CN102834541A - 蒸镀装置和蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供在有机EL显示器用的基板（10）上按规定的图案形成薄膜（3）的蒸镀装置（50）。在掩模（60）与放射蒸镀颗粒的蒸镀源（53）之间配置有第一校正板（81）和第二校正板（82）。各校正板（81、82）分别具有多个叶片板（83）和支承它们的框（84）。各叶片板（83）在相对于掩模（60）倾斜的状态下，以从与掩模（60）正交的方向来看，在与相邻的叶片板（83）之间隔着开口（86）相互平行地延伸的方式配置。

Description

蒸镀装置和蒸镀方法

技术领域

本发明涉及例如适合大型的有机EL显示器（Electro Luminescencedisplay，电致发光显示器）的蒸镀装置和蒸镀方法。

背景技术

近年来，要求平板显示器的大型化、高画质化、低消费电力化，能够以低电压驱动、高画质的有机EL显示器受到较高的关注。有机EL显示器的结构，例如为全彩的有源矩阵方式的有机EL显示器的情况下，在设置有TFT（薄膜晶体管）的基板上设置薄膜状的有机EL元件。有机EL元件中，在一对电极之间叠层包括红（R）、绿（G）、蓝（B）的发光层的有机EL层，对这些电极之间施加电压使各发光层发光，因此利用该光进行图像显示。

在这样的有机EL显示器的制造中，使用真空蒸镀法、喷墨打印法、激光转印法等方法进行发光层、电极等薄膜的图案形成。例如，低分子型的有机EL显示器（OLED）中，发光层的图案形成主要使用真空蒸镀法。

真空蒸镀法中，通常，将图案形成了规定的开口的掩模密合固定在基板，在使掩模一侧朝向蒸镀源的状态下设置在真空腔室中。然后，通过在基板的所期望的位置，通过掩模的开口从蒸镀源对成膜材料进行蒸镀，进行发光层等薄膜的图案形成。各色的发光层，以分别个别地分涂的方式蒸镀（分涂蒸镀）。特别是在批量生产工艺中，一般使用与基板同等尺寸的掩模（密合型整面掩模（荫罩，shadow mask）），将与该掩模密合的基板相对于蒸镀源固定在规定位置的状态下进行蒸镀。

可知还有使基板等相对于蒸镀源相对移动的同时进行蒸镀的真空蒸镀法（专利文献1）。专利文献1中，使用比形成的电极的面积更小、按规定间隔形成多个小孔和细长的狭缝孔的掩模。使该掩模在相对于小孔等的排列方向交叉的方向上移动的同时进行蒸镀，形成规定图案的电极。

关于本发明，公开了通过对蒸发源（蒸镀源）的孔形状进行改进，减小飞溅的蒸发材料的扩散范围的技术（专利文献2）。专利文献2中，朝向基板使蒸发材料射出的孔的形状，形成为上面观察时是圆形、越朝向出口口径越大的锥形。这样，能够使蒸发材料的膜厚分布集中到孔的正上方，使材料不浪费地覆盖到基板上。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平10-102237号公报

专利文献2：日本特开2004-169066号公报

发明内容

发明要解决的课题

在现有的批量生产工艺下对发光层等通过真空蒸镀法图案形成的情况下，如果基板增大，则掩模也随之大型化。从而，如果基板增大，则因掩模的自重挠曲、延伸，基板与掩模之间易于产生间隙。因此，大型基板难以进行高精度的图案形成，会发生蒸镀位置的错位、混色，难以实现高精细化。

此外，如果基板增大，掩模和保持其的框等变得大型，其重量也会增加，所以难以处理，存在引起生产性、安全性的障碍的可能性。由于相关装置也同样大型化、复杂化，装置设计变得困难，设置成本也变得高额。

因此，现有的真空蒸镀法中难以对应大型基板，例如，实际情况是还没有实现对于超过60英寸尺寸的大型基板能够以批量生产水平进行图案形成的方法。

对此，本发明人曾经提出了能够对应这样的大型基板的蒸镀方法（也称为新蒸镀法）（日本特愿2009-213570）。

具体而言，使用面积比基板小的掩模（荫罩）和蒸镀源一体化的掩模单元。在掩模与基板的间隙保持为固定的状态下，使掩模单元对于基板相对地扫描的同时进行蒸镀。这样，避免了上述伴随基板的大型化的问题，能够以批量生产工艺实现通过蒸镀进行的大型基板的图案形成。

然而，该新蒸镀法的情况下，确认到图案形成的薄膜的蒸镀扩散易于变大的倾向。

图1中表示了表示新蒸镀法的蒸镀过程的示意图。图中，101为基板，102为蒸镀掩模，102a为开口，103为蒸镀源，103a为放射蒸镀颗粒的射出口，110是基板上形成的发光层等薄膜。使蒸镀掩模102与蒸镀源103单元化而使相对位置关系固定。箭头线表示该蒸镀掩模102等对于基板101的相对的扫描方向。

新蒸镀法中，在蒸镀掩模102与基板101之间保持固定的间隙的同时进行蒸镀。因此，如图2所示，倾斜地通过蒸镀掩模102的开口102a的蒸镀颗粒的一部分附着在蒸镀区域r1（与蒸镀掩模102的开口102a相对的区域）外侧的部分，在相对于扫描方向垂直的方向上发生蒸镀扩散（晕开）。由于发光层等起到像素的发光区域的作用，所以蒸镀扩散到达相邻的像素的发光区域时，会引起混色、特性的劣化。从而，优选蒸镀扩散尽可能小。其中，此处所说的“蒸镀扩散”，如该图中所示，指的是在蒸镀区域r1的外侧的部分形成的薄膜110。

蒸镀扩散能够通过减小蒸镀掩模102与基板101之间的间隙而减少。例如，如图3所示，由于蒸镀颗粒的飞行具有指向性，从扫描方向来看，设相对于与基板101、蒸镀掩模102、蒸镀源103正交的轴线（也称为蒸镀轴线L1），蒸镀颗粒入射到基板101的角度（入射角度）的最大值为γ，蒸镀掩模102与基板101之间的间隙的垂直间距为P时，蒸镀扩散的宽度（图中的B）为P×tanγ。

从而，如果蒸镀掩模102与基板101之间的间隙增大，则蒸镀扩散增大，如果间隙减小，则蒸镀扩散减小，所以优选蒸镀掩模102与基板101尽可能接近。然而该情况下，需要使蒸镀掩模102与基板101接近至极限例如数10μm等，在该状态下使二者不接触地进行扫描，而这样的蒸镀掩模102和基板101的高精密的控制难以稳定地进行，特别基板101为大型的情况下，难以实用化。

除此以外考虑减小入射角度γ作为减少蒸镀扩散的方法。入射角度γ受到从射出口103a射出的蒸镀颗粒的射出角度ψ或蒸镀颗粒通过开口102a的通过角度δ（均为相对于蒸镀轴线L1的角度）中的任一个的限制。由于该图中是示意地表示，看起来没有显著差别，而通常，由于开口102a的宽度是微小的，一般而言通过角度δ比射出角度ψ更小，入射角度γ受到通过角度δ限制。

