CN102898943B - 涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品 - Google Patents

涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品。涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO‑(CH2CH2O)p‑Rb‑]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。

Description

涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品
本申请要求于2011年7月27日提交到韩国知识产权局的第10-2011-0074459号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开通过引用包含于此。
技术领域
本发明实施例涉及一种耐久性优异的抗指印涂覆组合物及一种使用该抗指印涂覆组合物形成的薄膜。
背景技术
电子产品显示器的表面(例如，TV的屏幕、PC或笔记本显示器的屏幕、诸如蜂窝电话或PDA的移动设备的屏幕或电子产品的触摸面板)容易被指印或脸部组分(诸如油脂或蛋白质)弄脏。因此，这些脏点对肉眼显著可见，并且在呼叫过程中与用户的手或脸接触时，显示器变脏。
因此，结合了通过在显示器的表面上形成防水防油的含氟薄膜或用防水硅树脂架涂覆显示器的表面来形成抗指印涂覆层的方法。
然而，这些方法不能防止油脂(指印的主成分)的粘附，并且不得不清洁指印。出于此原因，存在于产品表面上的指印使其外观变脏，并且当反复清洁时，与耐久性相关的问题(其中，薄涂覆膜的寿命仅为几个月)会发生。
发明内容
在下面的描述中将部分地阐述附加方面和/或优点，部分通过描述将是明显的，或者可以通过本发明的实践获知。
因此，本公开的一方面提供了一种涂覆组合物及使用该涂覆组合物的涂覆薄膜，该涂覆组合物能够防止粘附到显示器或触摸面板的指印显著可见并因优异的耐久性而长时间地维持抗指印性能。
根据本公开的一方面，一种涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基；q是1至3的整数。
R1基团可以是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组选择的至少一种。
R2基团可以是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
硅烷低聚物可以具有100至10000的分子量。
使用硅烷低聚物形成的薄膜对水可以具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷可以具有0度至45度的接触角。
根据另一方面，一种涂覆组合物包括：按重量计45％至49.5％的具有由式1[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团的硅烷化合物，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；按重量计45％至49.5％的具有由作为式2的(Rc)q表示的R2基团的硅烷化合物，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数；以及按重量计1％至10％的H2O或酸。
R1基团可以是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组选择的至少一种。
R2基团可以是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
硅烷低聚物可以具有下式3的结构。
式3
其中，m和n均独立地为1至10的整数。
涂覆组合物可以具有100至10000的分子量。
使用涂覆组合物形成的薄膜对水可以具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷可以具有0度至45度的接触角。
附图说明
通过结合附图进行的实施例的以下描述，本发明的这些和/或其他方面将变得明显且更容易理解，其中：
图1是示出当将根据本发明一个实施例的硅烷化合物涂覆在基底表面上时发生的现象的视图；
图2中的(a)是示出存在于涂覆有根据现有技术的含氟(F)的硅烷化合物的基底表面上的水(H2O)和二碘甲烷的接触角以及光的反射状态的视图；
图2中的(b)是示出存在于涂覆有根据本发明一个实施例的化合物的基底表面上的水(H2O)和二碘甲烷的接触角以及光的反射状态的视图；
图3中的(a)和(b)是示出将根据本发明一个实施例的涂覆组合物涂覆在基底表面上的工艺的视图；
图4是示出将制备示例1的涂覆组合物沉积在基底表面上的速率的曲线图以及示出将对比示例1的涂覆组合物沉积在基底表面上的速率的曲线图；
图5是将涂覆有制备示例1的涂覆组合物的智能电话与涂覆有对比示例2的涂覆组合物的智能电话进行比较的图像；
图6中的(a)、(b)和(c)是示出分别使用气相层析(GC)质谱仪和Maldi质谱仪分析制备示例1的涂覆组合物和对比示例1的涂覆组合物所获得的结果的视图；以及
