CN103025737A - 硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料及其制备方法和应用 - Google Patents
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- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 341
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 59
- UTUZBCDXWYMYGA-UHFFFAOYSA-N silafluorene Chemical compound C12=CC=CC=C2CC2=C1C=CC=[Si]2 UTUZBCDXWYMYGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 6
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000005224 alkoxybenzenes Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 120
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 99
- -1 Zr2+ Chemical compound 0.000 claims description 68
- BFRDBSBKJUVSNP-UHFFFAOYSA-N 9h-fluorene;silicon Chemical class [Si].C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 BFRDBSBKJUVSNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 43
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 35
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 35
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 34
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 28
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 28
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 claims description 27
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- AIGRXSNSLVJMEA-FQEVSTJZSA-N ethoxy-(4-nitrophenoxy)-phenyl-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound O([P@@](=S)(OCC)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 AIGRXSNSLVJMEA-FQEVSTJZSA-N 0.000 claims description 19
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 12
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical group BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 9
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 6
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical group O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 5
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N Pd(PPh3)4 Substances [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 3
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 abstract 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 31
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 31
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- HJIXCQWMKQLOIX-UHFFFAOYSA-N C12=CC=C(N1)C=C1C=CC(=N1)C=C1C=CC(N1)=CC=1C=CC(N1)=C2.C2=CC=CC=1C3=CC=CC=C3CC21.[Si] Chemical compound C12=CC=C(N1)C=C1C=CC(=N1)C=C1C=CC(N1)=CC=1C=CC(N1)=C2.C2=CC=CC=1C3=CC=CC=C3CC21.[Si] HJIXCQWMKQLOIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N alpha-n-hexadecene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 12
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 12
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 6
- UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N decyl-Benzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 UZILCZKGXMQEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 6
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 description 6
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- DEQLTFPCJRGSHW-UHFFFAOYSA-N hexadecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 DEQLTFPCJRGSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 6
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 6
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical class CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 3
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- DYJFXZAVYGPICR-UHFFFAOYSA-N benzene;silicon Chemical compound [Si].C1=CC=CC=C1 DYJFXZAVYGPICR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950003776 protoporphyrin Drugs 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 2
- RXACYPFGPNTUNV-UHFFFAOYSA-N 9,9-dioctylfluorene Chemical class C1=CC=C2C(CCCCCCCC)(CCCCCCCC)C3=CC=CC=C3C2=C1 RXACYPFGPNTUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIZVXLHXBHHVMS-UHFFFAOYSA-N C12=CC=C(N1)C=C1C=CC(=N1)C=C1C=CC(N1)=CC=1C=CC(N1)=C2.C2=CC=CC=1C3=CC=CC=C3CC21 Chemical compound C12=CC=C(N1)C=C1C=CC(=N1)C=C1C=CC(N1)=CC=1C=CC(N1)=C2.C2=CC=CC=1C3=CC=CC=C3CC21 IIZVXLHXBHHVMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUEHZXCETJEBKX-UHFFFAOYSA-N C12=CC=C(N1)C=C1C=CC(=N1)C=C1C=CC(N1)=CC=1C=CC(N1)=C2.[Sn].[Si] Chemical compound C12=CC=C(N1)C=C1C=CC(=N1)C=C1C=CC(N1)=CC=1C=CC(N1)=C2.[Sn].[Si] VUEHZXCETJEBKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOOLKNHTSVMFHN-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12.[Si].C(CCCCCCCCC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12.