CN102977132A - 金属有机化合物的制备 - Google Patents
金属有机化合物的制备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102977132A CN102977132A CN2012104100654A CN201210410065A CN102977132A CN 102977132 A CN102977132 A CN 102977132A CN 2012104100654 A CN2012104100654 A CN 2012104100654A CN 201210410065 A CN201210410065 A CN 201210410065A CN 102977132 A CN102977132 A CN 102977132A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- reactant
- organometallic compound
- zone
- flow
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 61
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 12
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims abstract description 127
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 25
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 claims description 5
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- -1 glyoxaline cation Chemical class 0.000 description 57
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 18
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 15
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 14
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Chemical group C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 14
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 14
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N squalane Chemical compound CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 13
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 13
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 9
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 150000001409 amidines Chemical class 0.000 description 8
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 8
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 7
- JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N n-Triacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940032094 squalane Drugs 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 6
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 6
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 6
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N durene Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C=C1C SQNZJJAZBFDUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 6
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021617 Indium monochloride Inorganic materials 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000172 C5-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 229910052766 Lawrencium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M chlorogallium Chemical compound [Ga]Cl XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M indium(1+);chloride Chemical compound [In]Cl APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 3
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N protonated dimethyl amine Natural products CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 3
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Substances C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 2-Hexene Natural products CCCC=CC RYPKRALMXUUNKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRGJMBVUNUSVON-UHFFFAOYSA-N NC=O.NC=O.[Hf] Chemical compound NC=O.NC=O.[Hf] MRGJMBVUNUSVON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 2
- 229930007927 cymene Natural products 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J hafnium tetrachloride Chemical compound Cl[Hf](Cl)(Cl)Cl PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002097 pentamethylcyclopentadienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical group CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- 125000006657 (C1-C10) hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006649 (C2-C20) alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006593 (C2-C3) alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAXRWMOLNJZCEW-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-(2-aminophenyl)-4-oxobutanoic acid;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.OC(=O)C(N)CC(=O)C1=CC=CC=C1N KAXRWMOLNJZCEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012093 Myrtus ugni Nutrition 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical compound CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000061461 Tema Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULLMVULNMKQJGZ-UHFFFAOYSA-N [Hf].CCNC=O Chemical compound [Hf].CCNC=O ULLMVULNMKQJGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJELUGYCVZGNPU-UHFFFAOYSA-N [In].C1=CC=CC1 Chemical compound [In].C1=CC=CC1 JJELUGYCVZGNPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001399 aluminium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052728 basic metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003818 basic metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000001997 corrosion-resisting alloy Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001687 destabilization Effects 0.000 description 1
- 125000005265 dialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- NAELOTVRFCXVRC-UHFFFAOYSA-L dichloro(methyl)indigane Chemical compound [Cl-].[Cl-].[In+2]C NAELOTVRFCXVRC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M dimethylalumanylium;chloride Chemical compound C[Al](C)Cl JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- VKFAUCPBMAGVRG-UHFFFAOYSA-N dipivefrin hydrochloride Chemical compound [Cl-].C[NH2+]CC(O)C1=CC=C(OC(=O)C(C)(C)C)C(OC(=O)C(C)(C)C)=C1 VKFAUCPBMAGVRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKKCMKUMYGWZOS-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl(methyl)indigane Chemical compound CC(C)(C)[In](C)C(C)(C)C IKKCMKUMYGWZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical compound NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMJWXHSCXIWRF-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethyl)indigane Chemical compound CC[In](C)C JMMJWXHSCXIWRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFICPAADTOQAMU-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dibromide Chemical compound CC[Al](Br)Br JFICPAADTOQAMU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BLJHFCVPKWOHJX-UHFFFAOYSA-N ethylgallium Chemical compound CC[Ga] BLJHFCVPKWOHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-M gallate Chemical compound OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical compound CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000003642 hunger Nutrition 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical class C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 description 1
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001741 metal-organic molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- WJFZPDZHLPHPJO-UHFFFAOYSA-N methyl-di(propan-2-yl)indigane Chemical compound CC(C)[In](C)C(C)C WJFZPDZHLPHPJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L methylaluminum(2+);dichloride Chemical compound C[Al](Cl)Cl YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentadiene Chemical compound CC1=CC=CC1 NFWSQSCIDYBUOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAWKFRBJGLMMES-UHFFFAOYSA-N methylphosphine Chemical class PC SAWKFRBJGLMMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIDQCFHFXWPAFG-UHFFFAOYSA-N n-formylformamide Chemical compound O=CNC=O AIDQCFHFXWPAFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005574 norbornylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000352 p-cymenyl group Chemical group C1(=C(C=C(C=C1)C)*)C(C)C 0.000 description 1
- YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N p-methylisopropylbenzene Natural products CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YTZKOQUCBOVLHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N pent-2-ene Chemical group CCC=CC QMMOXUPEWRXHJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQIQNKQYEUMPBM-UHFFFAOYSA-N pentamethylcyclopentadiene Chemical compound CC1C(C)=C(C)C(C)=C1C WQIQNKQYEUMPBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical group CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- NNOBHPBYUHDMQF-UHFFFAOYSA-N propylphosphine Chemical class CCCP NNOBHPBYUHDMQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 230000037351 starvation Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- OVLVVRBLVJTPJZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)indigane Chemical compound C[In](C)C(C)(C)C OVLVVRBLVJTPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- CKGXVGFLQCIASW-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)indigane Chemical compound CC(C)[In](C(C)C)C(C)C CKGXVGFLQCIASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N triethylindigane Chemical compound CC[In](CC)CC OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSRUTWLOBPCVAB-UHFFFAOYSA-N trimethylindigane;trimethylphosphane Chemical class CP(C)C.C[In](C)C BSRUTWLOBPCVAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/003—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J14/00—Chemical processes in general for reacting liquids with liquids; Apparatus specially adapted therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/68—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton from amines, by reactions not involving amino groups, e.g. reduction of unsaturated amines, aromatisation, or substitution of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/003—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table without C-Metal linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
金属有机化合物的制备。提供一种连续生产有机金属化合物的方法,其中将两个或多个反应物转移到反应器的接触区以维持反应物的层流,并使反应物生成有机金属化合物。一种连续制备有机金属化合物的方法,所述方法包括:提供包括反应器单元的设备,所述反应器单元包括接触区和传热区;连续将第一反应物流和第二反应物流通入到接触区中以形成反应混合物流,其中第一反应物流和第二反应物流是同向的且基本上具有层流,且其中第一反应物是含金属的化合物;使反应混合流生成有机金属化合物产物流;控制传热区中产物流的温度和压力以维持大部分有机金属化合物为液相;和转移产物流到分离单元中以分离所述有机金属化合物。
Description
技术领域
本发明涉及含金属化合物领域,尤其是制备有机金属化合物领域。
背景技术
含金属化合物被用于多种应用,例如用于生长金属膜的催化剂和原料。这些化合物的一种应用是制备电子器件,例如半导体。许多半导体材料是通过采用了超纯金属有机(有机金属)化合物的完善的沉积技术来制备的,例如金属有机气相外延、金属有机分子束外延(epitaxy)、金属有机化学气相沉积和原子层沉积。
许多这些金属有机化合物或其起始材料由于它们与空气反应、自燃性和/或毒性而使处理面临极大挑战。生产这些有机金属化合物时必须仔细对待。通常的有机金属化合物生产方法是小规模间歇方法,其相对容易控制反应和隔绝氧气。这些间歇方法的产物产率在很宽的范围内变化。例如,制备三甲基镓、三乙基镓和三甲基铟的通常的间歇方法在提纯之前有80-100%的产率。虽然这些方法是有效的,但它们只能有限地生产所需的化合物。需要生产大量的这些有机金属化合物意味着必须进行许多次这样小量的生产,这极大增加所需化合物的成本。
美国专利6,495,707公开了一种连续生产三甲基镓(“TMG”)的方法,通过将三氯化镓和三甲基铝加入到蒸馏塔的反应中心,蒸出生成的TMG并在蒸馏塔的顶部收集TMG。该专利的附图显示反应物是从相反的入口进入塔。该专利的设备的设计似乎是为了提供湍流而使反应物快速混合。湍流的定义为雷诺指数(“Re”)≥4000。然而,该方法得到的TMG产率低,只有50-68%,且没有提及所得TMG的纯度。
中国公开专利申请CN1872861A公开了一种US6,495,707的改进方法,其中将氮气气流引入蒸馏塔底以增加塔中液相部分的搅动以促进TMG的生成,旨在提高反应效率。然而,该专利申请中报道的TMG产率仍然低,只有52%,没有与US6,495,707中报道的那些不同。
仍然需要一种高产率连续制备有机金属化合物的方法。
发明内容
本发明提供了一种连续制备有机金属化合物的方法,包括:(a)提供一种设备,所述设备包括反应器单元,所述反应器单元包括接触区和传热区;(b)连续将第一反应物流和第二反应物流通入到接触区形成反应混合物流,其中第一反应物流和第二反应物流是同向的且基本上(substantially)具有层流,其中第一反应物是含金属化合物;(c)使用反应混合物流生成有机金属化合物产物流;(d)控制传热区中产物流的温度和压力以使大部分(a majority of)有机金属化合物为液相;和(e)将产物流输送到分离单元以分离有机金属化合物。
本发明还提供的是一种用于连续生产有机金属化合物的设备,包括(a)第一反应物流的源,其中第一反应物包括金属;(b)第二反应物流的源;(c)使第一反应物流和第二反应物流同向接触的层流接触区;(d)传热区。
附图说明
图1是适合用于本发明方法的设备的示意图。
图2A-2F是适用于本发明的方法的装置中的合适的接触区入口的横截面示意图。
具体实施方式
冠词“一”、“一个”或“一种”等涉及一个和多个。“烷基”包括直链、支链和环烷基。“卤素”涉及氟、氯、溴和碘。术语“多个”涉及两个或两个以上顶目。“流(stream)”涉及流体流。“流体”涉及气体、液体或两者的组合。术语“同向”涉及两种流体向同一个方向流动。术语“反向”指的是两种流体向相反方向流动。下面的缩写将有下面的含义:ppm=百万分之;m=米;mm=毫米;cm=厘米;kg=千克;kPa=千帕;psi=磅每平方英寸;和℃=摄氏度。在图中,相同的数字代表相同的元件。
可以理解的是,当一个元件指的是在另一个元件“上面”时,其可以是直接在另一个元件的上面也可以在中间有居间的元件。相反的是,当一个元件指的是在另一个元件的“直接上面”时,就不存在居间元件。
可以理解的是,虽然术语第一、第二、第三等在此可以表示不同的元件、组分、区域、层、区或部分,这些元件、组分、区域、层、区或部分不应该被这些术语限制。这些术语只是用来区分一个元件、组分、区域、层、区或部分与另一个元件、组分、区域、层、区或部分。因此,在不脱离本发明教导下,接下来讨论的第一元件、组分、区域、层、区或部分可以定义为第二元件、组分、区域、层、区或部分。
此外,相关的术语,例如“较低的”或“底部”、“较高的”或“顶部”,可以在此描述图中所示的一个元件和另一个元件的关系。可以理解的是,相对的术语意在除了图中所示的方向之外还包括装置中的不同方向。例如,如果一个图中的装置被倒置,定义在比其他元件“较低”的一侧的元件可以定位于其他元件“较高的”一侧。因此该示例性术语“较低的”包括“较低的”和“较高的”两种方位,这取决于图的特定方位。类似的,如果在某幅图中的设备被翻转,定义在其他元件“下面”或“底下”的元件将变为在其他元件“上面”。因此,该示例性术语“下面”或“底下”包括上面和下面两种方位。
除非另外说明,所有的含量都是以重量百分比计并且所有的比例都是摩尔比。所有的数值范围是以任何顺序包含和合并的,除非这样的数值范围很清楚的限制为加起来为100%。
本发明提供一种连续制备有机金属化合物的方法。可以使用包括一个或多个反应器单元的设备,其中每个反应器单元都包括接触区和传热区。在这个方法中,第一反应物流连续通入到反应器单元的接触区中,第二反应物流连续通入到接触区以形成反应混合物流。第一反应物流和第二反应物流的流动是同向的且基本上为层流。至少第一反应物是含金属的化合物。第二反应物也可以是含金属的化合物。控制反应混合物流的条件以形成有机金属产物流以及控制传热区中产物流的温度和压力以使大部分有机金属化合物为液相。然后将有机金属产物流从反应器单元通入分离单元以分离有机金属化合物。
