看随附图式详细地描述根据具有前述问题、解决方案和效果的本发明的蚀刻衬底的装置的示范性实施例。

此处，图式所示的元件的大小、形状等等可出于说明清晰性和便利性起见而夸示。此外，在特定地考虑本发明的配置和操作的情况下而界定的术语可取决于用户或操作员的意图或习惯而变化。另外，此类术语必须基于贯穿本说明书的内容予以界定。

图3是根据示范性实施例的蚀刻衬底的装置的透视图。如图3所示，根据此示范性实施例的蚀刻衬底的装置包括蚀刻腔30、放置于蚀刻腔30内的箱子20，和放置于蚀刻腔30内并安置于箱子20上方的喷射器件10。

蚀刻腔30提供关于装载于箱子20中的衬底而执行蚀刻工序或变微薄工序的空间。蚀刻腔30可被独立地配置，或直列式连接到装载/卸载腔(未图示)和清理腔(未图示)，由此使衬底经受各种工序。

如果蚀刻腔30直列式连接到装载/卸载腔(未图示)和清理腔(未图示)，那么连接到清理腔(未图示)或装载/卸载腔(未图示)的部分经形成有门，箱子20通过门而进出。

另外，蚀刻腔30经形成有可拆卸门(参看图6中的“33”)，可拆卸门具有预定形状，使得喷射器件10可从蚀刻腔取出来。由于喷射器件10是通过可拆卸门33取出来，故易于实行对喷射器件10的维护。

箱子20和喷射器件10放置于蚀刻腔30内部。具体来说，箱子20放置于蚀刻腔30的内底上，且喷射器件10安置于箱子20上方。

箱子20可具有各种形状以将待经受蚀刻工序的衬底装载于箱子20中。然而，箱子20必须具有垂直地将至少一个衬底装载于箱子20中的结构。箱子20在垂直方向上装载至少一个衬底的原因是：当蚀刻剂从安置于箱子20上方的喷射器件10朝向衬底1喷射时，蚀刻剂可蚀刻衬底1，同时归因于蚀刻剂自重而向下流动。

因此，箱子20具有多个衬底1可在垂直方向上装载的结构。另外，如果提供多个腔(在蚀刻腔30直列式连接到装载/卸载腔和清理腔的情况下)，那么箱子20经配置以在腔之间移动。举例来说，如果滚筒提供于箱子20的底部下方且轨道形成于腔的底部上，那么可驱动箱子20以在腔之间移动。

喷射器件10安置于箱子20上方，箱子20放置于蚀刻腔30内部，同时在垂直方向上装载有至少一个衬底(如同上述)。喷射器件10经配置以在箱子20上方喷射蚀刻剂。

只要喷射器件10可在箱子20上方朝向装载于箱子20中的多个衬底喷射蚀刻剂，喷射器件10就可具有各种结构。本示范性实施例提出喷射器件10的结构，此结构可容易制造、具有简单结构、无渣滓且容易维护。

在此示范性实施例中，喷射器件10的配置是如图4和图5所示。图4图示喷射器件10固定于蚀刻腔30中，且图5展示喷射器件10在蚀刻腔30内可水平地移动并可在外部取出。

如图4和图5所示，喷射器件10是通过在蚀刻腔30内部使四个框架管13a和13b彼此耦合而形成，且经配置以包括：框架供应管13，框架供应管13是矩形地且水平地安置并从外部接收蚀刻剂；支架15，支架15分别支撑构成框架供应管13的四个框架管当中彼此相对的框架管，使得框架管可稳定地安放于蚀刻腔30的内壁上；和多个喷射模块11，每一个喷射模块11的两端分别与构成框架供应管13的四个框架管当中彼此相对的框架管连通并耦合，且多个喷射模块11从框架供应管13接收蚀刻剂并将蚀刻剂喷射到衬底1。

如图4和图5所示，框架供应管13是通过连接四个框架管13a和13b而配置，四个框架管13a和13b分别与蚀刻腔30的四个壁彼此平行地排列。四个框架管13a和13b彼此连接以由此形成矩形框架供应管13，且四个框架管13a和13b水平地安置于蚀刻腔30中。

换句话说，框架供应管13包括：第一对框架管13a，第一对框架管13a经配置为形成一对的两个相对框架管；和第二对框架管13b，第二对框架管13b经配置为形成一对的两个相对框架管(除了第一对框架管13a之外)。

