CN103081013A - 光驱系统、光驱系统所用光盘盒、驱动装置及光驱系统的清洁方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种光驱系统,该光驱系统包括:光盘盒,具有规定收容能够旋转的记录介质的收容空间的壁部,该记录介质具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面;驱动装置,具备使记录介质在收容空间内旋转的旋转驱动部、将光照射到受光面的光学元件、使光学元件在光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动的移动驱动部。在壁部上,在外位置形成使收容空间内的空气通过随着记录介质的旋转而产生的气流排出的排气口。排气口通过光学元件的移动轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于第一面积的第二面积开口的第二开口区域。第二开口区域在记录介质的旋转方向上位于第一开口区域的上游。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学处理信息的光驱系统、收容保存被光学处理后的信息的记录介质的光盘盒(cartridge)、驱动光盘盒内的记录介质的驱动装置以及清洁光驱系统的方法。
背景技术
光学处理信息的技术对记录介质容量的增大做出很大的贡献。作为光学处理技术,开发出了利用近场光将信息记录到记录介质中的技术、或从记录介质再生信息的技术。如果将近场光利用于这些信息处理,则能够以高密度记录信息的记录介质的利用成为可能。
作为产生用于记录和/或再生信息的近场光的光学系统,例示固体浸没透镜(SIL:SolidImmersion Lens)(以下称为SIL)。SIL用于物镜部。
为了利用近场光记录和/或再生信息,开发了使SIL接近记录介质的技术。该接近技术使SIL接近记录介质,使得SIL与记录介质的距离为所利用的光的波长的1/2以下(例如,所利用的光的波长的大约1/10)。如果上述的光学系统在SIL与记录介质之间产生近场光,则高密度的记录和/或再生(例如,1以上的数值孔径(NA))成为可能。
利用近场光记录和/或再生信息的技术适用于光驱系统。光驱系统具备记录介质和物镜部。物镜部也可以包括聚光元件及其它光学元件。上述的SIL例如设置于聚光元件上。
聚光元件上的SIL的端面(以下称为SIL端面)与记录介质之间的间隙为了使近场光产生而需要被设定为足够短的距离(近场(near field))。如果将短波长的激光用于信息的记录和/或再生,则光驱系统需要被控制成SIL端面与记录介质之间的间隙大约为几十nm。
专利文献1公开了用双轴电磁致动器来控制SIL与记录介质表面之间的距离的光学控制技术。专利文献1的公开技术将盘基板用作记录介质。为了按照专利文献1的公开技术适当地控制SIL与盘基板表面之间的距离,需要盘基板表面具有高标准的平坦性,并且,需要充分降低因盘的旋转而引起的共振之类的振动成分。
光驱系统内漂浮的灰尘妨碍信息的记录和/或再生。如果光驱系统利用近场光,则灰尘成为特别重要的问题。例如,对于记录介质与SIL端面之间的间隙控制来说,不能忽视附着在SIL端面的灰尘。
作为附着在SIL端面的灰尘,例示空气中漂浮的灰尘或衣物的纤维。大部分灰尘在宽度或高度上大于记录介质与SIL端面之间的间隙的目标值。因此,附着在SIL端面的大的灰尘有时导致不能进行上述的间隙控制。
在制造对记录介质光学处理信息的光学头、组装有光学头的驱动装置或光驱系统时,某种程度上能够去除灰尘。然而,难以完全去除灰尘。
即使在制造工序后使用上述的装置时,也有时产生灰尘的附着。为了防止使用时的灰尘的附着,如硬盘驱动器那样将用作记录介质的盘和对盘进行驱动的驱动装置一体化,从而设计完全密封结构,这是行之有效的。然而,对于光驱系统,要求记录介质(光盘)的可移动性。因此,将记录介质密封及固定在光驱系统内并不理想。
在大多数情况下,光驱系统包括收容记录介质的光盘盒。光盘盒在某种程度上减轻灰尘的影响。然而,灰尘有时从形成于光盘盒的开口部进入。因此,从收容有记录介质的收容空间完全去除灰尘是非常困难的。
专利文献2公开了一种去除记录介质上的灰尘的介质清洁机构。介质清洁机构利用清洁带直接擦拭附着在记录介质表面的灰尘。
记录介质上的灰尘的去除降低灰尘的影响。然而,附着在SIL端面的灰尘大大地妨碍上述的间隙控制(参照专利文献1)。
专利文献2中除了介质清洁机构以外还公开了透镜清洁机构。透镜清洁机构使清洁带接触SIL,去除附着在SIL端面的灰尘。其结果,适当的间隙控制成为可能。
图42是以往的光驱系统所使用的驱动装置900的概要图。参照图42对驱动装置900进行说明。
驱动装置900具备光学头910、伺服控制系统920以及主轴马达930。光学头910和主轴马达930在伺服控制系统920的控制下动作。主轴马达930使用作记录介质的光盘950旋转。
光学头910具备:用作光源的激光二极管911(图42中,“LD”的表记是指激光二极管);两个准直透镜912、913;对从准直透镜912射出的激光进行整形的畸变透镜(AnamorphicLens)914;分束器915(图42中,“BS”的表记是指分束器);1/4波长板916(图42中,“QWP”的表记是指1/4波长板);用于校正色差的校正透镜917;用于使激光扩展的扩展透镜918;沃拉斯顿棱镜(Wollaston Prism)919;两个聚光透镜941、942;聚光元件943;两个光检测器(Photo Detector)944、945(图42中,“PD”的表记是指光检测器);自动功率控制器(Auto Power Controller)946(图42中,“APC”的表记是指自动功率控制器);以及LD驱动器947。
沃拉斯顿棱镜919由两个棱镜构成。射入沃拉斯顿棱镜919的光作为相互正交的两个直线偏振光被射出。用于再生记录于光盘950的信号的RF再生信号、伺服控制所需的跟踪误差信号以及间隙误差信号等的各种信号从光检测器944输出到伺服控制系统920。
伺服控制系统920具备间隙伺服模块921(聚焦伺服模块)、跟踪伺服模块922、倾斜伺服模块923以及主轴伺服模块924。跟踪伺服模块922根据跟踪误差信号执行聚光元件943的跟踪控制。倾斜伺服模块923控制聚光元件943的倾斜角。主轴伺服模块924控制主轴马达930的旋转。此外,间隙伺服模块921如后所述。
自动功率控制器946根据从光检测器945输出的信号,将指定的信号输出到LD驱动器947。LD驱动器947根据来自自动功率控制器946的信号,使激光二极管911射出的激光的功率恒定。
参照图42对驱动装置900的上述的光学系统的动作进行说明。
如图42所示,将用作记录介质的光盘950设置在驱动装置900中。之后,伺服控制系统920利用间隙伺服模块921、跟踪伺服模块922、倾斜伺服模块923以及主轴伺服模块924进行各种伺服控制。
激光二极管911向准直透镜912射出激光。准直透镜912使激光成为平行光。之后,畸变透镜914对平行光进行整形。
整形后的激光射入分束器915。分束器915将射入的激光分割为射入1/4波长板916的光和射入聚光透镜942的光。射入聚光透镜942的激光如上所述那样被自动功率控制器946所利用。自动功率控制器946基于接收到的激光,将信号输出到LD驱动器947,其结果,激光二极管911能够射出具有恒定功率的激光。
1/4波长板916使射入的激光从直线偏振光变为圆偏振光。之后,校正透镜917校正色差。激光在校正透镜917之后通过扩展透镜918和准直透镜913并射入聚光元件943。
聚光元件943将射入的激光向光盘950聚光,以产生近场光。其结果,信号被记录到光盘950。此外,由聚光元件943实现的近场光的生成如后所述。
通过向光盘950的聚光动作而产生的近场光也可以用于读取记录于光盘950的信号。近场光射入光盘950。光盘950反射或衍射近场光,形成反射光或衍射光(以下称为“返回光”)。聚光元件943接收返回光。返回光在聚光元件943之后通过准直透镜913、扩展透镜918、校正透镜917以及1/4波长板916而射入分束器915。分束器915使返回光向沃拉斯顿棱镜919全反射。之后,返回光通过沃拉斯顿棱镜919和聚光透镜941而射入光检测器944。光检测器944根据射入的返回光生成RF再生信号和伺服控制信号。伺服控制信号从光检测器944输出到伺服控制系统920。伺服控制系统920利用间隙伺服模块921、跟踪伺服模块922、倾斜伺服模块923以及主轴伺服模块924进行各种伺服控制。
图43是配置在光盘950附近的聚光元件943的概要放大图。参照图42和图43对聚光元件943进行说明。
聚光元件943与光盘950对置。聚光元件943具备SIL961和非球面透镜962。SIL961和非球面透镜962产生近场光。
聚光元件943还具备透镜架963。透镜架963收容SIL961和非球面透镜962。
SIL961具有与光盘950对置的SIL端面964。光盘950具有与SIL端面964对置的记录面951。近场光从SIL端面964照射到记录面951。
驱动装置900还具备安装于透镜架96的三轴致动器965。三轴致动器965被用作使聚光元件943接触或离开记录面951的离接机构的一部分。
在图42及图43中,三轴致动器965非常简要化。三轴致动器965例如由三轴方向的线圈或磁轭等要素形成。伺服控制系统920对三轴致动器965的各个线圈施加指定的伺服电压。其结果,在三轴致动器965的各个线圈中流过指定的电流,执行包括跟踪伺服和间隙伺服的聚焦伺服及倾斜伺服的控制。
图44是光盘950的周囲的驱动装置900的放大概要图。图45是与图44对应的驱动装置900的概要仰视图。参照图44和图45对驱动装置900进一步进行说明。
驱动装置900还具备清洁SIL961的透镜清洁机构970和接触光盘950的记录面951并清洁记录面951的盘清洁机构980。透镜清洁机构970接触SIL端面964。透镜清洁机构970与安装在主轴马达930的光盘950的外周边缘952相比,更远离光盘950的旋转轴RX。
图46(A)至图46(C)是透镜清洁机构970的概要图。参照图44至图46(C)对透镜清洁机构970进行说明。
如图46(A)至图46(C)所示,透镜清洁机构970可以是利用清洁带971清洁SIL961的清洁装置。透镜清洁机构970具备两个主轴972、973和规定清洁带971的行进路径的两个托辊(idler)974、975。随着主轴972、973的旋转,清洁带971在SIL961上行进。清洁带971由以不给SIL961造成损伤的程度充分柔软的树脂形成。
