CN102859612A - 感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法 - Google Patents

感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法 Download PDF

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Abstract

本发明的感光性导电薄膜（10）具有将薄膜支撑体（1）、含有有机导电材料的导电层（2）、和感光性树脂层（3）依次层叠而成的结构。感光性导电薄膜（10）中，有机导电材料优选为噻吩衍生物的聚合物，感光性树脂层（3）优选由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。

Description

感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法
技术领域
本发明涉及一种感光性导电薄膜、导电膜的形成方法和导电图案的形成方法，特别是涉及一种形成在液晶显示元件等的平板显示器、触摸屏、太阳能电池、有机EL等装置中设置的电极布线等的导电图案的方法。
背景技术
在个人电脑、电视等大型电子设备、汽车导航、手机、电子词典等小型电子设备、OA·FA设备等显示设备中，具有液晶显示元件、触摸屏的产品正在普及。液晶显示元件、触摸屏中，在透明电极等要求透明性的地方利用了透明的导电膜。太阳能电池等也同样。
作为能形成透明的导电膜的材料，已知ITO（氧化铟锡、Indium-Tin-Oxide）、氧化铟、氧化锡等。这些材料对可见光显示高透过率，作为形成液晶显示元件用基板等的透明电极的材料已成为主流。
在液晶显示装置中，有时用透明导电膜来形成布线、像素电极、端子等的一部分。此时，必须将透明导电膜制成一定的形状。作为透明导电膜的图案形成方法，可使用在形成透明导电膜后，在其上通过光刻法形成抗蚀图案，并通过湿蚀刻对导电膜进行图案形成的方法。作为蚀刻液，对于ITO膜、氧化铟膜，常使用盐酸和氯化铁这2液构成的混合液。
另一方面，研究了使用ITO以外的材料来形成透明的导电膜。例如在下述专利文献1中公开了通过在基材表面上涂布含有聚噻吩、聚苯胺等有机导电性聚合物的放射线固化型导电性组合物并固化，从而形成具有导电性且透明的固化覆膜的方法。另外，下述专利文献2中公开了在支撑体上涂布重氮锍系等的抗蚀剂材料，进而在其上涂布噻吩系有机导电材料，然后通过曝光和显影形成导电性图案的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005－170996号公报
专利文献2：日本特表2004－504693号公报
发明内容
发明要解决的课题
可是，ITO膜、氧化锡膜一般是通过溅射法形成的，但根据溅射方式的不同、溅射功率、气压、基板温度、氛围气体种类等，膜的性质容易发生改变。因溅射条件的变动而引起的透明导电膜的膜质的不同会成为对膜进行湿蚀刻时蚀刻速度偏差的原因，容易发生透明导电膜的图案形成不良而导致产品的成品率降低。为此，使用ITO等的方法中，溅射和抗蚀剂形成及蚀刻的工序长，在成本方面也成为大的负担。另外，该方法难以获得图案形成精度的均匀性。
另一方面，关于用有机导电材料的导电图案形成，存在如下问题。上述专利文献1中没有公开关于导电图案的形成。考虑通过使用掩膜的蚀刻来形成图案，但是因为没有合适的蚀刻液，因此必须使用等离子蚀刻、激光进行加工。
专利文献2中提出了如下方法：在支撑体上涂布混合有机导电材料和重氮化合物的感光材料而成的液体来形成图案的方法；在由支撑体与有机导电材料以及感光材料构成的层之间进一步配置感光材料的方法。但是，这些方法中，对于想要在期望的基板上设置导电图案时导电图案与基板的粘接性并未加以考虑，必须进行基板的表面处理等。
本发明是鉴于上述现有技术所存在的问题而作出的发明，其目的在于提供一种感光性导电薄膜、以及使用该感光性导电薄膜的导电膜的形成方法和导电图案的形成方法，所述感光性导电薄膜能够在基板上以充分的分辨率简便地形成与基板的粘接性充分、包含有机导电材料的导电图案。
解决课题的方法
为了解决上述课题，本发明提供一种感光性导电薄膜，其具有将支撑体、含有有机导电材料的导电层和感光性树脂层依次层叠而成的结构。
根据本发明的感光性导电薄膜，通过具有上述构成，能够以在基板上按照感光性树脂层密合的方式粘贴感光性导电薄膜并对其曝光、显影的简便工序容易地形成与基板的粘接性充分、具有充分的透明性的期望的导电图案。
另外，根据本发明的感光性导电薄膜，通过在基板上以感光性树脂层密合的方式粘贴感光性导电薄膜，并对其曝光，能够形成兼具充分的透明性和对基材的良好的粘接性的导电膜。
对于本发明的感光性导电薄膜，从透明性和导电性的观点出发，上述有机导电材料优选为噻吩衍生物的聚合物。
另外，为了进一步提高导电膜的图案形成性和对基材的粘接性，上述感光性树脂层优选由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。
从防止制造到使用期间的异物附着、损伤的观点考虑，本发明的感光性导电薄膜优选在上述感光性树脂层的与导电层侧相反的一侧进一步层叠有保护薄膜。该保护薄膜可以在使用感光性导电薄膜时除去。
本发明还提供一种导电膜的形成方法，其特征在于，将上述本发明的感光性导电薄膜的上述感光性树脂层粘贴在基材上，从而在基材上至少依次层叠感光性树脂层和导电层，并对层叠的上述感光性树脂层曝光。
根据本发明的导电膜的形成方法，能够以通过在基材上粘贴本发明的感光性导电薄膜的感光性树脂层而在基材上依次设置感光性树脂层和导电层并对其曝光这样的简便工序容易地在基材上形成由上述导电层构成的导电膜。通过对上述感光性树脂层曝光而进行固化，该导电膜可充分地粘接在基材上。
本发明还提供一种导电图案的形成方法，其特征在于，在基材上粘贴上述本发明的感光性导电薄膜的上述感光性树脂层，从而在基材上至少依次层叠感光性树脂层和导电层，并对层叠的感光性树脂层曝光、显影。
