CN102992641A - 基板处理装置以及处理液赋予方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够抑制从移动的喷嘴喷出的处理液的流量发生变动的技术。基板处理装置具有：基板保持部，其将基板保持为大致水平；主扫描机构，其具有沿着大致平行于基板的主扫描方向延伸的主扫描机构引导部、被主扫描机构引导部支撑且能够沿着主扫描方向移动的滑块；喷出部，其被滑块支撑且能够沿着主扫描方向移动，并用于向基板喷出涂敷液；挠性的涂敷液配管，其与喷出部连接且向喷出部引导涂敷液；可动配管支撑部，其支撑涂敷液配管的非端部部分，并且可动配管支撑部的朝向随着主扫描的反复进行引起的滑块周期性运动而周期性地变化。

Description

基板处理装置以及处理液赋予方法

技术领域

本发明涉及用于保持对半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、PDP（Plasma Display Panel：等离子显示板）用玻璃基板、有机EL显示板用玻璃基板、太阳能电池用基板、磁盘或光盘用的玻璃或陶瓷基板等各种被处理基板涂敷的处理液的流量的稳定性的技术。

背景技术

以往公知有如下技术，即，喷嘴一边扫描表面排列有分隔壁的基板的表面一边作为涂敷液涂敷有机EL那样的像素形成材料。此时，具有挠性的配管与进行扫描移动的喷嘴连接，从喷嘴喷出在配管中流动的涂敷液。

作为这样的技术，例如，在专利文献1中公开了一种涂敷装置，该涂敷装置具有：引导部，其沿着主扫描方向延伸；滑块，在其与引导部之间存在空气层的状态下被引导部支撑，并能够沿着主扫描方向移动；喷嘴，其被滑块支撑，用于喷出涂敷液；配管支撑构件，其支撑与滑块以及喷嘴连接的配管的非端部部分。

另外，在专利文献2中公开了一种涂敷装置，该涂敷装置具有与引导部卡合且被支撑为能够在主扫描方向上移动的滑块、被滑块支撑的喷嘴，用于向滑块及喷嘴引导流体的多个配管隔着引导部的轴分开设置在喷嘴及滑块的两侧。

专利文献1：JP特开2011-072974号公报。

专利文献2：JP特开2011-072975号公报。

但是，由于专利文献1或专利文献2公开的这些配管具有挠性，所以由于滑块的移动或振动易于使配管的一部分产生扭曲等变形。有时，由于变形后的配管的形状，在滑块扫描移动时，涂敷液在配管内向与本来的流动方向相反的方向流动，而从喷嘴喷出的涂敷液的流量发生变动。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能够抑制从移动的喷嘴喷出的处理液的流量发生变动的技术。

第一发明为一种基板处理装置，具有：基板保持部，其将基板保持为大致水平，主扫描机构，其具有沿着大致平行于所述基板的主扫描方向延伸的引导部、被所述引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的移动部，喷出部，其被所述移动部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动，并用于向所述基板喷出处理液，挠性的配管，其与所述喷出部连接，并用于向所述喷出部引导处理液，可动配管支撑部，其用于支撑所述配管的非端部部分，并且所述可动配管支撑部的朝向随着所述移动部的周期性运动而周期性地变化，所述移动部的周期性运动是因主扫描的反复进行而引起的。

第二发明在第一发明的基板处理装置中，所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述喷出部连接的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。

第三发明在第二发明的基板处理装置中，所述配管上的所述区间形成为向上方凸出的弓形形状。

第四发明在第一发明的基板处理装置中，还具有辅助扫描机构，所述辅助扫描机构具有沿着所述引导部延伸的辅助引导部、被所述辅助引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的辅助移动部，所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述喷出部连接的连接部分之间的规定部分，被所述辅助移动部支撑。

第五发明在第四发明的基板处理装置中，所述可动配管支撑部与所述辅助移动部相连接。

第六发明在第四发明的基板处理装置中，所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述辅助移动部连接的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。

第七发明在第四发明的基板处理装置中，所述主扫描机构配置在所述辅助扫描机构的下方。

第八发明在第一发明至第七发明中任一项的基板处理装置中，还具有用于调节所述可动配管支撑部的朝向的驱动部。

第九发明为一种处理液赋予方法，包括：第一工序，将基板保持为大致水平，第二工序，一边从喷出部喷出处理液，一边使支撑所述喷出部的移动部沿着主扫描方向在基板上周期性地进行扫描移动，第三工序，使可动配管支撑部的朝向随着进行扫描移动的所述移动部而周期性地变化，其中，所述可动配管支撑部用于支撑向所述喷出部引导所述处理液的挠性的配管的非端部部分。