图7是将沾染在由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的表面上的指印组分的可见性与沾染在由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜的表面上的指印组分的可见性进行比较的视图。
具体实施方式
现在将详细地参照本发明的实施例，附图中示出了本发明的实施例的示例，其中，相同的标号始终表示相同的元件。
根据本发明一个实施例的涂覆组合物包括具有由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团和由作为式2的(Rc)q表示的R2基团的硅烷低聚物。
在式1中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，其中，烷基取代或未取代。在式1中，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组。反应基可以取代或未取代。在式1中，p是1至12的整数。
R1基团可以是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
在式2中，Rc是可以取代或未取代的具有3至20个碳原子的环烷基。在式2中，q是1至3的整数。
R2基团可以是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
另外，当两种硅烷化合物和蒸馏水的重量比为1∶1∶0.01至1∶1∶0.1时，抗指印性质和滑动感觉均是优异的。然而，本发明不限于该重量比。
另外，当硅烷低聚物的分子量超过30,000时，硅烷低聚物变成凝胶并且不易形成薄膜。因此，为了维持液相，可以选择烷基(R1和R2)，使得硅烷低聚物的分子量不超过30,000，并且当硅烷低聚物的分子量为100至30,000时，能够得到适合于在基底表面上形成薄膜的化合物。优选地，硅烷低聚物的分子量为大约100至大约10000。
硅烷为氢化硅类型，其式由SinH2n+2表示。硅烷化合物表示SinH2n+2的一个或多个氢由其他基团取代的化合物。基于取代基的类型，可以得到具有各种性质的化合物。
具有R1基团的硅烷化合物和具有R2基团的硅烷化合物可以是无需任何处理就能够防止指印显现的抗指印涂覆组合物。当用硅烷化合物涂覆产品的表面时，得到优异的抗指印性质，但是通过混合两种硅烷化合物形成的低聚物能够形成具有改善的抗指印性质和滑动性质的涂覆组合物。
当在没有诸如蒸馏水(H2O)的添加剂的情况下将包含R1的硅烷化合物与不包含R2的硅烷化合物混合时，相应的硅烷化合物以单体状态存在，使用该混合物在基底表面上形成涂覆膜，与不使用该混合物而单独地涂覆每种硅烷化合物相比，滑动性质的改善低。
在一个实施例中，当将这两种硅烷化合物与蒸馏水(H2O)混合时，除结合到相应硅烷化合物的Si的R1和R2基团之外的反应基转变为羟基(OH-)的水解发生，然后分子之间的缩合发生，从而形成由下面的式3表示的硅烷低聚物。
式3
其中，m和n均可以独立地为1至10的整数。
除蒸馏水(H2O)之外的任何物质均可以用作添加至硅烷化合物的物质，只要该物质引起硅烷化合物的缩合，从而形成硅烷低聚物。例如，将各种酸与硅烷化合物混合以引起缩合，从而形成硅烷低聚物。
根据本发明示例性实施例，按重量计，可以将45％至49.5％的具有由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团的硅烷化合物、45％至49.5％的具有由作为式2的(Rc)q表示的R2基团的硅烷化合物和1％至10％的H2O或酸混合来形成硅烷低聚物。其中，Ra、Rb、Rc、p和q与上面所定义的相同。
当结合到Si的反应基由羟基(-OH)取代时，如式3所示，容易在硅烷化合物和二氧化硅层之间形成硅氧烷键，因此在耐久性方面具有优点。
在下文中，将参照通过将具有R1和R2基团的硅烷化合物与蒸馏水(H2O)混合得到的式3的硅烷低聚物来描述本发明的多个方面和实施例。
图1是示出当将根据本发明一个实施例的硅烷化合物涂覆在基底表面上时发生的现象的视图。当通过在电子产品的显示器的表面(例如，TV的屏幕、PC或笔记本的显示器屏幕、诸如蜂窝电话或PDA的移动设备的屏幕或电子产品的触摸面板)上涂敷式3的具有R1和R2基团的硅烷低聚物时，烷基R1和R2布置在基底表面的外侧，并且这些基团直接接触指印。因此，留在薄膜表面上的指印因烷基R1和R2的特性而被掩蔽，如下所述。下面将给出对其的详细描述。
式3中的与烷基R1和R2相对的羟基通过化学反应与基底形成硅氧烷键，从而提供优异的耐久性。
图2中的(a)示出当水(H2O)和二碘甲烷存在于通过涂覆被氟(F)取代的硅烷化合物形成的薄膜的表面上时的接触角及光被反射的状态。
氟(F)与水的接触角为大约115度，氟(F)与二碘甲烷的接触角为大约90度。接触角是指，当液滴在固体的水平表面上维持预定的透镜形状时，由固体表面和液体表面形成的预定角。接触角取决于液体和固体的类型，当接触角超过90度，液体被认为在固体的表面上维持其液滴形状，并且不湿润固体的表面，当接触角小于90度时，液体被认为在固体上扩展并且湿润固体的表面。
由于氟(F)与水的接触角以及氟(F)与二碘甲烷的接触角为90度或更高，所以水(H2O)和二碘甲烷不在氟取代的硅烷化合物薄膜的表面上扩展并且维持它们的液滴形状。
如图2中的(a)所示，当光照射到具有大接触角的水和二碘甲烷时，漫反射发生，导致指印对肉眼显著可见。因此，当包含水和二碘甲烷的指印组分留在与水和二碘甲烷有大接触角的表面上时，指印显著可见，因此看起来是脏的。