[Si].C(CCCCCCCCC)C1=CC=CC=C1 HOOLKNHTSVMFHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTLRGFODWCSUFG-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12.[Si].C(CCCCCCCCCCCCCCC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12.[Si].C(CCCCCCCCCCCCCCC)C1=CC=CC=C1 HTLRGFODWCSUFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVJMVUORBCKNBX-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12.[Si].C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12.[Si].C1=CC=CC=C1 RVJMVUORBCKNBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- CRBREIOFEDVXGE-UHFFFAOYSA-N dodecoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 CRBREIOFEDVXGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- UQXKXGWGFRWILX-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dinitrate Chemical compound O=N(=O)OCCON(=O)=O UQXKXGWGFRWILX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002678 macrocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N octyldodecane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- RKCAIXNGYQCCAL-UHFFFAOYSA-N porphin Chemical group N1C(C=C2N=C(C=C3NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 RKCAIXNGYQCCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- DJWUNCQRNNEAKC-UHFFFAOYSA-L zinc acetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O DJWUNCQRNNEAKC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G2261/91—Photovoltaic applications
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Abstract
提供了一种硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料及其制备方法和应用。硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的结构由结构式(I)定义;其中:n为1到100之间的整数,R1、R2、R3、R4为H、C1-C32的烷基、苯基、含有一个或多个C1-C32的烷基苯或烷氧基苯;M为金属离子。所述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的溶解性能好、载流子迁移率高、吸光度强、对光吸收范围宽,提高了其对太阳光的利用率。此外,制备方法的工艺简单,易于操作和控制。
Description
硅芴金属卟啉 -苯有机半导体材料及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及一种有机半导体材料, 更具体的涉及一种硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料。 本发明还涉及硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的制备方法及其应用。
背景技术
利用廉价材料制备低成本、 高效能的太阳能电池一直是光伏领域的研究热点和难点。 目 前用于地面的硅晶电池由于生产工艺复杂、 成本高, 使其应用受到限制。 为了降低电池成本, 拓展应用范围, 长期以来人们一直在寻找新型的太阳能电池材料。 有机半导体材料以其原料 易得、 廉价、 制备工艺筒单、 环境稳定性好、 有良好的光伏效应等优点备受关注。 自 1992年 N. S. Sariciftci等在 SCIENCE( N. S Sariciftci, L. Smilowitz, A. J. Heeger, et al. Science, 1992, 258, 1474 )上报道共轭聚合物与 C6。之间的光诱导电子转移现象后, 人们在聚合物太阳能电池方面 投入了大量研究, 并取得了飞速的发展, 但是仍比无机太阳能电池的转换效率低得多。 限制 性能提高的主要制约因素有: 有机半导体材料的光语响应与太阳辐射光语不匹配, 有机半导 体相对较低的载流子迁移率以及较低的载流子的电极收集效率等。 为了使聚合物太阳能电池 得到实际的应用, 开发新型的材料, 大幅度提高其能量转换效率仍是这一研究领域的首要任 务。
卟啉分子是在卟吩环上连有取代基的一类大环化合物的总称, 卟吩是由四个吡咯环和四 个次甲基桥联起来的单双键交替的平面结构大环离域 π电子共轭体系。 它们电荷转移和能量 转移反应的量子效率较高, 具有良好的电子緩冲性和光电磁性, 良好的刚柔性和较好热稳定 性和环境稳定性。 因此, 卟啉类有机半导体材料是一类很有前途的材料, 其在光伏领域的应 用已得到广泛研究。 元素周期表中几乎所有的金属和一些非金属元素都可以与卟啉作用形成 配合物。 在这些化合物中, 包括了大部分的主族和副族金属元素, 一些镧系金属 (Pr, Eu, Yb 等)也己经合成。 由于卟啉是具有 18个 π电子的大共轨体系, 其环内电子流动性非常好, 因 此, 大多数金属卟啉化合物都有较好的光电性盾。
然而含有硅芴的金属卟啉-苯的有机半导体材料至今仍没有文献和专利报道,这就大大限 制了有机半导体材料的应用范围。 因此, 本发明开发了一种硅芴金属卟啉 -苯的有机半导体材 料。 该类材料通过引入硅芴基团到卟啉架构上, 并通过金属离子的配位作用, 调整了卟啉聚
合物的带隙, 进而获得更好的稳定性和良好的成膜性, 拓宽了可见光语吸收范围, 使其吸收 范围延伸至近红外区, 提高其对太阳光的利用率, 同时提高了载流子迁移率, 扩大了它们在 有机太阳能电池等领域的应用范围。
发明内容
本发明的目的在于提供一种硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料, 其可以解决上述问题。 本发明的目的还在于提供一种硅芴金属卟啉 -苯有机半导体材料的制备方法及其应用。 本发明所涉及的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料, 具有以下结构 (I ):
式中: n为 1-100间的整数, Ri , R2 , R3 , 为相同或不相同的 H、 CrC32的烷基、 苯基、 含有一个或多个相同或不相同的 d-C 的烷基苯或烷氧基苯; M为金属离子, 可以但不限于 Zn2+、 Cu2+、 Fe2+、 Co2 Cd2 Pt2+、 Zv2 Mn2+、 Ni2+、 Pb2+、 Sn2+等金属离子。
本发明所设计的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的制备方法, 步骤如下:
H H
步骤 S l、 氧化剂、 第一催化剂存在条件下, 将结构式为 ^ 的二二吡咯甲烷、
芴衍生物溶于第一有机溶剂, 于 20-100°C温度下, 反应 1-24 小时, 得到结构式为
的硅芴卟啉衍生物; 式中, Ri , R2, R3 , 分别为 H、 Ci-C 的烷基、 苯基、 含有一个或多个 d-C 的烷基苯或烷氧基苯; 反应式如下:
步骤 S2、将步骤 SI中得到的硅芴卟啉衍生物和溴化剂加入到第二有机溶剂中,于 0~120°C
下反应 1~72小时, 得到结构式为
的二溴硅芴卟啉衍生物; 反 应式如下;
步骤 S3、 将步骤 S2中得到的二溴硅芴卟啉衍生物溶于第三有机溶剂中, 接着加入含 M
金属离子的溶液,于 0-30°C下搅拌 0.5-24小时,得到结构式为
的二溴硅芴金属卟啉衍生物; 反应式如下:
步骤 S4、 无氧环境中, 第二催化剂和第四有机溶剂存在条件下, 将步骤 S3 中得到的二 溴硅芴金属卟啉衍生物和结构式为 '的 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂 氧戊硼烷)苯按摩尔比 1 :2~2: 1 , 于 50-120°C中进行 Suzuki耦合反应 12-72小时, 得到结构式
的所述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料, 式中, n为 1-100间的整数; 反应式如下:
上述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的制备方法中, 优选:
所述步骤 S1中,
二吡咯甲烷、 第一硅芴衍生物、 第二硅芴衍生物的摩尔比为 a:b:c=l : l~100: l~100, 其中 a=b+c, 且 a≥b>0; 所述第一催化剂为丙酸、 三氟乙酸; 所述氧化剂为二氯二氨基苯醌; 所述 第一有机溶剂为三氯甲烷、 二氯甲烷中的一种或两种;
所述步骤 S2中,
所述硅芴卟啉衍生物和溴化剂的用量摩尔比为 1 :2~1 :5; 所述溴化剂为 N-溴代丁二酰亚 胺; 所述第二有机溶剂为四氢呋喃、 氯仿、 二甲基酰胺或邻二氯苯中的至少一种;
所述步骤 S3中,
所述二溴硅芴卟啉衍生物和 M金属离子的摩尔比为 1 : 1~1 :5; 所述第三有机溶剂为三氯 甲烷、 四氢呋喃、 苯、 甲苯或二氯甲烷中的至少一种; 所述含 M金属离子的溶液中, M金属 离子选自 Zn2+、 Cu2+、 Fe2+、 Co2+、 Cd2+、 Pt2+、 Zr2+、 Mn2+、 Ni2+、 Pb2+或 Sn2+中的一种, 溶 剂为甲醇、 乙醇或水中的至少一种;