多种不同的反应器可用于本方法。图1是适用于本发明的方法的一种设备的示意图,包括具有接触区15和传热区20的反应器10。每个接触区15和传热区20可以是任意合适的长度。反应器10有第一入口25和第二入口30以将反应物流通入到接触区15中。反应器10有出口35,其与分离单元40流体连通。
在操作中,第一反应物流17经由第一入口25通入到反应器10的接触区15中。第二反应物流27经由第二入口30通入到反应器10的接触区15中。第一反应物流和第二反应物流在接触区的流动是同向的。得到的反应混合物流经过传热区20通入到反应器10中。有机金属化合物产物流经过出口35离开反应器10,然后通入到分离单元40,在此所需的有机金属化合物从副产物、未反应的第一和第二反应物等中分离出来。
第一反应物流17和第二反应物流27通入到具有层流的接触区15中。图2A-2F是反应器10的接触区15的横截面图。图2A显示的是含有单一第一入口25和单一第二入口30的反应器10的接触区15,第二入口位于反应器10尾部的相对中间的位置。图2B显示类似于在图2A中的接触区15,除了存在挡板11以延缓第一反应物流17和第二反应物流27接触的发生。图2C中显示的一个不同的接触区15有多个第一入口25(只有2个被显示)和单一的第二入口30。图2D显示了一个进一步不同的接触区15其中第二入口30伸入到反应器10中。在图2E中,另一个不同的的接触区15显示为有多个第一入口25(只有2个被显示)以及有一个伸入到反应器10的第二入口30。图2F显示的是类似于图2D中所示的一个不同的接触区。图2C和2E中的多个第一入口25可以以任意样式安装于第二入口30周围。
反应器10可以由任意合适的材料所制成,其不能与所用的反应物或制备的有机金属化合物反应。合适的材料包括但不限于:玻璃,例如高硼硅酸盐玻璃或PYREX玻璃;塑料,包括全氟化塑料例如聚(四氟乙烯);石英;或金属。优选为金属,包括但不限于,镍合金和不锈钢。合适的不锈钢包括但不限于304、304L、316、316L、321、347和430。合适的镍合金包括但不限于INCONEL、MONEL和HASTELLOY耐腐蚀合金。反应器可以用混合材料制成,例如玻璃内衬的不锈钢。本领域技术人员容易选择反应器的合适材料。合适的反应器通常是多种来源的市售产品。
反应器10的尺寸要求不严格。反应器10可以是任何合适的长度和直径。该长度和直径的选择取决于要制备的有机金属化合物的量、反应物之间的反应时间的长度以及本领域技术人员能力范围内的其他因素。通常长度范围为从1到15米,优选从1.5到12米,更优选从1.5到10米,甚至更优选从1.5到8米。特别优选的长度是1.5、2、3、4、5、6、7、8和10米。通常直径范围为从5mm到25cm,更优选从5mm到20cm,进一步更优选5mm到15cm,再进一步更优选从5mm到5cm,再进一步优选6到25mm,最优选8到10mm。特别优选的直径是5、6、7、8、9、10、12和15mm。
反应器10包括接触区和一个或多个传热区。接触区通常伸入到传热区。任选地,本发明的反应器可以包含一个或多个的设计用于促进湍流的混合区。这些可选的混合区可以置于沿着反应器的任意合适的位置。该任选混合区可以含有能够控制反应物混合级别的任意合适的设计。示例性的混合区可以包括静态的混合器、文氏管、孔口、弯管、和任意其他合适搅拌装置。这些混合装置为本领域所熟知。每个接触区和传热区可以是任意长度。接触区和传热区可有相同或不同的长度。接触区和传热区可以是同在的(coextensive),就是说,接触区可以在传热区中。接触区的长度取决于采用的反应物和要制备的有机金属化合物、反应是放热还是吸热、混合单元的效率、反应物的速率和反应需要的时间,以及本领域技术人员能力范围内的其他因素。这样的传热区包括热交换例如冷凝器、制冷器和加热器。特定传热区的选择、其长度和其在反应器中的位置将取决于反应器的尺寸、生产的有机金属化合物的数量、制备有机金属化合物的反应是放热还是吸热和要生产的具体有机金属化合物以及本领域技术人员能力范围内的其他因素。传热区和其在反应器中的位置的选择在本领域技术人员的能力之内。
第一反应物流通过第一入口进入到反应器的接触区中。第一反应物可以为液相,气相或液相和气相二者。优选地,大部分第一反应物为液相。第二反应物流通过第二入口进入到反应器的接触区中。第二反应物可以为液相、气相或液相和气相二者。优选地,大部分第二反应物为液相。也优选的是,第一反应物和第二反应物都为液相、气相或液相和气相二者。更优选的是,第一反应物和第二反应物都为液相。
熔点相对较低的固体反应物可在本方法中通过适当加热反应器到该反应物熔点温度之上来应用。在反应器温度下,不管是固体还是液体反应物都可溶于溶剂中以制得液相反应物然后通入到反应器中。当在反应器温度下反应物或制备得到的有机金属化合物是固体时,优选是有机溶剂。不与反应物或制备得到的有机金属化合物反应或使之不稳定化的任何有机溶剂都可以采用。本领域技术人员知晓合适的溶剂。优选的溶剂是烃,例如直链烷基苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、四甲苯、喹啉、异喹啉、异三十烷、茚、1,2,3,4-四氢化萘(四氢化萘)和十氢化萘;以及离子液体。离子液体通常是在低温下为液体的盐,其熔点温度低于100℃。离子液体全部由离子组成以及通常是由大分子(bulky)有机阳离子和无机阴离子组成。由于这些化合物之间强的库伦力,离子液体几乎没有蒸汽压。本发明可以采用任何合适的离子液体作为溶剂。离子液体中示例性的阳离子包括但不限于烃铵阳离子、烃基鏻阳离子、烃基吡啶阳离子和二烃基咪唑阳离子。本发明离子液体中示例性阴离子包括但不限于:氯化金属(chlorometalate)阴离子;氟硼酸(fluoroborate)阴离子,例如四氟硼酸盐阴离子和烃取代的氟硼酸阴离子;和氟磷酸阴离子,例如六氟磷酸盐阴离子和烃基取代的氟磷酸阴离子。示例性的氯代金属阴离子包括:氯代铝酸盐阴离子,例如四氯化铝酸盐阴离子和氯化三烷基铝酸盐阴离子;氯代镓酸盐(chlorogallate)阴离子,例如氯化三甲基镓酸盐;和四氯化镓酸盐,氯化铟酸盐离子例如四氯化铟酸盐和氯化三甲基铟酸盐。
将固体反应物溶于有机溶剂中以提供液相反应物可以使固体反应物被本方法采用。另外,采用有机溶剂允许在反应器的条件为固体的情况下按照本方法制备有机金属化合物,而且减少了反应器中的沉淀。例如,三甲基铟(其可以按照本发明方法制备)在88℃时溶化,在101-103℃时爆炸分解。在三甲基铟的制备中采用有机溶剂允许反应器的温度低于其熔点。另外,人们知晓在>125℃温度下三甲基铟在溶液中长时间稳定,例如在异三十烷(squalane)中,。当制备三甲基铟时采用例如异三十烷的溶剂在不使三甲基铟分解的情况下允许反应器的温度设定在更宽的范围。
任何能在流体中与第二反应物反应的含金属的化合物都可以用作第一反应物。在此采用的,术语“金属”包括“类金属(metalloid)”。在此采用的术语“类金属”涉及硼(第13族)、锗(第14族)、磷(第15族)、锑(第15族)和砷(第15族)。合适的含金属的第一反应物含有至少一种选自从第2族-第15族的金属原子,优选从第3族到第15族,更优选从第4族到第15族。在此采用的第14族金属不包括碳和硅并且第15族金属不包括氮。特别优选的金属是那些在第3、4、5、8、9、10、11、12、13和15族的,更优选第4、5、8、11、12、13和15族,并且进一步优选第5、12、13和15族。示例性的金属原子包括,但不限于,镁、钙、锶、钪、钇、镥、铹、镧、钛、锆、铪、铈、钒、铌、钽、铬、钼、钨、锰、钌、钴、铑、铱、镍、铂、钯、铜、银、金、锌、镉、铝、镓、铟、硅、锗、锡、磷、锑和锑。优选的金属原子包括镁、锶、钪、钇、镥、铹、钛、锆、铪、钒、铌、钽、钼、钨、锰、钌、钴、铱、镍、铂、钯、铜、银、金、锌、镉、铝、镓、铟、锗、锑和砷。更优选的金属原子是镁、钪、钇、镥、铹、钛、锆、铪、铌、钽、钼、钨、钌、钴、铱、镍、铂、钯、铜、银、金、锌、镉、铝、镓、铟、锗、锑和砷,并且更优选的是镁、锆、铪、铌、钽、钼、钨、钌、钴、铱、镍、铜、锌、镉、铝、镓、铟、锗、锑和砷,并且更进一步优选的是镁、锆、铪、锌、镉、铝、镓、铟、锗、锑和砷。尤其优选的金属是锆、铪、锌、镉、铝、镓、铟、锑和砷。
优选用作第一反应物的含金属化合物是卤化物,(C1-C4)羧酸盐,选自第2族-第15族的金属的氨基和含烃化合物的化合物。这样优选的含金属化合物具有通式(I)
式(I)RaYbMmL
