CN103091878B - 玻璃基板的修补方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种玻璃基板的修补方法,所述玻璃基板的修补方法包含步骤︰提供一个激光源,输出一激光;提供一个图案化的反射片,设置于所述激光的一光路上,所述反射片具有一遮光区及一反光区;通过所述反射片的反光区反射所述激光到一玻璃基板上,以利用所述遮光区在所述玻璃基板上对应形成一暗区保护所述玻璃基板上的一图案化结构;以及利用所述激光将位在所述暗区以外的多个缺陷进行移除或修补。
Description
技术领域
本发明是有关于一种玻璃基板的修补方法,特别是有关于一种利用反射片的玻璃基板的修补方法。
背景技术
近年来,薄膜晶体管液晶显示器(Thin-Film Transistor Liquid-CrystalDisplay,TFT-LCD)产业应用层面从小尺寸的手机、个人数位助理到中尺寸的笔记型电脑、个人电脑,在到目前大尺寸的液晶电视,面板厂商不断的提升制作过程的技术,玻璃基板尺寸也有越来越大的趋势,大尺寸的玻璃基板除了可切割更大尺寸的产品应用外,亦可提高产能。
TFT-LCD设备可包含利用液晶的透光性显示图像的LCD面板及设置在LCD面板之下来给LCD面光提供光的背光组件,LCD面板还包含阵列基板、相对基板和置于阵列基板与相对基板之间的液晶层。阵列基板包含信号线,电性连接到信号线的薄膜晶体管(TFT),覆盖并保护信号线和TFT的保护层及电性连接到TFT的像素电极。
阵列基板的信号线会具有诸如短路或短接故障的电性连接故障,通常是有缺陷阻挡而造成驱动电流不会经过TFT,就会在像素区产生所谓的黑点(dark spot︰熄点)。在TFT-LCD制作工艺上对于缺陷的检测,主要是应用自动光学检测(Automated Optical Inspection,AOI)的技术来取代人工检测缺陷,以降低以人工方式长时间检测可能造成的误检或漏检的风险,亦可提升检测效率及低检测成本。至于检测后的缺陷分类,以及面板等级判定主要还是以人工方式判断,判断后才能决定面板下一步是要做修补(repair)、重制(rework)、报废或是往下一个制程。
通常在修补TFT-LCD上,利用具有预定波长的激光照射缺陷,来烧切掉缺陷或移除正常电路构造之外的缺陷,通过上述移除缺陷方式可以修补电路。但因为需要人工判断并手动控制激光的光束进行修补,容易发生无法快速及精准控制激光投射位置的问题,因而在激光照射失准时造成正常的电路区域也被激光所破坏,故,有必要提供一种玻璃基板的修补方法,以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种玻璃基板的修补方法,以解决现有技术所存在的人工方式控制激光进行修补时容易破坏正常电路构造的问题。
本发明的主要目的在于提供一种玻璃基板的修补方法,其通过利用一图案化的反射片来控制激光修补玻璃基板的区域,以自动判断及修补方式取代人工方式,进而可避免人工控制激光进行修补时误照射到正常电路区域,并提高判断及修补的效率及准确度。
为达成本发明的前述目的,本发明一实施例提供一种玻璃基板的修补方法,其中所述玻璃基板的修补方法包含步骤︰提供一个激光源,输出一激光;提供一个图案化的反射片,设置于所述激光的一光路上,所述反射片具有一遮光区及一反光区;通过所述反射片的反光区反射所述激光到一玻璃基板上,以利用所述遮光区在所述玻璃基板上对应形成一暗区保护所述玻璃基板上的一图案化结构;以及利用所述激光将位在所述暗区以外的多个缺陷进行移除或修补。
在本发明的一实施例中,所述玻璃基板是一液晶显示器的薄膜晶体管阵列基板。
在本发明的一实施例中,所述遮光区是所述反射片上涂布抗反射性涂层的一区域,或是所述反射片上的一开口。
在本发明的一实施例中,所述图案化结构是图案化光刻胶层。
在本发明的一实施例中,所述图案化结构是扫描线、数据线、薄膜晶体管及储存电容的至少一个的图案化金属电路。
在本发明的一实施例中,在提供一个图案化的反射片之后,所述玻璃基板的修补方法还包含步骤︰
在本发明的一实施例中,提供一角度控制单元及一位移单元,用以调整所述反射片的反射角度及位置,使得所述遮光区形成的暗区对位于所述玻璃基板上的图案化结构。
在本发明的一实施例中,在形成一对应的暗区在所述玻璃基板上之后,所述玻璃基板的修补方法还包含步骤︰得到所述玻璃基板的一检测影像图,所述检测影像图中包含所述暗区及一亮区,所述暗区对应于所述图案化结构,所述亮区显示所述多个缺陷。
再者,本发明另一实施例提供另一种玻璃基板的修补方法,其中所述玻璃基板的修补方法包含步骤︰提供一个激光源,输出一图案化的激光;将所述图案化的激光导引到一玻璃基板上,以利用所述图案化的激光在所述玻璃基板上对应形成一暗区保护所述玻璃基板上的一图案化结构;以及利用所述图案化的激光将位在所述暗区以外的多个缺陷进行移除或修补。
在本发明的一实施例中,所述玻璃基板是一液晶显示器的薄膜晶体管阵列基板。
在本发明的一实施例中,在输出所述图案化激光的步骤中,通过提供一个图案化的反射片设置于所述激光的一光路上,以利用所述反射片的一遮光区及一反光区反射形成所述图案化激光。