根据本发明的导电图案的形成方法，能够以通过在基材上粘贴本发明的感光性导电薄膜的感光性树脂层而在基材上依次设置感光性树脂层和导电层并对其曝光、显影这样的简便工序容易地在基材上形成对上述导电层进行图案形成而得的导电图案。通过对上述感光性树脂层曝光而进行固化，该导电图案可充分地粘接在基材上。
本发明还提供一种导电膜基板，其具备基板和通过上述本发明的导电膜的形成方法在该基板上形成的导电膜。
此外，本发明还提供一种导电膜基板，其具备基板和通过上述本发明的导电图案的形成方法在该基板上形成的导电图案。
发明效果
根据本发明，能够提供一种感光性导电薄膜、以及使用其的导电膜的形成方法和导电图案的形成方法，所述感光性导电薄膜能够以充分的分辨率在基板上简便地形成与基板的粘接性充分、含有有机导电材料的导电图案。
附图说明
图1是表示本发明的感光性导电薄膜的一个实施方式的示意剖面图。
图2是用于说明本发明的导电图案的形成方法的一个实施方式的示意剖面图。
具体实施方式
下面，详细地说明本发明的优选实施方式。另外，本说明书中的“（甲基）丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和与其对应的“甲基丙烯酸酯”。同样地，“（甲基）丙烯酸”是指“丙烯酸”和与其对应的“甲基丙烯酸”，“（甲基）丙烯酰基”是指“丙烯酰基”和与其对应的“甲基丙烯酰基”。
图1是表示本发明的感光性导电薄膜的优选的一个实施方式的示意剖面图。图1所示的感光性导电薄膜10是将薄膜状的支撑体1、含有有机导电材料的导电层2、感光性树脂层3和保护薄膜4依次层叠而成的。
下面，对构成本实施方式的感光性导电薄膜10的薄膜状的支撑体（以下也有时称为“薄膜支撑体”。）、导电层、感光性树脂层和保护薄膜分别进行详细说明。
作为薄膜支撑体1，优选为透明的支撑薄膜。这里透明是指对转印到基材上后的曝光工序中的曝光光线具有透过性，本实施方式中优选在紫外线（300～400nm）区域中具有透过性。
作为透明的支撑薄膜，例如可列举聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等具有耐热性和耐溶剂性的聚合物薄膜。其中，从透明性、耐热性的观点考虑，优选使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。另外，对于这些聚合物薄膜而言，由于在其后对感光性树脂层3显影时、为了使形成的导电膜露出而会被除去，因此不可采用实施了无法除去那样的表面处理的薄膜或材质。
上述支撑薄膜的厚度优选为5～300μm，更优选为20～300μm。支撑薄膜的厚度不到5μm的话，机械强度降低，形成导电层时、形成感光性树脂层时或在感光性树脂层的显影前剥离支撑薄膜时，有支撑薄膜容易破裂的倾向，另一方面，超过300μm的话，隔着支撑薄膜对感光性树脂层照射活性光线时，有分辨率降低的倾向，而且有价格升高的倾向。
作为导电层2中含有的有机导电材料，例如可列举噻吩或噻吩衍生物的聚合物、苯胺或苯胺衍生物的聚合物。具体可使用聚亚乙二氧基噻吩、聚己基噻吩、聚苯胺等。另外，可以使用“CLEVIOS P”（世泰科（H．C．Starck）公司制造，商品名）、“SEPLEGYDA OC－U1”（信越聚合物株式会社制造，商品名）等市售品。
导电层2中含有的有机导电材料优选为能通过光照射而形成图案的材料。另外，只要是可获得本发明的效果的范围，有机导电材料也可以与能通过光照射形成图案的材料并用而包含在导电层2中。
作为噻吩或噻吩衍生物的聚合物，可列举具有可用下述式（1）表示的重复单元的聚合物。
化学式1
Figure BDA00002242035800051
式（1）中，R1和R2分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的卤代烷基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数6～40的芳基氨基、取代或未取代的核碳原子数6～40的芳基、或取代或未取代的核碳原子数2～40的杂环基，相邻的取代基也可以彼此互相结合而形成环。另外，作为聚合物的末端基，分别可列举氢原子、或者取代或未取代的一价基团。
上述式（1）的R1和R2中，作为卤素原子，例如可列举氟、氯、溴、和碘等。
作为碳原子数1～20的烷基，例如可列举甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、新戊基、1－甲基戊基、2－甲基戊基、1－戊基己基、1－丁基戊基、1－庚基辛基、3－甲基戊基、环戊基、环己基、环辛基、3,5－四甲基环己基等。其中可优选列举甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、新戊基、1－甲基戊基、1－戊基己基、1－丁基戊基、1－庚基辛基、环己基、环辛基、和3,5－四甲基环己基。
作为碳原子数1～20的卤代烷基，例如可列举氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、和五氟乙基等。其中优选为氟甲基、二氟甲基、三氟甲基。
作为碳原子数1～20的烷氧基，例如可列举用－OY表示、Y与上述的烷基所说明的同样的基团，优选的例子也同样。
作为碳原子数6～40的芳基氨基，例如可列举二苯基氨基等；或具有二苯基氨基、氨基作为取代基的苯基、萘基、蒽基、三亚苯基（triphenylenyl）、荧蒽基（fluoranthenyl）、联苯基等。其中，优选为具有二苯基氨基、氨基作为取代基的苯基、萘基。
作为核碳原子数6～40的芳基，例如可列举苯基、萘基、联苯基、蒽基、三亚苯基。作为取代基，可列举甲基、乙基、环己基、异丙基、丁基、苯基等。其中优选为取代或未取代的苯基、萘基、联苯基。