其中每个R独立地选自=H或(C1-C10)烃基基团;每个Y独立选自卤素、(C1-C4)羧酸盐、(C1-C5)烷氧基、R1R2N或二胺基-或三-胺基基团;M=第2族-第15族金属;R1和R2独立地选自H或(C1-C6)烷基;L=中性配体;m=M的化合价;a=0到m;b=0到m;并且a+b=m。本领域技术人员知晓a和b不都=0。术语“烃基”涉及任意碳氢基团,并且包括烷基和芳基基团。该烃基基团可选的包括除了碳和氢之外的原子,例如氧或氮。优选烃基基团是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基,新戊基、环戊基、己基、环己基、环戊二烯基、甲基环戊二烯基、五甲基环戊二烯基、(C1-C3)烷氧基(C2-C6)烷基、脒、甲脒和β-二酮。当第一反应物包括烃基基团时,该基团通过金属-碳键结合到金属上。示例性的Y中的二胺基-和三胺基-基团包括,但不限于,1,2-二胺基乙基、1,2-二-(N-甲胺基)乙基、1,3-二胺基丙基、1,3-二-(N-甲胺基)丙基、1,2-二胺基丙基和二亚乙基三胺。Y优选为氯、溴、乙酰氧基(acetoxy)、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、胺基、甲胺基、二甲胺基、乙基甲基胺基、二乙基胺基、1,2-二胺基乙基、1,2-二-(N-甲胺基)乙基、1,3-二胺基丙基和1,3-二-(N-甲胺基)丙基。更优选的Y是氯、溴、乙酰氧基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基、胺基、甲胺基、二甲基胺基、乙基甲基胺基和二乙基胺基。
含金属的反应物的中性配体(L)可是任选的。此中性配体整体不带电荷并且可以起到稳定剂的作用。中性配体包括,但不限于,CO、NO、氮气(N2)、胺、膦、烷基腈、烯烃、炔烃和芳香化合物。术语“烯烃”包括任何含有一个或更多碳碳双键的脂肪族化合物。示例性的中性配体包括,但不限于:(C2-C10)的烯烃例如乙烯、丙烯、1-丁烯、2-丁烯、1-戊烯、2-戊烯、1-己烯、2-己烯、降冰片烯、乙烯胺、烯丙基胺、乙烯基三(C1-C6)烷基硅烷、二乙烯基二(C1-C6)烷基硅烷、乙烯基三(C1-C6)烷氧基硅烷和二乙烯基二(C1-C6)烷氧基硅烷;(C4-C12)二烯例如丁二烯、环戊二烯、异戊二烯、己二烯、辛二烯、环辛二烯、降冰片二烯和α-萜烯;(C6-C16)三烯;(C2-C10)的炔例如乙炔和丙炔;和芳香族化合物例如苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、甲苯、邻甲基异丙基苯、间甲基异丙基苯、对甲基异丙基苯、吡啶、呋喃和噻吩。中性配体的数量取决于为M选择的特定金属。当存在两个或更多中性配体时,该配体可以相同或不同。
更优选的是第一反应物具有式(II)R3 cY1 aM2Ln,其中每个R3选自H或(C1-C4)烷基;每个Y1选自卤素;M2是第13族金属;L如上定义;c=0-3;d=0-3;c+d=3;并且n=0-1。R3优选H、甲基或乙基。Y1优选氯或溴。在式II中,当L存在时,其优选中性配体是叔胺或叔膦。M2优选铟或镓。优选叔胺或叔膦是三(C1-C4)烷基胺和三(C1-C4)烷基膦。
合适的第二反应物可以是任意如上所述的作为第一反应物的含金属化合物。其他的可用于第二反应物的化合物包括,但不限于,烷基化第一反应物或在第一反应物中作为金属原子的配体的合适的化合物。除了式I的含金属化合物,其他作为第二反应物的优选的化合物是:烷胺;烷基膦;β-二酮、脒、甲脒、胍和环戊二烯类的碱金属或碱土金属盐;(C1-C4)醇盐;(C1-C6)烷基锂化合物;和(C1-C6)烷基格氏试剂。合适的烷基胺是单-、二-和三-(C1-C6)烷基胺,优选单-、二-和三-(C1-C4)烷基胺,和更优选三-(C1-C4)烷基胺。特别优选烷基胺是三甲胺、三乙胺和三丙胺。合适的烷基膦是单-、二-和三-(C1-C6)烷基膦,优选单-、二-和三-(C1-C4)烷基膦,和更优选三-(C1-C4)烷基膦。特别优选烷基膦是三甲膦、三乙膦和三丙膦。β-二酮、脒、甲脒、胍和环戊二烯类的盐可以容易的使相应的β-二酮、脒、甲脒、胍和环戊二烯类与合适的碱(例如氢氧化钠)反应以制备得到。优选的盐为碱金属盐。合适的脒和甲脒是那些公开在专利US2006/0141155和US2008/0305260中的。优选的环戊二烯类为环戊二烯、甲基环戊二烯和五甲基环戊二烯。本领域技术人员能知晓第一反应物和第二反应物是不同的。
优选第二反应物选自烷基胺、烷基膦和上述的式(II)化合物。第二反应物更优选为选自三(C1-C4)烷基胺、三(C1-C4)烷基膦和上述的式(II)化合物,其中M2选自铟和镓,且其中Y1选自氯和溴。
将第一反应物和第二反应物,任选这些反应物在有机溶剂中,通入到反应器单元的接触区中并控制条件以使反应物可控地混合。控制反应物的混合能够更精确的控制生成有机金属化合物的整个反应。在方法中是通过控制反应物的层流控制混合。引入接触区的反应物以一种方式使其同向以及基本上具有层流。有“基本上层流”意味着在进入混合区时每个反应物流的流动具有雷诺指数(“Re”)≤3500,优选≤3000,更优选≤2500,进一步优选≤2100,进一步更优选≤1500,并且最优选≤1000。进一步优选第一反应物流和第二反应物流的流动是同中心的。当反应物流同中心流动时,优选中心的反应物流比靠外的反应物流具有较低的Re。第一反应物和第二反应物在反应物流的交界面进行反应。这样对制备有机金属化合物的速率给出了很好的控制,尤其是对于放热反应。这样控制的反应允许以更高的总收率并具备降低数量的反应副产物来生产有机金属化合物。
一旦第一和第二反应物混合,得到的反应混合流就在充分的条件下使反应物反应以生成所需的有机金属化合物。这样的条件被本领域技术人员所熟知,可以包括加热、冷却或它们的组合。对于放热反应,反应器单元的传热区将包括冷却单元以控制反应速率。对于吸热反应,传热区将包含加热单元。反应时间是通过控制反应物在反应器单元的停留时间来控制的。
在反应后,反应混合物流(其此时包括生成的有机金属化合物、任何未反应的第一或第二反应物、反应副产物和用到的任意有机溶剂)通过传热区的出口离开反应器。通常,有机金属化合物在经过任意提纯步骤之前以≥70%的产率获得。优选地,有机金属化合物以≥90%的产率获得,更优选≥95%,进一步更优选≥97%,并进一步更优选≥98%。
生成的有机金属化合物、未反应的第一或第二反应物、反应副产物和任意有机溶剂从反应器单元的出口通入到分离单元。该分离单元可采用任意用于提纯有机金属化合物的常规技术,包括例如结晶、蒸馏或升华。该分离技术在本领域是熟知的。优选地,有机金属化合物以≥95%的纯度获得,更优选≥97%,仍然更优选≥98%,进一步优选≥99%,进一步更优选≥99.99%,并最优选≥99.9999%。
本发明的连续方法适合于制备许多有机金属化合物。优选的有机金属化合物为具有式R4 eMmXm-eL1(式III)的那些,其中每个R4独立地是(C1-C20)烷基、(C2-C20)烯基、(C2-C20)炔基、(C5-C20)芳基、(C5-C20)芳基(C1-C20)烷基、(C1-C20)烷氧基、(C2-C10)烷氧羰基(carbalkoxy),胺基、(C1-C12)烷基氨基(C1-C12)烷基、二(C1-C20)烷基氨基(C1-C12)烷基、膦基和二价配体;每个X独立的选自H、R4、氰基和卤素;L1=中性配体;e=R4基团的化合价,且是≥1的整数;m=M的化合价。“胺基”基团包括-NH2、(C1-C12)烷基胺基和二(C1-C12)烷基胺基。优选地,胺基基团是-NH2、(C1-C6)烷基胺基和二(C1-C6)烷基胺基,并且更优选-NH2、(C1-C4)烷基胺基和二(C1-C4)烷基胺基。“膦基”基团包括-PH2、(C1-C12)烷基膦基和二(C1-C12)烷基膦基。优选包括-PH2、(C1-C6)烷基膦基和二(C1-C6)烷基膦基,并且更优选-PH2、(C1-C4)烷基膦基和二(C1-C4)烷基膦基。上述R4基团任选被取代,以一个或多个取代基(例如卤素、羰基、羟基、氰基、氨基、烷胺基、二烷胺基和烷氧基)取代一个或多个氢原子。例如,当R4是(C1-C20)烷基基团时,该基团可在烷基链中含有羰基。合适的二价配体包括,但不限于,β-二酮、脒、甲脒、磷酸脒、胍、β-二酮亚胺、双环脒和双环胍。优选的二价配体包括β-二酮、脒、甲脒、磷酸脒和胍。取决于特定的金属原子,式III的有机金属化合物可选的包括一个或多个中性配体(L)。这样的中性配体整体上不带电荷。中性配体包括,但不限于,CO、NO、氮、胺、醚、膦、烷基膦、芳基膦、腈、烯、二烯、三烯、炔和芳香化合物。式III的有机金属化合物与胺或膦(例如叔胺和叔膦)的加合物在本发明中是可预期的。
优选地,式III中每个R4基团独立的选自(C1-C10)烷基、(C2-C10)烯基、(C2-C10)炔基、(C5-C15)芳基、(C5-C10)芳基(C1-C6)烷基、(C1-C10)烷氧基、(C2-C10)烷氧羰基、胺基、(C1-C6)烷胺(C1-C10)烷基、二(C1-C6)烷胺(C1-C6)烷基、膦基和二价配体;并且更优选(C1-C6)烷基、(C2-C6)烯基、(C2-C6)炔基、(C5-C10)芳基、(C5-C8)芳基(C1-C6)烷基、(C1-C6)烷氧基、(C2-C6)烷氧羰基、胺基、(C1-C4)烷胺(C1-C6)烷基、二(C1-C4)烷胺(C1-C6)烷基、膦基和二价配体。进一步优选每个R4独立选自(C1-C5)烷基、(C2-C3)烯基、(C2-C3)炔基、(C5-C8)芳基、(C5-C8)芳基(C1-C4)烷基、(C1-C5)烷氧基、(C2-C5)烷氧羰基、胺基、(C1-C4)烷胺(C1-C4)烷基、二(C1-C4)烷胺(C1-C4)烷基、膦基和二价配体,并且进一步更优选(C1-C4)烷基、(C2-C3)烯烃、(C5-C8)芳基、(C1-C5)烷氧基、胺基、(C1-C3)烷胺(C1-C4)烷基、二(C1-C3)烷胺(C1-C4)烷基、膦基和二价配体。