如图4所示，该通过角度δ的最大值受到蒸镀掩模102的开口102a的截面纵横比的影响。截面纵横比是由开口102a的宽度、深度、截面形状等决定的值。此处，用从扫描方向来看，与同掩模表面正交地延伸的开口102a的截面的宽度尺寸h相对的深度尺寸f的比例（f/h）表示截面纵横比。该情况下，如图中所示，与实线表示的低截面纵横比（f1/h）的蒸镀掩模102相比，两点划线表示的高截面纵横比（f2/h）的蒸镀掩模102的通过角度δ的最大值更小。

从而，在减少蒸镀扩散的基础上，提高蒸镀掩模102的开口102a的截面纵横比可以视为有效的方法之一。但是，作为实现高截面纵横比的方法，考虑高精度地形成开口102a的截面形状或增大蒸镀掩模102的厚度等，但均不容易。

例如，如果使用电铸法或利用激光切割的挖掘法等，能够高精度地形成开口102a的截面形状。但是，难以对深度相对于宽度为3倍以上这样深度相对于宽度较大的开口的截面形状以μm级高精度地加工。

另一方面，增大蒸镀掩模102的厚度时，蒸镀掩模102的重量相应地增加，易于产生因自重引起的挠曲变形。产生挠曲变形时，蒸镀掩模102与基板101之间的间隙会变得不稳定。如果蒸镀掩模102大型化，则处理、蒸镀装置内的控制也会变得困难。

此外，如果厚度增大，则蒸镀颗粒易于附着在开口102a的内面，所以开口102a容易变窄，存在发生堵塞的可能性。因此，还存在蒸镀掩模102的更换频率变高等不利之处。

入射角度γ能够通过使蒸镀颗粒的射出角度ψ比通过角度δ小而减小。但是，如上所述，一般而言蒸镀颗粒的最大射出角度ψ大于通过角度δ。

即，虽然也取决于蒸镀源的种类、结构，但通常，蒸镀颗粒以射出口103a的正上方、即射出角度ψ为0的蒸镀轴线L1方向为中心向其周围扩散地放射，飞行的蒸镀颗粒按概率分布。蒸镀颗粒的分布在射出口103a的正上方最大，射出角度ψ越大则越减小，其最大的射出角度ψ的变大，为随着在蒸镀掩模102的周边设置遮蔽板的程度。

这一点，根据之前的专利文献2的蒸发源，蒸发材料的膜厚分布变化剧烈，能够使蒸镀颗粒集中到射出方向的中心。从而，如果使用该蒸发源，能够增加射出角度ψ比通过角度δ小的蒸镀颗粒数。但是，该方法的情况下，由于只改善了蒸镀颗粒的分布特性，射出角度ψ比通过角度δ大的蒸镀颗粒仍然较多地残留，对于蒸镀扩散的减少并不有效。

于是，本发明的目的在于提供能够用实用的方法有效地减少蒸镀扩散，以批量生产工艺实现高品质高精细的大型的有机EL显示器的制造的蒸镀装置等。

用于解决课题的技术手段

为了达成上述目的，本发明中，在蒸镀源与蒸镀掩模之间设置规定结构的蒸镀校正部件，能够实质性地使蒸镀颗粒的射出角度限制为较小。

具体而言，本发明的蒸镀装置是在基板上按规定的图案形成薄膜的蒸镀装置，包括蒸镀掩模、在上述蒸镀掩模一侧具有射出口并从该射出口放射形成上述薄膜的蒸镀颗粒的蒸镀源、在上述蒸镀掩模与上述蒸镀源之间配置的2个以上蒸镀校正部件。上述各蒸镀校正部件分别具有与上述蒸镀掩模大致平行地配置的多个叶片板、支承上述多个叶片板的框。上述各叶片板分别在相对于上述蒸镀掩模倾斜的状态下，以从与上述蒸镀掩模正交的方向来看、与相邻的叶片板之间隔着开口相互平行地延伸的方式配置。

即，在蒸镀源与蒸镀掩模之间，至少配置2个蒸镀校正部件，各蒸镀校正部件上，与蒸镀掩模大致平行地横向排列地配置多个叶片板。各叶片板相对于蒸镀掩模倾斜，从与蒸镀掩模正交的方向来看隔着一定的开口（也称为叶片板间开口）相互相邻。

从而，通过调整叶片板的倾斜度和叶片板间开口的宽度、配置等的各蒸镀校正部件的设定，能够使从蒸镀源朝向蒸镀掩模一侧的蒸镀颗粒的一部分被各蒸镀校正部件遮挡，仅使朝向所需的方向的蒸镀颗粒通过。结果，能够调整到达蒸镀掩模的蒸镀颗粒的射出角度将其限制在规定的范围内，能够减少蒸镀扩散（晕开）。

被各蒸镀校正部件遮挡的蒸镀颗粒（蒸镀材料）附着在蒸镀校正部件上而堆积，但通过使叶片板对于蒸镀掩模倾斜，在相对的叶片板之间的间隙增大的同时能够使叶片板间开口减小。从而，能够有效地抑制因蒸镀材料的堆积而使叶片板间开口变窄，连续地长时间进行蒸镀处理。

更具体而言，优选蒸镀装置还包括：包含上述蒸镀掩模、上述蒸镀源和上述蒸镀校正部件，固定它们的相对位置关系的掩模单元；支承上述基板的基板支承装置；和在上述基板与上述蒸镀掩模之间设置有一定空隙的状态下，使上述掩模单元和上述基板中至少一个沿着规定的扫描方向相对地移动的移动装置。上述蒸镀掩模具有多个条状的开口，以这些开口的延伸方向与上述扫描方向一致的方式配置上述蒸镀掩模，上述各蒸镀校正部件以上述叶片板的延伸方向与上述扫描方向一致的方式配置，上述蒸镀校正部件的各自的上述叶片板从上述扫描方向来看以相同的角度倾斜。

这样，能够与基板的大小无关地稳定地形成减少了蒸镀扩散的范围的条状的发光层等薄膜，因此能够以批量生产工艺实现高精细高品质的大型的有机EL显示器的制造。

该情况下，优选上述蒸镀校正部件包括各自的上述叶片板反向倾斜的2个蒸镀校正部件。

这样，能够有效地减少条状的薄膜的两侧的蒸镀扩散。此外，通过使反向（方向相反）的叶片板的各自的倾斜程度不同，还能够分别调整薄膜两侧的蒸镀扩散的宽度（范围）。

进而，蒸镀装置中也能够具备使至少任一个上述蒸镀校正部件翻转的翻转装置。

通过使蒸镀校正部件翻转，叶片板的一个面上堆积了大量的蒸镀颗粒的情况下，能够应用另一个面，使蒸镀校正部件的更换次数减半。

此外，还优选蒸镀装置中，具备使至少任一个上述蒸镀校正部件在与上述蒸镀掩模正交的方向上滑动位移的滑动装置。

这样，能够使用滑动装置自动地进行蒸镀校正部件的配置调整，能够容易并且迅速地进行蒸镀校正部件的高精度的定位。还能够使蒸镀校正部件无需从掩模单元取下地翻转。

进而，还可以使至少任一个上述蒸镀校正部件，能够从上述扫描方向来看倾斜地设置，具备对能够倾斜的上述蒸镀校正部件的倾斜度进行调整的控制装置。

通过使蒸镀校正部件自身倾斜，例如，在进行蒸镀处理的同时，能够对相对于蒸镀掩模的叶片板的倾斜度进行微调，所以能够实现更实用并且更高精度的蒸镀扩散的减少。

此外，还能够使至少任一个上述蒸镀校正部件上的上述叶片板被上述框以能够旋转的方式支承，还具备使能够旋转的上述叶片板旋转位移的旋转装置、与上述旋转装置共同作用来调节能够旋转的上述叶片板的倾斜度的控制装置。

