JP2014065936A - 蒸着装置並びに蒸着方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、低コストで軽量なマスクフレームとなり、蒸着マスクの交換などが極めて容易となると共に、また温度上昇も抑制でき温度上昇による蒸着パターンズレがない高精度な蒸着が行える蒸着装置を提供すること。
【解決手段】蒸発粒子の飛散方向を制限する飛散制限部を備えたマスクホルダー6及び蒸発源1に対して、このマスクホルダー6に設けた蒸着マスク2との離間状態を保持したまま基板4を相対移動して、蒸着マスク2より広い範囲に蒸着する装置であって、マスクホルダー6を、蒸着マスク2を付設するマスクフレーム6Aと、前記飛散制限部及び温度制御機構9を備えたマスクフレームホルダー6Bとに分割した構成として、このマスクフレームホルダー6Bに接触配設させたマスクフレーム6Aを離脱させて取り外し自在に構成した蒸着装置。
【選択図】図1
【解決手段】蒸発粒子の飛散方向を制限する飛散制限部を備えたマスクホルダー6及び蒸発源1に対して、このマスクホルダー6に設けた蒸着マスク2との離間状態を保持したまま基板4を相対移動して、蒸着マスク2より広い範囲に蒸着する装置であって、マスクホルダー6を、蒸着マスク2を付設するマスクフレーム6Aと、前記飛散制限部及び温度制御機構9を備えたマスクフレームホルダー6Bとに分割した構成として、このマスクフレームホルダー6Bに接触配設させたマスクフレーム6Aを離脱させて取り外し自在に構成した蒸着装置。
【選択図】図1
Description
本発明は、蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を基板上に形成させる蒸着装置並びに蒸着方法に関するものである。
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた有機EL表示装置が、CRTやLCDに替る表示装置として注目されている。
この有機EL表示装置は、基板に電極層と複数の有機発光層を積層形成し、更に封止層を被覆形成した構成であり、自発光で、LCDに比べて高速応答性に優れ、高視野角及び高コントラストを実現できるものである。
この有機EL表示装置は、基板に電極層と複数の有機発光層を積層形成し、更に封止層を被覆形成した構成であり、自発光で、LCDに比べて高速応答性に優れ、高視野角及び高コントラストを実現できるものである。
このような有機ELデバイスは、一般に真空蒸着法により製造されており、真空チャンバー内で基板と蒸着マスクをアライメントして密着させ蒸着を行い、この蒸着マスクにより所望の成膜パターンの蒸着膜を基板に形成している。
また、このような有機ELデバイスの製造においては、基板の大型化に伴い所望の成膜パターンを得るための蒸着マスクも大型化するが、この大型化のためには蒸着マスクにテンションをかけた状態でマスクフレームに溶接固定して製作しなければならないため、大型の蒸着マスクの製造は容易でなく、またこのテンションが十分でないとマスクの大型化に伴い、マスク中心に歪みが生じ蒸着マスクと基板の密着度が低下してしまうことや、これらを考慮するためにマスクフレームが大型となり、肉厚化や重量の増大が顕著となる。
このように、基板サイズの大型化に伴って蒸着マスクの大型化が求められているが、高精細なマスクの大型化は困難で、また製作できても前記歪みの問題によって実用上様々な問題を生じている。
また、例えば、特表2010−511784号などに示されるように、基板と蒸着マスクとを離間配設し、蒸発源と指向性を持った蒸発粒子を発生させる開口部により有機発光層を高精度に成膜させる方法もあるが、前記蒸発源と指向性を発生させる前記開口部が一体構造をしており、開口部から蒸発粒子を発生させるには前記一体構造を高温に加熱する構成となっているため、蒸発源からの輻射熱を蒸着マスクで受けることになり、蒸着マスクの熱膨張による成膜パターンの位置精度の低下を防ぐことができない。
また、特開2010−270396号には、蒸着源と蒸着マスクとの間の空間を、複数の蒸着空間に区画する構成で、複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーを備えた薄膜蒸着装置が提案されている。この蒸着装置における遮断壁アセンブリーは高温の蒸着源に向かっており、最大で100℃以上に温度が上昇するため、上昇した遮断壁アセンブリーの温度が蒸着マスクに伝導されないようにするために、遮断壁アセンブリーと蒸着マスクを分離している。しかし、蒸着マスクは高温の蒸着源に面しつづけているので、常に放射熱を受け、温度が上昇する。蒸着マスクの温度上昇は、蒸着マスクを引張状態に保持することで成膜パターンずれを抑制することができるが、蒸着マスクの温度上昇に伴い、マスクフレームも温度上昇することで、マスクフレームの熱膨張による成膜パターンずれが発生してしまう問題点がある。
発明者は、WO2012/108426号において、蒸発源から蒸発した成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する飛散制限部を有するマスクホルダーに、蒸着マスクを付設し、マスクホルダー若しくは蒸着マスクの少なくとも一方に蒸着マスクの温度を保持する温度制御機構を備えることで、マスクフレームの温度上昇を抑制し、マスクフレームの熱膨張による成膜パターンずれの発生を抑制できる蒸着装置を提案したが、マスクホルダーは内部の温度制御用(冷却用)の媒体路加工に時間を要し、製作が困難である。さらに、量産製造装置における蒸着マスクは、交換、洗浄時及び予備分を含めて複数枚用意する必要があるため、蒸着マスクを付設するマスクホルダーも同等の数を用意する必要があり、製作に時間を要し、高コストになるという問題点がある。
本発明は、このような様々な問題を解決し、基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、離間状態のまま相対移動させることで構造も簡易で効率良くスピーディーに蒸着でき、また、離間状態のままでも制限用開口部を設けた飛散制限部を備えたマスクホルダーを蒸発源と蒸着マスクとの間に設けることで、蒸発粒子の飛散方向を制限して隣接する若しくは離れた位置の蒸発口部からの蒸発粒子を通過させず成膜パターンの重なりを防止すると共に、この制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーに、蒸着マスクを付設したマスクフレームを接触させて配設した構成とすることで、温度制御部を有するマスクフレームホルダーの冷却効果をマスクフレームに伝導させることができ、マスクフレームの温度を一定に保持することが可能になり、例えば内部に媒体路を有するマスクフレームホルダーを複数個製作する必要がなくなるので、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、低コストで軽量なマスクフレームの温度上昇による蒸着パターンズレがない高精度な蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法を提供することを目的としている。