在第一发明至第九发明中，可动配管支撑部支撑配管的非端部部分，并且其朝向随着移动部的周期性的运动而周期性地变化。因此，即使移动部移动，由于可动配管支撑部的朝向随其变化，所以能够抑制在被可动配管支撑部支撑的配管的部分产生扭曲。结果，能够抑制从喷出部喷出的处理液的流量发生变动。

尤其，在第二发明中，被可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与喷出部连接的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。因此，由于配管变长，所以能够使配管的乱摆或颤动在整个配管上得以缓和，减小其影响。由此，能够抑制从喷出部喷出的处理液的流量发生变动。

尤其，在第三发明中，配管的区间形成为向上方凸出的弓形形状。因此，由于从与主扫描机构连接的喷出部延伸出的配管的端末向上方立起，所以即使移动部移动，也难于产生使处理液在配管内逆流的方向的力。由此，能够抑制从喷出部喷出的处理液的流量发生变动。

尤其，在第四发明中，被可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与喷出部连接的连接部分之间的规定部分被辅助移动部支撑。因此，即使配管颤动或乱摆，也难于传递至喷出部，因此，能够抑制从喷出部喷出的涂敷液的流量发生变动。

尤其，在第五发明中，可动配管支撑部与辅助移动部连接。因此，能够通过辅助移动部的驱动，可靠地使可动配管支撑部的朝向变化。

尤其，在第六发明中，被可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与辅助移动部连接的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。因此，由于配管变长，能够使配管的颤动或乱摆在弓形形状的整个配管上得以缓解，减小其影响。

尤其，在第七发明中，主扫描机构配置在辅助扫描机构的下方。因此，与喷出部连接的配管的端末易于维持为向上方立起的状态。因此，即使移动部移动，也难于产生向处理液逆流的方向的力，能够抑制处理液的流量发生变动。

尤其，在第八发明中，通过用于调节可动配管支撑部的朝向的驱动部，能够可靠地随着移动部调节可动配管支撑部的朝向。

附图说明

图1是表示实施方式的基板处理装置的概略俯视图。

图2是表示该基板处理装置的概略主视图。

图3是图2的I-I线概略剖视图。

图4是表示实施方式的基板处理装置中的主要构成构件的配置关系的概略立体图。

图5是表示处理流程的流程图。

图6是表示变形例的基板处理装置的主要构成构件的配置关系的概略立体图。

图7是表示变形例的基板处理装置的主要构成构件的配置关系的概略立体图。

图8是表示变形例的基板处理装置的主要构成构件的配置关系的概略立体图。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。以下的实施方式是本发明具体化的一个例子，不限定本发明的保护范围。

图1是表示本实施方式的基板处理装置20的概略俯视图。图2是表示基板处理装置20的概略主视图。图3是图2所示的基板处理装置20的I-I线概略剖视图。另外，图4是概略地表示基板处理装置20的主要部分的配置关系的概略立体图。

此外，在以下的说明中，在表示方向以及朝向时，适当使用图中所示的XYZ直角坐标。在此，X轴及Y轴方向表示水平方向，Z轴方向表示铅垂方向（＋Z侧为上侧，-Z侧为下侧）。另外，为了方便，将Y轴方向作为基板的搬运方向（＋Y侧为下游侧，-Y侧为上游侧），将X轴方向作为移动部的主扫描方向（＋X侧，-X侧）。

基板处理装置20是对基板200涂敷作为处理液的涂敷液的装置。作为基板200假设是四边形的基板，例如，是平面显示装置用的玻璃基板等。另外，作为涂敷液假设用于形成在基板200上的图案等的形成材料，例如，在假设制造有机EL显示装置时，作为涂敷液假设含有有机EL材料及其溶媒等的液体等。

该基板处理装置20主要具有用于保持基板200的基板保持部30、主扫描机构40、用于喷出涂敷液的喷出部50、辅助扫描机构60、用于支撑由挠性的树脂管等构成的涂敷液配管80b的可动配管支撑部100。

基板保持部30能够将基板200保持为大致水平姿势。在此，基板保持部30具有工作台32，所述工作台32以其主面朝上的大致水平的姿势配设在规定的高度位置。另外，通过以基板200的主面与工作台32的朝上的主面抵接的方式将基板200载置在工作台32上，能够在规定的位置以规定的姿势保持基板200。基板保持部还可以通过把持基板的周边来保持该基板。