与现有技术相比较,本发明的玻璃基板的修补方法,这样不但可取代人工方式而自动检测并修补这些缺陷,进而提高判断及修补的效率及准确度。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1是本发明一实施例玻璃基板的示意图。
图1A是本发明一实施例玻璃基板的缺陷的局部放大示意图。
图2是本发明一实施例玻璃基板的修补方法的流程图。
图3是本发明一实施例一图案化的反射片的示意图。
图4是本发明一实施例玻璃基板的修补设备的示意图。
图4A是本发明一实施例玻璃基板的缺陷修补时的局部放大示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。再者,本发明所提到的方向用语,例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧面、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。
请参照图1所示,揭示适用于本发明一实施例的玻璃基板,主要包含数个基板单元1,每一个所述基板单元1包含一图案化结构11,其包含多个像素区域10,主要由多个薄膜晶体管11a、多个像素电极11b、多条扫描线11c及多条数据线11d所组成。其中,在所述数个扫描线11c及所述数个数据线11d所围成的区域中定义并形成所述数个像素区10,且所述数个像素区10配置成矩阵状。在所述数个像素区10配置有做为开关用的所述数个薄膜晶体管11a、由ITO(Indium Tin Oxide)等透明电极构成的所述数个像素电极11b以及保持电容(未绘示)。
请参照图1A所示,揭示当制作所述图案化结构11时,因为需要数道工艺以产生电路层,故在制作过程中会产生多个缺陷12,如图1A局部放大所述图案化结构11之后,可清楚看见所述缺陷12在正常的所述图案化结构11之外的区域,另产生影响正常电路运作的所述缺陷12,所述缺陷12是制作结果中所不期待出现的,故通常需要通过人眼去判断并藉由激光照射予以移除,但由于人工移除方式会产生不易快速及精准控制激光投射位置的情形,造成判断效率不彰以及判断结果低落,并且当透过激光照射移除或修补所述缺陷12时,也容易因为激光照射失准问题而破坏了正常的所述图案化结构11,因此本发明提供一方法,一方面可保护所述图案化结构11,另一方面可自动化检测过程,以提高检测效率及降低检测成本。
本发明将于下文利用图2所揭示的流程图以及一并参考图3的一个图案化的反射片2、图4所揭示的数个装置及4A所揭示缺陷修补时的局部放大示意图,逐一详细说明一实施例玻璃基板的修补方法。
请参照图2及一并参考图4所示,本发明一实施例的玻璃基板的修补方法,首先包含步骤(S01):提供一个激光源3(如图4所示),输出一激光I1,在此所述激光I1例如可使用市售的YAG(钇铝石榴石)激光例如激光波长355nm),但不以此为限。
请继续参照图2及一并参考图3、4所示,本发明一实施例的玻璃基板的修补方法,然后包含步骤(S02):提供一个图案化的反射片2(如图3所示),设置于所述激光I1的一光路上(如图4所示,所述反射片2具有一遮光区20及一反光区(遮光区20以外的区域),所述遮光区20是所述反射片2上涂布抗反射性涂层的一区域,或是所述反射片2上的一开口,所述开口后方可放置一吸收激光单元,如此使得所述激光I1无法反射(如图3所示)。所述遮光区20的图案对应一玻璃基板上的一欲修补的图案化结构的局部形状(如图4所示)。
此外,在本步骤(S02)之后,还可通过提供一角度控制单元及一位移单元(未绘示),用以调整所述反射片2的反射角度及位置,使得所述遮光区20形成的暗区11’(如图4所示)对位于所述玻璃基板1上的图案化结构11。
请继续参照图2及一并参考图4及4A所示,本发明一实施例的玻璃基板的修补方法,接着包含步骤(S03)︰通过所述反射片2的反光区反射所述激光I2到一玻璃基板1上(如图4所示),以利用所述遮光区20在所述玻璃基板上对应形成一暗区11’(如图4A所示)保护所述玻璃基板1上的一图案化结构11,且所述玻璃基板1是一液晶显示器的薄膜晶体管阵列基板(TFT arraysubstrate),所述图案化结构11可以是图案化光刻胶层(photoresist),亦可以如图1所示的,是扫描线11c、数据线11d、薄膜晶体管11a及储存电容的至少一个的图案化金属电路。此时,通过所述反射片2的反光区反射到所述玻璃基板1上的激光I2亦可视为一种图案化的激光。
再者,在此步骤(S03)之后,可通过一照相镜头以得到所述玻璃基板1的一检测影像图,所述检测影像图中包含所述暗区11’及一亮区A1(如图4A所示),所述暗区11’对应于所述图案化结构11,所述亮区A1显示所述多个缺陷12,所述检测影像图可在以下步骤时,作为修补或移除所述缺陷12的参考,可根据缺陷的大小、数量以及所在的区域,先做分析,予以分类并规划,在移除或修补时,可影响所述激光I1照射的波长、照射次数、照射范围及照射时间等等。