如图44和图45所示,聚光元件943向配置在光盘950之外的透镜清洁机构970移动。聚光元件943在透镜清洁机构970的下方上下移动。其结果,如图46(A)至图46(C)所示,SIL端面964接触或离开清洁带971。聚光元件943可以通过上述的三轴致动器965(例如,间隙伺服用线圈)上下移位。或者,也可以通过伺服系统以外的其它驱动机构(未图示),使聚光元件943上下移位。也可以取而代之,以不是聚光元件943而是透镜清洁机构970接近聚光元件943的方式设计透镜清洁机构970。
如图44和图45所示,盘清洁机构980具备与光盘950的记录面951对置的清洁构件981和支撑清洁构件981的支撑体982。支撑体982通过马达(未图示)上下移动。清洁构件981可以是长度与光盘950的半径大致相等的带体。清洁构件981例如由纤维或网状材料形成。理想的是,清洁构件981由拭镜纸等的材料形成。清洁构件981不损伤记录面951地接触记录面951来去除灰尘。
图47是在信号的记录和/或再生之前的驱动装置900的各种动作(例如清洁动作、初期倾斜调整动作、间隙伺服动作)的概要的流程图。参照图42、图44、图46(A)至图47对驱动装置900的动作进行说明。
(步骤S905)
驱动装置900的动作从步骤S905开始。在步骤S905中,聚光元件943移动到透镜清洁机构970的下方(参照图44)。如图46(A)和图46(B)所示,聚光元件943向上方移动。其结果,SIL961从SIL961离开清洁带971的离开位置移位到SIL961接触带的接触位置。如图46(B)所示,在SIL961移位到接触位置之后,清洁带971行进,去除附着在SIL端面964的灰尘。在清洁结束后,聚光元件943向下方移动。之后,聚光元件943返回到与光盘950的记录面951对置的位置,步骤S905结束。之后,开始步骤S906。
(步骤S910)
在步骤S910中,倾斜伺服模块923调整聚光元件943的倾斜角。之后,执行步骤S915。
(步骤S915)
在步骤S915中,间隙伺服模块921开始间隙伺服。之后,执行步骤S920。
(步骤S920)
在步骤S920中,主轴马达930使光盘950以低速旋转。之后,执行步骤S925。
(步骤S925)
在步骤S925中,间隙伺服模块921对光盘950旋转一周时间隙误差超过指定的阈值的次数进行计数。如果计数得到的数值低于指定的值(N),则执行步骤S930。在其它情况下,执行步骤S945。
(步骤S930)
在步骤S930中,主轴马达930使光盘950以指定的转速旋转。之后,执行步骤S935。
(步骤S935)
在步骤S935中,间隙伺服模块921判定间隙误差的绝对值是否低于指定的阈值。如果间隙误差的绝对值低于指定的阈值,则执行步骤S940。在其它情况下,驱动装置900停止动作。
(步骤S940)
在步骤S900中,驱动装置900对光盘950记录信号。或者,驱动装置900从光盘950再生信号。之后,驱动装置900结束动作。
(步骤S945)
在步骤S945中,主轴马达930停止光盘950的旋转。之后,执行步骤S950。
(步骤S950)
在步骤S950中,盘清洁机构980清洁光盘950的记录面951。之后,执行步骤S955。
(步骤S955)
在步骤S955中,聚光元件943向上方移位。其结果,SIL961接触光盘950的记录面951。之后,执行步骤S960。
(步骤S960)
在步骤S960中,伺服控制系统920判定被分束器915全反射的返回光量是否低于指定的阈值。如果被分束器915全反射的返回光量低于指定的阈值,则再次执行步骤S915。在其它情况下,再次执行步骤S905。
在步骤S905中,清洁带971直接接触SIL端面964,去除附着在SIL端面964的灰尘。灰尘由清洁带971擦拭,其结果附着在清洁带971。附着在清洁带971上的灰尘有时再次附着在SIL端面964。
图46(A)至图46(C)所示的透镜清洁机构970卷绕清洁带971。因此,接触SIL端面964的清洁带971的面处于未使用的状态。然而,清洁带971的卷绕工序的结果,能够擦拭SIL端面964的次数大幅减少。除此之外,使用清洁带971的擦拭机构和带的卷绕机构使组合驱动装置900的光驱系统大型化。
专利文献1:日本特开2004-30821号公报
专利文献2:日本特开2007-12126号公报
发明内容
本发明提供一种能够适当地去除灰尘的技术。
本发明的一方面所涉及的光驱系统包括:光盘盒,具有规定收容能够旋转的记录介质的收容空间的壁部,该记录介质具有利用用来光学处理信息的光而被扫描的受光面;驱动装置,具有使所述记录介质在所述收容空间内旋转的旋转驱动部、将所述光照射到所述受光面的光学元件、使所述光学元件在该光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动的移动驱动部。在所述壁部,在所述外位置形成使所述收容空间内的空气通过随着所述记录介质的旋转而产生的气流排出的排气口。该排气口通过所述光学元件的移动轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于所述第一面积的第二面积开口的第二开口区域。所述第二开口区域在所述记录介质的旋转方向上位于所述第一开口区域的上游。
本发明的其它方面所涉及的光盘盒规定收容具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面的能够旋转的记录介质的收容空间。光盘盒包括壁部,在该壁部形成偏离所述记录介质的旋转轴的排气口,以使所述光盘盒内的空气通过随着所述记录介质的旋转而产生的气流排出。所述排气口通过所述光的扫描轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于所述第一面积的第二面积开口的第二开口区域。所述第二开口区域在所述记录介质的旋转方向上位于所述第一开口区域的上游。
本发明的其它方面所涉及的驱动装置包括:使具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面的记录介质旋转的旋转驱动部;将光照射到受光面的光学元件;使所述光学元件在该光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动的移动驱动部;保持所述光学元件的保持部;以及一边弹性地支撑该保持部,一边在所述记录介质的聚焦方向和跟踪方向上驱动所述保持部的致动器。该致动器使所述光学元件在所述外位置接近沿着所述受光面的平面。
本发明的其它方面所涉及的清洁光驱系统的方法包括:使所述记录介质旋转的步骤;使所述光学元件从所述内位置向所述外位置移动的步骤;以及使所述光学元件接近沿着所述受光面的平面,以使所述光学元件暴露于随着所述记录介质的旋转而产生的气流中的步骤。
本发明的其它方面所涉及的清洁光驱系统方法包括:使所述第一遮闭部移动到所述关闭位置的步骤;以及使所述记录介质旋转的步骤。
本发明能够适当地去除灰尘。
本发明的目的、特征及优点通过以下的详细说明和附图将更为清楚。
附图说明
图1是组合到光驱系统的例示的光学头的概要图。
图2是图1所示的光学头的全息元件的概要图。
图3是图1所示的光学头的光检测器的概要图。
图4是图1所示的光学头的柱面透镜的概要图。
图5是图3所示的光检测器的4分割受光区域的概要图。
图6是第一实施方式的光驱系统的概要图。
图7是表示相对于间隙的全反射返回光量的概要的图表。
图8(A)是图6所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图8(B)是图8(A)所示的光盘盒的概要仰视图。
图9是图8(A)所示的光盘盒的周围的光驱系统的概要的放大剖视图。
图10(A)是图8(A)所示的光盘盒的概要平面图。
图10(B)是图8(B)所示的光盘盒的概要仰视图。
图11是图8(A)所示的光盘盒的周围的光驱系统的概要的放大剖视图。
图12是沿着图10(A)所示的A-A线的光盘盒的概要剖视图。
图13是表示针对在外位置从开口部吹出的空气的流速的例示的运算结果的照片。
图14是第二实施方式的光驱系统的概要图。
图15是图14所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图16是沿着图15所示的A-A线的光盘盒的概要剖视图。
图17是对图14所示的光驱系统的SIL端面的清洁方法的概要的流程图。
图18是第三实施方式的光驱系统的概要图。
图19是图18所示的光驱系统的光学头的概要图。
图20是图18所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图21是第四实施方式的光驱系统的概要图。
图22(A)是图21所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图22(B)是图22(A)所示的光盘盒的概要仰视图。
图23是图22(A)所示的光盘盒的周围的光驱系统的概要的放大剖视图。
图24是第五实施方式的光驱系统的概要图。
图25(A)是图24所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图25(B)是图25(A)所示的光盘盒的概要仰视图。
图26是图25(A)所示的光盘盒的周围的光驱系统的概要的放大剖视图。
图27是第六实施方式的光驱系统的概要图。
图28(A)是图27所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图28(B)是图28(A)所示的光盘盒的概要仰视图。
图29是图28(A)所示的光盘盒的周围的光驱系统的概要的放大剖视图。
图30是第七实施方式的光驱系统的概要图。
图31是第八实施方式的光驱系统的概要图。
图32是图31所示的光驱系统的遮闭(shutter)机构的概要仰视图。
图33是图32所示的遮闭机构的概要仰视图。
图34是第九实施方式的光驱系统的概要剖视图。
图35是图34所示的光驱系统的遮闭机构的概要仰视图。
图36是图35所示的遮闭机构的概要仰视图。
图37是第十实施方式的光驱系统的概要剖视图。
图38(A)是图37所示的光驱系统的光盘盒的概要平面图。
图38(B)是图38(A)所示的光盘盒的概要仰视图。
图39是第十一实施方式的光驱系统的概要图。
图40是图39所示的光驱系统的等离子体装置的概要图。
图41是图39所示的光驱系统的光盘盒的概要图。