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
蒸発源1から気化した成膜材料を、蒸着マスク2のマスク開口部3を介して基板4上に堆積して、この蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成されるように構成し、前記蒸発源1とこの蒸発源1に対向状態に配設する前記基板4との間に、前記蒸発源1から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部5を設けた飛散制限部を備えたマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を付設し、このマスクホルダー6に蒸着マスク2の温度を保持する温度制御機構9を備え、前記基板4を、前記蒸着マスク2を付設した前記マスクホルダー6及び前記蒸発源1に対して、前記蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成して、この相対移動により前記蒸着マスク2より広い範囲にこの蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成されるように構成した蒸着装置であって、前記マスクホルダー6を、前記蒸着マスク2を付設するマスクフレーム6Aと、前記飛散制限部を備えたマスクフレームホルダー6Bとに分割した構成として、このマスクフレームホルダー6Bに接触配設させた前記マスクフレーム6Aを離脱させて取り外し自在に構成し、前記マスクフレームホルダー6Bに前記温度制御機構9を設けた構成としたことを特徴とする蒸着装置に係るものである。
また、減圧雰囲気とする成膜室7内に、前記成膜材料を収めた前記蒸発源1と、この蒸発源1の蒸発口部8から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子が通過する前記マスク開口部3を設けた前記蒸着マスク2とを配設し、前記蒸発口部8を複数並設し、前記蒸着マスク2と離間状態に位置合わせする基板4に、前記複数の蒸発口部8から飛散する蒸発粒子が前記マスク開口部3を通過して堆積し、蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が前記基板4に形成されるように構成し、この蒸発源1とこの蒸発源1と対向状態に配設する前記基板4との間に、隣接する若しくは離れた位置の前記蒸発口部8からの蒸発粒子を通過させない前記制限用開口部5を設けた前記飛散制限部を構成する前記マスクフレームホルダー6Bを配設し、このマスクフレームホルダー6Bに、前記基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を接合させて付設したマスクフレーム6Aを接触させて配設し、前記マスクフレームホルダー6Bに、前記マスクフレーム6Aに付設した蒸着マスク2の温度上昇を抑制し温度を一定に保持する前記温度制御機構9を設け、前記基板4を、前記蒸着マスク2を付設した前記マスクフレーム6A及び前記マスクフレームホルダー6B及び前記蒸発源1に対してこの蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動させて、この相対移動方向に前記蒸着マスク2の前記成膜パターンの蒸着膜を連続させて前記基板4より小さい前記蒸着マスク2でも広範囲に蒸着膜が形成されるように構成したことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記基板4の相対移動方向に対して直交する横方向に前記蒸発源1の前記蒸発口部8を複数並設すると共に、前記マスクホルダー6の前記マスクフレームホルダー6Bに、前記制限用開口部5を前記横方向に沿って複数並設して前記飛散制限部を構成し、前記各蒸発口部8から蒸発する蒸発粒子が、対向する前記制限用開口部5のみを通過し更にこの制限用開口部5と連通するフレーム開口部18を覆う前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3を通過して前記基板4上にこのマスク開口部3により定められた前記成膜パターンの蒸着膜が形成され、隣り合う若しくは離れた位置の前記蒸発口部8からの蒸発粒子は付着捕捉されるようにして、前記飛散制限部により前記蒸発粒子の飛散方向が制限されるように構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレームホルダー6Bは、前記飛散制限部の前記制限用開口部5の前記蒸発源1側縁部に、前記蒸発粒子の付着捕捉面10を形成した構成としたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aに、張力を付与して前記蒸着マスク2を張設したことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aに、前記基板4の相対移動方向に張力を付与して前記蒸着マスク2を張設したことを特徴とする請求項5記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aは、前記温度制御機構9を設けた前記マスクフレームホルダー6Bの前記基板4側端部に、離脱自在にしてマスクフレーム移動手段より取り外し自在に接触配設し、前記マスクフレームホルダー6Bに設けた前記温度制御機構9により前記マスクフレーム6Aに張設した前記蒸着マスク2の温度を保持する構成とすると共に、この温度制御機構9を備えていない前記マスクフレーム6Aを、この温度制御機構9を備えた前記マスクフレームホルダー6Bから取り外し自在に構成したことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