图2中的(b)示出当水(H2O)和二碘甲烷存在于由根据本发明一个实施例的涂覆组合物形成的薄膜的表面上时的接触角及光被反射的状态。
根据本发明一个实施例的涂覆组合物是式3的硅烷化合物。当通过在基底表面上涂覆硅烷化合物形成薄膜时，烷基R1和R2布置在外侧并接触指印组分。烷基R1和R2对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有45度或更小的接触角。因此，留在薄膜表面上的水或二碘甲烷宽泛地扩展，并且照射到其的光穿过基底而未被反射，如图2中的(b)所示。
因此，虽然包含水和二碘甲烷的指印组分留在薄膜上，但它们在涂覆结构的表面上薄薄地扩展，因此显著不可见，并且看起来不是脏的。
由于硅烷化合物和蒸馏水是液体，所以可以通过将硅烷化合物与蒸馏水混合来制备涂覆组合物。然而，为了降低制备成本，可以使用在有机溶剂中稀释的方法。此时，在通过将两种硅烷化合物与蒸馏水混合制备式3的涂覆组合物之后，可以将涂覆组合物在有机溶剂中进行稀释，或者可以将两种硅烷化合物中的每种硅烷化合物在有机溶剂中进行稀释。
可用的有机溶剂包括：醇，诸如甲醇、乙醇、异丙醇；脂肪烃，诸如十六烷、辛烷和己烷；环烃，环己烷和环戊烷；芳香烃，诸如甲苯、二甲苯和苯；有机卤素化合物，诸如四氯化碳、氯仿和二氯甲烷；等等。有机溶剂可以单独使用或以它们的组合方式使用。
将参照图3描述使用根据本发明实施例的涂覆组合物在基底表面上形成薄膜的工艺。
图3中示出了用于形成薄膜的湿法工艺和干法工艺。
参照图3中的(a)，可以使用浸涂、旋涂和喷涂作为湿法工艺，以使用本发明的涂覆组合物以液体状态在电子产品的表面上形成薄膜。
浸涂是将用于电子产品的基底浸在涂覆溶液中达预定时间并使材料与其分离以使溶剂组分蒸发的方法。该方法通常用于涂覆具有不规则表面的基底，其取决于将被涂覆的电子产品的基底。
旋涂是通过将涂覆溶液喷在旋转基底上然后进行干燥和加热来形成薄膜的方法。该方法通常用于形成厚度较小的薄膜。旋涂是基于以下原理来形成薄膜的方法：基于由自旋涂覆机旋转目标产生的离心力使存在于目标上的液体甩出。由于本发明的涂覆组合物以液态存在或者稀释在有机溶剂中，所以可以通过旋涂在基底表面上形成薄膜。
喷涂是通过喷嘴喷射具有低粘度的涂覆溶液的方法。该方法甚至能够将薄膜均匀地形成在具有不规则或粗糙表面的基底上，由于涂覆溶液仅涂覆到基底的一个表面上，所以与浸涂相比，该方法使用更少量的涂覆溶液，并且减少了蒸发所需的能量。由于本发明的涂覆组合物的粘度低，所以可以使用本发明的涂覆组合物通过旋涂在基底表面上形成薄膜，在考虑电子产品的材料(作为薄膜形成的目标)和薄膜形成的环境时，用户可以使用喷涂。
提供图3中的(a)的湿法工艺仅用于一个示例的举例说明，可以将其它各种湿法工艺用于使用本发明的涂覆组合物来形成薄膜。
参照图3中的(b)，可以将真空沉积用作在电子产品的显示器或触摸面板等上形成薄膜的干法工艺。
真空沉积是在真空下通过蒸发金属或化合物在面向蒸发源的表面上形成薄膜的方法。在真空沉积的一个实施例中，在真空下将基底安装在室的顶部上，使得基底的将被涂覆的表面朝下，并将包含涂覆溶液的槽放置在室的面向基底的底部上，并通过施加热或电子束蒸发涂覆溶液。结果，蒸发的涂覆溶液沉积在基底的表面上，从而形成薄膜。本发明的涂覆组合物的沸点可以根据R1和R2基团而改变。因此，在通过真空沉积工艺形成薄膜时，考虑涂覆组合物的沸点来确定热或电子束的水平。
在下文中，将描述具体示例和测试示例。
制备示例1
将甲氧基乙氧基十一烷基三氯硅烷、环己基三甲氧基硅烷和蒸馏水(H2O)以1∶1∶0.03的重量比彼此混合。
对比示例1
在不使用蒸馏水的情况下，将甲氧基乙氧基十一烷基三氯硅烷和环己基三甲氧基硅烷以1∶1的重量比彼此混合。
使用气相层析(GC)质谱仪和Maldi质谱仪分析制备示例1的涂覆组合物和对比示例1的涂覆组合物，在图6中示出了因此得到的结果，其中，图6中的(a)示出了制备示例1的涂覆组合物的GC质谱，图6中的(b)示出了对比示例1的涂覆组合物的GC质谱，图6中的(c)示出了制备示例1的涂覆组合物的Maldi质谱。
如从图6可以看到的，在制备示例1中制备的涂覆组合物以低聚物状态存在，这意味着发生了由下面的反应式描述的反应。
反应式1
其中，R1表示甲氧基乙氧基十一烷基，R2表示环己基。
另一方面，在对比示例1中制备的涂覆组合物分别以甲氧基乙氧基十一烷基三氯硅烷单体和环己基三甲氧基硅烷单体存在。
在下文中，描述与使用在制备示例1中制备的涂覆组合物在智能电话的触摸面板的基底表面上形成的薄膜的物理性质相关的测试示例以及测试结果。
首先，通过电子束真空沉积将在制备示例1和对比示例1中制备的涂覆组合物涂覆在基底的表面上，并且此时测量沉积速率。在图4中示出的曲线图示出了因此得到的结果的曲线图。参照图4，沉积速率在沉积开始时无显著不同，但是在沉积后的大约一秒，制备示例1的涂覆组合物以高速率沉积在基底表面上。
另外，示出制备示例1的涂覆组合物的曲线图为宽泛的，而示出对比示例1的涂覆组合物的曲线图是非常尖锐的。通过这些曲线图行为，可以看出，使用制备示例1的涂覆组合物的涂覆膜表现出优异的表面均匀性。
在沉积之后，测量涂覆膜的厚度。结果，使用制备示例1的涂覆组合物的涂覆膜的厚度为大约而使用对比示例1的涂覆组合物的涂覆膜的厚度为大约能够应用本发明的电子产品的显示屏幕或触摸面板经受频繁的用户接触并暴露于包含诸如盐的组分的环境。出于此原因，当涂覆膜薄时，它们容易剥落。因此，制备示例1的涂覆组合物提供了稳定的耐久性或耐磨性。