图42是以往的光驱系统所使用的驱动装置的概要图。
图43是图42所示的驱动装置的聚光元件的概要放大图。
图44是图42所示的驱动装置的放大概要图。
图45是图44所示的驱动装置的概要仰视图。
图46(A)是以往的透镜清洁机构的概要图。
图46(B)是以往的透镜清洁机构的概要图。
图46(C)是以往的透镜清洁机构的概要图。
图47是图42所示的驱动装置的各种动作的概要流程图。
具体实施方式
以下,参照附图对与例示的光驱系统相关的各种特征进行说明。此外,在以下说明的实施方式中,对相同的构成要素赋予相同的符号。另外,为了说明的简明化,根据需要省略重复的说明。附图所示的结构、配置或形状及有关附图的记载仅以使本实施方式的原理容易理解为目的。因此,本实施方式的原理并不仅限于此。
(共同的特征)
图1是组合到光驱系统的例示的光学头100的概要图。参照图1对光学头100进行说明。此外,光学头100可以通用于以下各种实施方式的光驱系统。
光学头100包括半导体激光器110、中继透镜(relay lens)120、分束器130、准直透镜140、物镜单元150、致动器160、全息元件170、柱面透镜(cylindrical lens)180以及光检测器190。半导体激光器110作为光源发挥功能,向中继透镜120射出激光。激光通过中继透镜120并射入分束器130。分束器130向准直透镜140反射激光。之后,激光通过准直透镜140而到达物镜单元150。
图1局部示出能够旋转的光盘200。光盘200收容在光盘盒内,图1没有示出光盘盒。光盘盒的各种特征后述。在本实施方式中,光盘200作为记录介质被例示。
到达物镜单元150的激光之后向光盘200射出。光盘200反射或衍射激光。在以下的说明中,反射或衍射的激光被称为“返回光”。
返回光通过物镜单元150及准直透镜140再次射入分束器130。分束器130允许返回光的通过,因此返回光通过全息元件170及柱面透镜180,最终到达光检测器190。
物镜单元150与光盘200对置。物镜单元150具备SIL151和非球面透镜152。被分束器130反射的激光通过非球面透镜152到达SIL151。返回光通过SIL151到达非球面透镜152。在本实施方式中,SIL151及非球面透镜152作为光元件被例示。
物镜单元150还具备保持SIL151及非球面透镜152的透镜架153。SIL151及非球面透镜152收容在透镜架153。在本实施方式中,透镜架153作为保持部被例示。
SIL151具有与光盘200对置的SIL端面154。光盘200具有与SIL端面154对置的记录面210。记录面210接收从SIL端面154射出的光。来自记录面210的反射光通过SIL151。信息在SIL端面154与记录面210之间被光学处理。作为光学信息处理,例示对记录面210的信号记录或从记录面210的信号再生。在本实施方式中,记录面210作为受光面被例示。
如上所述,半导体激光器110被用作光源。半导体激光器110向中继透镜120射出激光。中继透镜120在半导体激光器110与中继透镜120之间微调整焦距。透过中继透镜120的激光通过分束器130向准直透镜140反射。准直透镜140将激光变换为平行光束。之后,平行光束射入物镜单元150。
射入物镜单元150的激光通过非球面透镜152和SIL151向光盘200的记录面210聚光,从而成为近场光。光学头100可以利用近场光将信号记录在光盘200的记录面210中。取而代之,光学头100也可以利用近场光读取记录在记录面210中的信号。被记录面210反射的近场光成为上述的返回光。返回光射入物镜单元150。利用返回光再生记录在记录面210中的信号。
致动器160在聚焦方向(光轴方向)和跟踪方向(径向)上驱动物镜单元150。致动器160能够使物镜单元150在聚焦方向上移动来适当地调整记录面210与SIL端面154之间的距离。致动器160能够使物镜单元150在跟踪方向上移动以利用由SIL151产生的近场光扫描记录面210。其结果,能够在整个记录面210中记录和/或再生信号。
来自光盘200的记录面210的返回光通过物镜单元150及准直透镜140,并射入分束器130。分束器130允许返回光的透过。
透过分束器130的返回光射入全息元件170。全息元件170按照单光束法(APP法)生成跟踪误差信号。
透过全息元件170的返回光到达柱面透镜180。透过柱面透镜180的返回光之后射入光检测器190。
图2是全息元件170的概要图。参照图1及图2对全息元件170进行说明。
在图2的全息元件170中描绘的实线概概略地表示全息元件170的分割图案。在图2的全息元件170中描绘的虚线概略地表示通过全息元件170的激光的形状(截面)。
全息元件170被分割为中央的主光束区域171、分别配置在主光束区域171左右的APP主区域172、173、位于APP主区域172的上方及下方的两个APP副区域174以及位于APP主区域173的上方及下方的两个APP副区域175。被光盘200的记录面210衍射的±1级光和0级光的干涉光射入APP主区域172、173。APP副区域174、175中只射入0级光。
图3是光检测器190的概要图。参照图1至图3对全息元件170与光检测器190的关系进行说明。
光检测器190具有与全息元件170对置的受光面191。受光面191包含4分割受光区域192、APP主受光部193、194以及APP副受光部195、196。通过了全息元件170的主光束区域171的激光射入4分割受光区域192。在以下的说明中,通过了主光束区域171的激光被称为“主光束MB”。通过了APP主区域172、173的激光分别射入APP主受光部193、194。在以下的说明中,通过了APP主区域172、173的激光被称为“APP主光束AMB”。通过了APP副区域174、175的激光射入APP副受光部195、196。通过了APP副区域174、175的激光在以下的设置中被称为“APP副光束ASB”。
4分割受光区域192包括:第一区域101;位于第一区域101右侧的第二区域102;位于第一区域101下方的第三区域103;以及位于第二区域102下方的第四区域104。基于如下两个和信号之差生成聚焦错误信号,即,根据在第一区域101中检测出的光生成的信号与根据在第四区域104中检测出的光生成的信号的和信号;根据在第二区域102中检测出的光生成的信号与根据在第三区域103中检测出的光生成的信号的和信号。基于如下信号的总和生成RF信号:根据在第一区域101中检测出的光生成的信号;根据在第二区域102中检测出的光生成的信号;根据在第三区域103中检测出的光生成的信号;根据在第四区域104中检测出的光生成的信号。
基于根据在APP主受光部193、194中分别检测出的光生成的信号之差生成所谓的推挽信号。通过使用了推挽信号和根据在APP副受光部195、196中分别检测出的光生成的信号的规定的运算,生成所谓的按照APP法(高级推挽法(Advanced Push-Pull method))的跟踪误差信号。在利用跟踪误差信号的跟踪伺服控制下,物镜单元150对光盘200的记录面210的轨道进行跟踪。
图4是柱面透镜180的概要图。参照图3和图4对柱面透镜180进行说明。
柱面透镜180包括与准直透镜140对置的凹透面181以及与凹透镜面181相反侧的圆柱面182。圆柱面182在与光轴垂直的面内产生由前侧焦线和后侧焦线规定的像散差。柱面透镜180在前侧焦线和后侧焦线之间形成焦点。圆柱面182相对于光检测器190的4分割受光区域192倾斜大约45度。
图5是4分割受光区域192的概要图。参照图1、图3至图5对4分割受光区域192进行说明。
定位光检测器190,使4分割受光区域192与焦点位置一致。如果4分割受光区域192与焦点位置一致,则如图5所示那样4分割受光区域192上的主光束MB呈大致圆形。
如果因光盘200的旋转而使记录面210在聚焦方向上振动,则记录面210与物镜单元150之间的相对距离发生变动。作为记录面210与物镜单元150之间的相对距离变动的结果,4分割受光区域192有时会与前侧焦线或后侧焦线一致。如果4分割受光区域192与前侧焦线一致,则如图5所示那样主光束MB呈在第一区域101与第四区域104之间延伸的大致椭圆形。如果4分割受光区域192与后侧焦线一致,则如图5所示那样主光束MB呈在第二区域102与第三区域103之间延伸的大致椭圆形。
(第一实施方式)
图6是光驱系统300的概要图。使用图1、图3和图6对光驱系统300进行说明。
光驱系统300包括:具有规定收容光盘200的收容空间411的壁部410的光盘盒400;以及在收容空间411中驱动光盘200的驱动装置500。驱动装置500使光盘200在收容空间411内旋转。此外,驱动装置500对在收容空间411内旋转的光盘200进行信号的记录或信号的再生等的光学信息处理。
光盘盒400具备卡盘(chuck)430和转盘(turntable)420。光盘200被卡盘430和转盘420夹持。
驱动装置500除了具备上述的光学头100以外,还具备主轴马达510。主轴马达510连接于转盘420,使转盘420旋转。其结果,光盘200在收容空间411内旋转。在本实施方式中,主轴马达510作为旋转驱动部被例示。取而代之,也可以将使光盘200旋转的其它装置用作旋转驱动部。
驱动装置500还具备使光学头100在跟踪方向上移动的横动(traverse)装置520。光学头100安装于横动装置520。横动装置520使光学头100在如下位置之间移动,即光学头100在由主轴马达510规定的旋转轴RX的附近与光盘200的记录面210对置的内位置;光学头100在比内位置更远离旋转轴RX的位置与记录面210对置的外位置。其结果,记录面210上的光(从光学头100射出的光)点在内位置和外位置之间移动。在本实施方式中,横动装置520作为移动驱动部被例示。取而代之,也可以将能够使光学头100在内位置与外位置之间移动的其它装置用作移动驱动部。
驱动装置500还具备控制电路530、信号处理电路540以及输入输出电路(以下称为“IO电路550”)。如上所述,光学头100根据来自光盘200的返回光生成各种信号。光学头100将所生成的信号输出到控制电路530。控制电路530根据来自光学头100的信号,执行聚焦控制、跟踪控制、横动控制或对主轴马达510的旋转控制等的各种控制。这些控制可以是在已公知的光学信息处理技术中使用的控制。光学头100根据来自光盘200的返回光生成再生信号。再生信号通过控制电路530被输出到信号处理电路540。信号处理电路540根据再生信号再生信息。包含由信号处理电路540再生的信息的信号被输出到IO电路550。这些再生处理可以是在已公知的光学处理技术中使用的再生技术。IO电路550也可以从外部装置(图未示)接收包含记录在光盘200中的信息的信号。输入到IO电路550的信号通过信号处理电路540及控制电路530被输出到光学头100。光学头100也可以根据输入到IO电路550的信号,将信息写入光盘200中。这些写入技术也可以是在已公知的光学处理技术中使用的记录技术。