优选的有机金属化合物具有式(IV)的结构
式(IV)R5 xX2 p-xM3p
其中每个R5独立地选自(C1-C6)烷基、(C2-C6)烯基、(C1-C4)烷胺(C1-C6)烷基、二(C1-C4)烷胺(C1-C6)烷基、(C5-C10)芳基、-NH2、(C1-C4)烷胺基和二(C1-C4)烷胺基;每个X2独立的选自H、卤素、(C1-C10)烷氧基和R5;M3是第2、4或13族的金属;x是R5基团的化合价且是整数;p是M3的化合价;并且1≤x≤p。式II的有机金属化合物与胺或膦(例如叔胺和叔膦)的加合物在本发明中可预期的。优选每个R5独立地选自(C1-C4)烷基、(C2-C4)烯基、(C5-C10)芳基、-NH2、(C1-C4)烷胺基和二(C1-C4)烷胺基;并且更优选(C1-C4)烷基、(C5-C8)芳基、-NH2、(C1-C4)烷胺基、和二(C1-C4)烷胺基。示例性的R1基团包括,但不限于,甲基、乙基、正丙基、异丙基、丁基、叔丁基,异丁基、仲丁基、正戊基、异戊基、新戊基、乙烯基、烯丙基、炔丙基、胺甲基、胺乙基、胺丙基、二甲基胺丙基、苯基、环戊二烯基、甲基环戊二烯基、五甲基环戊二烯基、甲胺基、二甲胺基和甲乙胺基。当X2是卤素时,氯和溴是优选的且氯是更优选的。当M3是第2族金属时,x=1或2。当M3是第4族金属时,x=1、2、3或4。当M3是第13族金属时,x=1、2或3。M3优选是镁、锆、铪、铝、铟或镓,并且更优选铝、铟或镓。
示例性的有机金属化合物包括,但不限于:三烷基铟化合物例如三甲基铟,三乙基铟、三正丙基铟、三异丙基铟、二甲基异丙基铟、二甲基乙基铟、二甲基叔丁基铟、甲基二叔丁基铟、甲基二异丙基铟和三叔丁基铟;三烷基铟胺加合物;二烷基卤化铟化合物,例如二甲基氯化铟;烷基二卤铟化合物例如甲基二氯化铟;环戊二烯铟;三烷基铟-三烷基膦加合物例如三甲基铟-三甲基膦加合物;三烷基镓化合物例如三甲基镓、三乙基镓、三异丙基镓、三叔丁基镓、二甲基异丙基镓、二乙基叔丁基镓、甲基二异丙基镓、二甲基叔丁基镓、二甲基新戊基镓和甲基乙基异丙基镓,三烷基镓-胺加合物;三烷基镓-膦加合物;烷基二卤化镓例如甲基二氯化镓、乙基二氯化镓和甲基二溴化镓;二烷基卤化镓化合物例如二甲基氯化镓和二乙基氯化镓;三烷基铝化合物例如三甲基铝、三乙基铝、三正丙基铝、三异丙基铝、三叔丁基铝、二甲基异丙基铝、二甲基乙基铝、二甲基叔丁基铝、甲基二叔丁基铝和甲基二异丙基铝;二烷基卤化铝化合物例如二甲基氯化铝和二乙基氯化铝;烷基二卤化铝化合物例如甲基二氯化铝、乙基二氯化铝和乙基二溴化铝;金属二烷基胺(amido)化合物例如四(甲乙胺)锆和四(甲乙胺)铪;金属-β-二酮例如β-二酮化的铪、锆、钽和钛;和金属脒例如铜、镧、钌和钴的脒。例如,第13族有机金属化合物可以用例如专利US5,756,786、US6,680,397和US6,770,769中记载的反应物来制备。金属脒化合物可以用例如专利US7,638,645和US7,816,550中记载的反应物来制备。
本方法制备的有机金属化合物可以用于需要高纯有机金属化合物的多种应用,例如在特定催化剂的应用和在生产例如发光二极管的电子元件。该有机金属化合物也可以用作制备其他有机金属化合物的中间体。
实施例1
下面的表格显示了按照本方法制备得到的多种有机金属化合物。列出了合适的有机溶剂,当需要这样的溶剂或任选使用时。
化合物 | 第一反应物 | 第二反应物 | 溶剂 |
TDMAHf | HfCl4 | (CH3)2NLi | 均三甲苯或均四甲苯 |
TDMAZr | ZrCl4 | (CH3)2NLi | 均三甲苯或均四甲苯 |
TEMAHf | HfCl4 | (CH3)(CH3CH2)NLi | 均三甲苯或均四甲苯 |
TEMAZr | ZrCl4 | (CH3)(CH3CH2)NLi | 均三甲苯或均四甲苯 |
(CH3)2InCl | InCl3 | (CH3)3Al | 异三十烷或均三甲苯 |
(CH3)3Ga | GaCl3 | (CH3)3Al | 甲苯或均三甲苯 |
(CH3)3In | InCl3 | (CH3)3Al | 异三十烷或均三甲苯 |
(CH3CH2)3Ga | GaCl3 | (CH3CH2)3Al | 甲苯或LAB |
(CH3CH2)3In | InCl3 | (CH3CH2)3Al | 异三十烷或均三甲苯 |
(CH3CH2)2GaCl | GaCl3 | (CH3CH2)3Al | 甲苯或LAB |
缩写具有以下含义:LAB=线性烷基苯;TDMA=四(二甲基胺)或[(CH3)2N]4;以及TEMA=四(甲乙胺)或[(CH3)(CH3CH2)N]4。
实施例2
向一个反应器(其包括一个含有第一入口和第二入口的接触区、多个传热区和多个混合区)在200-300KPa、10-30℃温度下以流速10-20单位/h加入作为第一反应物的主要为液体的TMA流和在200-300KPa、10-30℃温度以流速20-40单位/h加入作为第二反应物的主要为液体的三丙胺(“TPA”)流经过反应器入口到层流环境中。流速控制在TPA的摩尔数比TMA稍微大于1/1。两种反应物流加入到拥有同心和基本上层流的反应器的混合区中。每种进入到混合区的反应物流的雷诺指数都≤1000。反应物流在反应器中的总的停留时间>20秒。离开反应器时,产物(TMA-TPA加合物)流通入到分离单元以移除杂质。该反应几乎连续进行超过24小时,只有在产物质量>450kg时导致短暂的停顿。
实施例3
向一个类似于实施例2中的反应器中,在200-300KPa、40-60℃温度下以流速20-40单位/h加入作为第一反应物的主要为液体的来自实施例2的TMA-TPA流和在200-300KPa、2-10℃温度下以流速20-40单位/h加入作为第二反应物的主要为液体的在芳香烃溶剂中的氯化镓流以维持铝与镓金属的摩尔比大于1/1。反应器的传热区维持反应器出口的温度为85-100℃。反应器连续被操作超过24小时,在这段时间内产物(三甲基镓或“TMG”)被持续的在分离单元提纯以生产出100kg多的高纯TMG,总产率>85%。
实施例4
重复实施例3的步骤且提纯后的总产率>90%。
实施例5
重复实施例2的步骤,除了三乙基铝用作第一反应物,以生产三乙基铝-TPA加合物。
实施例6
重复实施例3的步骤,除了来自实施例5的三乙基铝-TPA作为第一反应物,以生产三乙基镓。
实施例7
重复实施例3的步骤,除了在均三甲苯中的二甲酰胺锂作为第一反应物和在均三甲苯中的四氯化铪作为第二反应物以制备四(二甲酰胺)铪。
实施例8
重复实施例7的步骤,除了用四氯化锆替代四氯化铪,以制备四(二甲酰胺)铪。
实施例9
重复实施例7的步骤,除了在均三甲苯中的乙基甲酰胺锂作为第一反应物,以制备四(乙基甲酰胺)铪。
Claims (11)
1.一种连续制备有机金属化合物的方法,所述方法包括:
(a)提供包括反应器单元的设备,所述反应器单元包括接触区和传热区;
(b)连续将第一反应物流和第二反应物流通入到接触区中以形成反应混合物流,其中第一反应物流和第二反应物流是同向的且基本上具有层流,且其中第一反应物是含金属的化合物;
(c)使反应混合流生成有机金属化合物产物流;
(d)控制传热区中产物流的温度和压力以维持大部分有机金属化合物为液相;和
(e)转移产物流到分离单元中以分离所述有机金属化合物。
2.权利要求1的方法,其中有机金属化合物以≥70%的产率得到。
3.权利要求2的方法,其中有机金属化合物以≥90%的产率得到。
4.权利要求1的方法,其中第二反应物包含金属。
5.权利要求1的方法,其中第一反应物包含第13族金属。
6.权利要求1的方法,其中所述设备包括多个反应器单元。
7.权利要求6的方法,其中第二反应器单元在反应器单元后。
8.权利要求1的方法,进一步包括多个传热区。
9.权利要求1的方法,其中第一反应物和第二反应物都为气相、液相或其组合。
10.权利要求1的方法,其中转移到接触区中每个第一和第二反应物流都具有≤3500的雷诺指数。
11.一种用于连续生产有机金属化合物的设备,所述方法包括:
(a)第一反应物流的源,其中第一反应物包括金属;(b)第二反应物流的源;(c)使第一反应物流和第二反应物流同向接触的层流接触区;和(d)传热区。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161523521P | 2011-08-15 | 2011-08-15 | |
US61/523,521 | 2011-08-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102977132A true CN102977132A (zh) | 2013-03-20 |
CN102977132B CN102977132B (zh) | 2016-12-21 |
Family
ID=47002600
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210410065.4A Expired - Fee Related CN102977132B (zh) | 2011-08-15 | 2012-08-15 | 金属有机化合物的制备 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8969608B2 (zh) |