这样，由于通过旋转装置与控制装置的共同作用，能够自由地调整叶片板的倾斜角度，在蒸镀处理中能够与其状况相应地调整叶片板的倾斜角度，能够与处理的基板相应地变更叶片板的倾斜角度的设定，所以通用性优良。通过叶片板的旋转能够使其倾斜方向变为反向，所以即使不存在翻转装置也能够使蒸镀校正部件的更换次数减半。

优选至少任一个上述蒸镀校正部件以能够取下的方式设置。

这样，能够定期地回收蒸镀校正部件上堆积的蒸镀材料。例如，蒸镀材料能够加热回收，而由于蒸镀掩模存在导致变形的可能性，蒸镀掩模上附着的蒸镀材料不能通过加热回收。对此，如果是蒸镀校正部件则能够进行加热处理，所以能够简单地回收堆积的蒸镀材料。从而，能够确保较高的材料的使用效率。

本发明的蒸镀方法，通过使从蒸镀源放射的蒸镀颗粒通过在蒸镀掩模形成的多个开口而进行蒸镀，在基板上形成规定图案的薄膜。在上述蒸镀源与上述蒸镀掩模之间，配置仅允许分别朝向不同的规定方向的上述蒸镀颗粒通过的至少2个以上的蒸镀校正部件，在通过这些蒸镀校正部件限制上述蒸镀颗粒的前进方向的同时进行蒸镀。

根据该蒸镀方法，从蒸镀源朝向蒸镀掩模一侧的蒸镀颗粒中朝向规定的不同方向的蒸镀颗粒，在到达蒸镀掩模之前被限制前进方向。从而，能够仅使规定的前进方向的蒸镀颗粒到达蒸镀掩模，因此能够实质性地减小放射角度，减少蒸镀扩散。

具体而言，包括在使上述基板被上述基板支承装置支承，上述基板与上述蒸镀掩模之间设置有上述空隙的状态下，使上述掩模单元与上述基板相对的位置对准工序，和在通过上述移动装置使上述掩模单元和上述基板中的至少一个沿着规定的扫描方向相对地移动的同时依次进行蒸镀，形成上述薄膜的蒸镀工序即可。

这样，仅通过进行规定的操作，就能够与基板尺寸大小无关地进行减少了蒸镀扩散的蒸镀，所以适合大型的有机EL显示器的批量生产工艺。

特别是，优选包括蒸镀校正部件设置为可取下的情况下，将上述蒸镀校正部件从上述蒸镀装置取下，回收该蒸镀校正部件上附着的蒸镀颗粒的回收工序。

这样，能够确保较高的材料的使用效率。

发明的效果

如以上所说明，根据本发明，能够用实用的方法有效地减少蒸镀扩散，因此在批量生产工艺中，也能够制造高品质高精细的大型的有机EL显示器。

附图说明

图1是表示新蒸镀法中蒸镀过程的一例的示意图。

图2是将图1中两点划线表示的部分放大后的概要图。

图3是表示蒸镀掩模等的结构与蒸镀扩散的关系的图。

图4是表示蒸镀掩模的开口的截面纵横比与通过角度的关系的图。

图5是表示第一实施方式中的有机EL显示器的示意截面图。

图6是表示基板的主要部分的概要平面图。

图7是表示图6中的I-I线的截面的概要图。

图8是表示有机EL显示器的基本的制造工序的流程图。

图9是表示蒸镀装置的主要部分的概要平面图。

图10是表示图9中的II-II线的截面的概要图。

图11是在图9中除去掩模的部分表示的概要图。

图12是表示校正板的一部分的概要立体图。

图13是表示第一校正板中的叶片板的部分的示意图。

图14是表示第二校正板中的叶片板的部分的示意图。

图15是表示蒸镀源、第一校正板和第二校正板的部分的示意图。

图16是用于说明蒸镀扩散的减少的示意图。

图17是表示其他方式的蒸镀装置的主要部分的概要图。

图18是表示发光层的蒸镀工序的流程图。

图19（a）、（b）是用于说明校正板的翻转的图。

图20是变形例中相当于图10的图。

图21是变形例中相当于图11的图。

具体实施方式

以下，基于附图详细说明本发明的实施方式。但是，以下的说明本质上只是例示，并不限制本发明、其应用物或其用途。

（有机EL显示器）

本实施方式中，以将本发明应用于有机EL显示器的制造的情况为例说明。本实施方式的有机EL显示器是通过控制红色（R）、绿色（G）、蓝色（B）等各颜色（统称为RGB）构成的多个像素（子像素2R、2G、2B）的发光，实现全彩的图像显示的有源矩阵型的显示器。

如图5所示，本实施方式的有机EL显示器1由基板10、薄膜状的有机EL元件20、密封板30等构成。基板10和密封板30的外观均呈矩形板状，有机EL元件20在被夹在它们之间的状态下将周围用粘合剂等密封部件40堵塞而密封。基板10的表面的中央部是进行图像显示的显示区域11，在该处配置有机EL元件20。

如图6和图7所示，在基板10的显示区域11中，设置有TFT12（Thin Film Transistor，薄膜晶体管）、配线13、层间膜14等。

基板10使用玻璃板等。由于本实施方式的有机EL显示器1为从基板10一侧导出发光的底部发射型，所以优选透明的基板10，而为顶部发射的情况下，不一定要是透明的。配线13由在基板10上图案形成、平行地延伸的多条栅极线和与这些栅极线交叉并平行地延伸的多条信号线构成。在被这些栅极线等配线13格子状地包围的多个区域中，配置RGB的各颜色的子像素2R、2G、2B，在这些子像素2R、2G、2B中分别设置控制发光的TFT12。

RGB的各色的子像素2R、2G、2B在行方向上按每种颜色配置为一列，在列方向上按RGB的顺序反复配置。列方向上连续的RGB的三个子像素2R、2G、2B构成一个像素。详情在之后叙述，各子像素2R、2G、2B的发光层25R、25G、25B由按颜色分别形成的条状的薄膜3形成。

层间膜14是也起到平坦化膜作用的丙烯酸树脂等绝缘性的薄膜。层间膜14以覆盖TFT12等的方式在跨显示区域11的整体区域的范围中叠层。有机EL显示器1为底部发射型的情况下，优选层间膜14是透明的。