光盘盒400的壁部410包括:形成有从外位置延伸到内位置的开口部412的下壁413;与下壁413对置的上壁414;以及连接于下壁413的外周边缘和上壁414的外周边缘的周壁415。如果光盘200旋转,则收容空间411内产生气流。收容空间411内的空气通过收容空间411内的气流在外位置的周围从开口部412排出。因此,外位置的周围的开口部412的区域作为排气口而发挥作用。另外,通过开口部412的排气技术后述。在本实施方式中,下壁413作为第一壁被例示。上壁414作为第二壁被例示。
光盘盒400收容光盘200。在信号的记录或信号的再生等的处理期间,物镜单元150的一部分(例如,SIL151或透镜架153)通过开口部412被插入收容空间411内。
光驱系统300利用近场光进行信号的记录或信号的再生等的光学信息处理。因此,光驱系统300需要适当地控制物镜单元150,使SIL端面154与记录面210之间的距离成为产生近场的距离(near field)。一般来说,随着激光的短波长化,SIL端面与记录面之间的距离(GAP、间隙)需要设定为大约几十nm。在本实施方式中,SIL端面154与记录面210之间的距离(间隙)设定为20nm至30nm。光学头100生成用于检测SIL端面154与记录面210之间的距离(间隙)的间隙检测信号。控制电路530利用间隙检测信号进行使SIL端面154与记录面210之间的距离(间隙)保持恒定的间隙控制。
如上所述,光检测器190的4分割受光区域192接收SIL端面154反射的光。如果控制电路530控制光学头100使得4分割受光区域192所接收到的光量的总和(全反射返回光量)恒定,则SIL端面154与记录面210之间的距离大致保持恒定。
图7是表示相对于间隙的全反射返回光量的概要的图。参照图1、图6和图7对例示的间隙控制进行说明。此外,在图7的图的上方示出了4分割受光区域192上的光(来自SIL端面154的反射光)的光点形状。
一般来说,100nm以上的间隙称为“远场的状态”。低于100nm的间隙称为“近场的状态”。利用这些术语对间隙控制进行说明。另外,这些术语的定义对本实施方式的原理不做任何限定。
如果SIL端面154与记录面210之间的关系为远场的状态,则与在SIL端面154光被全反射的区域(全反射区域)对应的光束射入4分割受光区域192。因此,在4分割受光区域192上,得到环状的光分布。如果SIL端面154接触记录面210,则SIL端面154的全反射区域的反射消失。其结果,来自SIL端面154的反射光量大幅下降,大约为0mV。此外,SIL151和光盘200表面的覆盖层(厚度:约1μm)的折射率都被设定为大约2。
在本实施方式中,控制电路530控制致动器160,使物镜单元150在聚焦方向上移位,以便获得大约150mV的全反射返回光量。其结果,获得大约25nm的间隙。此外,间隙控制依赖于光检测器190的受光面191的增益设定。因此,上述的各种数值对本实施方式的原理不做任何限定。
对物镜单元150的聚焦伺服可以基于已公知的技术。例如,可以控制非球面透镜152与SIL151的相对位置关系。取而代之,也可以使准直透镜140在光轴方向上移位。
图8(A)是光盘盒400的概要平面图。图8(B)是光盘盒400的概要仰视图。图9是光盘盒400周围的光驱系统300的概要的放大剖视图。使用图1、图6、图8(A)至图9对光驱系统300进行说明。
如上所述,光盘盒400收容光盘200。因此,光盘200上难以附着灰尘。在本实施方式中,光盘盒400不仅使光盘200难以附着灰尘,也使SIL端面154难以附着灰尘。
光盘200设置在转盘420上。之后,卡盘430夹持转盘420上的光盘200。例如,卡盘430及转盘420例如可以利用磁铁的磁力来磁性夹持光盘200。
光盘200随着连接于转盘420的主轴马达510的旋转而旋转。图8(A)和图8(B)中的箭头表示光盘200的旋转。图9中的箭头表示主轴马达510的旋转。在本实施方式中,光盘200顺时针方向旋转。取而代之,光盘200也可以逆时针方向旋转。
如图1所示,非球面透镜152及SIL151被透镜架153保持。透镜架153通过弹性构件(例如,悬浮)由致动器160支撑。此外,透镜架153的支撑结构可以基于已公知的支撑技术。由于透镜架153被安装在致动器160,因此透镜架153能够在跟踪方向(径向)及聚焦方向上移位。
如图6所示,光学头100被安装在横动装置520上。横动装置520使光学头100在内位置与外位置之间移动。此外,在光学头100在内位置与外位置之间移动的期间,透镜架153的一部分及SIL151通过开口部412被插入收容空间411内。
在光学头100位于内位置时,SIL端面154与光盘200的记录面210对置。在光学头100位于外位置时,SIL端面154位于光盘200的外周边缘211的正下方。
图10(A)是光盘盒400的概要平面图。图10(B)是光盘盒400的概要仰视图。图11是光盘盒400周围的光驱系统300的概要的放大剖视图。图10(A)对应于图8(A)。图10(B)对应于图8(B)。图11对应于图9。参照图10(A)至图11对光盘盒400内的空气的流动进行说明。此外,与图9不同,在图11中为了清楚地表示空气的流动,没有示出透镜架153或SIL151等的光学头100的部件。
图10(A)概略地示出在光盘200的上表面与光盘盒400的上壁414之间产生的旋流WF(swirling flow)。随着光盘200旋转,在光盘200的上表面与光盘盒400的上壁414之间产生在光盘200的旋转方向上旋转的旋流WF。如果光盘200的转速提高,则旋流WF的速度也提高。旋流WF的速度随着离开光盘200的旋转轴RX而增大。由于旋转轴RX周围的旋流WF的速度低,且光盘200的外周边缘211附近的旋流WF的速度高,因此在收容空间411内产生从旋转轴RX向光盘盒400的周壁415增加的压力分布。以光盘200的外周边缘211附近的压力比旋转轴RX周围的压力高的方式,在光盘200的上表面与光盘盒400的上壁414之间产生的旋流WF从旋转轴RX趋向光盘盒400的周壁415。
图10(B)概略地示出光盘200的下表面(记录面210)与光盘盒400的下壁413之间产生的旋流WF。随着光盘200旋转,在光盘200的下表面与光盘盒400的下壁413之间产生在光盘200的旋转方向上旋转的旋流WF。如果光盘200的转速提高,则旋流WF的速度也提高。旋流WF的速度随着离开光盘200的旋转轴RX而增大。由于旋转轴RX周围的旋流WF的速度低,且光盘200的外周边缘211附近的旋流WF的速度高,因此在收容空间411内产生从旋转轴RX向光盘盒400的周壁415增加的压力分布。以光盘200的外周边缘211附近的压力比旋转轴RX周围的压力高的方式,光盘200的下表面与光盘盒400的下壁413之间产生的旋流WF从旋转轴RX趋向光盘盒400的周壁415。
如图11所示,在光盘盒400的下壁413上,除了开口部412以外,还形成有中心孔416。中心孔416设计成比转盘420大,以便容许转盘420的旋转。因此,在转盘420的周围产生空隙。如上所述,由于旋转轴RX的周围的压力低,因此光盘盒400外部的空气通过转盘420的周围的空隙被吸入收容空间411内。其结果,旋流WF增强。因此,趋向光盘盒400的周壁415的旋流WF的速度增加。由于旋转轴RX的周围的低的压力,空气也从存在于接近旋转轴RX的内位置的周围的开口部412的区域流入收容空间411内。
如上所述,在光盘200的上表面与光盘盒400的上壁414之间产生的旋流WF以及在光盘200的下表面与光盘盒400的下壁413之间产生的旋流WF流向光盘盒400的周壁415。另外,在转盘420周围的空隙以及内位置周围的开口部412的区域空气被吸入收容空间411内。其结果,收容空间411内的空气通过外位置周围的开口部412的区域被排出。此外,从转盘420周围的空隙吸入的空气量和在内位置周围的开口部412的区域吸入的空气量的总和与通过外位置周围的开口部412的区域被排出的空气量大致一致。
图12是沿着图10(A)所示的A-A线的光盘盒的概要剖视图。参照图10(A)和图12对从开口部412吹出的空气的流动进行说明。
从开口部412向下的箭头是从开口部412吹出的空气的流速矢量。箭头的长度表示从开口部412吹出的空气的流速的大小。在A-A剖面中,空气相对于SIL端面154倾斜撞击。如果箭头长,则附着在SIL端面154的灰尘被有效地去除。尤其是如果流速矢量的垂直成分大,则SIL端面154的灰尘以非接触式被有效地去除。
图13表示对在外位置从开口部吹出的空气的流速的例示的运算结果。使用图11至图13对从开口部412吹出的空气的流动进一步进行说明。
如果光盘200以6000rpm旋转,则从开口部412吹出的空气的流速在垂直方向上大约5m/sec。趋向开口部412的空气直接吹至SIL端面154,因此附着在SIL端面154的灰尘以非接触式被去除。因此,上述的间隙控制得以稳定化。其结果,光驱系统300的可靠性提高。本实施方式的灰尘去除原理不要求接触式的透镜清洁机构。因此,允许光驱系统300的小型设计。
图13所示的运算结果是例示性的。从开口部412吹出的空气流速的运算结果(空气的流速矢量的大小)不仅依赖于光盘200的转速,还依赖于光盘200与光盘盒400的上壁414之间的空气层的厚度、光盘200与光盘盒400的下壁413之间的空气层的厚度、光盘200的直径、光盘200的外周边缘211与光盘盒400的周壁415之间的距离、开口部412的面积、开口部412的位置或转盘420周围的间隙大小。
在图13所示的运算结果中,光盘200与光盘盒400的上壁414之间的空气层的厚度以及光盘200与光盘盒400的下壁413之间的空气层的厚度被设计成大约1mm。转盘420周围的间隙的宽度也被设计成大约1mm。光盘200的直径被设计成120mm。此时,光盘盒400的外形尺寸被设计成70mm×70mm。开口部412被设计成从距旋转轴RX(光盘盒400的中心点)18mm的位置延伸到距旋转轴RX65mm的位置(径向)。开口部412的宽度(切向)被设计成10mm(相对于光盘200的中心对称)。