EP (1) | EP2559681B1 (zh) |
JP (1) | JP5991881B2 (zh) |
KR (1) | KR20130018635A (zh) |
CN (1) | CN102977132B (zh) |
TW (1) | TWI516495B (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110452257A (zh) * | 2019-09-11 | 2019-11-15 | 苏州普耀光电材料有限公司 | 一种三乙基铟的制备方法 |
CN111233710A (zh) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 弗萨姆材料美国有限责任公司 | 用于气相沉积的低卤化物镧系元素前体 |
CN113563198A (zh) * | 2021-09-24 | 2021-10-29 | 苏州源展材料科技有限公司 | 四(二甲氨基)锆的合成方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2545972A1 (en) | 2011-07-13 | 2013-01-16 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by two steps distillation |
EP2545973B1 (en) | 2011-07-13 | 2020-03-04 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by stripping step |
EP2559682B1 (en) * | 2011-08-15 | 2016-08-03 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Organometallic compound preparation |
JP2015120642A (ja) * | 2013-12-20 | 2015-07-02 | 株式会社堀場エステック | 連続反応装置及びこれを用いる連続合成方法 |
CN103910640A (zh) * | 2014-03-18 | 2014-07-09 | 南京大学 | 四(二甲胺基)锆的合成方法 |
EP3341382A1 (en) * | 2015-08-28 | 2018-07-04 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Process for the preparation of trimethyl metal compounds |
US11401282B2 (en) * | 2017-10-31 | 2022-08-02 | Nouryon Chemicals International B.V. | Method for storing and/or transporting gallium chloride |
KR102702518B1 (ko) * | 2019-09-06 | 2024-09-04 | 퍼블릭 조인트 스톡 컴퍼니 “시부르 홀딩” | 올레핀 올리고머화를 위한 촉매 시스템의 제조 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000037475A1 (en) * | 1998-12-19 | 2000-06-29 | Epichem Limited | Process and apparatus for production of organometallic compounds |
CN1769288A (zh) * | 2004-10-05 | 2006-05-10 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 有机金属化合物 |
CN1872861A (zh) * | 2005-06-03 | 2006-12-06 | 大连保税区科利德化工科技开发有限公司 | 三甲基镓生产方法及设备 |
TW201105573A (en) * | 2009-06-04 | 2011-02-16 | Voltaix Llc | Apparatus and method for the production of trisilylamine |
CN102020669A (zh) * | 2010-12-22 | 2011-04-20 | 江苏南大光电材料股份有限公司 | 工业化制备三甲基镓的方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1167837B (de) | 1957-04-03 | 1964-04-16 | Sumitomo Chemical Co | Verfahren zur Herstellung von Aluminiumtriaethyl |
US4251453A (en) | 1979-08-22 | 1981-02-17 | Conoco, Inc. | Production of aluminum alkyls |
US4925962A (en) | 1988-10-24 | 1990-05-15 | Ethyl Corporation | Trimethylaluminum process |
JPH03215195A (ja) | 1990-01-17 | 1991-09-20 | Japan Servo Co Ltd | 記録装置 |
US4948906A (en) | 1990-02-16 | 1990-08-14 | Ethyl Corporation | Trimethylaluminum process |
JPH06128269A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-05-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機金属化合物の製造方法および装置 |
ES2160941T5 (es) | 1996-04-19 | 2007-06-01 | Albemarle Corporation | Procedimiento para elaborar aluminoxanos. |
JP3525371B2 (ja) | 1996-06-25 | 2004-05-10 | 信越化学工業株式会社 | 有機金属化合物の精製方法 |
US5756786A (en) | 1997-06-25 | 1998-05-26 | Morton International, Inc. | High purity trimethylindium, method of synthesis |
JP3732311B2 (ja) * | 1997-06-26 | 2006-01-05 | 信越化学工業株式会社 | 有機インジウム化合物の製造方法 |
GB0017968D0 (en) * | 2000-07-22 | 2000-09-13 | Epichem Ltd | An improved process and apparatus for the isolation of pure,or substantially pure,organometallic compounds |
JP2003252878A (ja) | 2002-01-17 | 2003-09-10 | Shipley Co Llc | 有機インジウム化合物 |
US6770769B2 (en) * | 2002-04-06 | 2004-08-03 | Shipley Company, L.L.C. | Trialkylindium preparation |
EP1563117B1 (en) | 2002-11-15 | 2010-01-06 | President And Fellows Of Harvard College | Atomic layer deposition using metal amidinates |
JP4560605B2 (ja) * | 2003-01-15 | 2010-10-13 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 化学反応制御方法 |
JP4488186B2 (ja) | 2004-06-18 | 2010-06-23 | 信越化学工業株式会社 | トリメチルアルミニウムの精製方法 |
JP2006001896A (ja) | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 高純度トリメチルアルミニウム及びトリメチルアルミニウムの精製方法 |
TW200619222A (en) | 2004-09-02 | 2006-06-16 | Rohm & Haas Elect Mat | Method for making organometallic compounds |