另外，测量了由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的摩擦系数和由对比示例1的涂覆组合物制成的薄膜的摩擦系数。结果，发现由对比示例1的涂覆组合物制成的薄膜具有大约1.0的摩擦系数，而由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜具有大约0.5的摩擦系数。这表示由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜表现出优异的滑动性质。
通过电子束真空沉积使用在制备示例1中制备的涂覆组合物和包含氟的涂覆组合物在基底表面上形成薄膜，水和二碘甲烷沾染在薄膜表面上，对薄膜进行四种测试以确定诸如抗指印性质和耐久性的性质。包括含氟的硅烷化合物的涂覆组合物是对比示例2的涂覆组合物。
测试示例1
测量沾染在由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的表面上的水和二碘甲烷的接触角以及沾染在由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜的表面上的水和二碘甲烷的接触角。
测试示例2
通过擦除器反复地擦拭由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的表面以及由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜的表面，从而测试薄膜能够耐磨损的擦拭过程的最大次数。
测试示例3
对由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜以及由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜进行喷盐测试。喷盐测试是测试对含盐环境的耐抗性的方法，其确定保护薄膜的质量和均匀性。在该测试中，将35℃5％的NaCl水溶液喷在由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的表面上以及由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜的表面上。
测试示例4
在由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的表面上以及由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜的表面上沾染指印组分，并观察在直接光和间接光的存在下指印组分对肉眼是否容易可见(可见性)。
在下面的表1中示出了测试示例1至测试示例4的结果。
表1
如从上面的表1可以看到的，由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜对水具有115度的接触角，同时对二碘甲烷具有90度的接触角。出于此原因，漫反射发生，并且存在于薄膜上的指印组分显著可见。由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜对水具有70度的接触角，对二碘甲烷具有40度的接触角，因此当指印组分沉积在其上时，指印组分薄薄地扩展、减小了光的漫反射且看不见，从而改善了抗指印性质。
对于擦拭薄膜表面的次数，由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜直到执行10000次擦拭也未磨损，而由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜不能承受10000次擦拭。这表示由根据本发明一个实施例的涂覆组合物制成的薄膜表现出优异的耐磨性或耐久性。
对于喷盐测试的结果，即使在喷了NaCl水溶液之后，由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜仍保持未被腐蚀。在喷了NaCl水溶液之后，由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜不能保持未被腐蚀。因此，与由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜相比，由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜表现出优异的抗腐蚀性。
就可见性测试的结果而言，如从图7中示出的图像所可以看到的，在直接光和间接光二者的存在下，沾染在由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜上的指印组分显著可见，然而与对比示例2的情况相比，在直接光和间接光二者的存在下，由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜表现出低的可见性。
图5示出了将使用制备示例1的涂覆组合物(根据本发明一个实施例的涂覆组合物)的智能电话与使用对比示例2的涂覆组合物的智能电话进行对比的图像。
