CN103135361B - 支撑件、光刻设备和器件制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种支撑件、光刻设备和器件制造方法。用于物体的支撑件具有配置成支撑所述物体的支撑表面；其中，所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，支撑表面的可移动部分适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中，在延伸位置处，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。

Description

支撑件、光刻设备和器件制造方法
技术领域
本发明涉及一种支撑件、一种光刻设备和一种器件制造方法。
背景技术
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。
所述机器可以是其中具有相对高的折射率的液体(例如，水)填充介于投影系统的最终元件和衬底之间的空间的机器。在一实施例中，所述液体是蒸馏水，但也可使用另一种液体。另一种流体也可能是适合的，特别是润湿性流体、不可压缩的流体和/或其折射率比空气的折射率更高的流体，期望地是其折射率比水的折射率更高的流体。尤其期望是除气体之外的流体。由于曝光辐射在所述液体中具有更短的波长，所以上述做法的要点在于能够使更小的特征成像。(所述液体的作用还可以看作是增加了系统的有效的数值孔径(NA)并且增大焦深)。还提出了使用其它浸没液体，包括其中悬浮有固体微粒(例如，石英)的水，或具有纳米颗粒的悬浮体(例如具有最大尺寸高达10nm的颗粒)的液体。所述悬浮的颗粒可能具有或可能不具有与它们悬浮所在的液体相似或相同的折射率。包括烃(例如芳香烃、氟化烃和/或水溶液)的其它液体可能也是适合的。
替代电路图案，图案形成装置可以用于产生其他图案，例如彩色滤光片图案或点矩阵。替代传统的掩模，图案形成装置可以包括图案形成阵列，该图案形成阵列包括产生电路或其它可应用图案的独立可控元件的阵列。与传统的基于掩模的系统相比，这样的“无掩模”系统的优点是所述图案可以被更加快速地且更小成本地提供和/或改变。
因此，无掩模系统包括可编程图案形成装置(例如，空间光调制器、对比度装置等)。可编程图案形成装置被利用独立可控元件的阵列编程(例如以电学或光学的方式)，用于形成期望的图案化束。可编程图案形成装置的类型包括微反射镜阵列、液晶显示器(LCD)阵列、光栅光阀阵列等。
如在PCT专利申请公开出版物no.WO2010/032224(在此通过引用将其全部内容并入本文)中公开的，替代传统的掩模，调制器可以配置成将衬底的曝光区域曝光至根据期望的图案调制的多个束。投影系统可以配置成将经过调制的束投影到衬底上，且可以包括用于接收多个束的透镜阵列。投影系统可以配置成在曝光区域的曝光期间相对于调制器移动透镜的阵列。
光刻设备可以是极紫外(EUV)辐射设备，其使用极紫外光(例如具有在约5-20nm的范围内的波长)。
发明内容
在光刻设备的实施例中，衬底通过机器人被装载到衬底台的支撑表面上，所述机器人在衬底的底侧处将衬底保持。为了便于将衬底装载到大致水平的支撑表面上，多个销(在此处为“电销(e-pin)”)设置在衬底台中。例如，可以设置三个电销。电销能够在延伸位置和缩回位置之间移动，在延伸位置，电销的上端延伸高于衬底台，在缩回位置电销的上端被缩回到衬底台中。
在将衬底装载到衬底台上期间，机器人在延伸位置上将衬底装载到电销上。因为衬底被容纳在延伸高于支撑表面的电销上，所以可以撤回机器人，将衬底留在电销上。之后，电销可以被移动至缩回位置，以将衬底放置在支撑表面上。
在装载序列期间的衬底的形状由衬底的重力下沉(gravity sag)限定。其它的影响(诸如在衬底下面的气流(空气流)的影响)也可以对衬底的形状产生作用。操纵最终的衬底形状的自由度是受限制的，同时其接触衬底台。
具有增加的尺寸的衬底将被在光刻设备中处理。宽度高至300mm的当前的衬底尺寸被在光刻过程中使用。期望增加衬底的宽度(例如直径)，例如增加直径至大约450mm。这些较大的衬底将具有更小的厚宽比，导致了减小的弯曲刚度。结果，衬底在延伸位置处可能在电销上具有更大的重力偏转，其可能固有地导致更大的衬底负载栅格误差以及另外潜在的重叠误差。另外，与例如300mm的直径的衬底相比，电销可能需要具有更大的表面积，用于支撑重量增加的衬底，这可能在衬底被夹持至支撑件时导致平坦性的降低(因为在所述状态中，衬底没有支撑在电销上方)。
期望例如提供支撑件，其中采取措施以减小在装载期间衬底的弯曲。
根据本发明的一个方面，提供了一种用于物体的支撑件，包括：支撑表面，配置成支撑所述物体；其中，所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置，支撑表面的可移动部分适配成与支撑表面的主要部分基本上处于相同的平面中，在延伸位置，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
根据本发明的一个方面，提供了一种用于物体的支撑件，包括：支撑表面，配置成支撑所述物体；和细长的可移动部分，在平面图中布置成形成多边形的边且能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置，可移动部分的上端适配成处于与支撑表面的主要部分的平面中或处于与支撑表面的主要部分的平面下方，在延伸位置，可移动部分的上端从支撑表面的主要部分的平面突出。