所述步骤 S4中,
所述第二催化剂为有机钯或有机钯与有机磷配体的混合物;
所述有机钯为 Pd2(dba)3、 Pd(PPh3)4、 Pd(OAc)2或 Pd(PPh3)2Cl2;
所述有机碑配体为 P(o-Tol)3、 三环己基膦;
所述第四有机溶剂为四氢呋喃、 二氯甲烷、 氯仿、 二氧六环、 二甲基酰胺、 乙二醇二甲 醚、 二甲基亚砜、 苯、 氯苯或甲苯中的至少一种;
另, 步骤 S4中, 还包括 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的制备, 其制备 步骤如下: 将结构式为
对二溴苯加入第五有机溶剂中, 用液氮 /异丙醇降温至 -78 °C ,
滴加正丁基锂(n-BuLi, 下同), 然后在 -78°C反应 1-3小时,再加入结构式为
2-异丙氧基 -4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷, 并在 -78°C下反应 0.5-2小时, 然后自然升温 至室温, 反应 6-36小时, 得到所述 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯; 其中, 所 述第五有机溶剂中为四氢呋喃、 乙醚或者二氧六环中的至少一种; 所述对二溴苯与 2-异丙氧 基—4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷的摩尔比 1 :2~5; 反应式如下:
上述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料在聚合物太阳能电池, 有机电致发光, 有机场效应 晶体管, 有机光存储, 有机非线性器件和有机激光器件等领域中的应用。
与现有技术相比, 本发明具有如下优点:
1. 本发明中的有机半导体材料分子中含有的硅芴单元, 具有良好的热稳定性, 以及较高 的电子亲和力和较高的电子注入和传输能力;
2. 同时还含有卟啉单元, 具有平面结构的大环离域 π电子共轭体系, 电荷转移和能量转 移反应的量子效率较高, 具有良好的电子緩冲性和光电磁性, 以及良好的刚柔性和较好热稳 定性和环境稳定性。
3. 本发明的有机半导体材料由于同时包含了硅芴结构单元和卟啉单元, 兼顾了它们的性 能优势, 并扩展了该有机半导体材料对太阳光的吸收范围, 增加了与太阳辐射光语的匹配度, 从而有效扩展了该有机半导体材料在聚合物太阳能电池、 有机电致发光器件、 有机场效应晶 体管、 有机光存储器件或 /和有机激光器件中的应用;
4. 所述有机半导体材料的制备工艺筒单, 易于操作和控制。
附图说明
能电池器件的结构示意 图 2为以本发明中的有机半导体材料作为发光层的有机电致发光器件的结构示意图。 图
晶体管器件的结构 示意图。
具体实施方式
本发明所涉及的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料, 具有以下结构 (I ):
(1);
式中: n为 1-100间的整数, Ri, R2, R3, 分别为相同或不相同的 H、 CrC32的烷基、 苯基、 含有一个或多个相同或不相同的 d-C 的烷基苯或烷氧基苯; M为金属离子, 可以但 不限于 Zn2+、 Cu2+、 Fe2+、 Co2 Cd2 Pt2+、 Zv2 Mn2+、 Ni2+、 Pb2+、 Sn2+等金属离子。
本发明所设计的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的制备方法, 步骤如下:
步骤 Sl、 氧化剂、 第一催化剂存在条件下, 将结构式 (>为为
的的二二吡咯甲烷、
OHC- OHC- 结构式为 \=/"^^的第一硅芴衍生物以及结构式为 = ^ 的第二硅芴衍生 物溶于第一有机溶剂 , 于 20-100°C温度下, 反应 1-24 小时, 得到结构式为
的硅芴卟啉衍生物; 式中, R , R2, R3, R4分别为 H、 Ci-C 的烷基、 苯基、 含有一个或多个 d-C 的烷基苯或烷氧基苯; 反应式如下:
步骤 S2、将步骤 S1中得到的硅芴卟啉衍生物和溴化剂加入到第二有机溶剂中,于 0~120°C
下反应 1~72小时, 得到结构式为 的二溴硅芴卟啉衍生物; 反应 式如下;
步骤 S3、 将步骤 S2中得到的二溴硅芴卟啉衍生物溶于第三有机溶剂中, 接着加入含 M 属 离 子 的 溶 液 , 于 0-30°C 下 搅 拌 0.5-24 小 时 , 得 到 结 构 式 为
应式如下:
步骤 S4、 无氧环境中, 第二催化剂和第四有机溶剂存在条件下, 将步骤 S3 中得到的二 溴硅芴金属卟啉衍生物和结构式为
1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂 氧戊硼烷)苯按摩尔比 1 :2~2: 1 , 于 50-120°C中进行 Suzuki耦合反应 12-72小时, 得到结构式
上述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的制备方法中, 优选:
所述步骤 S1中,
二吡咯甲烷、 第一硅芴衍生物、 第二硅芴衍生物的摩尔比为 a:b:c=l : l~100: l~100, 其中 a=b+c, 且 a≥b>0; 所述第一催化剂为丙酸、 三氟乙酸; 所述氧化剂为二氯二氨基苯醌; 所述 第一有机溶剂为三氯甲烷、 二氯甲烷中的一种或两种;
所述步骤 S2中,
所述硅芴卟啉衍生物和溴化剂的用量摩尔比为 1 :2~1 :5; 所述溴化剂为 N-溴代丁二酰亚 胺; 所述第二有机溶剂为四氢呋喃、 氯仿、 二甲基酰胺或邻二氯苯中的至少一种;
所述步骤 S3中,
所述二溴硅芴卟啉衍生物和 M金属离子的摩尔比为 1 : 1~1 :5; 所述第三有机溶剂为三氯 甲烷、 四氢呋喃、 苯、 甲苯或二氯甲烷中的至少一种; 所述含 M金属离子的溶液中, M金属 离子选自 Zn2+、 Cu2+、 Fe2+、 Co2+、 Cd2+、 Pt2+、 Zr2+、 Mn2+、 Ni2+、 Pb2+或 Sn2+中的一种, 溶 剂为甲醇、 乙醇或水中的至少一种;
所述步骤 S4中,
所述第二催化剂为有机钯或有机钯与有机磷配体的混合物;
所述有机钯为 Pd2(dba)3、 Pd(PPh3)4、 Pd(OAc)2或 Pd(PPh3)2Cl2;
所述有机碑配体为 P(o-Tol)3、 三环己基膦;
所述第四有机溶剂为四氢呋喃、 二氯甲烷、 氯仿、 二氧六环、 二甲基酰胺、 乙二醇二甲 醚、 二甲基亚砜、 苯、 氯苯或甲苯中的至少一种;
另, 步骤 S4中, 还包括 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的制备, 其制备 步骤如下:
对二溴苯加入第五有机溶剂中, 用液氮 /异丙醇降温至 -78 °C ,
滴加正丁基锂(n-BuLi ), 然后在 -78°C反应 1-3小时, 再加入结构式为
的 2-异 丙氧基 -4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷, 并在 -78°C下反应 0.5-2小时, 然后自然升温至室 温, 反应 6-36小时, 得到所述 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯; 其中, 所述第 五有机溶剂中为四氢呋喃、 乙醚或者二氧六环中的至少一种; 所述对二溴苯与 2-异丙氧基 —4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷的摩尔比 1 :2~5; 反应式如下:
本发明的无氧环境由氮气或惰性气体构成。
上述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料的制备方法中, 2-溴 -9-取代硅芴由 2-溴硅芴的制 得, 参考文献: Macromolecules 2002, 35, 3474; 2-醛 -9-取代硅芴由 2-溴 -9-取代硅芴的制得, 参考文献: Macromolecules 2006, 39, 456;二吡咯甲烷的制得,参考文献: Tetrahedron 1994, 39, 11427。
下面结合附图, 对本发明的较佳实施例作进一步详细说明。
实施例 1
本实施例公开一种结构如下的硅芴锌卟啉 -苯有机半导体材料
上式中, η=78;
上述有机半导体材料制备步骤如下:
,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的合成
在氮气的保护下,往三口瓶中加入对二溴苯 (4.8g, 0.02mol),加入 100ml的四氢呋喃( THF, 下同)溶剂, 在 -78°C条件下再用注射器慢慢注入正丁基锂 (n-BuLi, 16.8mL, 2.5M, 0.04mol), 继续搅拌反应 2h, 在 -78 °C条件下用注射器注入 2-异丙氧基 -4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼 烷 (8.7mL, 0.04mol), 室温下搅拌过夜。 加入饱和氯化钠水溶液 (30ml)终止反应, 用氯仿萃取, 无水硫酸钠千燥, 抽虑后将滤液收集并旋蒸掉溶剂。 最后将粗产物用石油醚 /乙酸乙酯(15/1) 为淋洗液进行硅胶柱层析分离, 得到产物, 产率 94.6%。
GC-MS(EI-m/z): 332(M+)
二、 5,15-二 (9,,9,-二辛基)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取中间体 2-醛 -9,9-二辛基硅芴 (0.44g, lmmol)与二吡咯甲烷 (0.15g:
lmmol) ,溶解于 250ml二氯甲烷中,通入氮气 30min,注射器加入丙酸 lml , 20°C下搅拌 24h, 然后加入二氯二氨基苯醌 (DDQ)(0.91g, 4mmol) , 继续在室温下搅拌 30min, 然后加入 lml三 乙胺淬灭反应, 浓缩溶剂, 过滤, 收集滤液并旋千溶剂, 用二氯甲烷在硅胶柱上快速淋洗, 旋千溶剂, 用乙醚 /甲醇重结晶到产物, 产率约为 85%。
GC-MS(EI-m/z): 1120(M+)