参照图5，(a)示出了使用制备示例1的智能电话，(b)示出了使用对比示例2的智能电话。在使用智能电话呼叫的情况下，用户的脸部接触屏幕，从而油或化妆品组分沾染到屏幕上。另外，在使用智能电话搜索或发消息的情况下，触摸屏幕，从而指印沉积在屏幕上。
存在于(a)的智能电话上的污物因制备示例1的涂覆组合物的特性而不易看见。如上所提到的，其原因在于，由于制备示例1的涂覆组合物对水和二碘甲烷具有小的接触角，所以指印组分或脸部的油组分在智能手机的表面上宽泛地扩展，因此不易看见。
另一方面，与(a)的智能手机相比，由于涂覆在(b)的智能手机上的组合物对水和二碘甲烷具有大的接触角，所以在(b)的智能手机上的脸部油组分或指印组分更加可见并看起来更脏。
当使用涂覆组合物形成薄膜时，虽然指印粘附到薄膜的表面上，但指印的油脂在薄膜的表面上宽泛地扩展，由指印组分导致的污物由此而不显著可见，由于与基底表面的硅氧烷键，薄膜表现出优异的耐久性，基底的表面因此可以长时间保持清洁。
另外，根据本发明的涂覆组合物能够形成具有小摩擦系数的薄膜涂层，因此表现出优异的滑动性质，当指印沾染在其上时，容易清洁，并表现出优异的触感。
虽然已示出和描述了本发明的若干实施例，但本领域技术人员将理解的是，在不脱离本发明的原理和精神的情况下，可以在这些实施例中做出改变，本发明的范围在权利要求及其等同物中限定。

Claims (13)

1.一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有下式3的结构：
式3
其中，m和n均独立地为1至10的整数，
R1基团由作为式1的[Ra-O-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及
R2基团由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数，
其中，硅烷低聚物具有100至30000的分子量。
2.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，R1基团是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
3.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，R2基团是从由二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
4.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，硅烷低聚物具有100至10000的分子量。
5.一种抗指印薄膜，所述抗指印薄膜通过在基底的表面上涂覆根据权利要求1所述的涂覆组合物形成。
6.根据权利要求5所述的抗指印薄膜，其中，使用硅烷低聚物形成的薄膜对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有0度至45度的接触角。
7.一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包含：
按重量计45％至49.5％的具有由作为式1的[Ra-O-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团的硅烷化合物，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；
按重量计45％至49.5％的具有由作为式2的(Rc)q表示的R2基团的硅烷化合物，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数；以及
按重量计1％至10％的H2O或酸，
其中，通过将具有R1基团的硅烷化合物和具有R2基团的硅烷化合物与H2O或酸混合来形成具有式3的结构的硅烷低聚物，
式3
其中，m和n均独立地为1至10的整数，
其中，硅烷低聚物具有100至30000的分子量。
8.根据权利要求7所述的涂覆组合物，其中，R1基团是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
9.根据权利要求7所述的涂覆组合物，其中，R2基团是从由二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。
10.根据权利要求7所述的涂覆组合物，其中，涂覆组合物具有100至10000的分子量。
11.一种抗指印薄膜，所述抗指印薄膜通过在基底的表面上涂覆根据权利要求7所述的涂覆组合物形成。
12.根据权利要求11所述的抗指印薄膜，其中，所述抗指印薄膜对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有0度至45度的接触角。
13.一种电子产品，所述电子产品具有设置有抗指印薄膜的显示器，其中，所述抗指印薄膜对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有0度至45度的接触角，
其中，抗指印薄膜包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有下式3的结构：
式3
其中，m和n均独立地为1至10的整数，
R1基团由作为式1的[Ra-O-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及