根据本发明的一个方面，提供了一种器件制造方法，包括步骤：将图案化的辐射束投影到由支撑表面支撑的衬底上，其中所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置，支撑表面的可移动部分适配成与支撑表面的主要部分基本上处于相同的平面中，在延伸位置，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
附图说明
现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：
图1描述根据本发明的一个实施例的光刻设备；
图2示出根据一实施例的支撑件的示意平面图；
图3示出当处于缩回位置时通过图2的线III的横截面图；
图4示出当处于延伸位置时通过图2的线III的横截面图；
图5示出通过图2的线V的横截面图；
图6是图2的实施例的可移动部分的一部分的细节的平面图；
图7示出一实施例的可移动部分；和
图8示出根据一实施例的支撑件的平面示意图。
具体实施方式
图1示意性地示出根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述设备包括：
-照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或深紫外(DUV)辐射)；
-支撑结构(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连；
-衬底台(例如晶片台)WT，构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；和
-投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，所述投影系统PS配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或更多根管芯)上。
所述照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、折射反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。
支撑结构MT以依赖于图案形成装置的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其它条件的方式保持图案形成装置。所述支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置。所述支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。
这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。
图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。
这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里使用的术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。
如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射式掩模)。
所述光刻设备可以是具有两个或更多的台(例如平台或支撑件)，例如两个或更多的衬底台或一个或更多的衬底台与一个或更多的传感器台或测量台的组合的类型。在这种“多平台”机器中，可以并行地使用附加的台，或可以在一个或更多个台上执行预备步骤的同时，将一个或更多个其它台用于曝光。光刻设备可以具有两个或更多的图案形成装置(或平台或支撑件)，其可以以类似于衬底台、传感器台和/或测量台的方式被并行地使用。
光刻设备还可以是至少一部分衬底可以被相对高折射率的液体(例如水)覆盖、以便填充投影系统和衬底之间的空间的类型。浸没液体还可以被施加至光刻设备中的其它空间，例如在掩模和投影系统之间。在本领域中公知，浸没技术用于增加投影系统的数值孔径。如在此处所使用的术语“浸没”并不排他地意味着诸如衬底等结构必须浸没在液体中，而是意味着在曝光期间液体可以位于投影系统和衬底和/或掩模之间。这可能或可能不涉及结构，诸如浸在液体中的衬底。参考标记IM显示用于实施浸没技术的设备可能被设置的位置。这样的设备可以包括用于浸没液体的供给系统和用于将液体保持在感兴趣区域中的密封构件。这样的设备可以可选地被布置成使得衬底台被浸没液体完全覆盖。
参照图1，所述照射器IL接收从辐射源SO发出的辐射束。该源和光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源考虑成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射束从所述源SO传到所述照射器IL。在其它情况下，所述源可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述源是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时设置的所述束传递系统BD一起称作辐射系统。