三、 5,15-二溴 -10,20-二 (9,,9,-二辛基)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取 10,20-二 (9',9'-二辛基)硅芴卟啉 (0.23g, 0.2mmol)溶解于 80ml氯 仿中, 加入 lml吡啶, 将反应物降到 0°C , 加入 N-溴代丁二酰亚胺 (0.07g,0.4mmol) , 搅拌 72h 后, 混合物恢复到室温, 然后继续搅拌 4h, 加入 5ml丙酮终止反应, 除去溶剂, 用乙醚 /甲醇 进行重结晶得到产物, 产率 81 %。
GC-MS(EI-m/z): 1278(M+)
四、 5,15-二溴 -10,20-二 (9,,9,-二辛基)硅芴锌卟啉的合成
称取中间体 5, 15-二溴 -10,20-二 (9,9-二辛基芴)卟啉 (0.25g, 0.2mmol)溶解于 50ml二氯甲烷 中, 加入含醋酸锌 (Zn ( 0 Ac ) 2 , O. l lg, 0.5mmol)的甲醇溶液 (5ml) , 室温下搅拌 5h, 旋千溶 剂, 然后用二氯甲烷 /石油醚 (1/1)在硅胶柱上淋洗, 收集并旋千溶剂得到产物, 产率 94%。
GC-MS(EI-m/z): 1340(M+)
五、 硅芴锌卟啉 -苯有机半导体材料的合成
在氮气保护下, 加入 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯 (66mg, 0.2mmol)、 5,15- 二溴 -10,20-二 (9',9'-二辛基)硅芴锌卟啉(268mg, 0.2mmol)和甲苯溶剂 50ml, 抽真空除氧并充 入氮气, 然后加入 5mg Pd(PPh3)2Cl2与 2ml NaHCO3(50%)溶液, 加热到 100°C反应 56h, 得到 硅芴锌卟啉-苯有机半导体材料反应物混合液。
冷却至室温后将混合液滴加到 300ml甲醇中进行沉降; 抽滤, 甲醇洗涤, 千燥; 然后用 甲苯溶解, 加入到二乙基二硫代氨基甲酸钠的水溶液中 ,然后将混合液加热到 80 V搅拌过夜; 将有机相通过氧化铝的柱层析, 氯苯淋洗; 减压除去有机溶剂, 甲醇沉降, 抽滤, 所得固体 用丙酮索氏提取器提取三天; 甲醇沉降, 抽滤。 真空泵下抽过夜得到硅芴锌卟啉 -苯有机半导 体材料固体产物, 产率 72%. Molecular weight ( GPC, THF, R. I): Mn = 98000, Mw/Mn =3.24;) 实施例 2
本实施例公开一种结构如下的硅芴铁卟啉 -苯有机半导体材料
上式中, n=56;
上述有机半导体材料制备步骤如下:
一、 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的合成
其制备详见实施例 1 , 只是无氧环境釆用氩气作为保护气。
二、 5-(9,-甲基 -9,-十六烷基)硅芴 -15-(9,-三十二烷基)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取中间体 2-醛 -9-甲基 -9-十六烷基硅芴 (0.45g, lmmol)、 2-醛 -9-三 十二烷基硅芴(0.66g, lmmol)、 二吡咯甲烷 (0.30g, 2mmol) , 溶解于 250ml二氯甲烷中, 通入氩 气 30min,注射器加入三氟乙酸 2ml, 100°C下搅拌 lh,然后加入二氯二氨基苯醌 (DDQ)(1.82g, 8mmol), 继续在室温下搅拌 30min, 然后加入 2ml吡啶淬灭反应, 浓缩溶剂, 过滤, 收集滤 液并旋千溶剂, 用二氯甲烷在硅胶柱上快速淋洗, 旋千溶剂, 用乙醚 /甲醇重结晶到产物, 产 率约为 78%。
GC-MS(EI-m/z): 1359(M+)
三、 5,15-二溴 -10-(9,-甲基 -9,-十六烷基)硅芴 -20-(9,-三十二烷基)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置,称取 5-(9'-甲基 -9'-十六烷基)硅芴 -15-(9'-三十二烷基)硅芴卟啉 (0.27g,
0.2mmol)溶解于 80ml氯仿中,加入 1ml吡啶,将反应物降到 0°C ,加入 N-溴代丁二酰亚胺 (0.07g:
0.4mmol),搅拌 0.5h后, 混合物升温至 120 °C , 然后继续搅拌 lh后,加入 5ml丙酮终止反应, 除去溶剂, 用乙醚 /甲醇进行重结晶得到产物, 产率 79%。
GC-MS(EI-m/z): 1516(M+)
四、 5,15-二溴 -10-(9,-甲基 -9,-十六烷基)硅芴 -20-(9,-三十二烷基)硅芴铁卟啉的合成
氩气条件下, 称取中间体 5, 15-二溴 -10-(9'-甲基 -9'-十六烷基)硅芴 -20-(9'-三十二烷基)硅 芴卟啉 (0.31g, 0.2mmol)溶解于 50ml二氯甲烷中, 加入含氯化亚铁 (0.12g, lmmol)的甲醇溶液 (5ml) , 室温下搅拌 8h, 旋千溶剂, 然后用二氯甲烷 /石油醚 (1/1)在硅胶柱上淋洗, 收集并旋 千溶剂得到产物, 产率 95%。
GC-MS(EI-m/z): 1569(M+)
五、 硅芴铁卟啉 -苯有机半导体材料的合成
在氩气保护下, 加入 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯 (66mg, 0.2mmol)、 5, 15- 二溴 -10-(9'-甲基 -9'-十六烷基)硅芴 -20-(9'-三十二烷基)硅芴铁卟啉 (314mg, 0.2mmol)和甲苯溶 剂 120ml,抽真空除氧并充入氩气,然后加入1^(0 0)2 (2.51¾)/三环己基膦(6.51¾)和21^ 20%
(wt) 四乙基绥氢氧化物 (Et4NOH, 下同)溶液, 加热到 120°C反应 24h, 得到硅芴铁卟啉- 苯有机半导体材料反应物混合液。
冷却至室温后将混合液滴加到 200ml甲醇中进行沉降; 抽滤, 甲醇洗涤, 千燥; 然后用
甲苯溶解, 加入到二乙基二硫代氨基甲酸钠的水溶液中 ,然后将混合液加热到 80 V搅拌过夜; 将有机相通过氧化铝的柱层析, 氯苯淋洗; 减压除去有机溶剂, 甲醇沉降, 抽滤, 所得固体 用丙酮索氏提取三天; 甲醇沉降, 抽滤; 空泵下抽过夜得到硅芴铁卟啉-苯有机半导体材料固 体产物, 产率 74%. Molecular weight ( GPC, THF, R. I): Mn = 87000, Mw/Mn = 3.63;)
实施例 3
本实施例公开一种结构如下的 )硅芴铜卟啉 -苯有机半导体材料
上式中, n=28;
上述有机半导体材料制备步骤如下:
一、 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的合成
其制备详见实施例 1.
二、 10,20-二 (9,-十六烷基 -9,-(3"-十六烷基 -4"-十六烷氧基)苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取中间体 2-醛 -9-十六烷基 -9-(3'-十六烷基 -4'-十六烷氧基)苯)硅芴
(1.95g, 2mmol)与二吡咯甲烷 (0.30g, 2mmol), 溶解于 300ml二氯甲烷中, 通入氮气 30min, 注 射器加入三氟乙酸 2ml, 室温下搅拌 3h, 然后加入二氯二氨基苯醌 (DDQ)(1.82g, 8mmol), 继
续在室温下搅拌 30min, 然后加入 2ml三乙胺淬灭反应, 浓缩溶剂, 过滤, 收集滤液并旋千 溶剂,用二氯甲烷在硅胶柱上快速淋洗,旋千溶剂,用乙醚 /甲醇重结晶到产物,产率约为 85%。
GC-MS(EI-m/z): 2201(M+)
三、 5,15-二溴 -10,20-二 (9,-十六烷基 -9,-(3"-十六烷基 -4"-十六烷氧基)苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取 10,20-二 (9'-十六烷基 -9'-(3"-十六烷基 -4"-十六烷氧基)苯)硅芴 卟啉 (0.44g, 0.2mmol)溶解于 80ml氯仿中, 加入 lml吡啶, 将反应物降到 0°C , 加入 N-溴代 丁二酰亚胺 (0.07g, 0.4mmol), 搅拌 0.5h后, 混合物升温至 30°C , 然后继续搅拌 48h, 加入 5ml丙酮终止反应, 除去溶剂, 用乙醚 /甲醇进行重结晶得到产物, 产率 76%。
GC-MS(EI-m/z): 2360(M+)
四、 5,15-二溴 -10,20-二 (9,-十六烷基 -9,-(3"-十六烷基 -4"-十六烷氧基)苯)硅芴铜卟啉的合 成
称取中间体 5, 15-二溴 -10,20-二 (9'-十六烷基 -9'-(3"-十六烷基 -4"-十六烷氧基)苯)硅芴卟 啉 (0.47g, 0.2mmol)溶解于 50ml二氯甲烷中 , 加入 CuSO4'5H2O(0.05g, 0.2mmol)溶液 (5ml), 室 温下搅拌 5h, 旋千溶剂, 然后用二氯甲烷 /石油醚 (1/1)在硅胶柱上淋洗, 收集并旋千溶剂得到
产物, 产率 93%。
GC-MS(EI-m/z): 2416(M+)
五、 硅芴铜 -苯有机半导体材料的合成
在氮气保护下, 加入 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯 (66mg, 0.2mmol)、 5, 15- 二溴 -10,20-二 (9'-十六烷基 -9'-(3 "-十六烷基 -4"-十六烷氧基)苯)硅芴铜卟啉 (483mg, 0.2mmol) 和甲苯溶剂 100ml ,抽真空除氧并充入氮气,然后加入 10mg Pd(PPh3)2Cl2与 2ml KHCO3(30%) 溶液, 加热到 50°C反应 72h, 得到硅芴铜卟啉-苯有机半导体材料反应物混合液。
冷却至室温后将混合液滴加到 300ml甲醇中进行沉降; 抽滤, 甲醇洗涤, 千燥; 然后用 甲苯溶解,加入到二乙基二硫代氨基甲酸钠的水溶液中,然后将混合液加热到 80°C搅拌过夜; 将有机相通过氧化铝的柱层析, 氯苯淋洗; 压除去有机溶剂, 甲醇沉降, 抽滤, 所得固体用 丙酮索氏提取三天; 甲醇沉降, 抽滤, 真空泵下抽过夜得到得到硅芴铜卟啉-苯有机半导体材 料固体产物, 产率 82%。 Molecular weight ( GPC, THF, R. I): Mn = 65400, Mw/Mn = 3.18;) 实施例 4
本实施例公开一种结构如下的硅芴镉卟啉 -苯有机半导体材料
上式中, n=100;
上述有机半导体材料制备步骤如下:
一、 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的合成
其制备详见实施例 1.