作为取代或未取代的碳原子数2～40的杂环基，例如可列举1－吡咯基、2－吡咯基、3－吡咯基、吡嗪基、2－吡啶基、1－咪唑基、2－咪唑基、1－吡唑基、1－中氮茚基（indolizinyl）、2－中氮茚基、3－中氮茚基、5－中氮茚基、6－中氮茚基、7－中氮茚基、8－中氮茚基、2－咪唑并吡啶基（imidazopyridinyl）、3-咪唑并吡啶基、5-咪唑并吡啶基、6-咪唑并吡啶基、7-咪唑并吡啶基、8-咪唑并吡啶基、3-吡啶基、4-吡啶基、1-吲哚基、2-吲哚基、3-吲哚基、4-吲哚基、5-吲哚基、6-吲哚基、7-吲哚基、1-异吲哚基、2-异吲哚基、3-异吲哚基、4-异吲哚基、5-异吲哚基、6-异吲哚基、7－异吲哚基、2－呋喃基、3－呋喃基、2－苯并呋喃基、3－苯并呋喃基、4－苯并呋喃基、5－苯并呋喃基、6－苯并呋喃基、7－苯并呋喃基、1－异苯并呋喃基、3－异苯并呋喃基、4－异苯并呋喃基、5－异苯并呋喃基、6－异苯并呋喃基、7－异苯并呋喃基、2－喹啉基、3－喹啉基、4－喹啉基、5－喹啉基、6－喹啉基、7－喹啉基、8－喹啉基、1－异喹啉基、3－异喹啉基、4－异喹啉基、5－异喹啉基、6－异喹啉基、7－异喹啉基、8－异喹啉基、2－喹喔啉基、5－喹喔啉基、6－喹喔啉基、1－咔唑基、2－咔唑基、3－咔唑基、4－咔唑基、9－咔唑基、β－咔啉－1－基、β－咔啉－3－基、β－咔啉－4－基、β－咔啉－5－基、β－咔啉－6－基、β－咔啉－7－基、β－咔啉－6－基、β－咔啉－9－基、1－菲啶基、2－菲啶基、3－菲啶基、4－菲啶基、6－菲啶基、7－菲啶基、8－菲啶基、9－菲啶基、10－菲啶基、1－吖啶基、2－吖啶基、3－吖啶基、4－吖啶基、9－吖啶基、1,7－菲绕啉－2－基、1,7－菲绕啉－3－基、1,7－菲绕啉－4－基、1,7－菲绕啉－5－基、1,7－菲绕啉－6－基、1,7－菲绕啉－8－基、1,7－菲绕啉－9－基、1,7－菲绕啉－10－基、1,8－菲绕啉－2－基、1,8－菲绕啉－3－基、1,8－菲绕啉－4－基、1,8－菲绕啉－5－基、1,8－菲绕啉－6－基、1,8－菲绕啉－7－基、1,8－菲绕啉－9－基、1,8－菲绕啉－10－基、1,9－菲绕啉－2－基、1,9－菲绕啉－3－基、1,9－菲绕啉－4－基、1,9－菲绕啉－5－基、1,9－菲绕啉－6－基、1,9－菲绕啉－7－基、1,9－菲绕啉－8－基、1,9－菲绕啉－10－基、1,10－菲绕啉－2－基、1,10－菲绕啉－3－基、1,10－菲绕啉－4－基、1,10－菲绕啉－5－基、2,9－菲绕啉－1－基、2,9－菲绕啉－3－基、2,9－菲绕啉－4－基、2,9－菲绕啉－5－基、2,9－菲绕啉－6－基、2,9－菲绕啉－7－基、2,9－菲绕啉－8－基、2,9－菲绕啉－10－基、2,8－菲绕啉－1－基、2,8－菲绕啉－3－基、2,8－菲绕啉－4－基、2,8－菲绕啉－5－基、2,8－菲绕啉－6－基、2,8－菲绕啉－7－基、2,8－菲绕啉－9-基、2,8-菲绕啉-10-基、2,7-菲绕啉-1-基、2,7-菲绕啉-3-基、2,7-菲绕啉-4-基、2,7-菲绕啉-5-基、2,7-菲绕啉-6-基、2,7-菲绕啉-8-基、2,7-菲绕啉-9-基、2,7-菲绕啉-10-基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、1-吩噻嗪基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、4-吩噻嗪基、10-吩噻嗪基、1－吩噁嗪基、2－吩噁嗪基、3－吩噁嗪基、4－吩噁嗪基、10－吩噁嗪基、2－噁唑基、4－噁唑基、5－噁唑基、2－噁二唑基、5－噁二唑基、3－呋吖基、2－噻吩基、3－噻吩基、2－甲基吡咯－1－基、2－甲基吡咯－3－基、2－甲基吡咯－4－基、2－甲基吡咯－5－基、3－甲基吡咯－1－基、3－甲基吡咯－2－基、3－甲基吡咯－4－基、3－甲基吡咯－5－基、2－叔丁基吡咯－4－基、3－（2－苯基丙基）吡咯－1－基、2－甲基－1－吲哚基、4－甲基－1－吲哚基、2－甲基－3－吲哚基、4－甲基－3－吲哚基、2－叔丁基－1－吲哚基、4－叔丁基－1－吲哚基、2－叔丁基－3－吲哚基、4－叔丁基－3－吲哚基、1－二苯并呋喃基、2－二苯并呋喃基、3－二苯并呋喃基、4－二苯并呋喃基、1－二苯并噻吩基、2－二苯并噻吩基、3－二苯并噻吩基、4－二苯并噻吩基、1－硅芴基、2－硅芴基、3－硅芴基、4－硅芴基、1－锗芴基、2－锗芴基、3－锗芴基、和4－锗芴基等。
这些基团中，优选为2－吡啶基、1－中氮茚基、2－中氮茚基、3－中氮茚基、5－中氮茚基、6－中氮茚基、7－中氮茚基、8－中氮茚基、2－咪唑并吡啶基、3－咪唑并吡啶基、5－咪唑并吡啶基、6－咪唑并吡啶基、7－咪唑并吡啶基、8－咪唑并吡啶基、3－吡啶基、4－吡啶基、1－吲哚基、2－吲哚基、3－吲哚基、4－吲哚基、5－吲哚基、6－吲哚基、7－吲哚基、1－异吲哚基、2－异吲哚基、3－异吲哚基、4－异吲哚基、5－异吲哚基、6－异吲哚基、7－异吲哚基、1－咔唑基、2－咔唑基、3－咔唑基、4－咔唑基、9－咔唑基、1－二苯并呋喃基、2－二苯并呋喃基、3－二苯并呋喃基、4－二苯并呋喃基、1－二苯并噻吩基、2－二苯并噻吩基、3－二苯并噻吩基、4－二苯并噻吩基、1－硅芴基、2－硅芴基、3－硅芴基、4－硅芴基、1－锗芴基、2－锗芴基、3－锗芴基、4－锗芴基。
另外，作为取代基，例如可列举甲基、乙基、环己基、异丙基、丁基、和苯基等。
R1和R2可以相互结合而形成环。作为环，例如优选二噁烷环、苯环、环己基环、萘基环。
式（1）中的Y1和Y2优选各自独立地为氢原子、碳原子数1～20的烷基、取代或未取代的核碳原子数6～40的芳基、或取代或未取代的核碳原子数2～40的杂环基。对于烷基、芳基或杂环基，可列举与R1、R2同样的基团。
式（1）表示的聚噻吩或聚噻吩衍生物可以使用市售的产品、或用公知方法合成的产品。就聚噻吩或聚噻吩衍生物的分子量而言，一般使用数均分子量为1,000～100,000范围的产品。分子量小于该范围的话，不能发挥基于π电子共轭体系的充分的导电性，另一方面，分子量过大的话，变得粘稠，薄膜形成变得困难。重复单元与相邻的重复单元以头-尾、头－头或尾－尾的形式结合而形成了聚合物。取代噻吩环的3位的烷基或烷氧基使用太长链的基团的话，有可能分子的立体结构的规则产生紊乱而损害移动性，因此优选碳原子数20以下的基团。
导电层2例如可以通过在薄膜支撑体1上涂布对上述有机导电材料加入水和／或有机溶剂、根据需要的表面活性剂等分散稳定剂等而得的导电层形成用分散液后，进行干燥来形成。涂布例如可以用辊涂法、逗号涂布法、凹版涂布法、气刀涂布法、模涂法、棒涂法、喷涂法等公知方法来进行。另外，干燥可以在30～150℃用热风对流式干燥机等进行1～30分钟左右。