请继续参照图2及一并参考图4及图4A所示,本发明一实施例的玻璃基板的修补方法,最后包含步骤(S04)︰利用反射所述激光I1将位在所述暗区11’以外的多个缺陷12进行移除或修补,在移除或修补时,须通过所述述角度控制单元及所述位移单元,予以控制照射区域的大小例如限制为5um(微米)x5um,但不以此为限,甚至距离所述缺陷12一适当距离,例如,但不以此为限,介于约5um至10um之间,并根据所述缺陷12的大小而适当的增减照射时间或次数,以避免破坏所述图案化结构11,通常,只要照射的激光波长控制在532nm(纳米)以下,即不会对所述图案化结构11造成伤害并可进行修复。
本发明另一实施例的玻璃基板的修补方法相似于本发明一实施例,并大致沿用相同方法流程,但另一实施例的差异特征在于:所述另一实施例的玻璃基板的修补方法直接提供一个激光源,其输出一图案化的激光(未绘示),可利用一图案化的透明片,设置在所述激光源的灯盖前方,并使所述激光源的激光只能透过所述图案化的透明片射出,便可形成所述图案化的激光。上述特征的优点在于:在本发明图的实施例中,反射所述激光I1必定会造成光线的少许衰减并些微的发散,因而较不易直接控制所述I1激光照射的强度,并且控制反射角度及反射后对准所述亮区,相对上也是较为困难的。因此,直接提供一图案化的激光,直接照射所述亮区,不但可增加修补效率,并可减少修补误差。
如上所述,相较于现有玻璃基板的修补方法虽能通过人工判断并修补以移除缺陷并修补电路,却也常产生无法快速且精准的修补缺陷等问题,本发明所揭示的玻璃基板的修补方法通过在激光前设置一图案化反射片,而可以自动修补或移除不必要的缺陷,并通过反射片上的遮光区图案可保护正常的图案化结构不受到激光的照射而产生破坏,进而提升修补时间并降低修补成本。
本发明已由上述相关实施例加以描述,然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是,已公开的实施例并未限制本发明的范围。相反地,包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本发明的范围内。
Claims (9)
1.一种玻璃基板的修补方法,其特征在于:所述玻璃基板的修补方法包含步骤︰
提供一个激光源,输出一激光;
提供一个图案化的反射片,设置于所述激光的一光路上,所述反射片具有一遮光区及一反光区;
通过所述反射片的反光区反射所述激光到一玻璃基板上,以利用所述遮光区在所述玻璃基板上对应形成一暗区保护所述玻璃基板上的一图案化结构;以及
利用所述激光将位在所述暗区以外的多个缺陷进行移除或修补;
其中,所述遮光区是所述反射片上涂布抗反射性涂层的一区域,或是所述反射片上的一开口。
2.如权利要求1所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:所述玻璃基板是一液晶显示器的薄膜晶体管阵列基板。
3.如权利要求1所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:所述图案化结构是图案化光刻胶层。
4.如权利要求1所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:所述图案化结构是扫描线、数据线、薄膜晶体管及储存电容的至少一个的图案化金属电路。
5.如权利要求1所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:在提供一个图案化的反射片之后,所述玻璃基板的修补方法还包含步骤︰
提供一角度控制单元及一位移单元,用以调整所述反射片的反射角度及位置,使得所述遮光区形成的暗区对位于所述玻璃基板上的图案化结构。
6.如权利要求1所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:在形成一对应的暗区在所述玻璃基板上之后,所述玻璃基板的修补方法还包含步骤︰
得到所述玻璃基板的一检测影像图,所述检测影像图中包含所述暗区及一亮区,所述暗区对应于所述图案化结构,所述亮区显示所述多个缺陷。
7.一种玻璃基板的修补方法,其特征在于:所述玻璃基板的修补方法包含步骤︰
提供一个激光源,输出一图案化的激光;
将所述图案化的激光导引到一玻璃基板上,以利用所述图案化的激光在所述玻璃基板上对应形成一暗区保护所述玻璃基板上的一图案化结构;以及
利用所述图案化的激光将位在所述暗区以外的多个缺陷进行移除或修补;
其中输出所述图案化激光,包括:提供一图案化的透明片,设置在所述激光源的前方,并使所述激光源的激光透过所述图案化的透明片射出,形成所述图案化的激光。
8.如权利要求7所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:所述玻璃基板是一液晶显示器的薄膜晶体管阵列基板。
9.如权利要求7所述的玻璃基板的修补方法,其特征在于:在输出所述图案化激光的步骤中,通过提供一个图案化的反射片设置于所述激光的一光路上,以利用所述反射片的一遮光区及一反光区反射形成所述图案化激光。
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