另外，在基板保持部30的下方设置有基板移动机构34，所述基板移动机构34使基板200沿着Y方向（副扫描方向）相对于喷出部50移动。在此，基板移动机构34具有上方支撑工作台32的台部36和一对滑动托部37。滑动托部37设置在台部36的下端部，能够在沿着Y方向延伸的一对副扫描方向引导部39上滑动移动。另外，基板移动机构34通过受到来自线性马达等基板移动驱动部（省略图示）的驱动力，使上述工作台32以及基板200一起沿着Y方向移动。此外，可以使主扫描机构40以及喷出部50沿着Y方向相对于基板200移动，来代替使基板200沿着Y方向移动。此外，上述工作台32可以构成为，能够被驱动而围绕铅垂轴相对基板移动机构34旋转。

主扫描机构40具有主扫描机构引导部42、沿着主扫描机构引导部42移动的滑块44。主扫描机构引导部42形成为在基板200的上方位置沿着与基板200大致平行的主扫描方向（X方向）延伸的长构件。滑块44为具有能够被主扫描机构引导部42穿过的内部空间的构件，滑块44被该主扫描机构引导部42支撑，并且能够沿着X方向移动。此外，在本实施方式中，滑块44相当于移动部。移动部不限于滑块，只要是能够沿着主扫描机构引导部42移动的构件即可。

更具体地说，主扫描机构引导部42形成为大致方柱状构件。如图4所示，滑块44的外形为大致长方体状。另外，在滑块44的内部形成内部空间44S，通过该内部空间44S，能够使滑块44具有间隔地包围主扫描机构引导部42的外周面。从后述的空气供给源86经由空气配管80a供给的空气的一部分向滑块44的内周面喷出。由此，滑块44处于如下状态，即，在其与主扫描机构引导部42的外周面之间存在空气层的状态下，被支撑并能够沿着X方向移动。结果，滑块44以能够高速、大加速地移动且耐久性良好的状态被支撑。

此外，如图3所示，在主扫描机构引导部42的上表面形成有上方开口且沿着X方向延伸的凹槽43，在滑块44的上部宽度方向（Y方向）的中间部形成有宽度与上述凹槽43对应的缝部45a。另外，在该缝部45a的部分安装有带安装架45，在上述凹槽43内，将用于驱动滑块44的驱动带74安装在带安装架45上。

但是，这些结构不是必须的。例如，主扫描机构引导部可以构成为单纯的方柱状或圆柱状，在滑块内形成比该单纯的方柱状或圆柱状的主扫描机构引导部大一圈的内部空间。另外，主扫描机构引导部可以具有多个柱状构件。此外，滑块不需要被支撑为在隔着空气层的状态下相对于主扫描机构引导部自由移动。例如，滑块可以被支撑为，在隔着其他低摩擦构件、转动体等与长状的主扫描机构引导部接触的状态下，相对于长的主扫描机构引导部自由移动。

另外，在此，在主扫描机构引导部42的上方设置有计数器（counter）用引导部46以及计数器用滑块48。

计数器用导部46形成为沿着X方向延伸的长柱状构件。计数器用滑块48为具有能够被计数器用引导部46穿过的内部空间的构件，计数器用滑块48被该计数器用引导部46支撑为能够沿着X方向移动。

在此，计数器用引导部46形成为大致圆柱状，在上述主扫描机构引导部42的上方以大致平行状态设置两个计数器用引导部46。另外，在计数器用滑块48的内部形成有圆孔状的内部空间48S，通过该内部空间48S能够使计数器用滑块48具有间隔地包围各计数器用引导部46的外周面。从后述的空气供给源86经由空气配管80a供给的空气的一部分向计数器用滑块48的内周面喷出。由此，计数器用滑块48形成为如下的状态，即，在其与计数器用引导部46的外周面之间存在空气层的状态下，被支撑为能够沿着X方向移动。

此外，将计数器用滑块支撑为能够相对于计数器用引导部移动的结构，与上述主扫描机构40相同，能够采用各种结构。也就是说，如上所述，计数器用滑块不需要被支撑为在隔着空气层的状态下相对于计数器用引导部自由移动。例如，计数器用滑块可以被支撑为在隔着其他低摩擦构件、转动体等与计数器用滑块接触的状态下，相对于长的计数器用引导部自由移动。

喷出部50被上述滑块44支撑为能够沿着X方向移动，并且能够对基板200喷出涂敷液。在此，喷出部50具有喷嘴支撑部52和至少一个喷嘴54。在本实施方式中，为了便于图示，喷嘴54设置有3个。