有机EL元件20由第一电极21（阳极）、有机EL层22、第二电极23（阴极）等构成。第一电极21例如由ITO（Indium Tin Oxide，铟锡氧化物）等构成，在层间膜14上叠层，通过与子像素2R、2G、2B对应地格子状地图案形成而形成多个。这些第一电极21通过接触孔14a与各TFT12连接。在这些第一电极21上，叠层形成绝缘性的边盖15。在边盖15上形成按每个子像素2R、2G、2B以矩形开口的发光区域16R、16G、16B，第一电极21的大部分从该发光区域16R、16G、16B露出，第一电极21的端部被边盖15覆盖。其中，各像素的发光通过这些发光区域16R、16G、16B被导出。此外，也可以使叠层结构翻转，第一电极21为阴极，第二电极23为阳极。该情况下，被两个电极夹住的各层的叠层顺序也进行翻转。

有机EL层22设置在第一电极21与第二电极23之间。本实施方式的有机EL层22中，从第一电极21一侧起依次叠层形成空穴传输层24、发光层25R、25G、25B、电子传输层26以及电子注入层27。本实施方式的空穴传输层24还具有作为空穴注入层的功能。其中，本实施方式所示的有机EL层22的结构是一例，能够不限于此而根据需要选择各层组合。例如，也可以与空穴传输层24分开设置空穴注入层，还可以进一步设置阻挡层。有机EL层22中至少包括发光层25R、25G、25B即可。空穴传输层24和发光层25R、25G、25B等的材料能够使用周知的材料。

空穴传输层24、电子传输层26、电子注入层27在跨显示区域11的整体区域的范围中叠层。发光层25R、25G、25B如上所述，与各颜色的子像素2对应地图案形成为条状。第二电极23以覆盖有机EL层22的方式，在跨显示区域11的整体区域的范围中叠层。

（有机EL显示器1的基本的制造方法）

参照图8的同时，说明上述有机EL显示器1的基本的制造方法。该图表示有机EL显示器1的制造方法的各工序中，有机EL元件20中的空穴传输层24等的形成工序。

首先，准备形成了TFT12和第一电极21等的基板10（也称为TFT基板10）。例如，能够使用厚度为大约1mm、纵横尺寸为500×400mm的矩形形状的玻璃板作为TFT基板10的基层。该情况下，能够使层间膜14以大约2μm的膜厚形成，第一电极21以大约100nm的膜厚形成，边盖15以大约1μm的厚度形成。其中，由于TFT基板10能够用周知的方法形成，省略其说明。

对于准备的TFT基板10，以覆盖TFT12等的方式形成空穴传输层24（步骤S1）。具体而言，对空穴传输层24的材料在跨显示区域11的整体区域的范围中蒸镀。例如，使具有与显示区域11相同大小的开口的整体区域用掩模与TFT基板10贴合而密合。使与整体区域用掩模密合的TFT基板10旋转的同时，对空穴传输层24的材料进行蒸镀。空穴传输层24，例如能够使用α-NPD作为材料，以大约30nm的膜厚形成。其中，该蒸镀处理能够使用现有的蒸镀装置。

接着，在空穴传输层24上叠层形成发光层25R、25G、25B（步骤S2）。发光层25R、25G、25B以分涂的方式按RGB各颜色分别蒸镀（分涂蒸镀）。发光层25R、25G、25B的蒸镀中，一般使用掺杂物源材料（host）和掺杂物材料进行共蒸镀。掺杂物源材料和掺杂物材料等、发光层25R、25G、25B的材料能够从周知的材料中选择使用。发光层25R、25G、25B的膜厚例如能够以10～100nm的范围形成。其中，本实施方式中，由于该工序使用新蒸镀法及其蒸镀装置，对于详情在之后叙述。

接着，在发光层25R、25G、25B上叠层形成电子传输层26（步骤S3）。具体而言，用与空穴传输层24相同的方法，对电子传输层26的材料在跨显示区域11的整体区域的范围中蒸镀。进而，在电子传输层26上叠层形成电子注入层27（步骤S4）。电子注入层27的情况下，也用与空穴传输层24相同的方法对电子注入层27的材料在跨显示区域11的整体区域的范围中蒸镀。

电子传输层26和电子注入层27的材料能够从周知的材料中选择使用。二者也可以使用相同的材料一体地形成。电子传输层26和电子注入层27的各膜厚例如能够以10～100nm的范围形成。例如，能够使用Alq为材料以30nm的膜厚形成电子传输层26，使用LiF为材料以1nm的膜厚形成电子注入层27。

然后，在电子注入层27上叠层形成第二电极23（步骤S5）。第二电极23的情况下，也用与空穴传输层24相同的方法对第二电极23的材料在跨显示区域11的整体区域的范围中蒸镀。第二电极23的材料也能够从周知的材料中选择使用。第二电极23例如能够以Al（铝）为材料以50nm的膜厚形成。

这样形成有机EL元件20的TFT基板10最后通过与密封板30贴合而将有机EL元件20密封，完成有机EL显示器1的主要部分。

（分涂蒸镀）

接着，说明通过分涂蒸镀形成发光层25R、25G、25B的工序（步骤S2）。本工序中使用上述新蒸镀法及其蒸镀装置。特别是，由于对本实施方式的蒸镀装置施加了能够实现蒸镀扩散的减少的加工，在首先说明蒸镀装置的基本结构的基础上，对于能够实现蒸镀扩散的减少的主要部分结构详细说明。

（蒸镀装置的基本结构）

图9和图10中表示本实施方式的蒸镀装置50。如这些图所示，蒸镀装置50具备真空腔室51、基板支承装置52、蒸镀源53、掩模60（shadow mask，荫罩，蒸镀掩模）、掩模单元55、移动装置56等。其中，本实施方式的蒸镀装置50是使蒸镀颗粒朝向上方放射的类型。

真空腔室51是可开闭的箱形的密闭容器。通过图外的减压装置，真空腔室51的内部能够减压而保持为规定的低压强状态。

基板支承装置52具有对作为处理对象的基板10（也称为对象基板10）在其行方向（各颜色的子像素2R、2G、2B排成一列的方向）朝向图9中箭头线所示的方向（扫描方向）的状态下水平地支承的功能。例如，如果在基板支承装置52设置静电卡盘，则通过用该静电卡盘的吸附能够对对象基板10在没有因自重导致的挠曲的状态下进行支承。

基板支承装置52能够水平移动，通过移动装置56对向扫描方向的水平移动自动控制。其中，为了方便，扫描方向也称为X轴方向，水平面上与扫描方向正交的方向也称为Y轴方向。各图中，适当表示这些轴方向。此外，也将与对象基板10等正交的蒸镀轴线L1延伸的方向（垂直方向）称为Z轴方向。

掩模60在被基板支承装置52支承的对象基板10的下方，在隔开一定的空隙H的状态下水平地配置。其中，优选空隙H的垂直距离（最短距离）以50μm～1mm的范围设定。出于防止蒸镀扩散的观点优选较小的，而小于50μm时，存在对象基板10与掩模60接触的可能性。另一方面，超过1mm时蒸镀会变得不稳定，导致混色或图案形成精度的恶化。