框架供应管13与矩形管道相似，矩形管道形成蚀刻剂被装填并流动的空间。另外，框架供应管13从蚀刻腔30的外部接收蚀刻剂。

具体来说，放置于蚀刻腔30外部的蚀刻剂槽(未图示)的蚀刻剂由蚀刻剂供应泵(未图示)抽吸且供应到框架供应管13。框架供应管13经形成有蚀刻剂入口管13d，蚀刻剂入口管13d彼此面对且从外部接收蚀刻剂并朝向框架供应管13引导蚀刻剂。

就是说，如图4和图5所示，蚀刻剂入口管13d从外部接收蚀刻剂并将蚀刻剂引导到框架供应管13，每一个蚀刻剂入口管13d的一端分别连接到构成第一对框架管13a或第二对框架管13b且彼此相对的框架管。蚀刻剂入口管13d的另一端连接到蚀刻剂分配管(未图示)，蚀刻剂分配管连接到放置于蚀刻腔30外部的蚀刻剂供应泵(未图示)。因此，由蚀刻剂供应泵(未图示)抽吸的蚀刻剂经由蚀刻剂分配管(未图示)而供应到蚀刻剂入口管13d，且供应到蚀刻剂入口管13d的蚀刻剂被引导到框架供应管。因此，被引导到框架供应管13的蚀刻剂被分割且供应到与框架供应管13连通并连接的喷射模块11。

由于框架供应管13水平地排列于蚀刻腔30上方，故框架供应管13必须稳定地安装到蚀刻腔30。为此，支架15分别支撑构成框架供应管13的四个框架管当中彼此相对的两个框架管，由此稳定地将两个框架管安放于蚀刻腔30的内壁上。

详细地说，支架15分别支撑彼此面对且构成第一对框架管13a或第二对框架管13b的两个框架管，由此稳定地将两个框架管安装于蚀刻腔30的内壁上。稳定地支撑框架供应管13的支架15紧固到(参看图4)或可滑动地耦合到(参看图5)蚀刻腔30的内壁，此稍后将予以描述。

如同上述，由支架15稳定地支撑的框架供应管13接收蚀刻剂并将蚀刻剂供应到分支喷射模块11。因此，如图4和图5所示，多个喷射模块11中的每一个与框架供应管13连通并连接。

举例来说，多个喷射模块11经排列以从框架供应管13接收蚀刻剂并将蚀刻剂喷射到垂直地装载于箱子20中的多个衬底，每一个喷射模块11的两端分别与构成框架供应管13的四个框架管当中彼此相对而排列的两个框架管连通并耦合。

参看图4和图5，每一个喷射模块11的两端分别紧固到彼此面对且分别形成于彼此相对而排列的两个框架管中的紧固部分13c。在图4和图5中，紧固部分13c分别形成于构成第二对框架管13b且彼此相对的框架管中。就是说，多个紧固部分13c是按行水平地形成于彼此相对的每一个框架管上。另外，形成于个别框架管中的紧固部分13c彼此对应并面对。因此，喷射模块11的两端分别紧固到彼此对应并面对的两个紧固部分13c。

因此，框架供应管13中的蚀刻剂被分割且经由每一个喷射模块11的两端而供应到个别喷射模块11。就是说，从每一个喷射模块11的两端引导的蚀刻剂供应于衬底上方，此稍后将予以描述。稍后将描述喷射模块11的详细结构。

如上文所描述，因为喷射模块11的两端通过紧固部分13c而与框架供应管13连通并紧固到框架供应管13，所以经由蚀刻剂入口管13d而引入的蚀刻剂经由框架供应管13而直接供应到喷射模块11且接着喷射到衬底。

换句话说，在未通过复杂结构(其中，蚀刻剂分配管(未图示)是一对一地连接到个别喷射模块)将蚀刻剂喷射到衬底的情况下，蚀刻剂可通过简单结构(其中，蚀刻剂是通过蚀刻剂入口管13d和一个框架供应管13而从一个蚀刻剂分配管(未图示)供应到多个喷射模块11)而供应到多个衬底。

前述喷射器件10被稳定地支撑于蚀刻腔30的内壁上(如上文所描述)。具体来说，构成喷射器件10的支架15稳定地安放于蚀刻腔30的内壁上，使得喷射器件10可稳定地安装到蚀刻腔30的内壁。

为了使支架15稳定地安装到蚀刻腔30的内壁(如同上述)，底座部件31从蚀刻腔30中彼此面对的每一个内壁水平地伸出(如图4和图5所示)。

支架15固定地紧固到或可滑动地耦合到蚀刻腔30的内壁上的底座部件31。就是说，支架15固定地紧固到或可滑动地耦合到蚀刻腔30的内壁上的底座部件31(如图4所示)，或可滑动地耦合到蚀刻腔30的内壁上的底座部件31(如图5所示)。

尽管图4展示支架15固定地紧固到或可滑动地耦合到蚀刻腔30的内壁上的底座部件31，但支架15可滑动地耦合到底座部件31，以便促进维护。

就是说，如图5和图6所示，支架15可滑动地耦合到蚀刻腔30的内壁，使得喷射器件10可通过形成于蚀刻腔30的侧壁中的可拆卸门33取出。

具体来说，滑件17提供于支架15的下端中，且导轨19形成于底座部件31(底座部件31形成于蚀刻腔30的内壁中)上，使得滑件17可在导轨19上水平地移动。由此，由支架15稳定地安放并支撑的喷射器件10可经配置以在形成于蚀刻腔30的内壁中的底座部件31上滑动。

为了从蚀刻腔30向外取出喷射器件10，在蚀刻腔30的侧壁上形成具有预定形状的可拆卸门33(如图6所示)。因此，在打开可拆卸门33之后，操作员用他/她的手或工具向外拉动框架供应管13，使得喷射器件10可从蚀刻腔30向外取出(如图6所示)。

只要喷射器件10可通过可拆卸门33向外取出，可拆卸门33就可具有各种形状。举例来说，如图6所示，如果喷射器件10经设计为以蚀刻剂入口管13d耦合到框架供应管13的状态向外取出，那么可拆卸门33可呈

形状。此时，连接到蚀刻剂入口管13d的另一端和蚀刻剂供应泵(未图示)的蚀刻剂分配管(未图示)在喷射器件10向外取出之前被分离，且因此不存在对取出喷射器件10的干扰。

如此，喷射器件10可容易从蚀刻腔30向外取出，使得可提高工人的安全性且可基于喷射器件10的分离而促进维护。

同时，在对喷射器件10的维护工作完成之后，喷射器件10通常被组装并放回到蚀刻腔30。此时，使用O型环和遮盖物关闭可拆卸门33。

如上文所描述，根据本发明的示范性实施例的蚀刻衬底的装置具有如下优势：简化了将蚀刻剂喷射到衬底的喷射器件10的结构，且促进了喷射器件10的维护。

同时，由于构成喷射器件10的多个喷射模块11的两端分别紧固到两个相对框架管13a或13b，故多个喷射模块11逐一耦合。喷射模块11可紧固到由支架15支撑并安放的框架管，但更可取的是，喷射模块11紧固到除了由支架15支撑并安放的框架管之外的框架管。

就是说，喷射模块11可紧固到除了由支架15支撑并安放的相对框架管之外的相对框架管。举例来说，如图4和图5所示，需要如下简易排列：构成框架供应管13的第一对框架管13a由支架15支撑并安放，且喷射模块11紧固到第二对框架管13b，第二对框架管13b对应于除了第一对框架管13a之外的框架管。

用于此示范性实施例中的喷射模块11具有与现有普通喷射模块的结构不同的结构。就是说，此示范性实施例中的喷射模块11具有使渣滓的积聚最小化的结构。

具体来说，如图7和图8所示，用于此示范性实施例中的喷射模块包括：喷嘴棒11a，喷嘴棒11a的两端都耦合到紧固部分13c，紧固部分13c分别形成于相对框架管中，且喷嘴棒11a具备多个喷射孔11a’，多个喷射孔11a’是按行纵长地排列并彼此隔开；喷嘴耦合板11c，喷嘴耦合板11c附接于喷嘴棒11a的纵向方向上并具备多个喷嘴耦合孔11c’，多个喷嘴耦合孔11c’分别在垂直方向上与多个喷射孔11a’连通；和喷嘴11b，喷嘴11b耦合到喷嘴耦合孔11c’并将蚀刻剂喷射到衬底，蚀刻剂从喷射孔11a’出来。

喷嘴棒11a是与普通喷射模块的喷嘴棒相似地形成。就是说，喷嘴棒11a的形状类似于由抵抗蚀刻剂的材料制成的管的形状。然而，根据本发明的示范性实施例的喷嘴棒11a经形成有待紧固到紧固部分13c(紧固部分13c在紧固部分13c的两端处连接到框架供应管13)的耦合部分11a”，使得不是一端而是两端可连接到框架供应管13。因此，如果在喷嘴棒11a的两端与紧固部分13c会合之后使耦合部分11a”旋转，那么耦合部分11a”与紧固部分13c螺旋耦合，由此紧固喷嘴棒11a。

此外，与喷嘴被螺旋耦合到的现有喷嘴棒相反，多个喷射孔11a’(沿喷嘴棒11a的纵长方向以预定间隔而形成)不与喷嘴螺旋耦合，但充当仅仅朝向喷嘴11b引导蚀刻剂的通道。

喷嘴耦合板11c附接并耦合到喷嘴棒11a，喷嘴棒11a经形成有沿喷嘴棒11a的纵向方向的喷射孔11a’。另外，喷嘴耦合板11c经形成有多个喷嘴耦合孔11c’，且喷嘴耦合板11c耦合到喷嘴棒11a，使得喷嘴耦合孔11c可垂直地与喷射孔11a’连通。就是说，喷嘴耦合孔11c’具有与喷射孔11a’的数目和间隔相同的数目和间隔。

喷嘴耦合孔11c’为与喷嘴11b被耦合到的部分。就是说，喷嘴11b不螺旋耦合到喷嘴棒11a，但螺旋耦合到形成于新加的喷嘴耦合板11c上的喷嘴耦合孔11c’。因此，喷嘴11b耦合到喷嘴耦合孔11c’，且将蚀刻剂喷射到衬底，蚀刻剂通过喷射孔而出来。

由于喷嘴11b耦合到喷嘴耦合板11c的喷嘴耦合孔11c’，故耦合到喷嘴耦合孔11c’的喷嘴11b的顶部11b’经定位成低于喷射孔11a’(如图8所示)。就是说，喷嘴11b的顶部11b’未从喷嘴棒11a向内伸出。因此，与常规喷射模块相对比，根据本发明的示范性实施例的喷射模块11可防止渣滓积聚于喷嘴棒11a内部。

因此，延长了清理喷射模块11的工作周期，且因此有可能减少维护的时间、成本和精力。此外，积聚于喷嘴棒内部的渣滓显著地少于常规喷嘴棒的渣滓，且因此进一步有可能容易移除渣滓并减少移除渣滓的时间、成本和精力。

尽管已图示并描述本发明的少许示范性实施例，但本领域技术人员应了解，可在此等实施例中进行改变而不脱离本发明的原则和精神，本发明的范畴是在附加权利要求书和权利要求书等效者中予以界定。

Claims (7)

1.一种蚀刻衬底的装置，所述装置包含：

蚀刻腔；

箱子，所述箱子以至少一个衬底垂直地装载于所述箱子中的状态排列于所述蚀刻腔内部；和

喷射器件，所述喷射器件排列于所述蚀刻腔内部以在所述箱子上方喷射蚀刻剂，

所述喷射器件包含：

框架供应管，所述框架供应管是通过在所述蚀刻腔中使四个框架管彼此连接而形成，所述框架供应管是矩形地且水平地安置并从外部接收所述蚀刻剂；支架，所述支架分别支撑构成所述框架供应管的所述四个框架管当中彼此相对的框架管以稳定地安放于所述蚀刻腔的内壁上；和多个喷射模块，每一个喷射模块的两端分别与构成所述框架供应管的所述四个框架管当中的所述相对框架管连通并耦合，且所述多个喷射模块从所述框架供应管接收所述蚀刻剂并将所述蚀刻剂喷射到所述衬底。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述支架固定地耦合到所述蚀刻腔的所述内壁。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述支架可滑动地耦合到所述蚀刻腔的所述内壁，使得可通过形成于所述蚀刻腔的侧壁中的可拆卸门而取出所述喷射器件。

4.如权利要求3所述的装置，其中所述支架包含在所述支架的下端中的滑件，且所述蚀刻腔的所述内壁包含导轨，所述滑件可在所述导轨上水平地移动。

5.如权利要求2或权利要求3所述的装置，其中所述喷射模块耦合到除了由所述支架支撑并安放的所述相对框架管之外的所述相对框架管。

6.如权利要求5所述的装置，其中所述喷射模块包含：喷嘴棒，所述喷嘴棒的两端都耦合到紧固部分，所述紧固部分分别形成于所述相对框架管中，且所述喷嘴棒具备多个喷射孔，所述多个喷射孔是按行纵长地排列并彼此隔开；喷嘴耦合板，所述喷嘴耦合板附接于所述喷嘴棒的纵向方向上并具备多个喷嘴耦合孔，所述多个喷嘴耦合孔分别在垂直方向上与所述多个喷射孔连通；和喷嘴，所述喷嘴耦合到所述喷嘴耦合孔并将所述蚀刻剂喷射到所述衬底，所述蚀刻剂从所述喷射孔出来。

7.如权利要求6所述的装置，其中耦合到所述喷嘴耦合孔的所述喷嘴的顶部经定位成低于所述喷射孔。

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