記蒸着膜を基板4上に形成する成膜室7と、前記基板4の搬送方向と直交する横方向に隣接して配設した交換室11とを設けて、この成膜室7と交換室11間で前記マスクフレーム6Aを往来させ、このマスクフレーム6Aに付設した前記蒸着マスク2を前記交換室11で交換自在となるように構成したことを特徴とする請求項7記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aは、前記成膜室7と前記交換室11とを往来移動させるための前記マスクフレーム移動手段が保持するための移動手段用凹部13を、前記基板4の搬送方向の前後に設けたことを特徴とする請求項8記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記蒸着マスク2は、前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数枚に分割した構成とし、この分割した蒸着マスク2を前記マスクフレーム6Aに前記横方向に並設状態に付設したことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記蒸発源1の前記蒸発口部8を前記基板4の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この複数の蒸発口部8毎に夫々対向状態に前記制限用開口部5を設けた前記飛散制限部を備えた前記マスクホルダー6を、前記飛散制限部及び前記温度制御機構9を備えた前記マスクフレームホルダー6Bと、前記温度制御機構9を備えない前記マスクフレーム6Aとに分断した構成として、前記マスクフレーム6Aの前記制限用開口部5と連通する若しくは前記制限用開口部5の一部となるフレーム開口部18を覆うように前記蒸着マスク2を付設した前記マスクフレーム6Aを、前記成膜室7内に固定した前記マスクフレームホルダー6Bの前記基板4側端部に、取り外し自在にして前記フレーム開口部18が前記制限用開口部5と連通するように接触配設した構成としたことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aのフレーム開口部18間に、前記基板4側に延在する方向に突出するリブ部14を設け、このリブ部14の前記基板4側先端面と前記マスクフレーム6Aの周辺部面に、前記制限用開口部5と連通するフレーム開口部18を覆うように配設する前記蒸着マスク2を支承するマスク取付支承面15を設けたことを特徴とする請求項11記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aの前記リブ部14間に形成された前記フレーム開口部18と前記飛散制限部の制限用開口部5が連通するように構成し、この制限用開口部5と連通した開口部を形成する前記リブ部14の内側の開口部形成面積より、このリブ部14の前記基板4側先端面に設けられた前記マスク取付支承面15の面積の方が小さい形状となるように前記リブ部14を形成したことを特徴とする請求項12記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記温度制御機構9は、前記マスクフレームホルダー6Bの周辺部若しくは前記制限用開口部5間に、熱交換して温度制御される媒体を流通させる媒体路16を設けた構成としたことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記マスクフレーム6Aと前記マスクフレームホルダー6Bとの間に、前記マスクフレーム6A及び前記マスクフレームホルダー6Bより熱伝導率が高い部材で形成した熱伝導体17を介在して接触配設したことを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記熱伝導体17は、銅、アルミニウム、銀、インジウム、モリブデン、タングステン、炭素、窒化アルミニウムの少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項15記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記成膜材料を、有機材料としたことを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項に記載の蒸着装置に係るものである。
また、前記請求項1〜17のいずれか1項に記載の蒸着装置を用いて、前記基板4上に前記蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜を形成することを特徴とする蒸着方法に係るものである。
本発明は上述のように構成したから、基板の大型化に伴って蒸着マスクを同等に大型化せず基板より小形の蒸着マスクでも、基板を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、また、離間状態のまま相対移動させることで構造も簡易で効率良くスピーディーに蒸着でき、また、離間状態のままでも制限用開口部を設けた飛散制限部を備えたマスクホルダーを蒸発源と蒸着マスクとの間に設けることで、蒸発粒子の飛散方向を制限して隣接する若しくは離れた位置の蒸発口部からの蒸発粒子を通過させず成膜パターンの重なりを防止すると共に、この制限用開口部を設けた飛散制限部を有するマスクホルダーに蒸着マスクを接触させて付設した構成とし、このマスクホルダーに蒸着マスクの温度を保持する温度制御機構を設けることで、このマスクホルダーは飛散制限部としてだけでなく蒸発源からの輻射熱の入射を抑制し蒸着マスク及びマスクホルダーの温度上昇を抑制する温度保持機能を発揮して、蒸着マスク及びマスクホルダーの温度を一定に保持させることができ、これにより蒸着マスクの熱による歪みを防止し、さらにこのマスクホルダーを、蒸着マスクを付設するマスクフレームと、飛散制限部及び温度制御機構を備えたマスクフレームホルダーとに分割した構成として、この温度制御機構を備えたマスクフレームホルダーに、マスクフレームを接触して配設し、交換時や洗浄時にこのマスクフレームホルダーからマスクフレームを離脱させて取り外し自在に構成したことで、低コストで軽量かつ交換が容易なマスクフレームを有するマスクホルダーとなり、基板と蒸着マスクとを離間状態で相対移動させる構成でありながら、高精度の蒸着が行える蒸着装置並びに蒸着方法となる。
特に有機ELデバイスの製造にあたり、基板の大型化に対応でき、有機発光層の蒸着も精度良く行え、マスク接触による基板、蒸着マスク、蒸着膜の損傷も防止でき、基板より小さな蒸着マスクにより高精度の蒸着が実現できる有機ELデバイス製造用の蒸着装置並びに蒸着方法となる。
また、請求項2,3記載の発明においては、一層本発明の作用・効果が良好に発揮され、一層実用性に優れた蒸着装置となる。
また、請求項4記載の発明においては、飛散制限部の蒸発源側に蒸発粒子の付着捕捉面を形成することで、飛散制限部の蒸発源側面に付着する蒸発粒子を低減することができ、長時間の連続蒸着が可能になる。
また、請求項5記載の発明においては、蒸着マスクに熱応力以上の張力を付与することで、蒸着マスクが温度上昇しても、蒸着マスクが撓むことなく、所望の成膜パターンを蒸着できる。
また、請求項6記載の発明においては、蒸着マスクに対して基板の相対移動方向に張力を付与するので、基板の相対移動方向と直交する横方向に、蒸着マスクの撓みによるマスク開口部の歪みがなくなり、成膜誤差を抑制できる。
また、請求項7記載の発明においては、マスクホルダーをマスクフレームとマスクフレームホルダーに分割して配設し、マスクフレームホルダーに温度制御機構を設け、この温度制御機構を設けていないマスクフレームをこれに接触配設して取り出し自在とすることで、蒸着マスクの温度上昇を抑制することができ、一方で、マスクフレームの構造を簡素化できるので、蒸着マスクのマスクフレームへの張設が容易になるなど一層本発明の作用・効果が良好に発揮され、極めて実用性に優れた蒸着装置となる。
また、請求項8記載の発明においては、蒸着マスクが付設されたマスクフレームが、成膜室と交換室とを往来できるようにすることで蒸着マスクの投入、取出しが容易となり、マスクフレームの交換に伴う成膜工程の停止時間が短くなり、蒸着装置の稼動率が向上する。
また、請求項9記載の発明においては、マスクフレームに移動手段用凹部を備えたことで、成膜室と交換室との移動するための(移動手段による)マスクフレームの保持が容易となる。
また、請求項10記載の発明においては、複数枚に分割した小さな蒸着マスクでも大型の基板に成膜できるので、蒸着マスクの作成が容易となる。
また、請求項11記載の発明においては、温度制御機構を備えたマスクフレームホルダーの基板側の端部に、マスクフレームを接触させて配設させることで、飛散制限機能を果たすと共にマスクフレームの熱がマスクフレームホルダーに伝導し、マスクフレームの温度上昇が抑制され、マスクフレームの熱膨張による成膜パターンずれを抑制することができる構成を、一層簡易な構成で容易に実現できる極めて実用性に優れた蒸着装置となる。
また、請求項12記載の発明においては、マスクフレームに設けたリブ部によって、蒸着マスクの張力によるマスクフレームの変形が防止できると共に、蒸着マスクの張力が維持でき、かつ、マスク取付支承面を設けたことで、蒸着マスクのマスクフレームへの支承・接合が強固に行える。
また、請求項13記載の発明においては、マスクフレームからマスクフレームホルダーへ効率的に熱が移動し、マスクフレームの温度上昇が一層抑制される。
また、請求項14記載の発明においては、マスクフレームホルダーに温度制御機構として媒体路を設けることで、マスクフレームホルダーの温度制御が極めて良好にして容易に実現できる。
また、請求項15記載の発明においては、マスクフレームの熱がマスクフレームホルダーへ伝導しやすくなり、一層マスクフレームの温度上昇を抑制することができる。
また、請求項16記載の発明においては、マスクフレームの熱が一層マスクフレームホルダーへ伝導しやすくなる。
また、請求項17記載の発明においては、有機材料の蒸発装置となり、一層実用性に優れる。
また、請求項18記載の発明においては、前記作用・効果を発揮する優れた蒸着方法となる。
好適と考える本発明の実施形態を、図面に基づいて本発明の作用を示して簡単に説明する。
図1において、蒸発源1から気化した成膜材料は、マスクホルダー6の制限用開口部5を通過、具体的には、マスクフレームホルダー6Bの飛散制限部の制限用開口部5及びマスクフレーム6Aのフレーム開口部18を通過すると共に、このマスクフレーム6Aに付設した蒸着マスク2のマスク開口部3を介して基板4上に堆積して、この蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成される。この際、基板4と蒸着マスク2とを離間状態に配設し、この基板4を、前記蒸着マスク2が付設されたマスクフレーム6Aとマスクフレームホルダー6Bと蒸発源1に対して、蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成して、この基板4を相対移動させることにより、蒸着マスク2自体よりも広い範囲にこの蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成される。また、この蒸着マスク2と蒸発源1との間に飛散制限部を備えたマスクホルダー6を設けて、具体的には蒸発源1から蒸発した成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部5を有する飛散制限部を備えたマスクフレームホルダー6Bを設けて、隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8から射出された蒸発粒子を蒸着マスク2まで到達させず、蒸着マスク2と基板4とが離間状態にあっても成膜パターンの重なりを防止している。
また更に、この飛散制限部を構成するマスクフレームホルダー6Bに、蒸着マスク2を付設したマスクフレーム6Aを接触させて配設した構成とし、そしてマスクフレームホルダー6Bには温度制御機構9を設けたから、蒸発源1からの輻射熱を受けてもマスクフレーム6Aの温度を一定に保つことができる。即ち、接触して配設されたマスクフレーム6Aの熱がマスクフレームホルダー6Bへ伝導し、マスクフレーム6Aの温度上昇を抑制できることから、マスクフレーム6Aが熱膨張してマスク開口部3の位置がずれて成膜パターンがずれることを防ぐことができる。
更に、マスクフレーム6Aと蒸着マスク2は、外周部で接合され、更にフレーム開口部18間にも設けたマスク取付支承面15で接合若しくは接触する構成とすれば、蒸着マスク2の温度上昇は更に抑制できる。
従って、この飛散制限部を有するマスクフレームホルダー6Bは、蒸発粒子の飛散方向の制限機能と同時に温度保持機能をも果たし、マスクフレーム6A及び蒸着マスク2の温度上昇を抑制でき、熱による蒸着マスク2の歪みも生じにくいこととなる。
また、マスクホルダー6を、このように温度制御機構9を備えたマスクフレーム6Aと、蒸着マスク2を付設するマスクフレームホルダー6Bとに分割した構成とし、マスクフレームホルダー6Bからマスクフレーム6Aを離脱させて取り外し自在に構成したから、頻繁に移動しかつ大量に製作するマスクフレームが、軽量で低コストに製作できる。
よって、基板4を、蒸着マスク2、この蒸着マスク2を付設したマスクフレーム6A、温度制御機構9及び飛散制限部を備えたマスクフレームホルダー6B及び蒸発源1に対して、この蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動させることで、この相対移動方向に蒸着マスク2による成膜パターンの蒸着膜を連続させて基板4より小さい蒸着マスク2でも広範囲に蒸着膜が形成され、且つ隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8からの蒸発粒子の入射による成膜パターンの重なりも、熱による歪みなども十分に抑制され、安価で高精度の蒸着が行える蒸着装置となる。
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
本実施例は、蒸発源1から気化した成膜材料(例えば、有機ELデバイス製造のための有機材料)を、蒸着マスク2のマスク開口部3を介して基板4上に堆積して、この蒸着マスク2により定められた成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成されるように構成した蒸着装置において、前記蒸発源1から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部5を設けた飛散制限部を備えたマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を付設し、このマスクホルダー6に蒸着マスク2の温度を保持する温度制御機構9を備え、前記基板4を、前記蒸着マスク2を付設した前記マスクホルダー6及び前記蒸発源1に対して、前記蒸着マスク2との離間状態を保持したまま相対移動自在に構成して、この相対移動により前記蒸着マスク2より広い範囲にこの蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜が基板4上に形成されるように構成している。
また、本実施例では、前記マスクホルダー6を、前記蒸着マスク2を付設するマスクフレーム6Aと、前記飛散制限部を備えたマスクフレームホルダー6Bとに分割した構成として、このマスクフレームホルダー6Bに接触配設させた前記マスクフレーム6Aを離脱させて取り外し自在に構成し、前記マスクフレームホルダー6Bに前記温度制御機構9を設けた構成としている。
即ち、本実施例では、この蒸着マスク2と蒸発源1との間に、横方向に複数並設した蒸発源1の蒸発口部8から蒸発した成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部5を前記蒸発口部8に対応するように横方向に複数並設して構成した前記飛散制限部を備えたマスクフレームホルダー6Bを設け、マスク開口部3へ入射する蒸発粒子の入射角度の大きい蒸発粒子を制限することで、各部材の熱膨張や搬送時のずれなどによる成膜パターンがずれた場合のずれ量が少なくなるように構成している。
また更に、この飛散制限部を備えたマスクフレームホルダー6Bに、蒸着マスク2を接合させて付設したマスクフレーム6Aを接触させて配設し、またこのマスクフレームホルダー6Bに温度制御部9Aを設けることで、マスクフレーム6Aに温度制御機構9を備えなくても、マスクフレーム6Aの熱がマスクフレームホルダー6Bへ伝導するように構成することで、このマスクフレームホルダー6Bは蒸発粒子の飛散方向の制限機能と同時に、マスクフレーム6Aの冷却機能をも果たすようにしている。
更に説明すると、具体的には、減圧雰囲気とする成膜室7内(例えば真空チャンバー7内)に、前記成膜材料(例えば有機ELデバイスの製造にあたっての有機材料)を収めた前記蒸発源1と、この蒸発源1の複数並設した蒸発口部8から蒸発する前記成膜材料の蒸発粒子が通過するマスク開口部3を設けた前記蒸着マスク2とを配設し、この蒸着マスク2と離間状態に位置合わせする基板4に、前記複数の蒸発口部8から飛散する蒸発粒子が前記マスク開口部3を通過して堆積し、蒸着マスク2により定められる成膜パターンの蒸着膜がこの基板4上に形成されるように構成し、この基板4と蒸発源1との間に隣り合う若しくは離れた位置の蒸発口部8からの蒸発粒子を通過させないようにする制限用開口部5を前記蒸発口部8と対向するように複数並設した飛散制限部を構成するマスクフレームホルダー6Bを配設し、このマスクフレームホルダー6Bに、基板4と離間状態に配設する前記蒸着マスク2を接合させて付設したマスクフレーム6Aを接触させ配設し、このマスクフレームホルダー6Bに蒸発源1からの熱を吸収し、マスクフレーム6Aの温度上昇を抑制する温度制御機構9を設けている。
即ち、前記基板4の相対移動方向に対して直交する横方向に前記蒸発源1の前記蒸発口部8を複数並設すると共に、前記マスクホルダー6の前記マスクフレームホルダー6Bに、前記蒸発口部8と対向するように前記制限用開口部5を前記横方向に複数並設して前記飛散制限部を構成し、前記各蒸発口部8から蒸発する蒸発粒子が、対向する前記制限用開口部5のみを通過し更にこの制限用開口部5と連通するフレーム開口部18を覆う前記蒸着マスク2の前記マスク開口部3を通過して、前記基板4上にこのマスク開口部3により定められた前記成膜パターンの蒸着膜が形成され、隣り合う若しくは離れた位置の前記蒸発口部8からの蒸発粒子は付着捕捉されるようにして、前記飛散制限部により前記蒸発粒子の飛散方向が制限されるように構成している。
また、前記マスクフレーム6Aを、前記温度制御機構9を設けた前記マスクフレームホルダー6Bの前記基板4側端部に、離脱自在にしてマスクフレーム移動手段(不図示)により取り外し自在に接触配設し、前記マスクフレームホルダー6Bに設けた前記温度制御機構9により前記マスクフレーム6Aに張設した前記蒸着マスク2の温度を保持する構成とすると共に、この温度制御機構9を備えていない前記マスクフレーム6Aを、この温度制御機構9を備えた前記マスクフレームホルダー6Bから取り外し自在に構成している。
また、前記蒸着膜を基板4上に形成する成膜室7と、前記基板4の搬送方向と直交する横方向に隣接して配設した交換室11とを設けて、この成膜室7と交換室11間で前記マスクフレーム6Aを往来させ、このマスクフレーム6Aに付設した前記蒸着マスク2を前記交換室11で交換自在となるように構成している。
更に、マスクフレームホルダー6Bは、このようにマスクフレーム6Aを配設する台座の役割も果たし、マスクフレーム6Aとマスクフレームホルダー6Bとの外周部同士及びフレーム開口部18間に設けたリブ部14と制限用開口部5間とが互いに接触して保持されているため、熱伝導も一層良好となり、また基板4の搬送方向と直交する横方向に長いマスクフレーム6Aが撓むことを防ぐことができる。
また、本実施例では、前記マスクフレーム6Aに、前記基板4の相対移動方向に張力を付与して前記蒸着マスク2を張設している。
またこの蒸着マスク2は、このように蒸発源1の蒸発口部8と対向状態に配設されていて、蒸発源1からの輻射熱が直接入射され、且つ薄い金属箔で形成されていて熱容量が小さいため、蒸着中に温度が上昇し、熱膨張によりマスク開口部3が歪み成膜パターン精度が低下することを防ぐために、基板4の搬送方向に張力を付与している。
従って、蒸着マスク2の温度上昇を抑制できれば、蒸着マスク2に付与する張力が小さくすることができ、マスクフレーム6Aが歪むことを一層防ぐことができる。
また、本実施例では、蒸着マスク2は、従来通りマスクフレーム6A周辺部やフレーム開口部18間と接合されているが、前述のように蒸着マスク2より温度が低いマスクフレーム6Aと接合しているため、蒸着マスク2の温度上昇が抑制されるように構成されている。
また、蒸着マスク2は、蒸着膜を堆積させ成膜パターンを形成する基板4が、例えば第5世代ガラス基板4(1100mm×1300mm)以降の大判になると、それに伴い基板4の相対移動方向と直交する横方向に大きく形成する必要があり、製作が困難である。よって、本実施例の蒸着マスク2は、基板4の相対移動方向と直交する横方向に制限用開口部5単位で複数枚に分割した構成とし、この分割した蒸着マスク2を、マスクフレーム6Aの前記横方向に並設状態に付設し、マスクフレーム6A周辺部で接合するが、フレーム開口部18間に設けたリブ部14の先端面に形成したマスク取付支承面15上でも、複数枚に分割した蒸着マスク2の側端部同士をつき合わせて接合するようにしてもよい。
また、本実施例では、前述のように前記マスクフレーム6Aの前記制限用開口部5と連通し前記制限用開口部5の一部となる場合もあるフレーム開口部18を覆うように前記蒸着マスク2を付設した前記マスクフレーム6Aを、前記成膜室7内に台座として設けた前記マスクフレームホルダー6Bの前記基板4側端部に、取り外し自在にして前記フレーム開口部18が前記制限用開口部5と連通するように接触配設した構成としている。
また、この前記マスクフレーム6Aのフレーム開口部18間に、前記基板4側に延在する方向に突出する前記リブ部14を設け、このリブ部14の前記基板4側先端面と前記マスクフレーム6Aの周辺部面に、前記制限用開口部5と連通するフレーム開口部18を覆うように配設する前記蒸着マスク2を支承する前記マスク取付支承面15を設けた構成としている。
従って、マスクフレーム6Aのフレーム開口部18間に設けたリブ部14によって、蒸着マスク2の張力によるマスクフレーム6Aの変形が防止できると共に、蒸着マスク2の張力が維持でき、且つ蒸発粒子の反射及び再蒸発などの予期せぬ成膜材料のマスク開口部3への入射を抑制している。
また、このマスクフレーム6Aのリブ部14の形状は、基板4側の突出先端面に形成したマスク取付支承面15からマスクフレームホルダー6Bとの接触面にかけて三角形の形状としてもよいが、本実施例では、段差をつけた階段形状とすることで、加工性が大幅に向上し、安価に製作することができる。
また、前記マスクフレーム6Aの前記リブ部14間に形成された前記フレーム開口部18が、前記飛散制限部の制限用開口部5の一部を形成するように構成しても良く、この制限用開口部5と連通する開口部を形成する前記リブ部14の内側の開口部形成面積より、このリブ部14の前記基板4側先端面に設けられた前記マスク取付支承面15の面積の方が小さい形状となるように前記リブ部14を形成している。
即ち、マスクフレーム6Aは、リブ部14の先端面に設けられたマスク取付支承面15の面積より、この段差を付けた階段形状のリブ部14の内側の開口部形成面積の方が大きい形状に形成したことで、リブが強固になり一層マスクフレーム6Aの変形が防止できると共に、マスクフレーム6Aからマスクフレームホルダー6Bへ効率的に熱が移動し、マスクフレーム6Aの温度上昇が一層抑制される。
また、前述のように、前記蒸着膜を基板4上に形成する成膜室7と、前記基板4の搬送方向と直交する横方向に隣接して配設した交換室11とを設けて、この成膜室7と交換室11間で前記マスクフレーム6Aを往来させ、このマスクフレーム6Aに付設した前記蒸着マスク2を前記交換室11で交換自在となるように構成し、前記マスクフレーム6Aは、前記成膜室7と前記交換室11とを往来移動させるための前記マスクフレーム移動手段(不図示)を保持するための移動手段用凹部13を、前記基板4の搬送方向の前後に設けている。
具体的には、例えば広狭するロボットアームが係止して吊下げ搬送することができるようにマスクフレーム6Aの前後の辺面に凹条を形成して前記移動手段用凹部13を形成している。
更に説明すると、成膜パターンを連続して蒸着していると、蒸着マスク2に蒸着膜が堆積してマスク開口部3が狭まり、基板4上に所望の成膜パターンが形成できなくなるため、蒸着マスク2が付設したマスクフレーム6Aは定期的に交換しなくてはならず、図4に示すように、本実施例では、成膜室7の基板4の搬送方向と直交する横方向に交換室11を備えている。定期的に交換されるマスクフレーム6Aが、交換後にマスクフレームホルダー6B上の同じ位置に配設されるように、マスクフレームホルダー6Bには位置決めピン12が設けられている。
更に、マスクフレーム6A交換時の位置決め精度を向上させるために、マスクフレームホルダー6Bに押し当て部材21を設けて、マスクフレーム6Aを押し当て部材21に当ててから、位置決めピン12にはめるようにすることで、位置決め精度を100μm以下にすることができる。
また、蒸着中に頻繁に交換が必要で、成膜室7と交換室11とを往復する蒸着マスク2が付設したマスクフレーム6Aは、マスクフレームホルダー6Bのように熱交換して温度制御される媒体を流通させる媒体路16を有する温度制御機構9を備えることが困難なため、マスクフレームホルダー6Bの温度保持効果を間接的に伝えることで、蒸着マスク2及びマスクフレーム6Aの温度上昇を抑制するように構成している。
更に、前述のようにマスクフレーム6Aに移動手段用凹部13を備えたことで、成膜室7と交換室11との移動するための移動手段が、マスクフレーム6Aを保持しやすくなる。
更に具体的に説明すると、本実施例は例えば図5に示すように、中央にホスト用と、基板4の搬送方向の前後にドーパント用を備えた蒸発源1があり、その周囲に反射板が複数枚配設されていて、反射板の周囲を水冷板が備えられている構造とした場合、その蒸発源1の基板4側上部に前記マスクフレームホルダー6Bを配設し、更にこのマスクフレームホルダー6Bの上部に前記マスクフレーム6Aを接触して配設し、この蒸発源1、マスクフレームホルダー6B及び蒸着マスク2が付設されたマスクフレーム6Aからなる蒸発源集合体は、蒸着装置の外に設けられたアライメントステージに連結されていて、マスクフレーム移動手段がマスクフレーム6Aの移動手段用凹部13を保持したら、蒸発源集合体が基板4の搬送方向と直交する直交方向に下降することで、マスクフレーム6Aと蒸発源集合体が切り離され、マスクフレーム6Aの交換が可能となるように構成しても良い。
また、前記温度制御機構9は、前記マスクフレームホルダー6Bの周辺部若しくは前記制限用開口部5間に、熱交換して温度制御される媒体を流通させる媒体路16を設けた構成としている。
具体的には、図6に示すように、マスクフレームホルダー6Bの基板4の搬送方向側の両面に、媒体が流通する面を設け、飛散制限部内部、即ち周辺部及び制限用開口部5間に媒体路16を夫々二段備え、媒体が漏れないように両面に不図示の蓋を溶接し密閉構造とし、この内部媒体路16に媒体を流通させて冷却機能を果たす構成とした温度制御機構9をこのマスクフレームホルダー6Bに設けている。
また、媒体が媒体路16を流通する経路を図7に示す。マスクフレームホルダー6BのIN側の配管から進入した媒体は、壁面の媒体路16を満たしながらこの飛散制限部内に設けられた媒体路16を通過し、反対面の媒体路16に到達する過程を繰り返すことで、マスクフレームホルダー6B内部に設けられた媒体路16の空間に隙間なく媒体が満たされ、マスクフレームホルダー6Bの温度保持機能を一層高めることができる。
また、図8に示すように、マスクフレームホルダー6Bの飛散制限部の形状を、飛散制限部の体積が蒸発源1側程大きい形状とすることで、基板4側の媒体路16よりも、蒸発源1に近いことによる輻射熱の影響が大きい蒸発源1側の媒体路16の媒体接触面積が大きくなるように構成して、熱吸収能力を高め、温度保持機能を向上させている。
また、この図8に示すように、前記マスクフレームホルダー6Bは、前記飛散制限部の前記制限用開口部5の前記蒸発源1側縁部に、前記蒸発粒子の付着捕捉面10を形成した構成としている。
具体的には、蒸発源側に向かって端部をハ字状に形成して、各制限用開口部5の蒸発源側端部に、夫々外方に向いた付着捕捉面10をハ字状(逆V字状)に形成し、隣り合う蒸発口部8からの蒸発粒子に対向してこれを良好に捕捉できるように隣りの蒸発口部8に向くように傾斜した付着捕捉面10を形成している。
また、図9に示すように、マスクフレームホルダー6Bの飛散制限部の蒸発源1側の面に、基板4の搬送方向の垂直方向に衝立部19を設けることで、蒸発粒子が大量に付着することを防ぎ、且つ隣接する蒸発口部8から射出された蒸発粒子が制限用開口部5に進入し、蒸発源1からの再蒸発及び飛散制限部からの反射などによる予期せぬ角度からマスク開口部3へ蒸発粒子が入射することを防ぐことができる。
また、本実施例では、真空チャンバー7外に設けられた温度制御手段と、マスクフレームホルダー6Bに設けられた媒体を流通させる媒体路16が、真空チャンバー7壁面に設けられたフランジを介して配管で接続されているため、温度制御手段(例えばサーモチラー)内部に備えられている熱交換部20によって、マスクフレームホルダー6B内を通過して温度が上昇した媒体は設定温度になり、設定温度になった媒体がまたマスクフレームホルダー6B内へ入っていく過程が繰り返されるため、マスクフレームホルダー6Bの温度を一定に保持することができる。
また、図10に示すように、蒸着マスク2が付設されたマスクフレーム6Aとマスクフレームホルダー6Bを接触させて配設される際に、熱伝導率が高い部材で形成した熱伝導体17を挿設することで、マスクフレーム6Aの熱をマスクフレームホルダー6B側に効率よく伝導させることができ、マスクフレーム6Aの温度上昇を一層抑制できる。
具体的に言うと、マスクフレームホルダー6Bの基板4側マスクフレーム接触面に、銅、アルミニウム、銀、インジウム、モリブデン、タングステン、炭素、窒化アルミニウムの少なくとも1種類を含む熱伝導率が高いシート状部材を前記熱伝導体17として配設するようにしてもよいし、マスクホルダー6の基板4側若しくはマスクフレーム6Aの蒸発源1側の少なくとも一方の接触面に、上述した熱伝導率が高い金属で、溶射などの手法によって皮膜を形成する表面処理を施すように熱伝導体17を設けてもよい。
尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。
1 蒸発源
2 蒸着マスク
3 マスク開口部
4 基板
5 制限用開口部
6 マスクホルダー
6A マスクフレーム
6B マスクフレームホルダー
7 成膜室
8 蒸発口部
9 温度制御機構
10 付着捕捉面
11 交換室
13 移動手段用凹部
14 リブ部
15 マスク取付支承面
16 媒体路
17 熱伝導体
18 フレーム開口部
2 蒸着マスク
3 マスク開口部
4 基板
5 制限用開口部
6 マスクホルダー
6A マスクフレーム
6B マスクフレームホルダー
7 成膜室
8 蒸発口部
9 温度制御機構
10 付着捕捉面
11 交換室
13 移動手段用凹部
14 リブ部
15 マスク取付支承面
16 媒体路
17 熱伝導体
18 フレーム開口部
Claims (18)