喷嘴支撑部52具有：基端部52a，其安装在滑块44的一个侧面上；喷嘴安装板部52b，其从基端部52a的下端部向外方延伸。另外，多个喷嘴54安装固定在喷嘴安装板部52b上，其位置在X方向及Y方向上错开。各喷嘴54分别具有能够喷出涂敷液的喷出口，以该喷出口朝向喷嘴安装板部52b的下方的姿势固定在喷嘴安装板部52b上。另外，通过一边使上述滑块44沿着X方向移动，一边从各喷嘴54喷出涂敷液，来将该涂敷液涂敷在载置于工作台32上的基板200上。

此外，在上述滑块44的与喷出部50一侧相反的一侧的侧部上设置有喷嘴计数器44C。

辅助扫描机构60具有辅助扫描机构引导部62、能够沿着辅助扫描机构引导部62移动的辅助滑块65。辅助扫描机构60的辅助滑块65能够随着滑块44的移动而沿着X方向移动。在此，该辅助扫描机构60在主扫描机构40的上方，在基板200的搬运方向上，设置在主扫描机构40的下游侧。此外，辅助滑块65相当于本实施方式的辅助移动部。辅助移动部为能够沿着辅助扫描机构引导部移动的构件。

辅助扫描机构引导部62形成为在基板200的上方位置沿着X方向延伸的长状构件。也就是说，沿着主扫描机构引导部42的延伸方向形成辅助扫描机构引导部62。另外，辅助滑块65为具有能够被辅助扫描机构引导部62穿过的内部空间的构件，辅助滑块65被该辅助扫描机构引导部62支撑为能够沿着X方向移动。该辅助扫描机构60与主扫描机构40同步地被驱动，这些后面详细描述。

更具体地说，辅助扫描机构引导部62形成为大致方柱状的构件。辅助滑块65的外形形成为大致长方体状，在辅助滑块65内形成有内部空间64S，通过内部空间64S，能够使辅助滑块65具有间隔地包围辅助扫描机构引导部62的外周面。从后述的空气供给源86经由空气配管80a供给的空气的一部分向辅助滑块65的内周面喷出。由此，辅助滑块65形成如下的状态，即，在其与辅助扫描机构引导部62的外周面之间存在空气层的状态下，被支撑为能够沿着X方向移动。

此外，辅助滑块65被支撑为能够相对于辅助扫描机构引导部62移动的结构，与上述主扫描机构40相同，能够采用各种结构。此外，该辅助滑块不需要如上述那样以隔着空气层的状态能够自由移动地支撑在配管支撑用引导部上。例如，辅助滑块可以在隔着其他低摩擦构件、转动体等与辅助扫描机构引导部接触的状态下，能够自由移动地支撑在长状的辅助扫描机构引导部上。

可动配管支撑部100为可动构件，配置在工作台32的上方，能够按照沿着X方向移动的滑块44以及辅助滑块65的位置来改变方向。该可动配管支撑部100具有：摆动轴61，其一端部61a固定在横跨搬运基板200的路径而设置的台部69上，另一端部61b作为自由端而能够自由旋转；板状的板部63，其与摆动轴61连接；臂构件67，其从板部63沿着大致水平方向延伸，并与辅助滑块65连接。

板部63具有支撑机构630，所述支撑机构630的主面支撑后述的涂敷液配管80b的一部分。该支撑机构630例如能够采用将涂敷液配管80b捆扎在板部63上的带状的捆扎构件，或夹子状的夹入构件等，只要不影响涂敷液配管80b的口径，能够采用各种方式。

该板部63的一端与轴心方向沿着铅垂方向的摆动轴61的可动部分61b的外周面连接。即，板部63能够随着摆动轴61的动作进行摆动，在由X方向及Y方向限定的面内自由地改变方向。

臂构件67是具有刚性的构件，连接板部63的与摆动轴61连接的连接部分63a的相反侧的端部63b与辅助滑块65。因此，在辅助滑块65沿着辅助扫描机构引导部62往复移动时，板部63以及摆动轴61经由臂构件67进行从动，使板部63以摆动轴61为中心围绕摆动轴61摆动。也就是说，辅助扫描机构60发挥板部63的驱动源的功能。

更具体地说，随着辅助扫描机构60的辅助滑块65的移动，臂构件67受到辅助滑块65的拉伸力或按压力。通过这些力在X方向上的分力，使板部63的朝向随着辅助滑块65周期性地变化。

此外，可以使用其他形状的构件来代替板状的板部63。例如，能够采用柱状的构件等，只要能够支撑涂敷液配管80b，其形状能够为各种形态。另外，板部63和臂构件67可以由具有刚性的一体的部件构成。