导电层2的厚度根据使用本发明的感光性导电薄膜而形成的导电膜或导电图案的用途、所要求的导电性而也不同，但是优选为1μm以下，更优选为0.01μm～0.5μm，特别优选为0.01μm～0.3μm。导电层2的厚度为1μm以下的话，容易确保光的透过性。
作为感光性树脂层3，优选由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。
作为粘合剂聚合物，例如可列举丙烯酸系树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、酰胺树脂、酰胺环氧树脂、醇酸树脂、和酚醛树脂等。从碱显影性优良的观点考虑，优选使用丙烯酸系树脂。它们可以单独使用1种或组合2种以上使用。
上述的粘合剂聚合物例如可以通过使聚合性单体进行自由基聚合来制造。作为上述聚合性单体，例如可列举苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等的α-位或芳香族环被取代了的可聚合的苯乙烯衍生物、二丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺；丙烯腈、乙烯基-正丁醚等乙烯醇的醚类；（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸四氢糠酯、（甲基）丙烯酸二甲基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸二乙基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸缩水甘油酯、2,2,2－三氟乙基（甲基）丙烯酸酯、2,2,3,3－四氟丙基（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸、α－溴代（甲基）丙烯酸、α－氯代（甲基）丙烯酸、β－呋喃基（甲基）丙烯酸、β－苯乙烯基（甲基）丙烯酸、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯、马来酸单异丙酯等马来酸单酯；富马酸、肉桂酸、α－氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸和丙炔酸等。
作为上述（甲基）丙烯酸烷基酯，例如可列举下述通式（2）表示的化合物，在这些化合物的烷基上取代有羟基、环氧基、卤素基团等的化合物。
化学式2
Figure BDA00002242035800101
通式（2）中，R21表示氢原子或甲基，R22表示碳原子数1～12的烷基。作为上述碳原子数1～12的烷基，例如可列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基和它们的结构异构体。
作为上述通式（2）表示的化合物，例如可列举（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸庚酯、（甲基）丙烯酸辛酯、（甲基）丙烯酸2－乙基己酯、（甲基）丙烯酸壬酯、（甲基）丙烯酸癸酯、（甲基）丙烯酸十一烷酯、（甲基）丙烯酸十二烷酯。它们可以单独使用1种或2种以上组合使用。
另外，从使碱显影性更良好的观点考虑，本发明中使用的粘合剂聚合物优选具有羧基。这样的粘合剂聚合物例如可以通过使具有羧基的聚合性单体与其他聚合性单体进行自由基聚合来制造。作为上述具有羧基的聚合性单体，优选上述那样的（甲基）丙烯酸。
就粘合剂聚合物具有的羧基的比率而言，作为具有羧基的聚合性单体相对于使用的全部聚合性单体的比例，从实现碱显影性和耐碱性的平衡的观点考虑，优选为12～50质量％，更优选为12～40质量％，特别优选为15～30质量％，极其优选为15～25质量％。该具有羧基的聚合性单体的比例不到12质量％时，有碱显影性差的倾向，超过50质量％的话，有耐碱性差的倾向。
从实现机械强度和碱显影性的观点考虑，粘合剂聚合物的重均分子量优选为20000～300000，更优选为40000～150000。重均分子量不到20000时，有耐显影液性降低的倾向，超过300000的话，有显影时间变长的倾向。另外，本发明的重均分子量是通过凝胶渗透色谱法（GPC）测定、根据使用标准聚苯乙烯制作的标准曲线换算的值。
这些粘合剂聚合物可以单独使用1种或2种以上组合使用。作为组合2种以上使用时的粘合剂聚合物，例如可列举由不同的共聚成分构成的2种以上的粘合剂聚合物、不同重均分子量的2种以上粘合剂聚合物、不同分散度的2种以上粘合剂聚合物。
接着，说明具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物。作为具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物，例如可列举使α,β－不饱和羧酸与多元醇反应而获得的化合物；2,2－双（4－（（甲基）丙烯酰氧基聚乙氧基）苯基）丙烷、2,2－双（4－（（甲基）丙烯酰氧基聚丙氧基）苯基）丙烷、2,2－双（4－（（甲基）丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基）苯基）丙烷等双酚A系（甲基）丙烯酸酯化合物；使α,β－不饱和羧酸与含有缩水甘油基的化合物反应而得到的化合物；具有氨基甲酸酯键的（甲基）丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯单体、γ－氯－β－羟丙基－β’－（甲基）丙烯酰氧乙基－邻苯二甲酸酯、β－羟乙基－β’－（甲基）丙烯酰氧乙基－邻苯二甲酸酯、β－羟丙基－β’－（甲基）丙烯酰氧乙基－邻苯二甲酸酯、（甲基）丙烯酸烷基酯等。它们可以单独使用或2种以上组合使用。