所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AD。通常，可以对所述照射器的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其它部件，例如积分器IN和聚光器CO。可以将所述照射器用于调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。类似于源SO，照射器IL可以或可以不被认为是形成光刻设备的一部分。例如，照射器IL可以是光刻设备的组成部分或可以是光刻设备的分立的实体。在后一情形中，光刻设备可以配置成允许将照射器IL安装到其上。可选地，照射器IL可以是可拆卸的，并且可以被分离地提供(例如，通过光刻设备制造商或另一供应商提供)。
所述辐射束B入射到保持在支撑结构(例如，掩模台)MT上的所述图案形成装置(例如，掩模)MA上，并且通过所述图案形成装置来形成图案。已经穿过图案形成装置MA之后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述投影系统PS将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，例如在从掩模库的机械获取之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(图1中未明确示出)用于相对于所述辐射束B的路径精确地定位图案形成装置MA。通常，可以通过形成所述第一定位装置PM的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现支撑结构MT的移动。类似地，可以采用形成所述第二定位装置PW的一部分的长行程模块和短行程模块来实现所述衬底台WT的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，所述支撑结构MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。可以使用图案形成装置对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分之间的空间(这些公知为划线对齐标记)中。类似地，在将多于一个的管芯设置在图案形成装置MA上的情况下，所述图案形成装置对准标记可以位于所述管芯之间。
可以将所述设备用于以下模式中的至少一种中：
1.在步进模式中，在将支撑结构MT和衬底台WT保持为基本静止的同时，将赋予所述辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上(即，单一的静态曝光)。然后将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。
2.在扫描模式中，在对支撑结构MT和衬底台WT同步地进行扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上(即，单一的动态曝光)。衬底台WT相对于支撑结构MT的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了单一动态曝光中所述目标部分的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描运动的长度部分地确定了所述目标部分的高度(沿所述扫描方向)。
3.在另一模式中，将用于保持可编程图案形成装置的支撑结构MT保持为基本静止，并且在对所述衬底台WT进行移动或扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上。在这种模式中，和其他模式一样通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻术中。
也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。
光刻设备包括衬底台WT。衬底台WT的上部被在图2-8中更详细示出。图2是衬底台WT的支撑件1的实施例的平面视图。支撑件1配置成支撑物体，在光刻设备的情形中配置成支撑衬底W。
支撑件1包括支撑表面20。支撑表面20配置成支撑在衬底台WT上的衬底W。支撑表面20可以是平坦表面，但是也可能由多个分立的凸斑(突起，显示为图2中的黑点)或从主体22的顶表面25延伸至支撑高度的其它物体限定。突起可以例如具有约1.5-3.0mm的节距。衬底W被支撑所在的突起的顶表面限定了支撑表面20。设置突起，是为了在将衬底W放置在衬底台WT上时减小与衬底W接触的表面积。每个接触点是潜在的污染源，减小总的接触面积减小了污染的机率。
支撑件1配置成在支撑表面20上的预定义的区域处接纳衬底W。预定义的区域包括中心30。在一实施例中，中心30接纳放置在衬底台WT上的衬底W的大致中心。
预定义的区域可以设计成接纳相对大宽度或尺寸的衬底W，例如直径为450mm的圆形衬底。这样的大尺寸的衬底W将具有小的厚宽比，导致了减小的弯曲刚度。在一实施例中，预定义的区域可以被设计成接纳在平面视图中的不同形状的衬底，或宽度或尺寸不同于直径为450mm的圆形衬底的衬底。
尤其是对于具有减小的弯曲刚度的衬底W，仅使用3个电销(e-pin)从支撑表面20提升衬底W和将衬底W放在支撑表面20上可能导致衬底W的表面变形。在装载衬底W期间引起的表面变形可能在衬底W被夹持至支撑件1时导致衬底W中的更大的应力。在衬底W被夹持至支撑件1时衬底W中的应力可能导致重叠栅格误差。在使用3个电销卸载衬底W的期间，衬底W可能在其外边缘处下沉。在外边缘处的下沉可能导致支撑表面20的外部区域(即最外面的突起)与其它地方相比更大的磨损。随着时间逝去，这可能导致在衬底W的边缘处的聚焦误差。