R2基团由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数，
其中，硅烷低聚物具有100至30000的分子量。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101800743B1 (ko) * 2011-01-10 2017-11-24 삼성전자주식회사 지문 돋보임 방지 피막용 조성물, 상기 조성물을 이용한 지문 돋보임 방지 피막, 및 상기 피막을 포함하는 물품
US9957609B2 (en) 2011-11-30 2018-05-01 Corning Incorporated Process for making of glass articles with optical and easy-to-clean coatings
US10077207B2 (en) 2011-11-30 2018-09-18 Corning Incorporated Optical coating method, apparatus and product
EP3696293A1 (en) 2011-11-30 2020-08-19 Corning Incorporated Optical coating method, apparatus and product
KR102070449B1 (ko) * 2013-06-12 2020-01-28 삼성전자주식회사 향균내지문 코팅 조성물, 그 피막, 그 코팅 방법, 및 그 코팅이 적용된 제품
RU2016141382A (ru) * 2014-03-31 2018-05-10 Акцо Нобель Коатингс Интернэшнл Б.В. Композиция для покрытия, не оставляющего отпечатков пальцев, изделия из него, способ ее формирования и ее применение
KR20160028174A (ko) * 2014-09-03 2016-03-11 삼성전자주식회사 코팅유닛 및 이를 갖는 전자기기
KR101990090B1 (ko) * 2017-05-15 2019-06-19 나노크리스탈주식회사 지문 돋보임 방지 기능을 갖는 유리코팅 조성물, 이의 제조방법 및 지문 돋보임 방지 기능을 갖는 유리 코팅막
KR101980567B1 (ko) * 2017-06-09 2019-05-21 조정수 저반사성 및 내지문성을 가지기 위한 유리 표면 처리방법 및 이를 이용하여 표면 처리된 유리
US11709155B2 (en) 2017-09-18 2023-07-25 Waters Technologies Corporation Use of vapor deposition coated flow paths for improved chromatography of metal interacting analytes
US11709156B2 (en) 2017-09-18 2023-07-25 Waters Technologies Corporation Use of vapor deposition coated flow paths for improved analytical analysis
KR20200070810A (ko) * 2018-12-10 2020-06-18 삼성전자주식회사 조성물, 이의 경화물을 포함하는 필름, 상기 필름을 포함하는 적층체 및 디스플레이 소자
US20200277513A1 (en) * 2019-03-01 2020-09-03 Nbd Nanotechnologies, Inc. Invisible-fingerprint coatings and process for forming same
KR20200109117A (ko) 2019-03-12 2020-09-22 삼성전자주식회사 표면 코팅재, 필름, 적층체, 표시 장치 및 물품
US11918936B2 (en) 2020-01-17 2024-03-05 Waters Technologies Corporation Performance and dynamic range for oligonucleotide bioanalysis through reduction of non specific binding
KR20230008137A (ko) * 2020-04-27 2023-01-13 바스프 에스이 높은 투과도, 높은 내마모성, 및 낮은 마찰을 특색으로 하는 내지문 코팅을 위한 친유성 실란

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5183846A (en) * 1990-07-03 1993-02-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Silicone ladder polymer coating composition
CN1118790A (zh) * 1994-06-15 1996-03-20 宝山钢铁(集团)公司 一种耐指纹钢板的生产方法