作为使α,β-不饱和羧酸与上述多元醇反应而得到的化合物，例如可列举亚乙基数为2～14的聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、亚丙基数为2～14的聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、亚乙基数为2～14且亚丙基数为2～14的聚乙二醇聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷四乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷五乙氧基三（甲基）丙烯酸酯等三羟甲基丙烷（甲基）丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三（甲基）丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四（甲基）丙烯酸酯等四羟甲基甲烷（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇烷氧基三（甲基）丙烯酸酯等季戊四醇（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇烷氧基五（甲基）丙烯酸酯等二季戊四醇（甲基）丙烯酸酯。
上述中，从透明性、粘接性优良的观点考虑，优选含有选自三羟甲基丙烷（甲基）丙烯酸酯、四羟甲基甲烷（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇（甲基）丙烯酸酯中的至少一种。
作为上述氨基甲酸酯单体，例如可列举β位上具有羟基的（甲基）丙烯酸系单体与异佛尔酮二异氰酸酯、2,6－甲苯二异氰酸酯、2,4－甲苯二异氰酸酯、1,6－六亚甲基二异氰酸酯等二异氰酸酯化合物的加成反应物；三［（甲基）丙烯酰氧基四乙二醇异氰酸酯］六亚甲基异氰脲酸酯；EO改性氨基甲酸酯二（甲基）丙烯酸酯；EO、PO改性氨基甲酸酯二（甲基）丙烯酸酯等。另外，“EO”表示环氧乙烷，EO改性的化合物具有环氧乙烷基的嵌段结构。另外，“PO”表示环氧丙烷，PO改性的化合物具有环氧丙烷基的嵌段结构。作为EO改性氨基甲酸酯二（甲基）丙烯酸酯，例如可列举“UA－11”（新中村化学工业株式会社制造，商品名）。另外，作为EO、PO改性氨基甲酸酯二（甲基）丙烯酸酯，例如可列举“UA－13”（新中村化学工业株式会社制造，商品名）。
光聚合性化合物的含有比例相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份优选为30～80质量份，更优选为40～70质量份。该含有比例不到30质量份的话，光固化不充分，有转印的导电膜的固化性不充分的倾向，超过80质量份的话，作为薄膜卷绕时有保管困难的倾向。
接着，说明光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，例如可列举二苯甲酮、N,N’－四甲基－4,4’－二氨基二苯甲酮（米氏酮）、N,N’－四乙基－4,4’－二氨基二苯甲酮、4－甲氧基－4’－二甲基氨基二苯甲酮、2－苄基－2－二甲基氨基－1－（4－吗啉代苯基）－丁酮－1,2－甲基－1－［4－（甲硫基）苯基］－2－吗啉代－丙酮－1等芳香族酮；2－乙基蒽醌、菲醌、2－叔丁基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2－苯并蒽醌、2,3－苯并蒽醌、2－苯基蒽醌、2,3－二苯基蒽醌、1－氯蒽醌、2－甲基蒽醌、1,4－萘醌、9,10－菲醌、2－甲基1,4－萘醌、2,3－二甲基蒽醌等醌类；苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻苯醚等苯偶姻醚化合物；苯偶姻、甲基苯偶姻、乙基苯偶姻等苯偶姻化合物；1,2－辛二酮，1－［4－（苯基硫代）－,2－（o－苯甲酰肟）］、乙酮,1－［9－乙基－6－（2－甲基苯甲酰）－9H－咔唑－3－基］－,1－（o－乙酰肟）等肟酯化合物；苯偶酰二甲基缩酮等苯偶酰衍生物；2－（邻氯苯基）－4,5－二苯基咪唑二聚体、2－（邻氯苯基）－4,5－二（甲氧基苯基）咪唑二聚体、2－（邻氟苯基）－4,5－二苯基咪唑二聚体、2－（邻甲氧基苯基）－4,5－二苯基咪唑二聚体、2－（对甲氧基苯基）－4,5－二苯基咪唑二聚体等2,4,5－三芳基咪唑二聚体；9－苯基吖啶、1,7－双（9,9’－吖啶基）庚烷等吖啶衍生物；N－苯基甘氨酸、N－苯基甘氨酸衍生物、香豆素系化合物、噁唑系化合物。另外，2个2,4,5－三芳基咪唑的芳基取代基可以相同而提供对称的化合物，也可以不同而提供非对称的化合物。另外，像二乙基噻吨酮和二甲基氨基安息香酸的组合那样，也可以组合噻吨酮系化合物和叔胺化合物。其中，从透明性的观点考虑，更优选2－苄基－2－二甲基氨基－1－（4－吗啉代苯基）－丁酮－1等芳香族酮化合物、1,2－辛二酮,1－［4－（苯基硫代）－,2－（o－苯甲酰肟）］等肟酯化合物。它们可以单独使用或2种以上组合使用。
光聚合引发剂的含有比例相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份优选为0.1～30质量份，更优选为1～10质量份。该含有比例不到0.1质量份的话，有感光度不充分的倾向，超过30质量份的话，有曝光时组合物表面的吸收增大、内部的光固化不充分的倾向。
感光性树脂层3中，根据需要可以单独含有或组合含有2种以上的对甲苯磺酰胺等增塑剂、填充剂、消泡剂、阻燃剂、稳定剂、密合性赋予剂、流平剂、剥离促进剂、防氧化剂、香料、成像剂、热交联剂等添加剂。这些添加剂的添加量相对于粘合剂聚合物和光聚合性化合物的总量100质量份优选分别为0.01～20质量份。
就感光性树脂层3而言，优选在形成了导电层2的透明的薄膜支撑体1上涂布根据需要溶解在甲醇、乙醇、丙酮、甲乙酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲苯、N,N－二甲基甲酰胺、丙二醇单甲醚等溶剂或它们的混合溶剂中的固体成分为10～60质量％左右的感光性树脂组合物的溶液。但是，这种情况下，为了防止其后工序中有机溶剂的扩散，干燥后的感光性树脂层中残存的有机溶剂量优选为2质量％以下。