掩模（荫罩）60呈长方形板状，其长边方向具有排成一列、沿着短边延伸地条状地形成的多个开口K、K、……（仅图示一部分开口）。多个开口K、K、……例如与RGB的各颜色的子像素2R、2G、2B的列对应地形成。各开口K形成为贯通掩模60的细长的缝隙状。

掩模60的长边的尺寸设定为比相对的对象基板10的显示区域11中Y轴方向的尺寸更大，其短边的尺寸设定为比相对的对象基板10的显示区域11中X轴方向的尺寸更小。多个开口K、K、……在Y轴方向，设置在与显示区域11对应的范围中（有效区域）。

在该有效区域的两个外侧，设置有用于进行与对象基板10上设置的第一标记17的位置对准的第二标记63。这些第一标记17和第二标记63被蒸镀装置50中设置的传感器57检测出，对象基板10和掩模60基于其检测值在水平方向上正确地定位（也将它们称为定位机构）。掩模60以开口K、K、……的延伸方向与X轴方向一致的方式可装卸地安装在掩模单元55中。

掩模单元55中，设置有支架55a、张力保持装置58、蒸镀源53、第一校正板81（蒸镀校正部件）、第二校正板82（蒸镀校正部件）、防护板91等。掩模60通过安装在掩模单元55，被张力保持装置58拉伸，在张力作用的状态下被水平支承。这样，掩模60通过支架55a固定与蒸镀源53等的相对位置关系。

蒸镀源53沿着Y轴方向延伸地设置。蒸镀源53以夹着掩模60与对象基板10相对的方式，配置在掩模60的下侧。在其上表面，朝向对象基板10放射蒸镀颗粒的多个射出口53a、53a、……在Y轴方向上排成一列设置（射出口仅图示一部分）。

本实施方式中，这些射出口53a、53a、……配置在与掩模60的开口K分别相对的位置，各射出口53a在平面视图下位于各开口K的中央（X轴和Y轴的两个方向的中央）。蒸镀装置50中，设置有开闭蒸镀源53与掩模60之间的开闭器（未图示），通过控制该开闭器的开闭，进行自动控制从而能够在适当的时刻蒸镀。

（蒸镀装置的主要部分结构）

在掩模60与蒸镀源53之间，进一步配置有对蒸镀扩散的减少起到重要作用的第一校正板81和第二校正板82（不区别二者的情况下也可以称为校正板81、82）。第一校正板81位于蒸镀源53一侧，第二校正板82位于掩模60一侧。校正板81、82在与掩模60大致平行的状态下，与掩模60、蒸镀源53以及另一个校正板分别在Z轴方向上隔开规定的间隔配置。

在图11和图12中也有所表示，校正板81、82呈与掩模60对应的长方形板状的外观，均由多个叶片板83、83、……和支承这些叶片板83、83、……的框84等构成。

框84具有平行地延伸的一对侧框部84a、84a（长边一侧）和连接这些侧框部84a、84a的各端部的一对端框部84b、84b（短边一侧）。在这些侧框部84a、84a和端框部84b、84b划分形成的矩形的开口中配设多个叶片板83。这些叶片板83均为相同尺寸的带板状的部件，其长度方向的两端部被侧框部84a支承。

各叶片板83对于蒸镀掩模倾斜，在该倾斜的状态下与相邻的叶片板83之间隔着一定的间隙（也称为叶片板间隙85）相互平行延伸地配置。各校正板81、82以叶片板83的延伸方向与X轴方向一致的方式配置在掩模单元55。此外，第一校正板81的叶片板83与第二校正板82的叶片板83，使倾斜的方向设定为反向（方向相反）。

详细而言，各校正板81、82的叶片板83，从X轴方向来看均以相同的角度倾斜。此外，各校正板81、82的叶片板83，以从Z轴方向来看，与相邻的叶片板83之间能够视认到一定的开口（也称为叶片板间开口86）的方式配置（参照图11）。换言之，观察相邻的2个叶片板83、83时，面对它们之间的叶片板间隙85的一个的叶片板83的上端与另一个的叶片板83的下端在Y轴方向上隔开一定的规定尺寸。

图10中，第一校正板81的下端对于上端相对地向左方偏移，与此相对，第二校正板82的下端对于上端相对地向右方偏移。从而，第一校正板81的叶片板间隙85向右斜上方延伸，第二校正板82的叶片板间隙85向左斜上方延伸。其中，也可以使第一校正板81与第二校正板82的倾斜的方向相反，使第一校正板81的下端对于上端相对地向右方偏移，第二校正板82的下端对于上端相对地向左方偏移。

对于各校正板81、82，通过选择叶片板83的配置等设定朝向掩模60的蒸镀颗粒的外观上的射出角度。

图13中示意地表示了第一校正板81中叶片板83的部分。该图中，箭头虚线表示飞行的蒸镀颗粒的轨迹。能够通过第一校正板81的叶片板间隙85的蒸镀颗粒仅限于通过角度α所表示的范围的蒸镀颗粒。

即，该图中，对于叶片板间隙85，与叶片板83的倾斜方向相逆朝向左斜上方的蒸镀颗粒被叶片板83所限制，因此朝向该方向的蒸镀颗粒，只有比通过面对该叶片板间隙85的一个的叶片板83的下端和另一个的叶片板83的上端的角度β1更小的通过角度的蒸镀颗粒能够通过。

另一方面，与叶片板83的倾斜方向顺行朝向右斜上方的蒸镀颗粒基本不受到叶片板83的限制地通过。从而，朝向该方向的蒸镀颗粒，在最大的射出角度ψ比连接叶片板83的下端与上端的线所成的角度φ3大的情况下受到叶片板83的限制（η=φ），否则能够全部通过（η=ψ）。

从而，仅允许通过将上述角度β1与角度η相加所得的角度α的范围的蒸镀颗粒通过第一校正板81。

设第一校正板81的叶片板间开口86的宽度为d1，叶片板83的Z轴方向的高度尺寸为m1时，tanβ1=d1/m1的关系式成立。从而，通过选择叶片板间开口86的宽度d1和叶片板83的高度尺寸m1，能够任意地设定角度β1。

此外，设叶片板83的Y轴方向的厚度尺寸为t1时，求出第一校正板81的开口率时，为d1/(d1+m1×tanφ1+t1)。设定了角度β1时，由于该开口率被倾角φ1和厚度尺寸t1所规定，通过减小倾角φ1和厚度尺寸t1而提高开口率。从而，优选将倾角φ1和厚度尺寸t1设定为尽可能小。

图14中示意地表示第二校正板82中叶片板83的部分。与上一个图同样地，箭头虚线表示飞行的蒸镀颗粒的轨迹。通过第一校正板81，朝向左斜上方通过的蒸镀颗粒的前进方向被限制在比角度β1更小的范围中。从而，第二校正板82中，与第一校正板81同样地，将朝向右斜上方的蒸镀颗粒的前进方向限制为角度β2。这样，能够通过第二校正板82的叶片板间隙85的蒸镀颗粒，被限制在更窄的范围中。