另外，按照辅助滑块65的位置，更具体地说，在辅助滑块65位于辅助扫描机构引导部62的中间部时和位于辅助扫描机构引导部62的两端部时，辅助滑块65与可动配管支撑部100之间的距离发生变动。因此，臂构件67例如能够采用将具有相互不同的直径的一对筒状构件67a、67b以能够自由伸缩的方式组合而成的可伸缩（telesopic）结构，还能够利用缩放（pantograph）结构等。另外，可以在臂构件67与辅助滑块65连接的连接部分或臂构件67与板部63连接的连接部分等，采用能够调节辅助滑块65与可动配管支撑部100之间的距离的结构，来代替上述这些结构。由此，能够按照直行移动的辅助滑块65的位置调节臂构件67的长度。

配管80包括空气配管80a、涂敷液配管80b。就各配管80a、80b而已，在空气或涂敷液的输送方向的上游侧与空气供给源86或涂敷液供给源88连接，并且在本基板处理装置20的上方以悬吊的方式被支撑。在以下的说明中，在区分两配管时，将它们分别称为空气配管80a或涂敷液配管80b，在作为总体时，称为配管80。此外，在图3中，省略了空气配管80a。

空气配管80a由具有挠性的树脂等制成的管构成，用于对来自空气供给源86的空气进行引导，在此，具有两个空气配管80a。两个空气配管80a各自的一端部分别与空气供给源86连接。一个空气配管80a的另一端部与滑块44连接，能够向滑块44供给空气，另一个空气配管80a的另一端部与辅助滑块65连接，能够向辅助滑块65供给空气。一个空气配管80a的另一端部可以直接固定在滑块44上，也可以经由喷出部50的固定部分与滑块44连接。

涂敷液配管80b由具有挠性的树脂等制成的管构成，用于对来自涂敷液供给源88的涂敷液进行引导，设置与喷嘴54数量相同的涂敷液配管80b。各涂敷液配管80b的一端部分别与涂敷液供给源88连接，另一端部分别与喷嘴54连接，能够向喷嘴54供给涂敷液。涂敷液配管80b的另一端部可以直接固定在喷出部50上，也可以经由滑块44或喷嘴支撑部52的固定部分与喷嘴54连接。

这样的涂敷液配管80b以多个被捆束的状态容置在涂敷液配管保护构件85中。该涂敷液配管保护构件85由树脂等具有挠性的材料构成，统一保持多个涂敷液配管80b。在此，如图3所示，涂敷液配管保护构件85经由喷嘴支撑部52的固定部分，使各涂敷液配管80b分别与喷嘴54连接。对于将该涂敷液配管保护构件85固定在喷嘴支撑部52上的机构，能够采用与上述的板部63的支撑机构630同样的各种方式。

涂敷液配管80b的特定的一部分被辅助滑块65的辅助滑块保持部621支撑，该特定的一部分是指比喷出部50的固定部分或比滑块44或喷嘴支撑部52的固定部分更靠涂敷液的流动方向的上游侧的一部分。关于该辅助滑块保持部621具有的用于支撑涂敷液配管80b的机构，能够采用与上述的板部63的支撑机构630同样的各种方式。

在此，辅助扫描机构60位于主扫描机构40的上方。因此，涂敷液配管80b易于被维持为，从喷出部50的固定部分或滑块44或喷嘴支撑部52的固定部分向上方立起的状态。

另外，涂敷液配管80b的比该辅助滑块65的固定部分靠涂敷液的流动方向的上游侧的一部分如上述那样固定在板部63上。这样，在本实施方式中，涂敷液配管80b的非端部的部分被辅助滑块65和板部63这两个部分支撑。

在此，如图3所示，涂敷液配管80b的被辅助滑块65支撑的部分和被板部63支撑的部分之间的部分，被涂敷液配管保护构件85保持且形成为向上方凸出的弓形形状。因此，该部分的涂敷液配管80b的长度比辅助滑块65与板部63之间的长度长。此外，涂敷液配管80b可以形成为向下方凸出的弓形形状。也就是说，优选涂敷液配管80b中的被可动配管支撑部100支撑的被支撑部分与连接在喷出部50上的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。

该基板处理装置20具有沿着X方向周期性地同步驱动滑块44和辅助滑块65的扫描驱动机构70。在此，同步驱动滑块44和辅助滑块65是指，驱动滑块44和辅助滑块65以大致相同的速度在大致相同的移动范围内移动。在此，扫描驱动机构70具有用于驱动滑块44的滑块驱动机构72和用于驱动辅助滑块65的辅助滑块驱动机构76。