感光性树脂组合物的涂布例如可通过辊涂法、逗号涂布法、凹版涂布法、气刀涂布法、模涂法、棒涂法、喷涂法等公知方法来进行。另外，干燥可以在70～150℃进行5～30分钟左右。
感光性树脂层3的厚度根据用途而有所不同，以干燥后的厚度计优选为1～50μm，更优选为1～20μm，特别优选为1～10μm。该厚度不到1μm的话，有工业上涂布变困难的倾向，超过50μm的话，由于光透过降低而引起感度不充分，有感光性树脂层的光固化性降低的倾向。另外，从粘接性、图案形成优良的观点考虑，优选感光性树脂层3的厚度为1μm以上。
接着，说明保护薄膜。本发明的感光性导电薄膜中，如图1所示，可以在感光性树脂层3的与薄膜支撑体1侧相反的一侧的面上层叠保护薄膜。
作为保护薄膜，例如可使用聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜等具有耐热性和耐溶剂性的聚合物薄膜。作为保护薄膜，也可以使用与上述薄膜支撑体同样的聚合物薄膜。
为了容易地从感光性树脂层剥离保护薄膜，保护薄膜与感光性树脂层之间的粘接力优选比导电层2和感光性树脂层3与薄膜支撑体1之间的粘接力更小。
另外，保护薄膜优选为低鱼眼的薄膜。具体地，优选保护薄膜中所含的直径80μm以上的鱼眼数为5个／m2以下。另外，“鱼眼”是指通过对材料进行热熔融、混炼、挤出、2轴拉伸、浇铸法等制造薄膜时，材料的异物、未溶解物、氧化劣化物等进入到薄膜中而产生的东西。
保护薄膜的厚度优选为1～100μm，更优选为5～50μm，进而优选为5～30μm，特别优选为15～30μm。保护薄膜的厚度不到1μm的话，层压时有保护薄膜容易破裂的倾向，超过100μm的话，有价格升高的倾向。
感光性导电薄膜也可以在薄膜支撑体上进一步具有粘接层、气体阻隔层等层。
感光性导电薄膜例如可以以原样的平板状形态储存，或者卷绕在圆筒状等的卷芯上而以卷状的形态储存。另外，此时，优选按照薄膜支撑体在最外侧的方式卷绕。
另外，感光性导电薄膜不具有保护薄膜时，该感光性导电薄膜可以以原样的平板状的形态储存。
作为卷芯，只要是以往使用的卷芯就没有特别限制，例如可列举聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂（丙烯腈－丁二烯－苯乙烯共聚物）等塑料。另外，在卷绕成卷状的感光性导电薄膜的端面上，从保护端面的观点考虑，优选设置端面隔板，此外从耐边缘熔接的观点考虑，优选设置防湿端面隔板。另外，捆包感光性导电薄膜时，优选包入透湿性小的黑薄板中进行包装。
本实施方式的感光性导电薄膜优选在薄膜支撑体上涂布导电层形成用分散液而形成导电层，接着涂布感光性树脂组合物而形成感光性树脂层。通过在薄膜支撑体上涂布导电层形成用分散液，容易形成均匀的导电层。
根据本实施方式的感光性导电薄膜，通过在需要导电图案的基材上转印感光性树脂层和导电层，并进行曝光和显影，可以容易地形成透明、具有良好图案的导电膜。
另外，由本实施方式的感光性导电薄膜形成的导电膜或导电图案由于富有柔软性，因此适合作为柔性显示器的电极等。进而，形成的导电膜或导电图案由于可以由有机物构成，因此用作施加偏置电压的电子设备的电极时具有能充分抑制迁移这样的效果。
作为本发明的导电膜形成方法的一个实施方式，可列举具有以下工序的方法：将上述本实施方式的感光性导电薄膜在基材上以感光性树脂层密合的方式层压的层压工序、和对基材上的感光性树脂层照射活性光线的曝光工序。感光性导电薄膜具有保护薄膜时，将剥离了保护薄膜的感光性导电薄膜从感光性树脂层侧层压在基材上。通过上述层压工序，可在基材上依次层叠感光性树脂层、导电层和支撑体。
作为基材，例如可列举玻璃基板、聚碳酸酯等塑料基板等。
层压工序例如可通过如下方法进行：在有保护薄膜的情况下，将其除去后，边加热感光性导电薄膜边将感光性树脂层侧压接在基材上，从而进行层叠。另外，从密合性和追随性的观点考虑，该操作优选在减压下层叠。对于感光性导电薄膜的层叠而言，优选将感光性树脂层和／或基板加热至70～130℃，压接压力优选设为0.1～1.0MPa左右（1～10kgf／cm2左右），但是这些条件没有特别限制。另外，如上述那样将感光性树脂层加热至70～130℃的话，没有必要预先对基材进行预热处理，但是为了进一步提高层叠性，也可以进行基材的预热处理。
曝光工序中，通过照射活性光线而将照射部分的感光性树脂层固化，由该固化物固定导电层，从而在基材上形成导电膜。作为活性光线的光源，可使用公知的光源，例如碳弧灯、汞蒸气弧灯、超高压汞灯、高压汞灯、氙灯等有效放射紫外线、可见光等的光源。另外，也可使用Ar离子激光器、半导体激光器等有效地放射紫外线、可见光等的光源。进而，还可使用照相用泛光电灯泡、太阳能灯等有效地放射可见光的光源。
导电层上的薄膜支撑体相对于活性光线为透明时，可通过薄膜支撑体而照射活性光线，支撑体为遮光性时，除去薄膜支撑体后对感光性树脂层照射活性光线。
另外，基材相对于活性光线为透明时，可以从基材侧通过基材而照射活性光线，但是从分辨率方面考虑，优选从导电层侧对导电层和感光性树脂层照射活性光线。
经过上述工序，从而可获得在基材上具备导电膜的带导电膜的基材。本实施方式的导电膜的形成方法中，也可以在剥离薄膜支撑体后根据需要对形成的导电膜进行60～250℃左右的加热或0.2～10J／cm2左右的曝光，从而进行进一步固化。也可以进行加热和曝光两者而进一步固化。
由此，根据本发明的导电膜的形成方法，可以在玻璃、塑料等基板上容易地形成透明的导电膜。
接着，边参照附图边说明本发明的导电图案的形成方法。
本实施方式的导电图案的形成方法具有如下工序：将上述感光性导电薄膜10以感光性树脂层3密合在基板20上的方式层压的工序（图2的（a））、对基板20上的感光性树脂层3的规定部分照射活性光线的曝光工序（图2的（b））、通过将曝光了的感光性树脂层3显影而形成导电图案的显影工序。经过这些工序，从而可获得在基板20上具有形成了图案的导电膜（导电图案）2a的带导电膜的基板40（图2的（c））。