一种方案可以是提供具有更大数量的电销的支撑件1。然而，这可能导致在平面图中不能在支撑件1中为成突起形式的支撑表面20设置更多的位置(这是因为在衬底被夹持至支撑件1时衬底W没有被电销支撑)。这可能在衬底W被夹持至支撑件1时导致衬底W的不平坦，由此导致重叠误差。
在图2的实施例中，在将衬底W传送至支撑表面20或从支撑表面20传送衬底W期间，与电销相比，设置了用于支撑衬底W的更大的表面积。为了减小支撑表面20中的间隙(由突起提供的，可能以其它方式出现)，支撑件1的可移动部分50还包括形成支撑表面20的可移动部分的表面(突起55的上端)。支撑表面20的可移动部分相对于支撑件1的主体22是可移动的。衬底W在衬底W的卸载和装载期间被支撑表面20的可移动部分支撑。在一实施例中，支撑表面20的可移动部分，在当衬底W另外被支撑表面20的其余部分支撑时，在成像期间支撑衬底W。支撑表面20的该其余部分是支撑表面的主要部分，其相对于支撑件1的主体22是不能移动的。
如参考图3和4所显示的，可移动部分50并且因此支撑表面20的可移动部分相对于主体22是可移动的。可移动部分50在缩回位置和延伸位置之间是可移动的，在缩回位置，支撑表面20的可移动部分在支撑表面20的主要部分的平面处或在其下方，在延伸位置，支撑表面20的可移动部分从支撑表面20的主要部分突出。在一实施例中，在缩回位置，可移动部分50上的突起55的上端(即支撑表面20的可移动部分)基本上与支撑表面20的主要部分(例如其余部分)处于同一平面中。
如图2所示的成环形形式的可移动部分50可以在例如围绕其周边的等距离间隔的三个位置处被致动。细长构件57(在图5中显示的)可以用于在三个分离的位置处致动可移动部分50，而在这些分离位置之间的可移动部分50具有较接近于方形的横截面(在没有如图5所示的细长部分57时)。
如图2所示，可移动部分50是细长的且在平面图中被布置成形成多边形(multi-sided shape)的一边。这与不是细长的且不会形成多边形的边而是形成了角(三角形的角)的电销形成对比。在一实施例中，多边形具有至少8个边；越接近圆形，衬底W将会出现的变形更小。在诸如图2的实施例中，可移动部分50大致布置在圆的形状(即无限个边的形状)中。在一实施例中，可移动部分50是大致无间隙的完整形状。在一实施例中，可移动部分50是环。优点是在装载和/或卸载期间对衬底W的支撑进行改善和实现更小的弯曲。
在一实施例中，可移动部分50可以包括多于一个的可移动部分。例如，图2的可移动部分50可以被分割成多个分离的(可选地独立的)可移动段。在所述情形中，每个可移动部分50可以在平面图中是弧形形状。可替代地或另外地，至少一个可移动部分可以由多个细长的(例如线性的)可移动部分提供。可移动部分50可以由间隙59分隔，诸如下文描述的图8中示出的。
在一实施例中，为了衬底W的最佳支撑和由自身重量造成的最小弯曲选择可移动部分50相对于中心30的径向位置。在一实施例中，在可移动部分50内的支撑表面20的面积尺寸与可移动部分50外面的支撑面积20的面积尺寸基本上相等。由该规则的一些变化是允许的，变化越小越好。例如，内部和外部的区域在彼此的20％内或彼此相差在20％内，期望在彼此的10％内或彼此相差在10％内，或更期望地在彼此的5％内或彼此相差在5％内。
在一实施例中，为了减小或最小化可移动部分50的尺寸和重量，可移动部分50具有仅是一个凸斑(突起55)的宽度的可移动表面，如图2所示。然而，单个凸斑的宽度可能不足以充分地支撑衬底W，在一实施例中，可移动部分50的宽度(在径向方向上)可以是至少两个凸斑(突起55)宽。在一实施例中，可移动部分50在径向方向上是5个或更少个凸斑宽度。对于多于5个的凸斑，可移动部分50的尺寸和重量可能变得如此大，以至于用于移动可移动部分50的机构可能不能合理地容纳在衬底台WT中。
在一实施例中，可移动部分50在平面图中的面积与支撑表面20在平面图中的总面积的比是至少0.3％、至少0.5％或至少0.8％。因此，支撑件的面积远大于现有技术中的支撑件的面积(现有技术中的电销的面积为支撑表面20的面积的大约0.1％)。结果，变形可能非常小。
在一实施例中，对于直径300mm的衬底，可移动部分50将具有170mm+/-40mm的直径。对于直径450mm的衬底，可移动部分50将具有大约255mm+/-50mm的直径。可移动部分50的宽度将是约5mm(典型地宽度是在2至20mm之间)。
图3示出了在缩回状态中的可移动部分50，在缩回状态中，可移动部分50的上端(突起55(或支撑表面的可移动部分)的上端)支撑衬底W。可移动部分50的上端包括支撑表面20的可移动部分。
在一实施例中，多个可移动部分50是可独立致动的。在一实施例中，多个可移动部分50被一起致动。在一实施例中，多个可移动部分50被定位在离中心30同一径向距离处。
在一实施例中，在缩回位置中的可移动部分50的位置被以被动的方式控制。例如，在一实施例中，可移动部分50的位置被可移动部分50和主体22之间的邻接(例如诸如图3中显示的密封60)控制，使得可移动部分50的上表面基本上与支撑表面20共面。
在一实施例中，可移动构件50的位置在缩回位置中被主动地控制。在一实施例中，为此目的设置了定位装置、传感器和控制器。例如，主动伺服定位可以用于控制可移动部分50的位置，使得其的顶表面与支撑表面20基本上处于同一平面中。在一实施例中，通过可移动部分50与压电元件的邻接(例如密封60)来实现主动控制。