二、 5-(9,-对二十烷基苯 -9,-(3",5"-双十二烷氧基苯))硅芴 -15-(9,-对十六烷氧基苯 -9,-间癸 烷基苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取中间体 2-醛 -9-对二十烷基苯 -9-(3',5'-双十二烷氧基苯)硅芴 (1.02g, lmmol)、 2-醛 -9-对十六烷氧基苯 -9-间癸烷基苯硅芴 (0.74g, lmmol)与二吡咯甲烷 (0.30g, 2mmol) ,溶解于 250ml二氯甲烷中,通入氮气 30min,注射器加入乙酸 lml, 20°C下搅拌 24h, 然后加入二氯二氨基苯醌 (DDQ)(0.91g, 4mmol) , 继续在室温下搅拌 30min, 然后加入 lml三 乙胺淬灭反应, 浓缩溶剂, 过滤, 收集滤液并旋千溶剂, 用二氯甲烷在硅胶柱上快速淋洗, 旋千溶剂, 用乙醚 /甲醇重结晶到产物, 产率约为 83%。
GC-MS(EI-m/z): 2205(M+)
三、 5,15-二溴 -10-(9,-对二十烷基苯 -9,-(3",5"-双十二烷氧基苯))硅芴 -20-(9,-对十六烷氧 基苯 _9'-间癸烷基苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取 5,15-二溴 -10-(9'-对二十烷基苯 -9'-(3",5"-双十二烷氧基苯))硅 芴—20-(9'-对十六烷氧基苯 -9'-间癸烷基苯)硅芴卟啉 (0.44g, 0.2mmol)溶解于 80ml 二甲基酰胺 ( DMF ) 中, 将反应物降到 0°C , 加入 N-溴代丁二酰亚胺 (0.07g,0.4mmol), 搅拌 72h后, 混 合物恢复到室温, 然后继续搅拌 4h, 加入 5ml丙酮终止反应, 除去溶剂, 用乙醚 /甲醇进行重 结晶得到产物, 产率 83%。
GC-MS(EI-m/z): 2162(M+)
四、 5,15-二溴 -10-(9,-对二十烷基苯 -9,-(3",5"-双十二烷氧基苯))硅芴 -20-(9,-对十六烷氧 基苯 _9'-间癸烷基苯)硅芴镉卟啉的合成
称取中间体 5,15-二溴 -10-(9'-对二十烷基苯 -9'-(3",5"-双十二烷氧基苯))硅芴 -20-(9'-对十 六烷氧基苯 -9'-间癸烷基苯)硅芴卟啉 (0.43g, 0.2mmol)溶解于 50ml 二氯甲烷中, 加入 Cd(NO3)2'4H2O(0.31g, lmmol)的甲醇溶液 (5ml), 室温下搅拌 5h, 旋千溶剂, 然后用二氯甲烷 /石油醚 (1/1)在硅胶柱上淋洗, 收集并旋千溶剂得到产物, 产率 94%。
GC-MS(EI-m/z): 2271(M+)
五、 硅芴镉卟啉 -苯有机半导体材料的合成
在氮气保护下, 加入 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯 (66mg, 0.2mmol)、 5, 15- 二溴 -10-(9'-对二十烷基苯 -9'-(3",5"-双十二烷氧基苯》硅芴 -20-(9'-对十六烷氧基苯 -9'-间癸 烷基苯)硅芴卟啉 (454mg, 0.2mmol)和二氧六环溶剂 60ml, 抽真空除氧并充入氮气, 然后加入 Pd2(dba)3(5mg)/P(o-Tol)3(8mg)与 15%的 Na2C03(3ml)溶液, 加热到 80°C反应 36h, 得到硅芴镉 卟啉-苯有机半导体材料反应物混合液。
冷却至室温后将混合液滴加到 250ml甲醇中进行沉降; 抽滤, 甲醇洗涤, 千燥; 然后用 甲苯溶解, 加入到二乙基二硫代氨基甲酸钠的水溶液中 ,然后将混合液加热到 80 V搅拌过夜; 将有机相通过氧化铝的柱层析, 氯苯淋洗; 减压除去有机溶剂, 甲醇沉降; 抽滤, 所得固体 用丙酮索氏提取器提取三天; 醇沉降, 抽滤; 真空泵下抽过夜得到硅芴镉卟啉-苯有机半导体 材料固体产物, 产率 75%. Molecular weight ( GPC, THF, R. I): Mn = 219000, Mw/Mn =4.36; 实施例 5
本实施例公开一种结构如下的硅芴钴卟啉 -苯有机半导体材料
上式中, n=40;
上述有机半导体材料制备步骤如下:
一、 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的合成
其制备详见实施例 1.