层压工序例如通过如下方法进行：在有保护薄膜时将其除去后，边加热感光性导电薄膜10边将感光性树脂层3侧压接到基板上的层叠方法。另外，从密合性和追随性的观点考虑，该操作优选在减压下层叠。对于感光性导电薄膜10的层叠而言，优选将感光性树脂层3和／或基板20加热至70～130℃，压接压力优选设为0.1～1.0MPa左右（1～10kgf／cm2左右），但这些条件没有特别限制。另外，如上述那样将感光性树脂层3加热到70～130℃的话，无需预先对基板进行预热处理，但为了进一步提高层叠性，也可以进行基板的预热处理。
作为曝光工序中的曝光方法，可列举隔着被称为原图（artwork）的负或正掩膜图案而以图像状照射活性光线的方法（掩膜曝光法）。作为活性光线的光源，可使用公知的光源，例如碳弧灯、汞蒸气弧灯、超高压汞灯、高压汞灯、氙灯等有效放射紫外线、可见光等的光源。另外，也可以使用Ar离子激光器、半导体激光器等有效放射紫外线、可见光等的光源。进而，也可以使用照相用泛光电灯泡、太阳能灯等有效放射可见光的光源。另外，也可以采用通过使用了激光曝光法等的直接描绘法而以图像状照射活性光线的方法。
导电层2上的薄膜支撑体1相对于活性光线为透明时，可以通过薄膜支撑体1而照射活性光线，薄膜支撑体1为遮光性时，除去薄膜支撑体1后对感光性树脂层3照射活性光线。
另外，基板（被粘接物）20相对于活性光线为透明时，可以从基板20侧通过基板20而照射活性光线，但是从分辨率方面考虑，优选从导电层2侧对导电层2和感光性树脂层3照射活性光线。
本实施方式的显影工序中，除去感光性树脂层3的曝光部以外的部分。具体地，在导电层2上存在薄膜支撑体1时，首先除去薄膜支撑体1，然后通过湿法显影而除去感光性树脂层3的曝光部以外的部分。由此，在具有规定图案的树脂固化层3a上残留含有有机导电材料的导电层2a，形成导电图案。
湿法显影例如使用碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂系显影液等对应于感光性树脂的显影液，通过喷雾、摇动浸渍、刷涂、刮涂等公知的方法来进行。
作为显影液，可使用碱性水溶液等安全且稳定、操作性良好的溶液。作为上述碱性水溶液的碱，例如可使用锂、钠或钾的氢氧化物等氢氧化碱；锂、钠、钾或铵的碳酸盐或碳酸氢盐等碳酸碱；磷酸钾、磷酸钠等碱金属磷酸盐；焦磷酸钠、焦磷酸钾等碱金属焦磷酸盐等。
另外，作为显影所用的碱性水溶液，优选0.1～5质量％碳酸钠水溶液、0.1～5质量％碳酸钾水溶液、0.1～5质量％氢氧化钠水溶液、0.1～5质量％四硼酸钠水溶液等。另外，显影所用的碱性水溶液的pH优选设为9～11的范围，其温度可根据感光性树脂层的显影性进行调节。另外，碱性水溶液中也可以混入表面活性剂、消泡剂、用于促进显影的少量的有机溶剂等。
另外，可以使用包含水或碱水溶液和一种以上有机溶剂的水系显影液。这里，作为碱水溶液中所含的碱，除了上述碱以外，例如还可列举硼砂、偏硅酸钠、四甲基氢氧化铵、乙醇胺、乙二胺、二乙烯三胺、2－氨基－2－羟甲基－1,3－丙二醇、1,3－二氨基丙醇－2吗啉。
作为有机溶剂，例如可列举3－丙酮醇、丙酮、乙酸乙酯、具有碳原子数1～4的烷氧基的烷氧基乙醇、乙醇、异丙醇、丁醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚。它们可以单独使用1种或2种以上组合使用。
对于水系显影液，优选将有机溶剂的浓度设为2～90质量％，其温度可以根据显影性来调整。进而，水系显影液的pH优选在抗蚀剂的显影可充分进行的范围内尽可能地小，优选为pH 8～12，更优选为pH 9～10。另外，水系显影液中也可以少量添加表面活性剂、消泡剂等。
作为有机溶剂系显影液，例如可列举1,1,1－三氯乙烷、N－甲基吡咯烷酮、N,N－二甲基甲酰胺、环己酮、甲基异丁酮、γ－丁内酯等。为了防止引燃，这些有机溶剂优选以1～20质量％的范围添加水。
上述的显影液根据需要也可以并用2种以上。
作为显影的方式，例如可列举浸渍方式、搅动方式、喷雾方式、刷涂、拍击等。其中，从提高分辨率的观点考虑，优选使用高压喷雾方式。
本实施方式中，通过将以规定图案曝光后的感光性树脂层3显影而除去未曝光部分，未曝光部分的感光性树脂层上的导电层一起被除去，曝光部分的感光性树脂层上的导电层残留，形成导电图案。显影时，显影液渗入导电层2而使未曝光的感光性树脂层溶胀，或者显影液从感光性树脂层的端部渗入而使感光性树脂层溶胀，由此，感光性树脂层溶解、分散，形成图案。导电层2的层厚薄至0.5μm时，显影液容易通过导电层2而到达感光性树脂层3，显影性提高。
本实施方式的导电图案的形成方法中，显影后也可以根据需要通过进行60～250℃左右的加热或0.2～10J／cm2左右的曝光而使导电图案进一步固化。也可以进行加热和曝光两者而进一步固化。
如此，根据本发明的导电图案的形成方法，可以不像ITO等无机膜那样形成抗蚀剂，容易地在玻璃、塑料等基板上形成透明的导电图案。
本发明的带导电膜的基板可通过上述的导电膜的形成方法、导电图案的形成方法而得到，但是从可有效地用作透明电极的观点考虑，优选导电膜或导电图案的表面电阻率为10000Ω／□以下，更优选为5000Ω／□以下，特别优选为2000Ω／□以下。表面电阻率可以通过例如含有有机导电材料的分散液的浓度或涂布量来调节。越升高分散液的浓度，另外越增加涂布量而使厚度变厚，则表面电阻率越有降低的倾向。另外，也可以通过掺杂处理进行调节。
以上，说明了本发明的优选实施方式，但是本发明不限于这些实施方式。
实施例
下面，通过实施例来更具体地说明本发明。
＜导电层形成用涂布液的制备＞
（导电层形成用涂布液1（有机导电材料溶液））
用甲醇将作为聚亚乙二氧基噻吩的醇溶液的“SEPLEGYDA OC－U1”（信越聚合物株式会社制造，光成像涂料，商品名）稀释至10倍，将其作为导电层形成用涂布液1。
（导电层形成用涂布液2（有机导电材料溶液））
用水将作为聚亚乙二氧基噻吩的水溶液的“CLEVIOS P”（世泰科（H．C．Starck）公司制造，商品名）稀释至5倍，将其作为导电层形成用涂布液2。
＜感光性树脂组合物的溶液的制备＞
［丙烯酸系树脂的合成］