在图13所示的运算结果中,光盘200顺时针方向旋转。即使光盘200的旋转方向为逆时针,也能够得到同样的运算结果。
(第二实施方式)
图14是第二实施方式的光驱系统300A的概要图。参照图6和图14对光驱系统300A进行说明。另外,在图14中,对与在第一实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300A除了具备在第一实施方式中关联说明的驱动装置500以外,还具备光盘盒400A。光盘盒400A除了具备在第一实施方式中关联说明的卡盘430及转盘420以外,还具备壁部410A。壁部410A除了具有在第一实施方式中关联说明的上壁414及周壁415以外,还具有局部封闭收容空间411的下壁413A。在下壁413A上除了形成在第一实施方式中关联说明的中心孔416之外,还形成开口部412A。
图15是光盘盒400A的概要平面图。参照图14和图15对光盘盒400A进行说明。
图15示出开口部412A中的SIL151的移动轨迹T(即,来自SIL151的光在记录面210上的扫描轨迹)。横动装置520使SIL151沿着开口部412A(即,沿着移动轨迹T)移动。在此期间,可以进行对光盘200的记录面210的光学信息处理。
开口部412A用虚线概括地划分为外位置附近的区域OA和内位置附近的区域IA。收容空间411中的空气主要通过区域OA被排出。区域OA通过移动轨迹T被概括地划分为上游区域UA和下游区域DA。在光盘200的旋转方向上,上游区域UA位于下游区域DA的上游。以使上游区域UA大于下游区域DA的方式形成开口部412A。在本实施方式中,下游区域DA作为第一开口区域被例示。上游区域UA作为第二开口区域被例示。下游区域DA的开口面积作为第一面积被例示。上游区域UA的开口面积作为第二面积被例示。
图16是沿着图15所示的A-A线的光盘盒400A的概要剖视图。参照图15和图16对从开口部412A吹出的空气进行说明。
如上所述,上游区域UA比下游区域DA大。因此,与第一实施方式相比,吹至SIL端面154的空气的流速变大。其结果,附着在SIL端面154的灰尘以非接触式被有效地去除。
图17是对SIL端面154的清洁方法的概要的流程图。参照图1、图14至图17说明对SIL端面154的清洁方法。
(步骤S110)
对SIL端面154的清洁方法从步骤S110开始。在步骤S110中,光盘200在收容空间411内旋转。之后,执行步骤S120。
(步骤S120)
在步骤S120中,控制电路530控制横动装置520,使SIL151从内位置向外位置移动。之后,执行步骤S130。
(步骤S130)
在步骤S130中,控制电路530控制致动器160,调整从记录面210或记录面210的延长面到SIL端面154的距离。例如,致动器160可以使SIL151在聚焦方向上移动,与步骤S120相比使SIL端面154更接近记录面210。其结果,SIL端面154被从开口部412A吹出的空气的气流强烈地吹打。在本实施方式中,记录面210及记录面210的延长面作为沿着受光面的平面被例示。
(第三实施方式)
图18是第三实施方式的光驱系统300B的概要图。参照图6和图18对光驱系统300B进行说明。此外,在图18中,对与在第一实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300B除了具备在第一实施方式中关联说明的驱动装置400以外,还具备驱动装置500B。驱动装置500B除了具备在第一实施方式中关联说明的横动装置520、控制电路530、信号处理电路540以及IO电路550以外,还具备光学头100B。
图19是光学头100B的概要图。参照图1和图19对光学头100B进行说明。
光学头100B与第一实施方式同样具备:半导体激光器110、中继透镜120、分束器130、准直透镜140、物镜单元150、全息元件170、柱面透镜180以及光检测器190。光学头100B还具备安装在透镜架153的弹性的支撑结构165、以及通过支撑结构165与透镜架153连接的致动器160B。致动器160B通过支撑结构165使由透镜架153支撑的SIL151及非球面透镜152在聚焦方向及跟踪方向(径向)上移动。
图20是光盘盒400A的概要平面图。参照图20对开口部412内的SIL151的移动进行说明。
图20中示出开口部412的中心线CL。中心线CL从光盘200的旋转轴RX在半径方向上延伸。图20中示出SIL151的移动轨迹T。支撑结构165保持透镜架153,使移动轨迹T在光盘200的旋转方向上相对于中心线CL向下游偏离。
在图20中,开口部412被虚线概括地划分为外位置附近的区域OA和内位置附近的区域IA。收容空间411中的空气主要通过区域OA被排出。与第二实施方式同样,OA区域通过移动轨迹T被概括地划分为上游区域UA和下游区域DA。上游区域UA位于下游区域DA的上游。由于移动轨迹T偏离中心线CL,因此上游区域UA大于下游区域DA。因此,附着在SIL端面154的灰尘被有效地去除。
在本实施方式中,透镜架153的保持位置偏离中心线CL。取而代之,也可以是光学头自身在切向上移动。
(第四实施方式)
图21是第四实施方式的光驱系统300C的概要图。参照图6和图21对光驱系统300C进行说明。此外,在图21中,对与在第一实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300C除了具备在第一实施方式中关联说明的驱动装置500以外,还具备光盘盒400C。光盘盒400C除了具备在第一实施方式中关联说明的卡盘430及转盘420以外,还具备壁部410C。壁部410C除了具有在第一实施方式中关联说明的上壁414及周壁415以外,还具有局部封闭收容空间411的下壁413C。在下壁413C上除了形成在第一实施方式中关联说明的开口部412及中心孔416以外,还形成排气口417。从内位置在半径方向上延伸的开口部412专门用于对记录面210的扫描。因此,横动装置520使SIL151沿着开口部412移动。比开口部412更远离旋转轴RX而形成的排气口417用于SIL端面154的清洁。在本实施方式中,排气口417的形成位置作为外位置被例示。
图22(A)是光盘盒400C的概要平面图。图22(B)是光盘盒400C的概要仰视图。图23是光盘盒400C周围的光驱系统300C的概要的放大剖视图。参照图1、图21至图23对光驱系统300C进行说明。
图22(A)中示出SIL151的移动轨迹T。开口部412形成相对于移动轨迹T线对称,另一方面,排气口417相对于移动轨迹T非对称。排气口417通过移动轨迹T被概括地划分为上游区域UAC和下游区域DAC。在光盘200的旋转方向上,上游区域UAC位于下游区域DAC的上游。以使上游区域UAC大于下游区域DAC的方式形成排气口417。在本实施方式中,下游区域DAC作为第一开口区域被例示。上游区域UAC作为第二开口区域被例示。下游区域DAC的开口面积作为第一面积被例示。上游区域UAC的开口面积作为第二面积被例示。
图22(B)中示出处于开口部412的内端的SIL151、处于开口部412外端的SIL151以及配置在排气口417的SIL151。横动装置520能够使SIL151从开口部412的内端移动到排气口417。横动装置520也可以使SIL151在开口部412的内端与外端之间移动,光学扫描记录面210。配置在开口部412的外端的SIL151位于光盘200的外周边缘211的正下方。控制电路530可以控制致动器160,使SIL151向下方移动。其结果,SIL151从开口部412被拉出。之后,横动装置520能够使SIL151向外方移动。当SIL151到达排气口417时,控制电路530可以控制致动器160,将SIL151插入到排气口417。
由于排气口417比开口部412的外端更远离旋转轴RX,因此,通过排气口417从收容空间411排出的空气量比从开口部412的外端区域排出的空气量多。因此,与第一实施方式相比,从收容空间411排出的空气更强烈地吹到SIL端面154。因此,光驱系统300C具有高可靠性。
在本实施方式中,排气口417相对于移动轨迹T非对称。取而代之,排气口417也可以相对于移动轨迹T对称。
(第五实施方式)
图24是第五实施方式的光驱系统300D的概要图。参照图6和图24对光驱系统300D进行说明。此外,在图24中,对与在第一实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300D除了具备在第一实施方式中关联说明的驱动装置500以外,还具备光盘盒400D。光盘盒400D除了具备在第一实施方式中关联说明的卡盘430及转盘420以外,还具备壁部410D。壁部410D除了具有在第一实施方式中关联说明的下壁413及周壁415以外,还具由与下壁413对置的上壁414D。
与第一实施方式不同的是,在上壁414D上形成流入口418。光盘200的旋转轴RX通过流入口418。在本实施方式中,在上壁414D形成的流入口418为1个。取而代之,也可以在上壁形成多个流入口。或者,可以形成以旋转轴RX为中心的同心圆状的开口部作为流入口。
图25(A)是光盘盒400D的概要平面图。图25(B)是光盘盒400D的概要仰视图。图26是光盘盒400D周围的光驱系统300D的概要的放大剖视图。参照图24至图26对光驱系统300D进行说明。
如第一实施方式的关联说明所述,光盘200的旋转在旋转轴RX的周围产生负压。如上所述,在上壁414D上形成围绕旋转轴RX的流入口418。因此,不仅从形成在下壁413的中心孔416、还从流入口418也向收容空间411内流入空气。由于流入收容空间411内的空气增加,因此从外位置周围的开口部412的区域排出的空气强烈撞击配置在外位置的SIL151。由于高流速的空气吹至SIL端面154,因此附着在SIL端面154的灰尘被有效地去除。因此,光驱系统300D的可靠性提高。在本实施方式中,上壁414D作为第二壁被例示。
本实施方式的上壁414D的结构也可以适用于第二实施方式至第四实施方式。其结果,实现了有效的非接触式的灰尘去除。在本实施方式中,流入口418的中心与旋转轴RX一致。取而代之地,只要可实现向收容空间内的空气的吸入,流入口也可以形成在比外位置更接近内位置的任意位置。
(第六实施方式)