二、 5-(9,-(3",4",5"-三癸烷氧基)苯 -9,-对十六烷基苯)硅芴 -15-(9,-(3"-十二烷基 -5"-二十 烷氧基)苯 -9,-(3"-三十二烷基 -4,,-三十二烷氧基)苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取中间体 2-醛 -9-(3',4',5'-三癸烷氧基)苯 -9-对十六烷基苯硅芴 (1.06g, lmmol)、2-醛 -9-(3' -十二烷基 -5' -二十烷氧基 )-9-(3' -三十二烷基 -4'-三十二烷氧基)苯硅 芴(1.74g, lmmol)、 二吡咯甲烷 (0.30g, 2mmol) , 溶解于 250ml二氯甲烷中, 通入氮气 30min, 注射器加入丙酸 2ml, 100°C下搅拌 lh, 然后加入二氯二氨基苯醌 (DDQ)(1.82g, 8mmol), 继续 在室温下搅拌 30min, 然后加入 2ml吡啶淬灭反应, 浓缩溶剂, 过滤, 收集滤液并旋千溶剂, 用二氯甲烷在硅胶柱上快速淋洗, 旋千溶剂, 用乙醚 /甲醇重结晶到产物, 产率约为 74%。
GC-MS(EI-m/z): 3047(M+)
三、 5,15-二溴 -10-(9,-(3,,,4,,,5,,-三癸烷氧基)苯-9,-对十六烷基苯)硅芴-20-(9,-(3,,-十二烷 基 -5,,-二十烷氧基)苯 -9,- 3"-三十二烷基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取 5-(9'-(3",4",5"-三癸烷氧基)苯 -9'-对十六烷基苯)硅芴
-15-(9'-(3"—十二烷基 -5"—二十烷氧基)苯 -9'-(3"—三十二烷基 -4"—三十二烷氧基)苯)硅芴卟啉 (0.61g, 0.2mmol)溶解于 40ml四氢呋喃中, 加入 0.5ml三乙胺, 将反应物降到 0°C , 加入 N- 溴代丁二酰亚胺 (0.07g, 0.4mmol), 搅拌 0.5h后, 混合物升温至回流, 然后继续搅拌 lh后, 加入 5ml丙酮终止反应, 除去溶剂, 用乙醚 /甲醇进行重结晶得到产物, 产率 82%。
GC-MS(EI-m/z): 3204(M+)
四、 5-(9,-(3",4",5"-三癸烷氧基)苯 -9,-对十六烷基苯)硅芴 -15-(9,-(3"-十二烷基 -5"-二十 烷氧基)苯 -9,-(3"-三十二烷基 -4,,-三十二烷氧基)苯)硅芴钴卟啉的合成
称取中间体 5-(9'-(3",4",5"-三癸烷氧基)苯 -9'-对十六烷基苯)硅芴 -15-(9'-(3"-十二烷基 -5"-二十烷氧基)苯 -9'-(3"-三十二烷基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴卟啉 (0.64g, 0.2mmol)溶解于 50ml二氯甲烷中, 加入 CoCl2'6H2O(0.12g, 0.5mmol)溶液 (5ml), 室温下搅拌 12h, 旋千溶剂, 然后用二氯甲烷 /石油醚 (1/1)在硅胶柱上淋洗, 收集并旋千溶剂得到产物, 产率 96%。
GC-MS(EI-m/z): 3257(M+)
五、 硅芴钴卟啉 -苯有机半导体材料的合成
在氮气保护下, 加入 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯 (66mg, 0.2mmol)、 5,15- 二溴—10-(9'-(3",4",5"-三癸烷氧基)苯 -9'-对十六烷基苯)硅芴 -20-(9'-(3"-十二烷基 -5"-二十烷 氧基)苯 -9'-(3"-三十二烷基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴钴卟啉 (650mg, 0.2mmol)和 DMF 溶剂 80ml,抽真空除氧并充入氮气,然后加入 Pd(OAc)2 (2.5mg)/三环己基膦 (6.5mg)和 2ml 20% (wt) Et4NOH溶液, 加热到 80°C反应 48h, 得到硅芴钴卟啉-苯有机半导体材料反应物混合液。
冷却至室温后将混合液滴加到 250ml甲醇中进行沉降; 抽滤, 甲醇洗涤, 千燥; 然后用 甲苯溶解, 加入到二乙基二硫代氨基甲酸钠的水溶液中 ,然后将混合液加热到 80 V搅拌过夜; 将有机相通过氧化铝的柱层析, 氯苯淋洗; 减压除去有机溶剂, 甲醇沉降; 抽滤, 所得固体 用丙酮索氏提取三天; 醇沉降, 抽滤; 真空泵下抽过夜得到硅芴钴卟啉-苯有机半导体材料固 体产物, 产率 83%. Molecular weight ( GPC, THF, R. I): Mn = 127100, Mw/Mn =3.96。
实施例 6
本实施例公开一种结构如下的硅芴锡卟啉 -苯有机半导体材料
上式中, n=10;
上述有机半导体材料制备步骤如下:
一、 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的合成
其制备详见实施例 1.
二、 5-(9,-十六烷基 -9,-(3"-甲基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴 -15-(9,-(3",5"-二癸烷基)苯 _9,-(3"-辛基 -4"-十二烷 苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取中间体 2-醛 -9-十六烷基 -9-(3'-甲基 -4'-三十二烷氧基)苯硅芴 (0.99g, lmmol)、 2-醛 -9-(3',5'-二癸烷基)苯 -9-(3'-辛基 -4'-十二烷氧基)苯硅芴(0.94g, lmmol)、 二吡咯甲烷 (0.30g, 2mmol), 溶解于 250ml二氯甲烷中, 通入氮气 30min, 注射器加入三氟乙 酸 2ml, 100°C下搅拌 lh, 然后加入二氯二氨基苯醌 (DDQ)(1.82g, 8mmol), 继续在室温下搅拌 30min, 然后加入 2ml三乙胺淬灭反应, 浓缩溶剂, 过滤, 收集滤液并旋千溶剂, 用二氯甲烷 在硅胶柱上快速淋洗, 旋千溶剂, 用乙醚 /甲醇重结晶到产物, 产率约为 74%。
GC-MS(EI-m/z): 2179(M+)
三、 5,15-二溴-10-(9,-十六烷基-9,-(3,,-甲基-4,,-三十二烷氧基)苯)硅芴-20-(9,-(3,,,5,,-二癸 烷基)苯 -9,-(3,,-辛基 -4"-十二烷氧基)苯)硅芴卟啉的合成
搭好无水无氧装置, 称取 5-(9'-十六烷基 -9'-(3"-甲基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴 -15-(9'-(3",5"-二癸烷基)苯 -9'-(3"-辛基 -4"-十二烷氧基)苯)硅芴卟啉 (0.44g, 0.2mmol)溶解于 80ml邻二氯苯中,加入 1ml吡啶,将反应物降到 0°C ,加入 N-溴代丁二酰亚胺 (0.07g, 0.4mmol), 搅拌 0.5h后, 混合物升温至 120 °C , 然后继续搅拌 lh后,加入 5ml丙酮终止反应, 除去溶剂, 用乙醚 /甲醇进行重结晶得到产物, 产率 85%。
GC-MS(EI-m/z): 2337(M+)
四、 5,15-二溴-10-(9,-十六烷基-9,-(3,,-甲基-4,,-三十二烷|^)苯)硅芴-20-(9,-(3,,,5,,-二癸 烷基)苯 -9,-(3,,-辛基 -4"-十二烷 M^)苯)硅锡卟啉的合成
N2氛围下,称取中间体 5,15-二溴 -10-(9'-十六烷基 -9'-(3"-甲基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴 -20-(9'-(3",5"-二癸烷基)苯 -9'-(3"-辛基 -4"-十二烷氧基)苯)硅芴卟啉 (0.47g, 0.2mmol)溶解于 50ml二氯甲烷中, 加入含 SnCl2(0.11g, 0.6mmol)的乙醇溶液 (5ml), 室温下搅拌 24h, 旋千溶 剂, 然后用二氯甲烷 /石油醚 (1/1)在硅胶柱上淋洗, 收集并旋千溶剂得到产物, 产率 95%。
GC-MS(EI-m/z): 2451(M+)
五、 10-(9,-十六烷基 -9,-(3"-甲基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴 -20-(9,-(3",5"-二癸烷基)苯 _9,-(3,,-辛基 -4,,-十二烷 苯)硅芴锡卟啉 机半导体材料的合成 (n=10)
在氮气保护下, 加入 1,4-二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯 (66mg, 0.2mmol)、 5,15- 二溴- 10-(9'-十六烷基 -9'-(3"-甲基 -4"-三十二烷氧基)苯)硅芴 -20-(9'-(3",5"-二癸烷基)苯
—9'-(3"-辛基 -4"-十二烷氧基)苯)硅芴锡卟啉 (490mg, 0.2mmol)和乙二醇二甲醚溶剂 80ml,抽真 空除氧并充入氮气, 然后加入 10mg Pd(PPh3)4和 4ml K2C03(5%)溶液, 加热到 80°C反应 24h,
得到硅芴锡卟啉-苯有机半导体材料反应物混合液。
冷却至室温后将混合液滴加到 250ml甲醇中进行沉降; 抽滤, 甲醇洗涤, 千燥; 然后用 甲苯溶解, 加入到二乙基二硫代氨基甲酸钠的水溶液中 ,然后将混合液加热到 80 V搅拌过夜; 将有机相通过氧化铝的柱层析, 氯苯淋洗; 减压除去有机溶剂, 甲醇沉降; 抽滤, 所得固体 用丙酮索氏提取三天; 甲醇沉降, 抽滤; 真空泵下抽过夜得到硅芴锡卟啉 -苯有机半导体材料 固体产物, 产率 72%. Molecular weight ( GPC, THF, R. I): Mn = 23700, Mw/Mn = 2.86。
本发明还提供了