在一实施例中，可移动部分50由与主体22相同的材料制成。在一实施例中，可移动部分50的材料是SiSiC。
在图4中，在装载或卸载衬底W的过程中，可移动部分50处于延伸位置中。在该位置中，衬底W仅被支撑表面20的可移动部分支撑。
在一实施例中，可移动部分50可以设置有一个或更多的加热器和/或冷却器，以热调节可移动部分50。如从图3所见，可移动部分50与支撑件1的其余部分(即主体22)分开。因此，可移动部分50与支撑件1的其余部分热隔离。结果，可移动构件50可以具有与支撑件1的其余部分不同的温度。这可能导致通过支撑表面20的可移动部分的至衬底W的不期望的热传递和/或从衬底W的不期望的热传递，由此局部加热或冷却衬底W。这样的局部加热或冷却衬底W可能导致重叠误差。在一实施例中，一个或更多的加热器和/或冷却器设置在可移动部分50中。所述一个或更多的加热器和/或冷却器被控制用于施加和/或移除至可移动部分50的热负载，以使得其的温度基本上等于支撑件1的其余部分(例如主体22)的温度。以这种方式，通过经过支撑表面20的可移动部分的热传递所实现的局部加热/冷却效应可以被减小、最小化或甚至被避免。在一实施例中，为同样的目的，导管设置在可移动部分50中，用于供温度被调节的流体从其中通过。
支撑件1可以将衬底夹持在支撑表面20上的适合位置上。这可以以任何方式来执行。图3的实施例示出其可以如何用真空来实现的一个例子。在衬底W、突起和支撑件1的主体22的上表面25之间的空间中产生负压。因为可移动部分50与支撑件1的主体22分开，所以在可移动部分50处于缩回位置时，可移动部分50和主体22之间的间隙被密封。这可以通过提供在可移动部分50和主体22之间的、连接至它们中的一个或另一个的密封60来实现。密封60可以是非接触式密封，这意味着小的间隙(几微米)存在于密封60和可移动部分50之间，即使在缩回位置上也是如此。密封60提供了对气体在可移动部分50和主体22之间的通路的阻力，使得负压可能在衬底W和主体的顶表面25之间聚积且被保持在它们之间。密封60和可移动部分50之间的距离保持很小(1或2微米的量级)，这帮助确保适合的真空水平仍然可以在衬底W、主体22的顶表面25以及凸斑之间的空间中实现。非接触式密封60的优点是不强压可移动部分50上的位置和/或最小化污染灵敏度。接触式密封的污染可能导致可移动部分50的位置不精确。
在支撑件1是静电夹具的情形中，可能不需要设置密封件60，但是密封可以被设置作为可移动部分50的定位特征(被动式或主动式)。可能期望帮助确保静电夹持力出现在可移动部分50和衬底W之间，以确保在装载期间的夹持和/或在卸载期间的夹持的一致性。这可以以在主体22中的其他处相同的方式实现。在图7中示出了其是如何实现的例子。
可能期望在可移动部分50在延伸位置或在任何其他位置时在衬底W和可移动部分50之间施加夹持力。另外地，如上所述，可能有利的是，在可移动部分50和衬底W之间施加力，即使在可移动部分50处于缩回位置时，尤其是在支撑件1是静电夹持支撑件的情形中，也是如此。在该情形中，实现如图7所示的在可移动部分50和衬底W之间的力的方法可以用于可移动部分50的缩回位置和延伸位置两者中以及这两个位置之间的任何位置中。
图5和6示出了其中夹持力可以被施加在处于延伸位置(以及任何其他位置)的可移动部分50和衬底W之间用于真空夹持的方式。这通过将脊70设置在可移动部分50上来实现。脊70具有比支撑表面20的可移动部分(即突起55的顶部)更低的上表面。以这种方式，在脊70和衬底W之间没有接触。开口71设置成与脊70所围绕的区域流体接触。真空源，例如形成在可移动部分50的主体中的腔72，通过细长构件57中的导管73连接至负压源。以这种方式，负压可以产生于脊70和衬底W之间，以朝向可移动部分50吸引衬底W。如在图2中示出的和在图6中更详细地示出的，脊70的设置可以替代凸斑(突起)，其可以以其他方式设置在所述位置上。为此原因，可以围绕多边形仅设置几个脊70。脊70不会接触衬底W以避免污染，由此避免由污染引起的可能的不平坦。细长构件57(几个(例如三个)细长构件57围绕可移动部分50的周边)用于移动可移动部分50以及提供导管73。
图7显示可以如何将吸引力设置在静电支撑件1中的衬底W和可移动部分50之间。在该实施例中，电极80设置在介电质层82和隔离层84之间的可移动部分50中。电极80可以施加正或负的电压，使得在衬底W和电极80之间产生静电夹持力，由此将衬底W吸引到可移动部分50上。
在一实施例中，衬底W和可移动部分50之间的夹持力被在衬底W的装载和卸载期间施加。可以设置控制器100，用于激励/去激励夹持力。
图8示出除下文描述的之外与图2的实施例相同的实施例。实施例是可行的，其中在图2和8中的实施例之间的全部差别或仅一些差别被实施。
在一实施例中，可以设置一个或更多的另外的可移动部分150或多种另外的可移动部分150。可移动部分150可以与电销相同，相同之处在于在缩回位置它们不接触衬底W，或可以与上述的可移动部分50相同。在一实施例中，所述另外的可移动部分150是多个分离的可移动部分150。所述另外的可移动部分150可以定位在可移动部分50的径向内侧、径向外侧或径向内侧和径向外侧两者。