图27是第六实施方式的光驱系统300E的概要图。参照图24和图27对光驱系统300E进行说明。另外,在图27中,对与在第五实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300E除了具备在第五实施方式中关联说明的驱动装置500以外,还具备光盘盒400E。光盘盒400E除了具备在第五实施方式中关联说明的卡盘430、转盘420以及壁部410D以外,还具备过滤器440。过滤器440分别配置在光盘200的上下。过滤器440捕捉收集收容空间411内漂浮的灰尘。过滤器440使用粘合剂被固定在上壁414D和下壁413上。或者,可以嵌入形成于上壁414D和下壁413的槽部(未图示)。
图28(A)是光盘盒400E的概要平面图。图28(B)是光盘盒400E的概要仰视图。图29是光盘盒400E周围的光驱系统300E的概要的放大剖视图。参照图27至图29对光驱系统300E进行说明。
图28(A)中示出在开口部412的延伸方向上延伸的中心线CL1以及与中心线CL1垂直的中心线CL2。中心线CL1、CL2的交点相当于光盘200的旋转轴RX。开口部412形成在中心线CL2的左侧,而过滤器440配置在中心线CL2的右侧。
如第五实施方式的关联说明所述,随着光盘200的旋转,通过中心孔416和流入口418,空气流入收容空间411内。空气流入收容空间411内的结果,有时会将灰尘也导入收容空间411内。
中心线CL1将收容空间411概括地划分为第一收容空间SR1和第二收容空间SR2。第一收容空间SR1内的旋流WF趋向开口部412,因此第一收容空间SR1内漂浮的灰尘通过开口部412被排出。第二收容空间SR2内的旋流WF趋向过滤器440,因此第二收容空间SR2内漂浮的灰尘通过过滤器440被捕捉收集。
收容空间411内漂浮的灰尘的颗粒直径典型的是50nm以上。因此,优选的是过滤器440能够捕捉收集直径为50nm以上的颗粒。如果通过过滤器440的旋流WF所包含的灰尘的大约50%被捕捉收集,则不容易发生向SIL151的灰尘附着。此外,过滤器440的捕捉收集效率根据过滤器440的压力损失可以被规定在5%至100%的范围内。
过滤器440能够使收容空间411内漂浮的灰尘大幅降低,因此向SIL端面154与记录面210之间的灰尘入侵不容易发生。因此,光驱系统300E具有高可靠性。
过滤器440也可以组合到第二至第四实施方式的光驱系统300A至300C。如果光驱系统300A至300C具备过滤器440,则光驱系统300A至300C具有高可靠性。
(第七实施方式)
图30是第七实施方式的光驱系统300F的概要图。参照图24、图27和图30对光驱系统300F进行说明。此外,在图30中,对与在第五实施方式和第六实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300F除了具备在第五实施方式中关联说明的驱动装置500以外,还具备光盘盒400F。光盘盒400F除了具备在第五实施方式中关联说明的卡盘430、转盘420以及壁部410D以外,还具备过滤器445。过滤器445安装在流入口418,从自流入口418流入收容空间411的空气中去除灰尘。过滤器445可以具有与在第六实施方式中关联说明的过滤器440相同的特性。
(第八实施方式)
图31是第八实施方式的光驱系统300G的概要剖视图。参照图21和图31对光驱系统300G进行说明。此外,在图31中,对与在第四实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300G与第四实施方式同样,具备驱动装置500和光盘盒400C。光驱系统300G还具备遮闭机构600。遮闭机构600包括局部覆盖壁部410C的遮闭片610和驱动遮闭片610的遮闭驱动机构620。
图32是遮闭机构600的概要仰视图。参照图31和图32对遮闭机构600进行说明。
遮闭片610包括与光盘盒400C的下壁413C邻接的下遮闭板611。下遮闭板611具有配置在光盘200的旋转轴RX附近的内板612和比内板612更远离旋转轴RX的外板613。
图32所示的下遮闭板611位于打开位置,开口部412和排气口417从下遮闭板611露出。因此,在下遮闭板611位于打开位置时,SIL151能够在开口部412的外端与内端之间移动。
如果下遮闭板611位于打开位置,则内板612与开口部412邻接。另一方面,比内板612细的外板613大幅偏离排气口417。
遮闭驱动机构620具备:马达621;从马达621向与开口412的延伸方向垂直的方向延伸的导螺杆622;以及连接于外板613和导螺杆622的弹簧构件623。马达621使导螺杆622旋转。导螺杆622旋转的结果,使得通过弹簧构件623连接于导螺杆622的下遮闭板611在导螺杆622的延伸方向上移动。
图33是遮闭机构600的概要仰视图。参照图32和图33对遮闭机构600进行说明。
图33所示的下遮闭板611通过马达621的驱动从图32所示的打开位置向关闭位置移动。在下遮闭板611位于关闭位置的期间,内板612封闭开口部412。另一方面,排气口417从下遮闭板611露出。因此,在下遮闭板611位于关闭位置的期间,SIL151可以被插入到排气口417。在本实施方式中,下遮闭板611作为第一遮闭部被例示。
由于下遮闭板611关闭开口部412,因此从排气口417排出的空气量增大。因此,附着在SIL151的灰尘被有效地去除。
(第九实施方式)
图34是第九实施方式的光驱系统300H的概要剖视图。参照图6、图31和图34对光驱系统300H进行说明。另外,在图34中,对与在第一实施方式和第八实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300H与第一实施方式同样,具备驱动装置500和光盘盒400C。光驱系统300H还具备遮闭机构600H。遮闭机构600H与第八实施方式同样具备遮闭驱动机构620。遮闭机构600H还具备由遮闭驱动机构620驱动的遮闭片610H。
图35是遮闭机构600H的概要仰视图。参照图34和图35对遮闭机构600H进行说明。
遮闭片610H包括与光盘盒400C的下壁413C邻接的下遮闭板611H。下遮闭板611H具有配置在光盘200的旋转轴RX附近的内板612H和比内板612H更远离旋转轴RX的外板613H。
图35所示的下遮闭板611H位于打开位置,开口部412从下遮闭板611H露出。因此,在下遮闭板611H位于打开位置的期间,SIL151能够在开口部412的外端(即,外位置)与内端(即,内位置)之间移动。
如果下遮闭板611H位于打开位置,则内板612H与内位置周围的开口部412的区域邻接。另一方面,比内板612H细的外板613H大幅偏离开口部412。
图36是遮闭机构600H的概要仰视图。参照图35和图36对遮闭机构600H进行说明。
图36所示的下遮闭板611H通过马达621的驱动从图35所示的打开位置向关闭位置移动。在下遮闭板611H位于关闭位置时,开口部412的外端周围的区域从下遮闭板611H露出。因此,在使SIL151移动到开口部412的外端后,下遮闭板611H能够不干涉SIL151而移动到关闭位置。在本实施方式中,下遮闭板611H作为第一遮闭部被例示。
由于下遮闭板611H局部关闭开口部412,因此从排气口412的外端区域排出的空气量增大。因此,附着在SIL151的灰尘被有效地去除。
本实施方式的遮闭机构600H也可以用于第二实施方式和第三实施方式的光驱系统300A、300B。如果遮闭机构600H用于光驱系统300A、300B,则附着在SIL151的灰尘被有效地去除。
(第十实施方式)
图37是第十实施方式的光驱系统300I的概要剖视图。参照图27、图34和图37对光驱系统300I进行说明。此外,在图37中,对与在第六实施方式、第八实施方式和第九实施方式中关联说明的要素相同的要素赋予相同的符号。省略有关赋予相同符号的要素的说明。
光驱系统300I与第六实施方式同样,具备驱动装置500和光盘盒400E。光驱系统300I还具备遮闭机构600I。遮闭机构600I与第八实施方式同样具备遮闭驱动机构620。遮闭机构600I还具备由遮闭驱动机构620驱动的遮闭片610I。
遮闭片610I包括:与光盘盒400E的下壁413邻接的下遮闭板611I;与上壁414D邻接的上遮闭板619;以及连接于下遮闭板611I和上遮闭板619的中间板618。遮闭驱动机构620的弹簧构件623与中间板618连接。遮闭驱动机构620与第八实施方式和第九实施方式同样,使遮闭片610I在打开位置与关闭位置之间移动。上遮闭板619和下遮闭板611I通过中间板618连接,因此上遮闭板619和下遮闭板611I连动地在打开位置与关闭位置之间移动。在本实施方式中,下遮闭板611I作为第一遮闭部被例示。上遮闭板619作为第二遮闭部被例示。
图38(A)是光盘盒400E的概要平面图。图38(B)是光盘盒400E的概要仰视图。参照图37至图38(B)对光盘盒400E上的上遮闭板619和下遮闭板611I的滑动动作进行说明。
图38(A)所示的上遮闭板619位于关闭位置。图38(B)所示的下遮闭板611I也位于关闭位置。如果上遮闭板619位于关闭位置,则下遮闭板611I也位于关闭位置。如果上遮闭板619位于打开位置,则下遮闭板611I也位于打开位置。
配置在关闭位置的上遮闭板619关闭形成于光盘盒400E的上壁414D的流入口418。配置在打开位置的上遮闭板619开放流入口418。
配置在关闭位置的上遮闭板611I关闭形成于光盘盒400E的下壁413的开口部412。配置在打开位置的上遮闭板611I开放开口部412。
在上遮闭板619和下遮闭板611I都位于关闭位置时,灰尘向收容空间411内的入侵路径大幅降低。在此期间,如果光盘200旋转几秒至几十秒,则收容空间411内的灰尘大部分通过过滤器440被捕捉收集。由于收容空间411内漂浮的灰尘大幅减少,因此光驱系统300I具有高可靠性。
光盘盒400E也可以具备配置在位于关闭位置的上遮闭板619与上壁414D之间的密封构件(未图示)。如果密封构件(例如,硅橡胶)包围流入口418的周围,则在光盘200旋转的期间灰尘从流入口418的流入被大幅降低。
光盘盒400E也可以具备配置在位于关闭位置的下遮闭板611I与下壁413之间的密封构件(图未示)。如果密封构件(例如,硅橡胶)包围流入口412的周围,则在光盘200旋转的期间灰尘从开口部412的流入被大幅降低。
在本实施方式中,上遮闭板619和下遮闭板611I一体形成。取而代之,上遮闭板和下遮闭板也可以是分离的构件。
上述的各种遮闭机构也可以安装在光盘盒上。或者,遮闭机构可以安装于驱动装置。
(第十一实施方式)
上述的各种灰尘去除技术的原理关联于从SIL发出的近场光而被加以说明。然而,上述的各种灰尘去除技术的原理也可以应用于使用SIL以外的光学元件的光驱系统。