具体而言，设第二校正板82的叶片板间开口86的宽度为d2，叶片板83的Z轴方向的高度尺寸为m2时，tanβ2=d2/m2的关系式。从而，能够通过选择叶片板间开口86的宽度d2和叶片板83的高度尺寸m2来设定角度β2。其中，第二校正板82的情况下，由于开口率会提高，也优选倾角φ2和厚度尺寸t2设定为尽可能小。

这样，通过用第一校正板81和第二校正板82限制蒸镀颗粒的前进方向，如图15所示，能够将朝向掩模60的蒸镀颗粒的前进方向限制为任意的角度θ。

即，该图中，从射出口53a放射的蒸镀颗粒的左侧的射出角度ψ1能够被倾斜与其相逆（逆行）的第一校正板81限制为β1，右侧的射出角度ψ2能够被倾斜与其相逆的第二校正板82限制为β2。通常，β1和β2设定为相同的值。从而，第一校正板81和第二校正板82能够共用。

这样，通过在外观上，减小入射到掩模60的蒸镀颗粒的射出角度，如图16所示，能够减小最大的入射角度，从而能够有效地减少蒸镀扩散。

通过选择校正板81、82的设定条件，能够自由地调整外观上的射出角度，蒸镀扩散的减少幅度也能够与需要相应地调整。进而，还能够使第一校正板81限制的角度β1与第二校正板82限制的角度β2不同，因此能够在薄膜3的两侧分别调整蒸镀扩散的宽度。

由于被放射的蒸镀颗粒（蒸镀材料）的一部分附着在校正板81、82上，所以随着使用时间增加，校正板81、82上堆积的蒸镀材料有所增加。

对此，通过使叶片板83对于掩模60倾斜，即使蒸镀颗粒附着并堆积在校正板81、82上，也能够稳定地维持叶片板间开口86的宽度。

例如，如果使叶片板83不倾斜而是与掩模60平行配置（φ1、φ2=90°），或与掩模60垂直地配置（φ1、φ2=0°），则叶片板间隙85变得与叶片板间开口86一致，叶片板间开口86会立刻堵塞。与此相对，通过使叶片板83倾斜能够使叶片板间隙85对于叶片板间开口86更大，能够相应地较长使用。

此外，通过设置校正板81、82，能够减少附着在掩模60上的蒸镀材料，所以能够减少掩模60的更换次数。减少了蒸镀扩散，减少对象基板10上附着的不需要的蒸镀材料，也相应地使材料的使用效率提高。

掩模单元55中，为了支承第一校正板81和第二校正板82，分别对应地具备滑动装置92、支承部件93、控制它们的校正板控制装置94。这些部件也与校正板81、82一同起到蒸镀扩散的减少和材料使用效率提高的作用。

滑动装置92具有一对滑动机构92a、92a，这些滑动机构92a、92a在支架55a的Y轴方向上的两侧部分相对状地配设。支承部件93对各滑动机构92a的相对面一侧分别可旋转地支承。进而，这些支承部件93能够在彼此相对的状态下在Z轴方向和X轴方向上滑动位移，通过滑动装置92与校正板控制装置94的共同作用控制它们的动作。

校正板控制装置94是将这些滑动装置92和支承部件93电连接的控制装置。通过规定的输入单元对校正板控制装置94输入规定的数据，能够高精度地控制支承部件93的旋转和滑动位移的动作。

第一校正板81和第二校正板82上，在其各端框部84b的宽度方向的中央部分设置支承部84c，通过将这些支承部84c、84c安装在各支承部件93上，第一校正板81等被固定在支架55a上。这些支承部84c、84c能够从支承部件93取下，第一校正板81等能够根据需要从掩模单元55装卸。

由于各校正板81、82能够装卸，能够定期地回收堆积的蒸镀材料。

例如，如果蒸镀材料加热则会熔化或蒸发，所以通过加热处理能够容易地回收。然而，掩模（荫罩）60的情况下，其开口幅度、平面度等要求的尺寸精度较高，存在引起变形的可能性，不进行加热处理。与此相对，如果是校正板81、82，则由于不要求掩模60这样较高的尺寸精度，能够进行加热处理，能够简单地回收。从而，能够确保较高的材料的使用效率。

通过操作校正板控制装置94，能够使各校正板81、82旋转180°而翻转。换言之，能够使面对蒸镀源53一侧的叶片板83的面翻过来。即，校正板控制装置94、滑动装置92、支承部件93起到翻转装置的功能。通过使校正板81、82翻转，一个面上堆积了大量蒸镀颗粒的情况下，能够应用另一个面，能够减少校正板81、82的更换次数。其中，此时使倾斜相反的第一校正板81和第二校正板82双方一同翻转。

本实施方式的情况下，通过操作校正板控制装置94能够对各校正板81、82的Z轴方向的配置进行定位。此时，优选以从第一校正板81的1个叶片板间隙85出射的蒸镀颗粒，入射到第二校正板82的多个叶片板间隙85的方式定位。

具体而言，优选设定为从第一校正板81的1个叶片板间隙85出射的蒸镀颗粒，入射到第二校正板82的5个以上的叶片板间开口86。该情况下，设Z方向上第一校正板81与第二校正板82之间的距离为G1（参照图10），第二校正板82的叶片板间开口86的间距为p1（参照图14，p1=d1+m2×tanφ2+t2）时，设定为以下第一关系式成立即可。

第一关系式：G1×tanβ1/p1≥5

这样，能够通过第一校正板81和第二校正板82防止叶片板间开口86的间距产生干涉，使蒸镀颗粒的分布稳定，抑制预料之外的不均和偏向。

同样地，优选以从第二校正板82的1个叶片板间隙85出射的蒸镀颗粒入射到掩模60的多个开口K的方式定位。具体而言，优选设定为从第二校正板82的1个叶片板间隙85出射的蒸镀颗粒，入射到掩模60的5个以上的开口K。

该情况下，设Z方向上的第二校正板82和掩模60之间的距离为G2（参照图10），掩模60的开口K的间距为p2时（参照图9），设定为以下第二关系式成立即可。

第二关系式：G2×tanβ2/p2≥5

这样，能够通过第二校正板82的叶片板间开口86和掩模60的开口K，防止间距产生干涉，能够使蒸镀颗粒的分布更加稳定，进一步抑制预料之外的不均和偏向。

此外，通过操作校正板控制装置94，能够在使各校正板81、82自身倾斜的状态下支承。通过使校正板81、82自身倾斜，例如，在进行蒸镀处理的同时，能够对相对于掩模60的叶片板83的倾斜度进行微调，所以能够实现更实用的更高精度的蒸镀扩散的减少。

为了防止从蒸镀源53放射的蒸镀颗粒附着在多余的部分，在各滑动机构92a的相对面一侧的前方，以划分叶片板83面对的空间两侧的方式，设置有防护板91。通过防护板91的存在，确保只有通过校正板81、82的蒸镀颗粒到达掩模60。

其中，蒸镀装置50除了上述蒸镀装置50以外还能够考虑各种方式。例如，能够构成为不是基板10一侧移动，而是掩模单元55一侧移动。该情况下，优选叶片板83与掩模单元55一同移动。也能够适当调整射出口53a的数量和配置。进而，还能够使1个或多个射出口53a为在Y轴方向上延伸的缝隙形状的射出口。此外，射出口53a也可以在X轴方向上配置多个。

如图17所示，也能够使掩模单元55和基板支承装置52上下相反地配置，使蒸镀颗粒朝向下方放射。由于各部件等的结构和功能与本实施方式的蒸镀装置50相同，所以附加相同符号并省略说明。该情况下，对象基板10的支承变得容易，这一点是有利的。

（蒸镀方法）

图18中表示蒸镀方法的主要工序。例如，将用于红色（R）的发光层25R的掩模60安装在掩模单元55中，用张力保持装置58对掩模60水平地支承（步骤S11）。这样，使掩模60与蒸镀源53固定为规定的位置关系。第一校正板81和第二校正板82预先配置在规定位置。蒸镀源53中，设置有用于红色（R）的发光层25R的蒸镀材料。

接着，以使对象基板10的行方向与扫描方向平行的方式将对象基板10安装在基板支承装置52上被支承（步骤S12）。然后，使对象基板10与掩模60相对并进行垂直方向（Z轴方向）的位置对准，在对象基板10与掩模60之间设定规定的空隙H（位置对准工序，步骤S13）。

这样将对象基板10等设置在蒸镀装置50后使蒸镀装置50运转，跨对象基板10的显示区域11的整体区域对对象基板10扫描的同时进行蒸镀（蒸镀工序，步骤S14）。该蒸镀工序中，对象基板10以一定的扫描速度在扫描方向上移动。通过定位机构，对象基板10对于掩模60在水平方向上正确地定位。

其间，从蒸镀源53放射蒸镀颗粒，通过第一校正板81和第二校正板82调整为规定的外观上的放射角度的蒸镀颗粒通过掩模60的开口K在对象基板10上依次蒸镀，形成薄膜3。薄膜3的膜厚例如能够通过调整扫描速度和扫描次数而控制。蒸镀工序之后，在对象基板10中红色（R）的子像素2R、2R、……的区域形成条状的薄膜3（红色的发光层25R）。

如图19（a）所示，连续进行蒸镀处理时，校正板81、82上堆积的蒸镀材料（该图中用符号j表示）增加。于是，本实施方式的蒸镀装置50的情况下，如该图（b）所示，蒸镀材料j大量堆积时使第一校正板81和第二校正板82旋转180°而翻转。这样，能够使第一校正板81等的更换次数减半。其中，由于第一校正板81等的翻转，上述β1、β2的角度也变得相反。

蒸镀材料j在第一校正板81等的两面上大量堆积的情况下，将这些校正板81、82从蒸镀装置50取下，回收堆积的蒸镀材料j（回收工序、步骤S15）。

例如，通过对取下的校正板81、82在规定条件下加热使堆积的蒸镀材料j熔化或升华能够简单地回收蒸镀材料。回收后，将校正板81、82再次安装到蒸镀装置50，将蒸镀材料j再次设置在蒸镀源53即可。

形成红色（R）的发光层25R后，用与其相同的蒸镀方法，更换掩模60和蒸镀源53的材料的同时，形成绿色（G）和蓝色（B）的发光层25G、25B即可。其中，RGB的各颜色的子像素2R、2G、2B的排列均为相同间距时，例如，如果使掩模60在Y轴方向上偏移（移动）规定间距，则掩模60能够共用。

（变形例）

图20和图21中，表示了上述实施方式的蒸镀装置50等的变形例。本例的蒸镀装置50中，特别的不同点在于不具备滑动装置92和支承部件93等，叶片板83被框84可旋转地支承。以下，对于同样的结构，使用相同的符号并省略其说明，对于不同点详细说明。

本变形例中，支承部件93A被固定在支架55a上。第一校正板81和第二校正板82通过支承部件93A被支架55a可装卸地支承。

在各叶片板83的较长方向的各端部，在横截面方向的中央设置有旋转轴96。各叶片板83通过该旋转轴96被框84可旋转地支承。在框84上，设置有使这些叶片板83旋转位移的旋转装置97。旋转装置97与控制叶片板83的旋转角度和旋转时刻等的叶片板控制装置98电连接。叶片板控制装置98能够同步控制各叶片板83的位移量。然而，优选能够对各叶片板83分别独立地控制位移量。

从而，根据该蒸镀装置50，能够对第一校正板81和第二校正板82的各叶片板83的倾斜度根据需要调整，所以能够自由地调整外观上的射出角度。即使对于蒸镀扩散的允许级别不同的对象基板，仅改变设定就能够对应，因此通用性优良。对叶片板83分别独立控制位移量的情况下，例如，即使因叶片板83的成型精度的不均或蒸镀颗粒的堆积产生的影响，外观上的射出角度产生不均，也能够通过对叶片板83分别调整位移量而抑制该不均。

此外，该蒸镀装置50的情况下，由于能够使叶片板83旋转位移而使其倾斜方向变为反向，所以旋转装置97等实际上起到翻转装置的作用。

进而，在任意一个校正板81、82，如果设定为叶片板83的横截面长度比叶片板间开口86的间距大，则也能够起到开闭器的功能。

即，该情况下，如果使叶片板83旋转位移成为与掩模60大致平行，则能够除去叶片板间开口86，完全切断蒸镀颗粒的通过。这样，不再需要另外设置开闭器，因此能够使结构变得简单。

此外，也能够在对象基板10的扫描中，与不形成薄膜3的区域相应地部分地切断，所以还具有能够同时用作高性能开闭器的优点。

（实施例）

使用上述蒸镀装置50、新蒸镀方法，形成发光层25R、25G、25B。

使用总厚为50μm、尺寸为200mm（X轴方向）×600mm（Y轴方向）的掩模60。掩模60的材料是低膨胀钢材料（Fe中含有36%Ni的合金）。开口K的宽度（Y轴方向）为90μm，长度（X轴方向）为150mm。开口K的Y轴方向的间距为450μm。开口K的数量为751个。设置了开口K的区域的外周，用低膨胀钢材料制造的框84等遮蔽。

使第一校正板81和第二校正板82的尺寸均为190mm（X轴方向）×590mm（Y轴方向）。各叶片板83的Z方向的高度尺寸（m1、m2）为10mm，Y轴方向的厚度尺寸（t1、t2）为0.2mm。使倾斜角度（φ1、φ2）相对于蒸镀轴线L1分别反向地为10°。叶片板间开口86分别形成129个，使各叶片板间开口86的宽度尺寸（d1、d2）为1mm。这样，将这些校正板81、82的β1和β2设定为大约5.7°。

使相对基板10与掩模60之间的空隙H为500μm。使蒸镀源53与第一校正板81之间的距离为30mm，掩模60与第二校正板82之间的距离（G2）为50mm，第二校正板82与第一校正板81之间的距离（G1）为90mm。

使各发光区域16R、16G、16B的尺寸为300μm（X轴方向）×70μm（Y轴方向），其X轴方向的间距为450μm，Y轴方向的间距为150μm。

各颜色的发光层25R、25G、25B的材料使用掺杂物源材料和掺杂物材料，使它们的蒸镀速度为，红色（R）为5.0nm/s和0.53nm/s，绿色（G）为5.0nm/s和0.67nm/s，蓝色（B）为5.0nm/s和0.67nm/s。在蒸镀工序中，进行一次一个往复的扫描。从射出口放射的蒸镀颗粒的最大射出角度（ψ1、ψ2）为大约60°。

结果，能够形成蒸镀扩散的宽度分别为大约52μm的发光层25R、25G、25B。

即，如图15所示，从蒸镀源53放射的蒸镀颗粒，在第一校正板81被限制前进方向，相对于蒸镀轴线L1，只有通过β1的角度5.7°和φ1（叶片板83的倾角）的角度10°的范围内的蒸镀颗粒通过第一校正板81。然后，在第二校正板82进一步被限制前进方向，相对于蒸镀轴线，只有通过β1的角度5.7°和β2的角度5.7°的范围内的蒸镀颗粒通过第二校正板82。

这样，本实施例的情况下，从射出口扩散到射出角度60°的范围内放射的蒸镀颗粒，在外观上到达掩模60时射出角度被限制为5.7°。结果，能够将对象基板10上蒸镀的蒸镀颗粒的入射角度限制为5.7°以下，能够形成减少了蒸镀扩散、高品质的发光层25R、25G、25B。

如以上说明，根据本发明，能够通过实用的方法有效地减少蒸镀扩散，所以即使是大型尺寸也能够用批量生产工艺实现高品质的有机EL显示器的制造。此外，由于能够减少蒸镀扩散，还能够将像素的发光区域设计得更大。这样，能够使电流密度降低而抑制有机EL元件的劣化，因此能够实现发光寿命特性优良、可靠性较高的有机EL显示器。

其中，本发明的蒸镀装置50等不限于上述实施方式，也包含除此以外的各种结构。

上述实施方式中，蒸镀装置50的蒸镀校正部件为2个，但也可以为3个。例如，能够使实施方式的第一校正板81和第二校正板82由2层构成。这样，通过蒸镀源53一侧的下层的第一校正板81等，在一定程度上限制外观上（看起来）的射出角度，通过上层的第一校正板81等进行微调。

也可以使蒸镀校正部件的全部或一部分固定在掩模单元55上。还可以使叶片板83被框84可摇动地支承。滑动装置不是必需的。蒸镀校正部件的翻转也可以手动进行。

符号说明

3     薄膜

10    基板

50    蒸镀装置

52    基板支承装置

53    蒸镀源

53a   射出口

55    掩模单元

56    移动装置

60    掩模（荫罩，蒸镀掩模）

81    第一校正板（蒸镀校正部件）

82    第二校正板（蒸镀校正部件）

83    叶片板

84    框

85    叶片板间隙

86    叶片板间开口（开口）

92    滑动装置

93    支承部件

94    校正板控制装置（控制装置）

97    旋转装置

98    叶片板控制装置（控制装置）

K     蒸镀掩模的开口

Claims (11)

1.一种蒸镀装置，其特征在于：

该蒸镀装置在基板上按规定的图案形成薄膜，

所述蒸镀装置包括：

蒸镀掩模；

在所述蒸镀掩模一侧具有射出口，从该射出口放射形成所述薄膜的蒸镀颗粒的蒸镀源；和

在所述蒸镀掩模与所述蒸镀源之间配置的2个以上的蒸镀校正部件，

所述蒸镀校正部件分别具有：

与所述蒸镀掩模大致平行地配置的多个叶片板；和

支承所述多个叶片板的框，

各所述叶片板分别在相对于所述蒸镀掩模倾斜的状态下，以从与所述蒸镀掩模正交的方向来看、与相邻的叶片板之间隔着开口相互平行地延伸的方式配置。

2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括：

包含所述蒸镀掩模、所述蒸镀源和所述蒸镀校正部件，且固定它们的相对位置关系的掩模单元；

支承所述基板的基板支承装置；和

在所述基板与所述蒸镀掩模之间设置有一定空隙的状态下，使所述掩模单元和所述基板中的至少一个沿着规定的扫描方向相对地移动的移动装置，

所述蒸镀掩模具有多个条状的开口，以这些开口的延伸方向与所述扫描方向一致的方式配置所述蒸镀掩模，

各所述蒸镀校正部件以所述叶片板的延伸方向与所述扫描方向一致的方式配置，

所述蒸镀校正部件各自的所述叶片板，从所述扫描方向来看以相同的角度倾斜。

3.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀校正部件包括各自的所述叶片板反向倾斜的2个蒸镀校正部件。

4.如权利要求2至3中任意一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

还包括使至少任一个所述蒸镀校正部件翻转的翻转装置。

5.如权利要求2至4中任意一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

还包括使至少任一个所述蒸镀校正部件在与所述蒸镀掩模正交的方向上滑动位移的滑动装置。

6.如权利要求2至5中任意一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

至少任一个所述蒸镀校正部件，能够从所述扫描方向来看倾斜地设置，

具备对能够倾斜的所述蒸镀校正部件的倾斜度进行调整的控制装置。

7.如权利要求2至5中任意一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

至少任一个所述蒸镀校正部件上的所述叶片板被所述框以能够旋转的方式支承，

所述蒸镀装置还包括：

使能够旋转的所述叶片板旋转位移的旋转装置；和

控制装置，其与所述旋转装置共同作用来调节能够旋转的所述叶片板的倾斜度。

8.如权利要求2至7中任意一项所述的蒸镀装置，

至少任一个所述蒸镀校正部件以能够取下的方式设置。

9.一种蒸镀方法，其特征在于：

通过使从蒸镀源放射的蒸镀颗粒通过在蒸镀掩模形成的多个开口而进行蒸镀，在基板上形成规定的图案的薄膜，

在所述蒸镀源与所述蒸镀掩模之间，配置仅允许分别朝向不同的规定方向的所述蒸镀颗粒通过的至少2个以上的蒸镀校正部件，在通过这些蒸镀校正部件限制所述蒸镀颗粒的前进方向的同时进行蒸镀。

10.如权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于：

使用权利要求2至7中任意一项所述的蒸镀装置，

所述蒸镀方法包括：

在使所述基板被所述基板支承装置支承，所述基板与所述蒸镀掩模之间设置有所述空隙的状态下，使所述掩模单元与所述基板相对的位置对准工序；和

在通过所述移动装置使所述掩模单元和所述基板中的至少一个沿着规定的扫描方向相对地移动的同时依次进行蒸镀，形成所述薄膜的蒸镀工序。

11.如权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于：

使用权利要求8所述的蒸镀装置，

所述蒸镀方法包括：

在使所述基板被所述基板支承装置支承，所述基板与所述蒸镀掩模之间设置有所述空隙的状态下，使所述掩模单元与所述基板相对的位置对准工序；

在通过所述移动装置使所述掩模单元和所述基板中的至少一个沿着规定的扫描方向相对地移动的同时依次进行蒸镀，形成所述薄膜的蒸镀工序；和

将所述蒸镀校正部件从所述蒸镀装置取下，回收该蒸镀校正部件上附着的蒸镀颗粒的回收工序。

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