在一实施例中，有多个可移动部分50。可移动部分50可以是细长的。在一实施例中，多个可移动部分50可以形成如图8所示的多边形的边。多个可移动部分50可以形成所述形状的段。在相邻的可移动部分50之间可以有间隙59。为了间隙59的出现不会导致衬底W的弯曲，在一实施例中，多边形的相邻的可移动部分50之间的间隙59的总长度小于在平面图中由多个可移动部分50形成的多边形的外周的50％。
支撑件1可以形成衬底台WT的一部分。这样的衬底台WT可以用于光刻设备中，例如投影光刻设备中。
根据本发明的一实施例的包括支撑件1的光刻设备可以包括用于装载衬底到支撑件1和/或从支撑件1卸载衬底的衬底操纵装置600。这样的衬底操纵装置600可以具有两个臂，所述两个臂从下面支撑衬底W。所述臂可以在衬底W被装载到支撑件上时在可移动部分50的外部的区域处支撑衬底W。另外地或可替代地，衬底操纵装置600的一个或更多的臂可以在与可移动部分50的位置相比具有相等或较小的半径的位置处支撑衬底W。如果衬底操纵装置600的臂可以被通过间隙59插入到可移动部分50之间和/或一个或更多的可移动部分50可以被从延伸位置移动以允许臂处在衬底W下面的适合位置处，那么其可以在图8的实施例中被实现。
在一实施例中，衬底操纵装置600可以从上方操纵衬底。在一实施例中，衬底操纵装置600可以从上方通过衬底的边缘来操纵衬底。在一实施例中，衬底操纵装置600的保持机构可以包括多个支架，所述支架布置成沿着衬底W的边缘支撑衬底W。在这样的实施例中，支架可以布置成向外和向内移动，以获取和释放衬底W。为了允许这样的位移，保持器可以设置成具有诸如压电或电磁致动器的一个或更多的致动器。这样的实施例被在于2011年10月27日申请的美国专利申请no.US61/552,282中进行了描述，在此通过引用将其全部内容并入本文。
尽管在本文中可以做出具体的参考，将所述光刻设备用于制造IC，但应当理解这里所述的光刻设备可以在制造具有微米尺度、甚至纳米尺度的特征的部件方面有其他的应用，例如，集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头等的制造。本领域技术人员应该理解的是，在这种替代应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、量测工具和/或检验工具中。在可应用的情况下，可以将所述公开内容应用于这种和其它衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如以便产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含一个或更多的已处理层的衬底。
尽管以上已经做出了具体的参考，在光学光刻术的情形中使用本发明的实施例，但应该理解的是，本发明的实施例可以用于其他应用中，例如压印光刻术，并且只要情况允许，不局限于光学光刻术。在压印光刻术中，图案形成装置中的拓扑限定了在衬底上产生的图案。可以将所述图案形成装置的拓扑印刷到提供给所述衬底的抗蚀剂层中，在其上通过施加电磁辐射、热、压力或其组合来使所述抗蚀剂固化。在所述抗蚀剂固化之后，所述图案形成装置从所述抗蚀剂上移走，并在抗蚀剂中留下图案。
这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(UV)辐射(例如具有约436、405、365、355、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如，具有在5-20nm的范围中的波长)以及粒子束(诸如离子束或电子束)。
本发明的实施方式还可以包括以下各个方面：
1.一种用于物体的支撑件，包括：
支撑表面，配置成支撑所述物体；
其中，所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，支撑表面的可移动部分适配成基本上与支撑表面的主要部分处于相同的平面中，在延伸位置处，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
2.根据方面1所述的支撑件，其中所述支撑表面的可移动部分是可移动部分的上端。
3.根据方面1或2所述的支撑件，其中支撑表面的可移动部分被在平面图中布置成形成多边形的边。
4.一种用于物体的支撑件，包括：
支撑表面，配置成支撑所述物体；和
细长的可移动部分，在平面图中布置成形成多边形的边且能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，可移动部分的上端适配成处于支撑表面的主要部分的平面处或低于支撑表面的主要部分的平面，在延伸位置处，可移动部分的上端从支撑表面的主要部分的平面突出。
5.根据方面4所述的支撑件，其中在缩回位置处，可移动部分的上端形成了支撑表面的可移动部分，且适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中，所述主要部分包括支撑表面的其余部分。
6.根据方面3-5中任一方面所述的支撑件，其中所述多边形包括至少8个边。
7.根据方面6所述的支撑件，其中所述多边形是大致圆形。
8.根据方面3-7中任一方面所述的支撑件，其中所述多边形是基本上无间隙的完整形状。
9.根据方面3-7中任一方面所述的支撑件，其中所述多边形由多个可移动的段形成。
10.根据方面9所述的支撑件，其中所述段被间隙分开，相邻的段之间的间隙的长度之和小于多边形的外周的50％。
11.根据方面1-10中任一方面所述的支撑件，其中每个可移动部分在平面图中是弧形形状。