(式中: n为 1-100间的整数, Ri , R2, R3, 为11、 d-C32的烷基、 苯基、含有一个或多个 d-C32的烷基苯或烷氧基苯; M为金属离子) 的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料在聚合物太阳能电池,有机电致发光,有机场效应晶体管, 有机光存储, 有机非线性器件和有机激光器件等领域中的应用。
以下实施例是硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料在有机太阳能电池, 有机场效应晶体管, 有机电致发光器件中的应用。
实施例 7
以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为活性层材料的有机太阳能电池器件 一种有机太阳能电池器件, 其结构如图 1所示。 其中, 本实施例中的衬底釆用 ITO玻璃, 玻璃作为衬底基材, ITO作为导电层。
该有机太阳能电池器件的结构为: 玻璃 11/ITO层 12/PEDOT:PSS 层 13/活性层 14/A1层 15; 其中, 活性层的材盾为混合物, 包括电子给体材料, PCBM为电子受体材料; 电子给体 材料以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为材盾, 电子受体材料为 [6,6]苯基 -C61- 丁酸甲酯(筒称 PCBM ); ITO是方块电阻为 10-20 Ω/口的氧化铟锡, PEDOT为聚(3,4-亚乙 二氧基噻吩), PSS为聚(苯乙婦磺酸); 优选方块电阻为 18 Ω/口的 ITO。
该有机太阳能电池器件的制备过程为:
在玻璃基片 11的一个表面沉积一层方块电阻为 10-20 Ω/口的氧化铟锡(IT0 )层 12, 形 成作为阳极的导电层, 厚度约为 50-300 nm;
ITO玻璃经过超声波清洗, 并用氧 -Plasma处理后, 在 ITO表面涂上一层起修饰作用的 PEDOT:PSS层 13 , 厚度为 20-300 nm;
在聚( 3,4-亚乙二氧基噻吩): PSS为聚(苯乙婦磺酸)层上釆用旋涂技术涂覆一层活性 层 14, 厚度为 50-300 nm, 该活性层的材盾以实施例 1中的硅芴金属卟啉 -苯有机半导体材料 和 [6,6]苯基 -C61 -丁酸甲酯 (筒称 PCBM ) 的混合物;
在活性层的表面真空蒸镀金属铝, 形成作为阴极的金属铝层 15 , 得到有机太阳能电池器 件;
将有机太阳能电池器件用环氧树脂封装后, 置于 110°C密闭条件下退火 1.5小时, 再降 到室温。 由于器件经过退火后, 材料的化学结构更加规整有序, 提高了载流子的传输速度和 效率, 从而提高了器件的光电转换效率。
优选 ITO、 PEDOT:PSS层、活性层、 A1层的厚度分别为 150 nm、 50 nm、 120 nm、 100 nm。 实施例 8
以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为材盾的机电致发光器件
一种有机电致发光器件, 其结构如图 2所示; 本实施例中的衬底釆用 ITO玻璃, 玻璃作 为衬底基材, ITO作为导电层。
该有机电致发光器件的结构为: 玻璃 21 /ITO层 22/发光层 23/LiF緩冲层 24/ A1层 25; 其 中: 发光层以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为材盾。
该有机电致发光器件的制备过程为:
在玻璃基片 21的一个表面沉积一层方块电阻为 10-20 Ω/口的氧化铟锡(ITO )层 22, 形 成作为阳极的导电层, 厚度为 50-300 nm; 优选方块电阻为 10 Ω/口的 ITO。
通过旋涂技术在 ITO表面制备一层以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为材 盾的发光层 23 , 厚度约为 50-300 nm;
在发光层上真空蒸镀 LiF, 作为緩冲层 14, 厚度约为 0.3-2 nm;
在所述发光层上真空蒸镀金属铝, 形成作为阴极的金属铝层 25 , 得到所述有机电致发光 器件。
实施例 9
以含实施例一中的实施例一中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为材质的有机场效应 晶体管
一种有机场效应晶体管, 其结构如图 3 所示; 本实施例中的衬底釆用掺杂硅片 (Si )作 为衬底。
该有机场效应晶体管的结构为: Si 31/450nm厚的 Si02绝缘层 32/用于修饰 Si02的十八 烷基三氯硅烷( OTS )层 33/有机半导体层 34 /以金为材盾的源电极( S ) 35和漏电极(D ) 36; 其中, 有机半导体层以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料为材盾; 其中, 源 电极(S )和漏电极(D )材盾也可以选用铜材。
该有机场效应晶体管的制备过程为:
首先,在清洗过后的掺杂硅片 31的一个表面上涂覆一层 450nm厚的 Si02绝缘层 32;其 次,在所述 Si02绝缘层上涂覆一层起修饰作用的十八烷基三氯硅烷层 33 ,厚度为 10-200 nm; 接着,在所述十八烷基三氯硅烷层上旋涂一层以实施例 1中的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材 料为材盾的有机半导体层 34, 厚度约为 30-300 nm; 最后, 在所述有机半导体层上间隔设置 有以金但不仅限于金为材盾的源电极( S ) 35和漏电极(D ) 36,得到所述有机场效应晶体管。
应当理解的是, 上述针对本发明较佳实施例的表述较为详细, 并不能因此而认为是对本 发明专利保护范围的限制, 本发明的专利保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (5)
- 权利要求书1、 具有如下通式(I ) 的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料:式中: n为 1-100间的整数, Ri , R2 , R3 , 分别为 H、 d-C32的烷基、 苯基、 含有一个 或多个 d-C32的烷基苯或烷氧基苯; M为金属离子。
- 2、 根据权利要求 1 所述的硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料, 其特征在于, 所述金属离 子为 Zn<sup>2+</sup>、 Cu<sup>2+</sup>、 Fe<sup>2+</sup>、 Co<sup>2+</sup>、 Cd<sup>2+</sup>、 Pt<sup>2+</sup>、 Zr<sup>2+</sup>、 Mn<sup>2+</sup>、 Ni<sup>2+</sup>、 Pb<sup>2+</sup>、 Sn<sup>2+</sup>。
- 3、 一种硅芴金属卟啉 -苯有机半导体材料的制备方法, 其特征在于, 所述制备方法包括 如下步骤:H H步骤 Sl、 氧化剂、 第一催化剂存在条件下, 将结构式为 """"~"""""" 的二吡咯甲烷、 结构式为溶于第一有机溶剂 , 于 20-100°C温度下, 反应 1-24 小时, 得到结构式为的硅芴卟啉衍生物; 式中, R , R2 , R3 , R4分别为 H、 C1-C32 的烷基、 苯基、 含有一个或多个 d-C32的烷基苯或烷氧基苯;步骤 S2、将步骤 S1中得到的硅芴卟啉衍生物和溴化剂加入到第二有机溶剂中,于 0~120°C 下反应 1~72小时, 得到结构式为 的二溴硅芴卟啉衍生物; 步骤 S3、 将步骤 S2中得到的二溴硅芴卟啉衍生物溶于第三有机溶剂中, 接着加入含 M 属 离 子 的 溶 液 , 于 0-30°C 下 搅 拌 0.5-24 小 时 , 得 到 结 构 式 为的二溴硅芴金属卟啉衍生物;步骤 S4、 无氧环境中, 第二催化剂和第四有机溶剂存在条件下, 将步骤 S3 中得到的二 B_ V溴硅芴金属卟啉衍生物和结构式为 ' 、ο' '的 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂 氧戊硼烷)苯按摩尔比 1 :2~2: 1 , 于 50-120°C中进行 Suzuki耦合反应 12-72小时, 得到结构式的所述硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料, 式中, n为 1-100间的整数。4、 根据权利要求 3所述的制备方法, 其特征在于, 所述步骤 Si t , 所述二吡咯甲烷、 第一硅芴衍生物、 第二硅芴衍生物的摩尔比为 a:b:c=l : l~100: l~100, 其中 a=b+c, JL a>b>0; 所述第一催化剂为丙酸、 三氟乙酸; 所述氧化剂为二氯二氨基苯醌; 所述第一有机溶剂为三 氯甲烷、 二氯甲烷中的一种或两种。5、 根据权利要求 3所述的制备方法, 其特征在于, 所述步骤 S2中, 所述硅芴卟啉衍生 物和溴化剂的用量摩尔比为 1 :2~1 :5; 所述溴化剂为 N-溴代丁二酰亚胺; 所述第二有机溶剂为 四氢呋喃、 氯仿、 二甲基酰胺或邻二氯苯中的至少一种。 6、 根据权利要求 3所述的制备方法, 其特征在于, 所述步骤 S3中, 所述二溴硅芴卟啉 衍生物和 M离子的摩尔比为 1 : 1~1 :5; 所述第三有机溶剂为三氯甲烷、 四氢呋喃、 苯、 甲苯 或二氯甲烷中的至少一种; 所述含 M金属离子的溶液中, M金属离子选自 Zn2+、 Cu2+、 Fe2+、 Co2+、 Cd2+、 Pt2+、 Zr2+、 Mn2+、 M2+、 Pb2+或 Sn2+中的一种, 溶剂为甲醇、 乙醇或水中的至少 一种。