图39是利用等离子体共振(plasmon resonance)的例示的光驱系统300J的概要图。
光驱系统300J具备对光盘200J进行光学信息处理(信号的记录或再生)的等离子体装置700。等离子体装置700具有与第一实施方式至第十实施方式的光学头及横动装置对应的功能。
等离子体装置700具备:对光盘200J进行信号的记录和/或再生的等离子体头710;以及保持等离子体头710的滑块720。滑块720通过由光盘200J的旋转所产生的气流向离开光盘200J的方向移位。此外,用于使光盘200J旋转的装置与在第一实施方式至第十实施方式中关联说明的驱动机构相同。
等离子体装置700还具备:通过柔软的板弹簧结构(一般称为“万向接头”)保持滑块720的悬浮体(suspension)730;保持悬浮体730的保持构件740;以及使保持构件740在光盘200J的面内转动的音圈马达(voice coil motor)750。音圈马达750例如可以具备旋转轴、线圈、磁体或磁轭等的各种部件。
光驱系统300J具备:向等离子体头710提供记录信号或传输来自等离子体头710的再生信号的FPC(未图示);放大来自等离子体头710的信号的前置放大器(未图示);用于控制它们或使它们动作的电路板、机械部件或电子部件。等离子体装置700也可以具有与利用等离子体共振来处理信息的已公知的装置相同的结构。因此,本实施方式的原理不仅限于图示的详细结构。
图40是对光盘200J进行光学信息处理的等离子体装置700的概要图。参照图39和图40对等离子体装置700进一步进行说明。
等离子体装置700还具备安装于滑块720的半导体激光器760和波导770。从半导体激光器760射出的激光通过波导770导入等离子体头710。
光盘200J包括形成与等离子体头710对置的记录面210的记录膜219。在本实施方式中,记录膜219包括相变材料。
若半导体激光器760向等离子体头710射出激光,则在等离子体头710与记录膜219之间产生等离子体共振。其结果,局部的温度上升在记录膜219中产生。记录膜219上局部性的温度上升的结果,使记录膜219的晶体结构在晶体与非结晶形之间发生变化。等离子体头710与记录膜219之间的共振的大小依赖于记录膜219的晶体结构(晶体或非结晶形)。利用记录膜219的晶体结构的变化,基于等离子体头710与记录膜219之间的共振的大小进行信息的记录和/或再生。
光驱系统300J也可以具备基于共振的大小检测再生信号的检测部(未图示)。从等离子体头710射出的激光的反射光或透射光随着等离子体头710与记录膜219之间的等离子体共振的状态而变化。检测部可以根据反射光或透射光的变化再生信息。在本实施方式中,等离子体头710作为光学元件被例示。
图41是组合到光驱系统300J的光盘盒400J的概要图。参照图39和图41对光盘盒400J进行说明。
等离子体头710与第一实施方式至第十实施方式的SIL不同,描绘弧形的轨迹AT。在光盘盒400J上沿着弧形的轨迹AT形成弧形的开口部412J。当等离子体头710配置在开口部412J的外端(离光盘200J的旋转轴RX最远的端部)附近时,如果光盘200J旋转,则通过光盘盒400J内产生的旋流有效地去除附着在等离子体头710上的灰尘。如果以使相对于弧形的轨迹AT上游的开口面积大于下游的开口面积的方式形成开口部412J,则灰尘的去除更加有效。
也可以在比开口部412J更远离旋转轴RX的位置形成排气口。排气口可以专门用于去除附着在等离子体头710的灰尘。
在第一实施方式至第十实施方式中关联说明的各种特征(例如,过滤结构和遮闭结构)适用于本实施方式的光驱系统300J。
上述的一系列实施方式只不过是光驱系统的例子。因此,上述的说明并没有限定上述实施方式的原理的适用范围。应容易理解在没有脱离上述原理的本意及范围的范围内本领域技术人员能够进行各种变形或组合。
在上述的各种实施方式中关联说明的例示的光驱系统主要具备以下特征。
上述的实施方式的一个方面所涉及的光驱系统包括:光盘盒,具有规定收容能够旋转的记录介质的收容空间的壁部,该记录介质具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面;驱动装置,具有使所述记录介质在所述收容空间内旋转的旋转驱动部、将所述光照射到所述受光面的光学元件、以及使所述光学元件在该光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动的移动驱动部。在所述壁部,在所述外位置形成使所述收容空间内的空气通过随着所述记录介质的旋转而产生的气流排出的排气口。该排气口通过所述光学元件的移动轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于所述第一面积的第二面积开口的第二开口区域。所述第二开口区域在所述记录介质的旋转方向上位于所述第一开口区域的上游。
根据此结构,光盘盒的壁部规定收容记录介质的收容空间。驱动装置的旋转驱动部使记录介质在收容空间内旋转。驱动装置的光学元件将光照射到记录介质的受光面。驱动装置的移动驱动部使光学元件在内位置与比该内位置远离记录介质的旋转轴的外位置之间移动。其结果,来自光学元件的光扫描受光面。在内位置,由于光学元件与受光面对置,因此光从光学元件被照射到受光面。其结果,信息被光学处理。
起因于记录介质的旋转的气流在外位置产生正压。在壁部,由于在外位置形成有排气口,所以收容空间的空气通过排气口被排出。因此,灰尘不容易滞留在收容空间内。
排气口通过光学元件的移动轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于第一面积的第二面积开口的第二开口区域。由于第二开口区域在记录介质的旋转方向上位于第一开口区域的上游,因此,被移动驱动部移动到外位置的光学元件受到从排气口吹出的空气强烈冲击。因此,在光学元件上付着的灰尘被非接触式地去除。其结果,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,所述排气口可以是从所述外位置延伸到所述内位置的开口部。所述移动驱动部可以使所述光学元件沿着所述开口部移动,对所述信息进行光学处理。
根据此结构,移动驱动部可以使光学元件沿着从外位置延伸到内位置的开口部移动。在光学元件移动的期间,来自光学元件的光可以扫描受光面,对信息进行光学处理。
由于起因于记录介质的旋转的气流在外位置产生正压,因此收容空间的空气从外位置的周围的开口部被排出。因此,开口部在外位置的周围起排气口的作用。被移动驱动部移动到外位置的光学元件受到从开口部吹出的空气强烈冲击。因此,在光学元件付着的灰尘被非接触式地去除。其结果,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,在所述壁部可以形成从所述内位置延伸的开口部。所述移动驱动部可以使所述光学元件沿着所述开口部移动,来扫描所述受光面。所述排气口可以形成在比所述开口部远离所述旋转轴的位置。
根据此结构,移动驱动部可以使光学元件沿着从内位置延伸的开口部移动。在光学元件移动的期间,来自光学元件的光可以扫描受光面,对信息进行光学处理。
由于排气口形成在比开口部远离旋转轴的位置,因此被移动驱动部移动到外位置的光学元件受到从开口部吹出的空气强烈冲击。因此,在光学元件上付着的灰尘被非接触式地去除。其结果,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,所述壁部可以具有形成有所述排气口的第一壁以及与该第一壁对置的第二壁。在该第二壁上可以形成使空气流入所述收容空间内的流入口。该流入口可以形成在与所述外位置相比更接近所述内位置的位置。
根据此结构,在与形成有排气口的第一壁对置的第二壁,形成与外位置相比更接近内位置的流入口。由于起因于记录介质的旋转的气流在内位置产生负压,所以空气通过流入口流入收容空间内。由于从流入口向排气口的空气的流量增加,因此被移动驱动部移动到外位置的光学元件受到从排气口吹出的空气强烈冲击。因此,在光学元件上付着的灰尘被非接触式地去除。其结果,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,还可以包括具有在至少局部关闭所述开口部的关闭位置与打开所述开口部的打开位置之间移动的第一遮闭部的遮闭机构。
根据此结构,由于第一遮闭部在关闭位置与打开位置之间移动,因此开口部的面积可变。因而,冲击到被移动驱动部移动到外位置的光学元件的空气的流量可以利用第一遮闭部而被适当地调整。
在上述结构中,所述第一遮闭部可以在所述关闭位置关闭所述排气口。
根据此结构,由于第一遮闭部在关闭位置关闭了排气口,因此灰尘不容易通过排气口吸入收容空间。
在上述结构中,所述光驱系统还可以包括具有第一遮闭部以及与该第一遮闭部连动地移动的第二遮闭部的遮闭机构,该第一遮闭部在关闭所述开口部的关闭位置与打开所述开口部的打开位置之间移动。如果所述第一遮闭部位于所述关闭位置,则所述第二遮闭器可以关闭所述流入口。
根据此结构,由于第一遮闭部在关闭位置关闭了排气口,所以灰尘不容易通过排气口吸入收容空间。如果第一遮闭部位于所述关闭位置,则第二遮闭器可以关闭所述流入口。因此,灰尘不容易通过流入口吸入收容空间。
在上述结构中,所述光盘盒可以具备捕捉收集所述收容空间内的灰尘的过滤器。
根据此结构,由于过滤器捕捉收集收容空间内的灰尘,所以在收容空间内漂浮的灰尘会减少。因此,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,所述光盘盒可以具备安装在所述流入口的过滤器。该过滤器可以从流入所述收容空间的所述空气中捕捉收集灰尘。
根据此结构,由于安装在流入口的过滤器可以从流入收容空间的空气中捕捉收集灰尘,所以流入收容空间的灰尘会减少。因此,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,所述光盘盒可以具备捕捉收集所述收容空间内的灰尘的过滤器。在所述第一遮闭部位于所述关闭位置的期间,所述旋转驱动部可以使所述记录介质旋转。
根据此结构,由于在第一遮闭部位于关闭位置的期间,旋转驱动部使记录介质旋转,因此在收容空间内产生气流。因而,过滤器可以有效率地捕捉收集收容空间内的灰尘。其结果,光驱系统具有高可靠性。
在上述结构中,所述光学元件可以利用所述光扫描所述受光面,进行向所述记录介质记录信息和再生保存在所述记录介质中的信息的至少其中之一的光学信息处理。