12.根据方面1-11中任一方面所述的支撑件，其中所述支撑表面由分离的突起的多个上端形成。
13.根据方面12所述的支撑件，其中所述可移动部分小于5个突起宽度、小于3个突起宽度、小于2个突起宽度或小于1个突起宽度。
14.根据方面12或13所述的支撑件，其中所述可移动部分包括比突起低的脊。
15.根据方面14所述的支撑件，还包括与被脊包围的区域流体连通且能够连接至负压源的导管。
16.根据方面1-15中任一方面所述的支撑件，其中在平面图中可移动部分是细长的。
17.根据方面1-16中任一方面所述的支撑件，其中所述可移动部分被定位成离支撑表面的中心为恒定的径向距离。
18.根据方面1-17中任一方面所述的支撑件，其中可移动部分被定位成使得被可移动部分包围的支撑表面的区域的尺寸在没有被可移动部分包围的支撑表面的区域的尺寸的20％内。
19.根据方面1-18中任一方面所述的支撑件，其中所述可移动部分在平面图中的面积是在平面图中所述支撑表面的面积的至少0.3％、在平面图中支撑表面的面积的至少0.5％或在平面图中支撑表面的面积的至少0.8％。
20.根据方面1-19中任一方面所述的支撑件，还包括当可移动部分在缩回位置时用于阻止气体在可移动部分和支撑表面之间的通路的密封。
21.根据方面1-20中任一方面所述的支撑件，还包括用于加热和/或冷却可移动部分的加热器和/或冷却器。
22.根据方面1-21中任一方面所述的支撑件，还包括定位在离支撑表面的中心的径向距离不同于所述可移动部分离支撑表面的中心的径向距离的位置处的另外的可移动部分。
23.根据方面1-22中任一方面所述的支撑件，其中所述支撑件配置成使用负压来将所述物体夹持至支撑表面。
24.根据方面1-23中任一方面所述的支撑件，其中所述支撑件配置成用静电力将所述物体夹持至支撑表面。
25.根据方面1-24中任一方面所述的支撑件，其中所述支撑件配置成在光刻设备中支撑衬底。
26.根据方面1-25中任一方面所述的支撑件，还包括配置成当可移动部分处于缩回位置时主动地定位所述可移动部分的控制器。
27.一种光刻设备，包括根据方面1-26中任一方面所述的支撑件。
28.根据方面27所述的光刻设备，还包括用于将所述物体定位在支撑表面上的操纵装置。
29.根据方面28所述的光刻设备，其中所述操纵装置布置成从上方夹紧所述物体。
30.根据方面28或29所述的光刻设备，其中所述操纵装置配置在物体的边缘处夹紧所述物体。
31.一种器件制造方法，包括步骤：
将图案化的辐射束投影到被支撑表面支撑的衬底上，其中所述支撑表面包括主要部分和可移动部分，所述支撑表面的可移动部分能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，支撑表面的可移动部分适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中，在延伸位置处，支撑表面的可移动部分从支撑表面的主要部分的平面突出。
尽管以上已经描述了本发明的特定的实施例，但是应该理解的是本发明可以以与上述不同的形式实现。例如，本发明的实施例可以采取包含用于描述上述公开的方法的一个或更多个机器可读指令序列的计算机程序的形式，或者采取具有在其中存储的这种计算机程序的数据存储介质的形式(例如，半导体存储器、磁盘或光盘)。另外，机器可读指令可嵌入到两个或更多个计算机程序中。所述两个或更多个计算机程序可被存储在一个或更多个不同的存储器和/或数据存储介质上。
本发明的一实施例可以施加至直径300mm、450mm或任何其它尺寸的衬底。
此处描述的任何控制器可以每个或组合地在一个或更多的计算机程序被位于光刻设备的至少一个部件内的一个或更多的计算机处理器读取时操作。控制器可以每个或组合地具有用于接收、处理和发送信号的任何适合的配置。一个或更多的处理器配置成与至少一个控制器通信。例如，每个控制器可以包括用于执行计算机程序的一个或更多的处理器，所述计算机程序包括用于上述的方法的机器可读指令。控制器可以包括用于存储这样的计算机程序的一种或更多种数据存储介质，和/或用于容纳这样的一种或更多种介质的硬件。因此，控制器可以根据一个或更多的计算机程序的机器可读指令操作。
本发明的一个或更多的实施例可以施加至任何浸没光刻设备，不论浸没液滴是否设置成浴器的形式、仅提供在衬底的局部表面区域上或是不受限制的。在不受限制的布置中，浸没液体可以在衬底和/或衬底台的表面上流动，使得基本上衬底台和/或衬底的整个未覆盖的表面被浸湿。在这样的不受限制的浸没系统中，液体供给系统可以不限制浸没液体或其可以提供一比例的浸没液体限制，但是不基本上完全限制浸没液体。
在一实施例中，光刻设备是多平台设备，包括定位在投影系统的曝光侧的两个或更多的台，每个台包括和/或保持一个或更多的物体。在一实施例中，一个或更多的台可以保持辐射敏感的衬底。在一实施例中，一个或更多的台可以保持传感器，用于测量来自投影系统的辐射。在一实施例中，多平台设备包括配置成保持辐射敏感衬底(即衬底台)的第一台和不配置成保持辐射敏感衬底(通常在下文被称作且不限于，测量和/或清洁台)的第二台。第二台可以包括和/或可以保持除辐射敏感衬底之外的一种或更多的物体。这样的一种或更多的物体可以包括从下述中选择的一个或更多个：用于测量来自投影系统的辐射的传感器、一个或更多的对准标记和/或清洁装置(用于清洁例如液体限制结构)。