- 7、 根据权利要求 3所述的制备方法, 其特征在于, 所述步骤 S4中, 所述第二催化剂为 有机钯或有机钯与有机磷配体的混合物;所述有机钯为 Pd2(dba)3、 Pd(PPh3)4、 Pd(OAc)2或 Pd(PPh3)2Cl2;所述有机碑配体为 P(o-Tol)3、 三环己基膦;所述第四有机溶剂为四氢呋喃、二氯甲烷、 氯仿、二氧六环、二甲基酰胺、 乙二醇二甲醚、 二甲基亚砜、 苯、 氯苯或甲苯中的至少一种。8、 根据权利要求 3 所述的制备方法, 其特征在于, 所述步骤 S4 中, 还包括 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯的制备, 其制备步骤如下: 将结构式为 中,用液氮 /异丙醇降温至 -78°C , 然后滴加正丁基锂,并在 -78°C反应 1-3小时,再加入结构式为 2-异丙氧基 -4,4: 四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷, 继续在 -78°C下反应 0.5-2小时, 然后自然升温至室温, 反应 6-36 小时, 得到所述 1,4-对二 (4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼烷)苯。9、 根据权利要求 8所述的制备方法, 其特征在于, 所述第五有机溶剂中为四氢呋喃、 乙 醚或者二氧六环中的至少一种; 所述对二溴苯与 2-异丙氧基 -4,4,5,5-四甲基 -1,3,2-二杂氧戊硼 烷的摩尔比 1 :2~5。
- 10、 一种如权利要求 1所述的硅芴金属卟啉 -苯有机半导体材料在有机太阳能电池,有 机电致发光器件, 有机场效应晶体管, 有机光存储, 有机非线性器件和有机激光器件等领域 中的应用。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2010/076847 WO2012034267A1 (zh) | 2010-09-13 | 2010-09-13 | 硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料及其制备方法和应用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103025737A true CN103025737A (zh) | 2013-04-03 |
CN103025737B CN103025737B (zh) | 2015-07-01 |
Family
ID=45830918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201080068186.4A Active CN103025737B (zh) | 2010-09-13 | 2010-09-13 | 硅芴金属卟啉-苯有机半导体材料及其制备方法和应用 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8841443B2 (zh) |
EP (1) | EP2617725B1 (zh) |
JP (1) | JP5538630B2 (zh) |
CN (1) | CN103025737B (zh) |
WO (1) | WO2012034267A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7046938B2 (ja) * | 2016-10-31 | 2022-04-04 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 有機機能材料の調合物 |
CN111009611B (zh) * | 2019-11-13 | 2022-07-12 | 浙江师范大学 | 有机无机杂化纳米薄膜阻变存储器的制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2006182710A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Sony Corp | ポルフィリン化合物及びその製造方法、有機半導体膜及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法 |
CN101467280A (zh) * | 2006-05-15 | 2009-06-24 | 日东电工株式会社 | 发光器件和组合物 |
WO2010075512A1 (en) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | Michigan Technological University | Polymers with bodipy-based backbone for solar cells |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5371199B1 (en) * | 1992-08-14 | 1995-12-26 | Univ Pennsylvania | Substituted porphyrins porphyrin-containing polymers and synthetic methods therefor |
JP3150948B2 (ja) * | 1998-09-21 | 2001-03-26 | 科学技術振興事業団 | メソ位直結型ポルフィリンポリマーとその製造方法 |
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JP5546070B2 (ja) * | 2010-01-30 | 2014-07-09 | 海洋王照明科技股▲ふん▼有限公司 | フルオレニルポルフィリン−アントラセンを含むコポリマー、その製造方法およびその応用 |
CN102712652B (zh) * | 2010-03-23 | 2014-03-19 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 含芴卟啉-苯共聚物、其制备方法和应用 |
US8604147B2 (en) * | 2010-05-18 | 2013-12-10 | Ocean's King Lighting Science & Technology Co., Ltd. | Porphyrin copolymer containing quinoxaline unit, preparation method and uses thereof |
CN102834430B (zh) * | 2010-06-07 | 2014-03-12 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 含噻吩并噻二唑单元卟啉共聚物、其制备方法和应用 |
-
2010
- 2010-09-13 CN CN201080068186.4A patent/CN103025737B/zh active Active
- 2010-09-13 US US13/821,523 patent/US8841443B2/en active Active
- 2010-09-13 EP EP10857123.3A patent/EP2617725B1/en active Active
- 2010-09-13 JP JP2013527442A patent/JP5538630B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-09-13 WO PCT/CN2010/076847 patent/WO2012034267A1/zh active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006182710A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Sony Corp | ポルフィリン化合物及びその製造方法、有機半導体膜及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法 |
US20060152149A1 (en) * | 2005-01-11 | 2006-07-13 | General Electric Company | Porphyrin compositions |
CN101467280A (zh) * | 2006-05-15 | 2009-06-24 | 日东电工株式会社 | 发光器件和组合物 |
WO2010075512A1 (en) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | Michigan Technological University | Polymers with bodipy-based backbone for solar cells |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
BINSONG LI,等: "Porphyrins with Four Monodisperse Oligofluorene Arms as Efficient Red Light-Emitting Materials", 《J. AM. CHEM. SOC.》 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013538276A (ja) | 2013-10-10 |
EP2617725B1 (en) | 2014-09-03 |
CN103025737B (zh) | 2015-07-01 |
WO2012034267A1 (zh) | 2012-03-22 |
JP5538630B2 (ja) | 2014-07-02 |
US8841443B2 (en) | 2014-09-23 |
US20130165646A1 (en) | 2013-06-27 |
EP2617725A4 (en) | 2014-03-12 |
EP2617725A1 (en) | 2013-07-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant |