CN103086329A - 降膜结晶生产电子级硫酸的方法 - Google Patents

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朱静
李天祥
刘飞
丁雪峰
张承屏
宋小霞
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Abstract

本发明公开了一种降膜结晶制备电子级硫酸的方法。它将硫酸晶种加至结晶器顶部;用泵将硫酸原料从结晶器顶部流加入,底部流出循环,硫酸在结晶器中以液膜方式从顶部流下,原料流量为10~40ml/min;以逐步降温方式进行结晶,硫酸在结晶器壁形成晶层,未结晶原料从结晶器底部流出,降温至-5~-16℃;结晶完成后停泵加料,恒温10~60min,将未结晶料液排出;再逐步升温发汗;继续升温至晶层完全融化,得到一次结晶产品。将一次结晶产品做原料,重复以上操作,进行二次降膜结晶,得到电子级硫酸。本方法设备简单,生产时间较短,能耗较低,直接可制得MOS级至BV-Ⅲ级电子级硫酸,具有可观的经济效益。

Description

降膜结晶生产电子级硫酸的方法
技术领域
本发明涉及硫酸,特别涉及降膜结晶制取电子级硫酸的方法。
技术背景
电子级硫酸属于超净高纯试剂,广泛用于半导体、超大规模集成电路的装配和加工过程, 是一种微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化学试剂,主要用于对硅晶片的清洗和蚀刻,印刷电路板腐蚀,电镀清洗,可有效除去晶片上的杂质颗粒、无机残留物和碳沉积物。近年来随着电子行业快速发展,特别是智能手机,平板电脑普及,电子级硫酸市场需求越来越大。由于其纯度和洁净度对电子元件的成品率、电性能及可靠性有着重要的影响,因此对电子级硫酸中杂质离子和颗粒含量必须严格要求。目前国内外制备超纯硫酸主要采用的方法有两种:一种是采用工业硫酸精馏法;精馏过程包括化学与处理系统、连续蒸馏系统、超净多级过滤系统及超净罐装系统四部分。在精馏过程中常需外加强氧化剂,如高锰酸钾、重铬酸钾等,将硫酸中的低价态硫和有机物氧化成硫酸。精馏法可分为常压精馏和减压精馏两种:常压精馏一般要求石英玻璃的装置材质;减压精馏可用较廉价的硼硅玻璃和氟聚合材料。另一种是用三氧化硫气体直接吸收法来制备。通常用超纯水或超纯硫酸直接吸收洁净的三氧化硫。在吸收前通常要用过氧化氢处理发烟硫酸,之后用降膜蒸发器蒸发出三氧化硫,三氧化硫经炷式过滤器过滤后,直接用电子级的超纯水或超纯硫酸直接吸收即得。精馏法适合于小规模的生产,而气体吸收法能满足大规模生产的要求。且超纯硫酸制备技术多为专利发明,生产设备也大多属专利产品。目前国内主要采用的是前一种方法,后种方法对技术和设备要求较高,国内应用此法生产有一定的困难。且在超纯硫酸的研制与生产方面,我国与国外存在明显的差距,我国主要以MOS级和BV-Ⅲ级中低档产品为主,而高规格的产品主要依赖于进口。
降膜结晶是一种提纯物质的新型技术,特别适合分离沸点相近,凝固点差异很大的不同的物系进行分离。降膜结晶作为熔融结晶技术的一种,以其晶层生长较快,设备简单,操作控制和放大容易,在工业界备受关注和应用研究。
经检索,目前涉及电子级硫酸的中国专利有201020188622.9 号《医用电子级硫酸提纯设备》,该专利涉及的技术属于硫酸精馏法。此方法设备复杂,能耗较大。201110328531.X号《静态熔融结晶生产电子级硫酸的方法》,该专利设计的技术属于静态熔融结晶法,此方法设备简单,但结晶速率较慢。目前未见到有用降膜结晶法生产和制备超净高纯硫酸的报道。
发明内容
本发明的目的是针对以上制备电子级硫酸方法的不足之处,提出一种降膜结晶生产电子级硫酸的方法。
为达到上述发明目的,发明人提供的方法包括以下步骤:
1. 将硫酸晶种加至结晶器顶部,结晶器控制在0~‐10℃;用泵将硫酸原料从结晶器顶部流加入,硫酸以液膜形式流下,使硫酸原料在结晶器与硫酸储槽间循环,硫酸流量为10~40ml/min。 
2. 以逐步降温方式进行结晶,原料在结晶器壁形成晶层,未结晶原料从结晶器底部流出,降温步长为1 ~6℃/h,结晶1~3h,降温至-5~-16℃,停止进料,恒温10~60min,使未结晶硫酸排出。
3. 晶层升温发汗,升温步长为1~5℃/ h,发汗时间为3~8h,升温至3~9℃。发汗结束后,继续升温,使晶体全部溶解即得到产品质量可至优级纯。
4. 将步骤(3),得到产品重复(1)到(3)操作,进行二次降膜结晶,可得到MOS级至BV-Ⅲ级电子级硫酸。
    发明人指出:本发明所用结晶器为带夹套降膜结晶器;二次降膜结晶母液可作为一次降膜结晶原料。 
    本方法使用的设备简单,生产时间较短,能耗较低,直接可制得MOS级至BV-Ⅲ级电子级硫酸,具有可观的经济效益。
具体实施方法
    实施例1:将硫酸晶种15g加入结晶器顶部,结晶器壁温降至0℃。取97%原料硫酸1500g置于带夹套玻璃容器中,用泵将硫酸原料打入结晶器中,原料流量为10ml/min。逐步降温结晶,降温步长2.5℃/h,结晶时间2h,到-5℃结束。恒温60min,使未挂膜结晶料液排出。升温发汗,发汗步长1℃/h,发汗时间8h,升温至3℃,继续升温结晶体全部融化,得到一次结晶产品。用一次结晶产品为原料,进行二次降膜结晶操作,得到最终电子级产品。最后得到产品中硫酸的质量分数为97.9%,收率33.4%。
    实施例2:将硫酸晶种20g加入结晶器顶部,结晶器壁温降至-10℃。取97.5%原料硫酸2000g置于带夹套玻璃容器中,用泵将硫酸原料打入结晶器中,原料流量为40ml/min。逐步降温结晶,降温步6℃/h,结晶时间1h,到-16℃结束。恒温10min,使未挂膜结晶料液排出。升温发汗,发汗步长5℃/h,发汗时间4h,升温至4℃,继续升温结晶体全部融化,得到一次结晶产品。用一次结晶产品为原料,进行二次降膜膜结晶操作,得到最终电子级产品。最后得到产品中硫酸的质量分数为98.3%,收率31.4%。
    实施例3:将硫酸晶种18g加入结晶器顶部,结晶器壁温降至-8℃。取97.3%原料硫酸1800g置于带夹套玻璃容器中,用泵将硫酸原料打入结晶器中,原料流量为30ml/min。逐步降温结晶,降温步1℃/h,结晶时间3h,到-11℃结束。恒温30min,使未挂膜结晶料液排出。升温发汗,发汗步长4℃/h,发汗时间5h,升温至9℃,继续升温结晶体全部融化,得到一次结晶产品。用一次结晶产品为原料,进行二次降膜膜结晶操作,得到最终电子级产品。最后得到产品中硫酸的质量分数为98.5%,收率30.2%。
产品检测结果见表1。
表1.电子级硫酸的指标要求及实例产品杂质含量
Figure 543179DEST_PATH_IMAGE002
注:ND表示未检出。