在一实施例中，光刻设备可以包括用于测量所述设备的部件的位置、速度等的编码器系统。在一实施例中，所述部件包括衬底台。在一实施例中，部件包括测量和/或清洁台。编码器系统可以另外地或替代地是用于所述台的此处描述的干涉计系统。编码器系统包括与刻度尺或栅格相关联的(例如配对的)传感器、变送器或读取头。在一实施例中，可移动部件(例如衬底台和/或测量和/或清洁台)具有一个或更多的刻度尺或栅格以及所述部件相对于其移动的光刻设备的框架，具有一个或更多的传感器、变送器或读取头。所述一个或更多的传感器、变送器或读取头与刻度尺或栅格相互配合，以确定所述部件的位置、速度等。在一实施例中，部件相对于其移动的光刻设备的框架具有一个或更多的刻度尺或栅格，所述可移动部件(例如衬底台和/或测量台和/或清洁台)具有一个或更多的传感器、变送器或读取头，它们与刻度尺或栅格相互配合以确定部件的位置、速度等。
在上下文允许的情况下，术语“透镜”可以表示各种类型的光学部件中的任一个或组合，包括折射式、反射式、反射折射式、磁性式、电磁式以及静电式光学部件。
以上的描述是说明性的，而不是限制性的。因此，本领域的技术人员应当理解，在不背离所附的权利要求的保护范围的条件下，可以对本发明进行修改。

Claims (23)

1.一种用于物体的支撑件，包括：
支撑表面，配置成支撑所述物体；和
细长的可移动部分，在平面图中布置成形成多边形的边且能够在缩回位置和延伸位置之间移动，在缩回位置处，可移动部分的上端适配成处于支撑表面的主要部分的平面处或低于支撑表面的主要部分的平面，在延伸位置处，可移动部分的上端从支撑表面的主要部分的平面突出；
其中所述支撑表面由分离的突起的多个上端形成，并且所述可移动部分包括开口、比所述突起低并且围绕所述开口的脊以及与被所述脊和开口包围的区域流体连通且能够连接至负压源的导管。
2.根据权利要求1所述的支撑件，其中在缩回位置处，可移动部分的上端形成了支撑表面的可移动部分，且适配成基本上处于与支撑表面的主要部分相同的平面中，所述主要部分包括支撑表面的其余部分。
3.根据权利要求1所述的支撑件，其中所述多边形包括至少8个边。
4.根据权利要求3所述的支撑件，其中所述多边形是大致圆形。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中所述多边形是基本上无间隙的完整形状。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中所述多边形由多个可移动的段形成。
7.根据权利要求6所述的支撑件，其中所述段被间隙分开，相邻的段之间的间隙的长度之和小于多边形的外周的50％。
8.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中每个可移动部分在平面图中是弧形形状。
9.根据权利要求1所述的支撑件，其中所述可移动部分小于5个突起宽度、小于3个突起宽度、小于2个突起宽度或小于1个突起宽度。
10.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中在平面图中可移动部分是细长的。
11.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中所述可移动部分被定位成离支撑表面的中心为恒定的径向距离。
12.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中可移动部分被定位成使得被可移动部分包围的支撑表面的区域的尺寸在没有被可移动部分包围的支撑表面的区域的尺寸的20％内。
13.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中所述可移动部分在平面图中的面积是在平面图中所述支撑表面的面积的至少0.3％、在平面图中支撑表面的面积的至少0.5％或在平面图中支撑表面的面积的至少0.8％。
14.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，还包括当可移动部分在缩回位置时用于阻止气体在可移动部分和支撑表面之间的通路的密封。
15.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，还包括用于加热和/或冷却可移动部分的加热器和/或冷却器。
16.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，还包括定位在离支撑表面的中心的径向距离不同于所述可移动部分离支撑表面的中心的径向距离的位置处的另外的可移动部分。
17.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中所述支撑件配置成使用负压来将所述物体夹持至支撑表面。
18.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，其中所述支撑件配置成在光刻设备中支撑衬底。
19.根据权利要求1-4中任一项所述的支撑件，还包括配置成当可移动部分处于缩回位置时主动地定位所述可移动部分的控制器。
20.一种光刻设备，包括根据权利要求1-19中任一项所述的支撑件。
21.根据权利要求20所述的光刻设备，还包括用于将所述物体定位在支撑表面上的操纵装置。
22.根据权利要求21所述的光刻设备，其中所述操纵装置布置成从上方夹紧所述物体。
23.根据权利要求21所述的光刻设备，其中所述操纵装置配置在物体的边缘处夹紧所述物体。
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