根据此结构,光学元件用光扫描受光面,进行向记录介质记录信息和再生保存在记录介质中的信息的至少其中之一的光学信息处理。由于光驱系统具有高可靠性,因此可以适当地进行光学信息处理。
在上述结构中,所述光学元件可以使所述光聚光于所述受光面,并产生近场光。
根据此结构,由于光学元件使光聚光于受光面,并产生近场光,因此信息可以利用近场光加以处理。
在上述结构中,所述驱动装置可以具有保持所述光学元件的保持部,和一边弹性地支撑该保持部一边在所述记录介质的聚焦方向和跟踪方向上驱动所述保持部的致动器。
根据此结构,致动器弹性地支撑保持光学元件的保持部。由于致动器在记录介质的聚焦方向和跟踪方向上驱动保持部,因此受光面被适当地扫描。
在上述的各种实施方式中关联说明的例示的光盘盒主要具备以下特征。
上述的实施方式的一方面所涉及的光盘盒,规定收容具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面的能够旋转的记录介质的收容空间。光盘盒包括壁部,在该壁部形成偏离所述记录介质的旋转轴的排气口,以使所述光盘盒内的空气通过随着所述记录介质的旋转而产生的气流排出。所述排气口通过所述光的扫描轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于所述第一面积的第二面积开口的第二开口区域。所述第二开口区域在所述记录介质的旋转方向上位于所述第一开口区域的上游。
根据此结构,光盘盒的壁部规定收容记录介质的收容空间。起因于记录介质的旋转的气流在外位置产生正压。在壁部,由于在外位置形成了排气口,所以收容空间的空气通过排气口被排出。因此,灰尘不容易滞留在收容空间内。
排气口通过光的扫描轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于第一面积的第二面积开口的第二开口区域。由于第二开口区域在记录介质的旋转方向上位于第一开口区域的上游,因此可以在外位置适当地去除干扰光的灰尘。
在上述的各种实施方式中关联说明的例示的驱动装置主要具备以下特征。
上述的实施方式的一方面所涉及的驱动装置包括:使具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面的记录介质旋转的旋转驱动部;将光照射到所述受光面的光学元件;使所述光学元件在该光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动的移动驱动部;保持所述光学元件的保持部;以及一边弹性地支撑该保持部,一边在所述记录介质的聚焦方向和跟踪方向上驱动所述保持部的致动器。所述致动器使所述光学元件在所述外位置接近沿着所述受光面的平面。
根据此结构,驱动装置的旋转驱动部使记录介质在收容空间内旋转。驱动装置的光学元件将光照射到记录介质的受光面。驱动装置的移动驱动部使光学元件在内位置与比该内位置远离记录介质的旋转轴的外位置之间移动。其结果,来自光学元件的光扫描受光面。在内位置,由于光学元件与受光面对置,因此光从光学元件被照射到受光面。其结果,信息被光学处理。
起因于记录介质的旋转的气流在外位置产生E压。由于致动器使光学元件在外位置接近沿着受光面的平面,因此被移动驱动部移动到外位置的光学元件受到排气口吹出的空气强烈冲击。因此,在光学元件上付着的灰尘被非接触式地去除。其结果,光驱系统具有高可靠性。
在上述的各种实施方式中关联说明的例示的清洁光驱系统的方法,主要具备以下特征。
上述的实施方式的一个方面所涉及的清洁光驱系统的方法包括:使所述记录介质旋转的步骤;使所述光学元件从所述内位置向所述外位置移动的步骤;以及使所述光学元件接近沿着所述受光面的平面,以使所述光学元件被随着所述记录介质的旋转而产生的气流吹打的步骤。
根据此结构,起因于记录介质的旋转的气流在外位置产生正压。由于被移动到外位置的光学元件接近沿着受光面的平面,被气流强烈冲击。因此,在光学元件上付着的灰尘被非接触式地去除。其结果,光驱系统具有高可靠性。
上述的实施方式的其他方面所涉及的清洁光驱系统的方法包括:使所述第一遮闭部移动到所述关闭位置的步骤;以及使所述记录介质旋转的步骤。
根据此结构,由于第一遮闭部被移动到所述关闭位置,因此灰尘不容易被吸入收容空间内。过滤器可以利用因记录介质的旋转而产生的气流,有效率地捕捉收集收容空间内的灰尘。
产业上的可利用性
上述的各种实施方式的原理能够适当地去除在收容记录介质的收容空间内漂浮的灰尘或附着在向记录介质射出光的光学元件上的灰尘。因此,上述实施方式的原理对于记录介质与透镜的间隙必须狭窄的装置(例如,SIL)特别有效。适当地去除灰尘的结果,灰尘难以夹在狭窄的间隙,因此利用上述实施方式的原理的装置(例如计算机的外部存储装置、记录影像数据的影像记录装置、再生影像数据的影像再生装置)能够处理大容量的数据。上述实施方式的原理还能够利用于具有存储和/或再生数据的功能的各种装置(例如,汽车导航系统、随身听、数码相机、数码摄像机)。
Claims (17)
1.一种光驱系统,其特征在于包括:
光盘盒,具有规定收容能够旋转的记录介质的收容空间的壁部,该记录介质具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面;
驱动装置,具有使所述记录介质在所述收容空间内旋转的旋转驱动部、将所述光照射到所述受光面的光学元件、以及使所述光学元件在该光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动的移动驱动部,其中,
在所述壁部,在所述外位置形成使所述收容空间内的空气通过随着所述记录介质的旋转而产生的气流排出的排气口,
所述排气口,通过所述光学元件的移动轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于所述第一面积的第二面积开口的第二开口区域,
所述第二开口区域,在所述记录介质的旋转方向上位于所述第一开口区域的上游。
2.根据权利要求1所述的光驱系统,其特征在于:
所述排气口为从所述外位置延伸到所述内位置的开口部,
所述移动驱动部,使所述光学元件沿所述开口部移动,对所述信息进行光学处理。
3.根据权利要求1所述的光驱系统,其特征在于:
在所述壁部,形成从所述内位置延伸的开口部,
所述移动驱动部,使所述光学元件沿着所述开口部移动以来扫描所述受光面,
所述排气口,形成在比所述开口部远离所述旋转轴的位置。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光驱系统,其特征在于:
所述壁部,具有形成有所述排气口的第一壁以及与该第一壁对置的第二壁,
在所述第二壁,形成使空气流入所述收容空间内的流入口,
所述流入口,形成在与所述外位置相比更接近所述内位置的位置。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的光驱系统,其特征在于还包括:具有在至少局部关闭所述开口部的关闭位置与打开所述开口部的打开位置之间移动的第一遮闭部的遮闭机构。
6.根据权利要求5所述的光驱系统,其特征在于:所述第一遮闭部在所述关闭位置关闭所述排气口。
7.根据权利要求4所述的光驱系统,其特征在于还包括:具有第一遮闭部以及与该第一遮闭部连动地移动的第二遮闭部的遮闭机构,所述第一遮闭部在关闭所述开口部的关闭位置与打开所述开口部的打开位置之间移动,
如果所述第一遮闭部位于所述关闭位置,则所述第二遮闭部关闭所述流入口。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光驱系统,其特征在于:所述光盘盒具备捕捉收集所述收容空间内的灰尘的过滤器。
9.根据权利要求4所述的光驱系统,其特征在于:
所述光盘盒具备安装在所述流入口的过滤器,
所述过滤器从流入所述收容空间的所述空气捕捉收集灰尘。
10.根据权利要求6或7所述的光驱系统,其特征在于:
所述光盘盒具备捕捉收集所述收容空间内的灰尘的过滤器,
在所述第一遮闭部位于所述关闭位置的期间,所述旋转驱动部使所述记录介质旋转。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的光驱系统,其特征在于:所述光学元件利用所述光扫描所述受光面,进行向所述记录介质记录信息和再生保存在所述记录介质中的信息的至少其中之一的光学信息处理。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的光驱系统,其特征在于:所述光学元件使所述光聚光于所述受光面,并产生近场光。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的光驱系统,其特征在于:所述驱动装置具有保持所述光学元件的保持部、和一边弹性地支撑该保持部一边在所述记录介质的聚焦方向和跟踪方向上驱动所述保持部的致动器。
14.一种光盘盒,规定收容具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面的能够旋转的记录介质的收容空间,其特征在于包括:
壁部,形成偏离所述记录介质的旋转轴的排气口,使所述光盘盒内的空气通过随着所述记录介质的旋转而产生的气流排出,其中,
所述排气口,通过所述光的扫描轨迹被划分为以第一面积开口的第一开口区域和以大于所述第一面积的第二面积开口的第二开口区域,
所述第二开口区域,在所述记录介质的旋转方向上位于所述第一开口区域的上游。
15.一种驱动装置,其特征在于包括:
旋转驱动部,使具有利用用于光学处理信息的光而被扫描的受光面的记录介质旋转;
光学元件,将光照射到所述受光面;
移动驱动部,使所述光学元件在该光学元件与所述受光面对置的内位置与比该内位置远离所述记录介质的旋转轴的外位置之间移动;
保持部,保持所述光学元件;以及
致动器,一边弹性地支撑所述保持部,一边在所述记录介质的聚焦方向和跟踪方向上驱动所述保持部,其中,
所述致动器,使所述光学元件在所述外位置接近沿着所述受光面的平面。
16.一种清洁方法,用于清洁权利要求1至13中任一项所述的光驱系统,其特征在于包括:
使所述记录介质旋转的步骤;
使所述光学元件从所述内位置向所述外位置移动的步骤;以及
使所述光学元件接近沿着所述受光面的平面,以使所述光学元件被随着所述记录介质的旋转而产生的气流吹打的步骤。
17.一种清洁方法,用于清洁权利要求10所述的光驱系统,其特征在于包括:
使所述第一遮闭部移动到所述关闭位置的步骤;以及
使所述记录介质旋转的步骤。
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