滑块驱动机构72具有：一对滑轮体73、73，设置在主扫描机构引导部42的两端部；驱动带74，卷绕在一对滑轮体73、73上；马达75，能够驱动一个滑轮体73沿着正反两个方向旋转。在一对滑轮体73、73间运行的两个路径的驱动带74中的一侧（下侧）的驱动带上连接固定有上述滑块44的带安装架45。另外，在一对滑轮体73、73间运行的两个路径的驱动带74中的另一侧（上侧）的驱动带上连接固定有上述计数器用滑块48。此外，计数器用滑块48，以隔着滑块44的往复移动范围的中央位置（通常为一对滑轮体73、73的中央位置）配设在与滑块44大致对称位置上的方式，连接固定在驱动带74上。另外，通过一边控制旋转方向、旋转速度、旋转量等一边驱动马达75进行旋转，来驱动滑块44以及喷出部50沿着X方向往复移动。另外，此时，计数器用滑块48隔着一对滑轮体73、73的中央位置保持在与滑块44对称的位置，并且能够沿着X方向往复移动。

辅助滑块驱动机构76具有：一对滑轮体77、77，设置在辅助扫描机构引导部62的两端部；驱动带78，卷绕在一对滑轮体77、77上；马达79，能够驱动一个滑轮体77沿着正反两个方向旋转。在一对滑轮体77、77间运行的两个路径的驱动带78中的一侧（下侧）的驱动带上连接固定有上述辅助滑块65。另外，以同步驱动上述滑块44和辅助滑块65的方式，也就是说，通过一边控制旋转方向、旋转速度、旋转量等一边驱动马达79进行旋转，来驱动辅助滑块65沿着X方向往复移动。但是，在能够抑制对在滑块44和辅助滑块65间通过的配管80作用大的拉伸力的范围内，辅助滑块65和滑块44可以沿着X方向稍微错开。

此外，说明了通过不同的马达75、79驱动滑块44和辅助滑块65的例子，但是可以通过齿轮或使用滑轮及带等的传递机构将来自共用的马达的旋转驱动力一分为二进行传递，由此驱动滑块44和辅助滑块65。另外，可以使滑块44和辅助滑块65与共用的驱动带连接，来进行同步驱动。另外，用于驱动滑块44或辅助滑块65的机构，尤其是用于驱动辅助滑块65的机构不限于上述例子，还可以使用线性马达等各种线性促动器。

控制部90的硬件结构与通常的计算机相同。即，控制部90是将进行各种运算处理的CPU、用于存储基本程序的只读存储器即ROM、用于存储各种信息的读写存储器即RAM、用于存储控制用软件或数据等的磁盘、键盘及鼠标等输入部与总线连接而构成的。按照预先存储在这样的控制部90中的软件程序对基板处理装置20的动作进行控制。在总线上连接有涂敷液供给源88、空气供给源86、马达75、79。控制部90在从空气供给源86供给空气且开始从涂敷液供给源88供给涂敷液来从各喷嘴54喷出涂敷液的状态下，进行驱动并控制各马达75、79的处理，来同步驱动滑块44和辅助滑块65。

在这样构成的基板处理装置20中，在滑块44以及辅助滑块65沿着X方向周期性地往复移动时，经由臂构件67与辅助滑块65连接的板部63围绕摆动轴61周期性地往复摆动。也就是说，随着与辅助滑块65同步的滑块44的运动，板部63的朝向周期性地变化。此时的臂构件67的水平摆动情况，在图1中，由箭头SW以及臂构件67的另一个状态67m表示。

以下，利用图5所示的流程图说明使用这样的基板处理装置20进行处理时的流程。

首先，在将在前一个工序中进行了处理的基板200保持在基板保持部30的工作台32上的状态下，以规定的速度将基板搬运至基板处理装置20（步骤S1）。在通过例如传感器等检测出搬运来了基板200时，控制部90还向涂敷液供给源88发送信号，开始供给涂敷液（步骤S2）。

接着，控制部90向主扫描机构40的驱动机构即马达75、辅助扫描机构60的驱动机构即马达79发送信号。接受该信号后，主扫描机构40的滑块44以及辅助扫描机构60的辅助滑块65同步地沿着X方向进行扫描移动（步骤S3）。通过反复且周期性地进行该扫描移动，在基板200的表面形成涂敷液的区域。

通过该辅助扫描机构60的辅助滑块65进行扫描移动，可动配管支撑部100的板部63经由与辅助滑块65连接的臂构件67进行摆动。也就是说，可动配管支撑部100的板部63的朝向随着辅助滑块65且随着与辅助滑块65同步的滑块44进行变化（步骤S4）。

在这样从喷嘴54喷出了涂敷液的状态下，通过反复使主扫描机构40在X轴方向上进行主扫描和使基板200沿着Y轴方向进行移动，向基板200的整个表面喷出涂敷液。

控制部90判断是否向基板200的整个面涂敷了涂敷液（步骤S5），涂敷了涂敷液的基板200被基板保持部30搬运至下游工序。

如上所述，基板处理装置20具有可动配管支撑部100，所述可动配管支撑部100支撑涂敷液配管80b的非端部部分，并且所述可动配管支撑部100的朝向随着反复进行主扫描运动而进行的滑块44的周期性运动，而周期性地变化。也就是说，可动配管支撑部100的朝向不是维持在恒定的方向上，随着滑块44的运动而周期性地变化。因此，能够抑制涂敷液配管80b的被可动配管支撑部100支撑的部分产生扭曲。另外，由于不易从外部向涂敷液配管80b的被可动配管支撑部100支撑的部分施加力，所以易于将涂敷液配管80b维持为初始状态下的姿势。也就是说，涂敷液配管80b不易于变得乱摆。结果，能够抑制从喷出部50喷出的涂敷液的流量发生变动的情况。

尤其在随着产品中使用的基板的大型化而基板处理装置大型化的情况下，随着喷嘴的数量增加而涂敷液配管的数量增加，因而涂敷液配管的乱摆将会进一步增大。因此，与以往相比，本发明在大型的基板处理装置中更有效。

另外，基板处理装置20还具有辅助扫描机构60，涂敷液配管80b的一部分被辅助扫描机构60的辅助滑块65支撑。因此，涂敷液配管80b的颤动和乱摆不易于直接传递至喷出部50。另外，由于增加了支撑涂敷液配管80b的位置，所以涂敷液配管80b的姿势更稳定。由此，能够抑制从喷出部50喷出的涂敷液的流量的变动。

另外，可动配管支撑部100经由臂构件67与辅助滑块65连接。通过驱动臂构件67，能够可靠地使可动配管支撑部100的朝向变化。

另外，涂敷液配管80b的被可动配管支撑部100支撑的被支撑部分和与辅助滑块65连接的连接部分之间，形成向上方凸出的弓形形状。因此，由于该处的涂敷液配管80b变长，辅助扫描机构60的颤动能够在弓形形状的整个涂敷液配管80b上得以缓解，减小其影响。另外，由于从辅助滑块65的连接部分延伸出的涂敷液配管80b的部分801向上方立起，所以即使辅助扫描机构60的滑块65往复移动，也难于产生使涂敷液于涂敷液配管80b内逆流的方向的力。由此，能够抑制从喷出部50喷出的涂敷液的流量发生变动。

涂敷液配管80b的被可动配管支撑部100支撑的被支撑部分和与辅助滑块65连接的连接部分之间的区间，形成为向下方凸出的弓形形状，也能够实现使涂敷液配管80b的颤动得以缓解的效果。因此，在着眼于这样的平滑化效果的情况下，通常，优选使涂敷液配管80b（挠性的处理液配管）的上述区间的部分在铅垂面内形成为弓形形状。在此所说的弓形形状是指涂敷液配管80b比需要的最小长度（即，在考虑最小的主扫描的振幅的情况下，被可动配管支撑部100支撑的被支撑部分和与辅助滑块65连接的连接部分之间需要的最小距离）长，而具有余量。

另外，主扫描机构40配置在辅助扫描机构60的下方。因此，易于将与主扫描机构40具有的喷出部50连接的涂敷液配管80b的端末802维持为向上方立起的状态。因此，即使主扫描机构40具有的滑块44往复移动，也难于产生使涂敷液逆流的方向的力，从而能够抑制涂敷液的流量发生变动。

＜变形例＞

以下，说明各种变形例。

首先，在上述实施方式中，涂敷液配管80b的被可动配管支撑部100支撑的被支撑部分和与喷出部50连接的连接部分之间的区间，形成为向上方凸出的弓形形状，但是不限于这样的方式。图6示出了被可动配管支撑部100支撑的被支撑部分和与喷出部50连接的连接部分之间的区间，沿着臂构件67配设的方式。如图6所示，该区间中的涂敷液配管80b可以配设为沿着臂构件67的延伸方向与臂构件67接触。另外，涂敷液配管80b还可以卷绕在臂构件67的周围。此时，由于上述的区间的涂敷液配管80b被臂构件67可靠地支撑，所以能够可靠地抑制该区间的涂敷液配管80b颤动或乱摆。由此，能够抑制从喷出部50喷出的涂敷液的流量发生变动。