在具有搅拌机、回流冷却器、温度计、滴液漏斗和氮气导入管的烧瓶中加入甲基溶纤剂和甲苯的混合液（甲基溶纤剂／甲苯＝3／2（质量比），下面称为“溶液s”）400g，边吹入氮气边搅拌，加热到80℃。另一方面，准备将作为单体的甲基丙烯酸100g、甲基丙烯酸甲酯250g、丙烯酸乙酯100g和苯乙烯50g、偶氮二异丁腈0.8g混合而成的溶液（下面称为“溶液a”）。接着，在加热到80℃的溶液s中经4小时滴加溶液a，然后在80℃边搅拌边保温2小时。进而，将在100g的溶液s中溶解了1.2g偶氮二异丁腈的溶液经10分钟滴加到烧瓶内。然后，对滴加后的溶液边搅拌边在80℃保温3小时后，经30分钟加热到90℃。在90℃保温2小时后，冷却而得到粘合剂聚合物溶液。在该粘合剂聚合物溶液中加入丙酮进行制备，使得不挥发成分（固体成分）为50质量％，获得粘合剂聚合物溶液。获得的粘合剂聚合物的重均分子量为80000。将其作为丙烯酸系聚合物A。
将表1所示的材料以该表中所示的配合量（单位：质量份）进行配合，制备感光性树脂组合物的溶液。
表1
Figure BDA00002242035800211
1）甲基丙烯酸：甲基丙烯酸甲酯：丙烯酸乙酯：苯乙烯＝20：50：20：10的质量比率的丙烯酸系聚合物。
＜感光性导电薄膜的制作＞
（实施例1）
将导电层形成用涂布液1以25g／m2均匀地涂布在作为支撑薄膜（薄膜支撑体）的50μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜（PET薄膜，帝人株式会社制造，商品名“G2－50”）上，用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟，形成导电层。另外，导电层的干燥后的膜厚约为0.1μm。
接着，在支撑薄膜的设置有导电层的一侧均匀地涂布上述感光性树脂组合物的溶液，用100℃的热风对流式干燥机干燥10分钟，形成感光性树脂层。感光性树脂层干燥后的膜厚为5μm。进而，用聚乙烯制的保护薄膜（Tamapoly株式会社制造，商品名“NF－13”）覆盖感光性树脂层，得到感光性导电薄膜。
（实施例2）
将导电层形成用涂布液2以25g／m2均匀地涂布在作为支撑薄膜的50μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜（PET薄膜，帝人株式会社制，商品名“G2－50”）上，用100℃的热风对流式干燥机干燥3分钟，形成导电层。另外，干燥后的导电层的膜厚约为0.1μm。
接着，在支撑薄膜的设置有导电层的一侧均匀地涂布上述感光性树脂组合物的溶液，用100℃的热风对流式干燥机干燥10分钟，形成感光性树脂层。感光性树脂层的干燥后的膜厚为5μm。进而，用聚乙烯制的保护薄膜（Tamapoly株式会社制，商品名“NF－13”）覆盖感光性树脂层，获得感光性导电薄膜。
＜导电膜的形成＞
将0.7mm厚的钠玻璃板加热到80℃，边剥离保护薄膜边使感光性树脂层面向基板，在120℃、0.4MPa的条件下在钠玻璃板的表面上层压实施例1、2中获得的感光性导电薄膜。层压后冷却基板，在基板的温度达到23℃时，使用具有高压汞灯的曝光机（株式会社ORC制作所制造，商品名“HMW－201B”），在PET薄膜面上以1000mJ／cm2的曝光量对导电层和感光性树脂层进行曝光。曝光后，在室温（25℃）放置15分钟，接着剥离作为支撑体的PET薄膜，从而在钠玻璃板上形成实施例中制作的导电膜。使用实施例1、2的薄膜形成的导电膜的表面电阻分别为2000Ω／□、2800Ω／□，对650nm的光的透过率为90％、85％。将结果示于表1中。
另外，上述的表面电阻是使用低电阻率仪（三菱化学株式会社制造，LorestaGP），通过4探针法并依据JIS  K 7194而测定的表面电阻率。另外，上述的透过率是使用分光光度计（株式会社日立高新技术制造，商品名“U－3310”）测定的、在450～650nm的波长范围内的最小光透过率。将结果示于表1中。
＜导电图案的形成＞
将1mm厚的聚碳酸酯基板加热到80℃，边剥离保护薄膜边使感光性树脂层面向基板，在120℃、0.4MPa的条件下在基板表面上层压实施例1、2中获得的感光性导电薄膜。层压后冷却基板，在基板的温度达到23℃时，在作为支撑体的PET薄膜面上密合具有线宽／间隔宽为100／100μm且长度为100mm的布线图案的光掩膜。然后使用具有高压汞灯的曝光机（株式会社ORC制作所制造，商品名“HMW－201B”），以200mJ／cm2的曝光量对导电层和感光性树脂层进行曝光。
曝光后，在室温（25℃）放置15分钟，接着剥离作为支撑体的PET薄膜，在30℃将1质量％碳酸钠水溶液喷雾30秒从而进行显影。显影后，在聚碳酸酯基板上形成线宽／间隔宽为约100／100μm的导电图案。确认到各个导电图案形成良好。
表2
Figure BDA00002242035800231
符号说明
1：薄膜支撑体、2：导电层、2a：导电图案、3：感光性树脂层、3a：固化物层、4：保护薄膜、10：感光性导电薄膜、20：基板、30：原图、40：带导电膜的基板。

Claims (8)

1.一种感光性导电薄膜，其具有将支撑体、含有有机导电材料的导电层、和感光性树脂层依次层叠而成的结构。
2.根据权利要求1所述的感光性导电薄膜，所述有机导电材料是噻吩衍生物的聚合物。
3.根据权利要求1或2所述的感光性导电薄膜，所述感光性树脂层由含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光性导电薄膜，在所述感光性树脂层的与所述导电层侧相反的一侧进一步层叠有保护薄膜。
5.一种导电膜的形成方法，其特征在于，在基材上粘贴权利要求1～4中任一项所述的感光性导电薄膜的所述感光性树脂层，从而在该基材上至少依次层叠所述感光性树脂层和所述导电层，并对层叠的所述感光性树脂层进行曝光。
6.一种导电图案的形成方法，其特征在于，在基材上粘贴权利要求1～4中任一项所述的感光性导电薄膜的所述感光性树脂层，从而在该基材上至少依次层叠所述感光性树脂层和所述导电层，并对层叠的所述感光性树脂层进行曝光、显影。
7.一种导电膜基板，其具有基板和通过权利要求5所述的导电膜的形成方法在该基板上形成的导电膜。
8.一种导电膜基板，其具有基板和通过权利要求6所述的导电图案的形成方法在该基板上形成的导电图案。
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