US7816550B2 (en) | 2005-02-10 | 2010-10-19 | Praxair Technology, Inc. | Processes for the production of organometallic compounds |
CN1872862A (zh) | 2005-06-03 | 2006-12-06 | 大连保税区科利德化工科技开发有限公司 | 三甲基镓制备和提纯方法 |
US7638645B2 (en) | 2006-06-28 | 2009-12-29 | President And Fellows Of Harvard University | Metal (IV) tetra-amidinate compounds and their use in vapor deposition |
TWI398541B (zh) | 2007-06-05 | 2013-06-11 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 有機金屬化合物 |
US7659414B2 (en) * | 2007-07-20 | 2010-02-09 | Rohm And Haas Company | Method of preparing organometallic compounds |
EP2545973B1 (en) * | 2011-07-13 | 2020-03-04 | Dow Global Technologies LLC | Organometallic compound purification by stripping step |
EP2559682B1 (en) | 2011-08-15 | 2016-08-03 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Organometallic compound preparation |
-
2012
- 2012-08-14 EP EP12180424.9A patent/EP2559681B1/en not_active Not-in-force
- 2012-08-15 US US13/586,679 patent/US8969608B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 TW TW101129478A patent/TWI516495B/zh not_active IP Right Cessation
- 2012-08-15 CN CN201210410065.4A patent/CN102977132B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-15 JP JP2012180028A patent/JP5991881B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-08-16 KR KR1020120089697A patent/KR20130018635A/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000037475A1 (en) * | 1998-12-19 | 2000-06-29 | Epichem Limited | Process and apparatus for production of organometallic compounds |
CN1769288A (zh) * | 2004-10-05 | 2006-05-10 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 有机金属化合物 |
CN1872861A (zh) * | 2005-06-03 | 2006-12-06 | 大连保税区科利德化工科技开发有限公司 | 三甲基镓生产方法及设备 |
TW201105573A (en) * | 2009-06-04 | 2011-02-16 | Voltaix Llc | Apparatus and method for the production of trisilylamine |
CN102020669A (zh) * | 2010-12-22 | 2011-04-20 | 江苏南大光电材料股份有限公司 | 工业化制备三甲基镓的方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111233710A (zh) * | 2018-11-28 | 2020-06-05 | 弗萨姆材料美国有限责任公司 | 用于气相沉积的低卤化物镧系元素前体 |
US20210363162A1 (en) * | 2018-11-28 | 2021-11-25 | Versum Materials Us, Llc | Low Halide Lanthanum Precursors For Vapor Deposition |
US11753420B2 (en) * | 2018-11-28 | 2023-09-12 | Versum Materials Us, Llc | Low halide lanthanum precursors for vapor deposition |
CN110452257A (zh) * | 2019-09-11 | 2019-11-15 | 苏州普耀光电材料有限公司 | 一种三乙基铟的制备方法 |
CN113563198A (zh) * | 2021-09-24 | 2021-10-29 | 苏州源展材料科技有限公司 | 四(二甲氨基)锆的合成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2559681A3 (en) | 2013-10-02 |
JP5991881B2 (ja) | 2016-09-14 |
KR20130018635A (ko) | 2013-02-25 |
EP2559681A2 (en) | 2013-02-20 |
US20130211117A1 (en) | 2013-08-15 |
US8969608B2 (en) | 2015-03-03 |
EP2559681B1 (en) | 2016-06-22 |
TW201319075A (zh) | 2013-05-16 |
JP2013049672A (ja) | 2013-03-14 |
TWI516495B (zh) | 2016-01-11 |
CN102977132B (zh) | 2016-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102977132A (zh) | 金属有机化合物的制备 | |
CN103254248B (zh) | 金属有机化合物的制备 | |
CN101348900B (zh) | 有机金属化合物 | |
KR101912111B1 (ko) | 유기금속 화합물의 정제방법 및 장치 | |
US7659414B2 (en) | Method of preparing organometallic compounds | |
CN101245115A (zh) | 一种乙烯均聚合与共聚合催化剂及其制备方法 | |
CN102146089A (zh) | 制备有机金属化合物的方法 | |
CN102584514B (zh) | 在微反应器中的格里纳德型反应 | |
CN109748932A (zh) | 一种六甲基二硅氮烷的连续式合成方法 | |
CN102153569A (zh) | 制备有机金属化合物的方法 | |
CN104031184A (zh) | 一种乙烯聚合或共聚合的固体钛催化剂及其制备和应用 | |
Ma et al. | The three-dimensional coordination polymer poly [[aqua [μ4-2, 2′-(diazene-1, 2-diyl) dibenzoato] lead (II)] 1, 2-bis (pyridin-4-yl) ethylene hemisolvate] | |
Petrov | Design of Rare-Earth Organometallic Complexes Stabilized by Novel Cyclopentadienyl-Phosphazene and Modified Dialkylbenzylamine Ligand Regimes | |
Liu et al. | A three-dimensional PbII coordination framework: poly [[μ4-(E)-2, 2′-(diazene-1, 2-diyl) dibenzoato] dimethanollead (II)] |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20161221 Termination date: 20200815 |