Claims (6)

1. 降膜结晶制备电子级硫酸的方法,其特征在于它包括以下步骤:
(1) 将硫酸晶种加至结晶器顶部,结晶器控制在0~‐10℃;用泵将硫酸原料从结晶器顶部加入,硫酸以液膜形式流下,使硫酸原料在结晶器与硫酸原料储槽间循环;
(2) 以逐步降温方式进行结晶,硫酸在结晶器壁形成晶层,未结晶原料硫酸从结晶器底部流出,结晶1~3h,降温至-5~-16℃,停止进料,恒温10~60min,使未结晶硫酸排出;
(3) 晶层升温发汗,发汗时间为4~8h,升温至3~9℃,发汗结束后,继续升温,使晶体全部溶解即得到产品,质量可至优级纯;
(4) 将步骤(3),得到产品重复(1)到(3)操作,进行二次降膜结晶,可得到MOS级至BV-Ⅲ级电子级硫酸。
2.如权利要求1所述的方法,其特征为步骤(1)的硫酸流量为10~40ml/min。
3.如权利要求1所述的方法,其特征为步骤(2)的降温步长为1~6℃/h。
4.如权利要求1所述的方法,其特征为步骤(4)的发汗升温步长为1~5℃/ h。
5.如权利要求1所述的方法,其特征为所述结晶器为带夹套降膜结晶器。
6.如权利要求1所述的方法,其特征为将二次降膜结晶母液作为一次降膜结晶原料。
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