另外，在上述实施方式中，辅助扫描机构60具有驱动机构，但不限于此。辅助扫描机构60的辅助滑块65可以为由于主扫描机构40的滑块44被驱动机构驱动进行动作而往复移动的机构。也就是说，可以为使辅助扫描机构60和可动配管支撑部100从动于主扫描机构40。

另外，可动配管支撑部100不限于从动于辅助扫描机构60或主扫描机构40。可动配管支撑部100例如可以具有马达等驱动机构。在可动配管支撑部100自身具有用于调节其朝向的驱动机构的情况下，能够使可动配管支撑部100的朝向可靠地随着滑块44以及辅助滑块65周期性地变化。

另外，在可动配管支撑部具有驱动机构的情况下，可动配管支撑部可以包括旋转马达和具有与旋转马达连接的连杆机构的臂构件。此时，从旋转马达向具有连杆机构的臂构件赋予旋转驱动力，使与具有连杆机构的臂构件连接的辅助滑块及滑块直线运动。

另外，图7示出了在板部63和辅助滑块65之间没有设置有臂构件67的状态的基板处理装置的主要部分的配置关系。图7所示的可动配管支撑部100b不具有臂构件67。可以是这样的方式。此时，优选设置用于改变可动配管支撑部100b的板部63的朝向的驱动机构，例如设置马达68。马达68被控制部90控制，控制部90以使板部63的朝向随着往复移动的滑块44以及辅助滑块65周期性地变化的方式驱动马达68，使摆动轴61的可动部分61b摆动。

这样，在可动配管支撑部100自身具有用于调节其方向的驱动机构的情况下，能够使可动配管支撑部100的朝向可靠地随着滑块44以及辅助滑块65周期性地变化。

此外，可动配管支撑部100b可以不具有驱动机构。可以按照辅助滑块65的移动，使涂敷液配管80b牵拉可动配管支撑部100b来使可动配管支撑部100b的朝向变化。

另外，基板处理装置20可以不具有辅助扫描机构60。也就是说，可以成为主要具有主扫描机构40、可动配管支撑部100c的基板处理装置。

图8概略地表示此情况下的主要部分的配置关系。随着主扫描机构40的滑块44的往复移动，板部63的朝向周期性地变化。在此，可动配管支撑部100c具有作为驱动机构的马达68。此外，如上所述，优选涂敷液配管80b的在可动配管支撑部100c和喷出部50之间的区间，形成为弓形形状。更优选，该区间形成为向上方凸出的弓形形状。其理由与图1～图4所示的实施方式所述的理由相同。另外，可以形成为可动配管支撑部100c具有臂构件的形态。也就是说，可动配管支撑部100c可以与滑块44连接。

本发明通常不仅适用于向大致水平姿势的基板供给涂敷液的基板处理装置，还适用于向大致水平姿势的基板供给处理液的基板处理装置以及处理液赋予方法。

Claims (9)

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：

基板保持部，其将基板保持为大致水平，

主扫描机构，其具有沿着大致平行于所述基板的主扫描方向延伸的引导部、被所述引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的移动部，

喷出部，其被所述移动部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动，并用于向所述基板喷出处理液，

挠性的配管，其与所述喷出部连接，并用于向所述喷出部引导处理液，

可动配管支撑部，其用于支撑所述配管的非端部部分，并且该可动配管支撑部的朝向随着所述移动部的周期性运动而周期性地变化，所述移动部的周期性运动是因主扫描的反复进行而引起的。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述喷出部连接的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述配管上的所述区间形成为向上方凸出的弓形形状。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

还具有辅助扫描机构，所述辅助扫描机构具有沿着所述引导部延伸的辅助引导部、被所述辅助引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的辅助移动部，

所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述喷出部连接的连接部分之间的规定部分，被所述辅助移动部支撑。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述可动配管支撑部与所述辅助移动部相连接。

6.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述配管上的被所述可动配管支撑部支撑的被支撑部分和与所述辅助移动部连接的连接部分之间的区间，在铅垂面内形成为弓形形状。

7.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述主扫描机构配置在所述辅助扫描机构的下方。

8.如权利要求1至7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具有用于调节所述可动配管支撑部的朝向的驱动部。

9.一种处理液赋予方法，其特征在于，包括：

第一工序，将基板保持为大致水平，

第二工序，一边从喷出部喷出处理液，一边使支撑所述喷出部的移动部沿着主扫描方向在基板上周期性地进行扫描移动，

第三工序，使可动配管支撑部的朝向随着进行扫描移动的所述移动部而周期性地变化，所述可动配管支撑部用于支撑向所述喷出部引导所述处理液的挠性的配管的非端部部分。

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