CN1887449A (zh) * 2005-06-27 2007-01-03 宝山钢铁股份有限公司 具有优异耐碱性和耐溶剂性的用于镀锌钢板的表面处理剂
CN101392142A (zh) * 2008-11-06 2009-03-25 同济大学 一种环保型防腐耐指纹金属表面漆的制备方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2748758B2 (ja) * 1991-12-24 1998-05-13 信越化学工業株式会社 含浸性防水剤組成物
EP0693513B1 (en) * 1994-07-18 2001-01-10 Asahi Glass Company Ltd. Process for purifying a polyether
US5620485A (en) * 1995-12-15 1997-04-15 Dow Corning Corporation Silicone foam control agents for hydrocarbon liquids
PT981570E (pt) * 1997-05-23 2003-01-31 Bayer Ag Oligomeros de organossilanos
JP4518622B2 (ja) * 1999-06-09 2010-08-04 株式会社キャステム コーティング素材及びこれを用いた食品包装用フィルムないしシート等
DE60233058D1 (de) 2001-09-18 2009-09-03 Chisso Corp Silsesquioxanderivate und verfahren zu ihrer herstellung
JP2006077071A (ja) * 2004-09-08 2006-03-23 Rock Field Co 自動車塗装保護用コーティング材及びコーティング方法
DE102005008857A1 (de) 2005-02-26 2006-09-07 Clariant International Limited Verwendung von Polysilazanen als permanente Anit-Fingerprint-Beschichtung
KR20060107089A (ko) * 2005-04-07 2006-10-13 엘지전자 주식회사 항균-초발수 코팅 조성물, 이의 제조방법 및 이를 이용한코팅 방법
US7259220B1 (en) * 2006-07-13 2007-08-21 General Electric Company Selective hydrosilylation method
DE102006044310A1 (de) * 2006-09-18 2008-03-27 Nano-X Gmbh Silanbeschichtungsmaterial und Verfahren zur Herstellung eines Silanbeschichtungsmaterials
JP4922148B2 (ja) * 2007-02-15 2012-04-25 富士フイルム株式会社 バリア性積層体、バリア性フィルム基板、それらの製造方法、およびデバイス
JP5293534B2 (ja) * 2009-09-25 2013-09-18 パナソニック株式会社 耐指紋性塗膜形成品及び耐指紋性コーティング材組成物
KR101631529B1 (ko) * 2009-10-30 2016-06-17 삼성전자 주식회사 고분자 및 이를 포함하는 조성물과 필름
JP5491152B2 (ja) * 2009-12-04 2014-05-14 東レ・ダウコーニング株式会社 無臭化したポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン組成物の製造方法、それを含有してなる化粧料原料および化粧料
KR101800743B1 (ko) * 2011-01-10 2017-11-24 삼성전자주식회사 지문 돋보임 방지 피막용 조성물, 상기 조성물을 이용한 지문 돋보임 방지 피막, 및 상기 피막을 포함하는 물품
KR101719733B1 (ko) * 2011-12-05 2017-03-27 삼성전자주식회사 코팅 구조 및 이를 형성하는 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5183846A (en) * 1990-07-03 1993-02-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Silicone ladder polymer coating composition
CN1118790A (zh) * 1994-06-15 1996-03-20 宝山钢铁(集团)公司 一种耐指纹钢板的生产方法
CN1887449A (zh) * 2005-06-27 2007-01-03 宝山钢铁股份有限公司 具有优异耐碱性和耐溶剂性的用于镀锌钢板的表面处理剂
CN101392142A (zh) * 2008-11-06 2009-03-25 同济大学 一种环保型防腐耐指纹金属表面漆的制备方法

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