- 蒸発源から気化した成膜材料を、蒸着マスクのマスク開口部を介して基板上に堆積して、この蒸着マスクにより定められた成膜パターンの蒸着膜が基板上に形成されるように構成し、前記蒸発源とこの蒸発源に対向状態に配設する前記基板との間に、前記蒸発源から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子の飛散方向を制限する制限用開口部を設けた飛散制限部を備えたマスクホルダーを配設し、このマスクホルダーに前記基板と離間状態に配設する前記蒸着マスクを付設し、このマスクホルダーに蒸着マスクの温度を保持する温度制御機構を備え、前記基板を、前記蒸着マスクを付設した前記マスクホルダー及び前記蒸発源に対して、前記蒸着マスクとの離間状態を保持したまま相対移動自在に構成して、この相対移動により前記蒸着マスクより広い範囲にこの蒸着マスクにより定められる成膜パターンの蒸着膜が基板上に形成されるように構成した蒸着装置であって、前記マスクホルダーを、前記蒸着マスクを付設するマスクフレームと、前記飛散制限部を備えたマスクフレームホルダーとに分割した構成として、このマスクフレームホルダーに接触配設させた前記マスクフレームを離脱させて取り外し自在に構成し、前記マスクフレームホルダーに前記温度制御機構を設けた構成としたことを特徴とする蒸着装置。
- 減圧雰囲気とする成膜室内に、前記成膜材料を収めた前記蒸発源と、この蒸発源の蒸発口部から蒸発した前記成膜材料の蒸発粒子が通過する前記マスク開口部を設けた前記蒸着マスクとを配設し、前記蒸発口部を複数並設し、前記蒸着マスクと離間状態に位置合わせする基板に、前記複数の蒸発口部から飛散する蒸発粒子が前記マスク開口部を通過して堆積し、蒸着マスクにより定められる成膜パターンの蒸着膜が前記基板に形成されるように構成し、この蒸発源とこの蒸発源と対向状態に配設する前記基板との間に、隣接する若しくは離れた位置の前記蒸発口部からの蒸発粒子を通過させない前記制限用開口部を設けた前記飛散制限部を構成する前記マスクフレームホルダーを配設し、このマスクフレームホルダーに、前記基板と離間状態に配設する前記蒸着マスクを接合させて付設したマスクフレームを接触させて配設し、前記マスクフレームホルダーに、前記マスクフレームに付設した蒸着マスクの温度上昇を抑制し温度を一定に保持する前記温度制御機構を設け、前記基板を、前記蒸着マスクを付設した前記マスクフレーム及び前記マスクフレームホルダー及び前記蒸発源に対してこの蒸着マスクとの離間状態を保持したまま相対移動させて、この相対移動方向に前記蒸着マスクの前記成膜パターンの蒸着膜を連続させて前記基板より小さい前記蒸着マスクでも広範囲に蒸着膜が形成されるように構成したことを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
- 前記基板の相対移動方向に対して直交する横方向に前記蒸発源の前記蒸発口部を複数並設すると共に、前記マスクホルダーの前記マスクフレームホルダーに、前記制限用開口部を前記横方向に沿って複数並設して前記飛散制限部を構成し、前記各蒸発口部から蒸発する蒸発粒子が、対向する前記制限用開口部のみを通過し更にこの制限用開口部と連通するフレーム開口部を覆う前記蒸着マスクの前記マスク開口部を通過して前記基板上にこのマスク開口部により定められた前記成膜パターンの蒸着膜が形成され、隣り合う若しくは離れた位置の前記蒸発口部からの蒸発粒子は付着捕捉されるようにして、前記飛散制限部により前記蒸発粒子の飛散方向が制限されるように構成したことを特徴とする請求項1,2のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームホルダーは、前記飛散制限部の前記制限用開口部の前記蒸発源側縁部に、前記蒸発粒子の付着捕捉面を形成した構成としたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームに、張力を付与して前記蒸着マスクを張設したことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームに、前記基板の相対移動方向に張力を付与して前記蒸着マスクを張設したことを特徴とする請求項5記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームは、前記温度制御機構を設けた前記マスクフレームホルダーの前記基板側端部に、離脱自在にしてマスクフレーム移動手段より取り外し自在に接触配設し、前記マスクフレームホルダーに設けた前記温度制御機構により前記マスクフレームに張設した前記蒸着マスクの温度を保持する構成とすると共に、この温度制御機構を備えていない前記マスクフレームを、この温度制御機構を備えた前記マスクフレームホルダーから取り外し自在に構成したことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記蒸着膜を基板上に形成する成膜室と、前記基板の搬送方向と直交する横方向に隣接して配設した交換室とを設けて、この成膜室と交換室間で前記マスクフレームを往来させ、このマスクフレームに付設した前記蒸着マスクを前記交換室で交換自在となるように構成したことを特徴とする請求項7記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームは、前記成膜室と前記交換室とを往来移動させるための前記マスクフレーム移動手段が保持するための移動手段用凹部を、前記基板の搬送方向の前後に設けたことを特徴とする請求項8記載の蒸着装置。
- 前記蒸着マスクは、前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数枚に分割した構成とし、この分割した蒸着マスクを前記マスクフレームに前記横方向に並設状態に付設したことを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記蒸発源の前記蒸発口部を前記基板の相対移動方向と直交する横方向に複数並設し、この複数の蒸発口部毎に夫々対向状態に前記制限用開口部を設けた前記飛散制限部を備えた前記マスクホルダーを、前記飛散制限部及び前記温度制御機構を備えた前記マスクフレームホルダーと、前記温度制御機構を備えない前記マスクフレームとに分断した構成として、前記マスクフレームの前記制限用開口部と連通する若しくは前記制限用開口部の一部となるフレーム開口部を覆うように前記蒸着マスクを付設した前記マスクフレームを、前記成膜室内に固定した前記マスクフレームホルダーの前記基板側端部に、取り外し自在にして前記フレーム開口部が前記制限用開口部と連通するように接触配設した構成としたことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームのフレーム開口部間に、前記基板側に延在する方向に突出するリブ部を設け、このリブ部の前記基板側先端面と前記マスクフレームの周辺部面に、前記制限用開口部と連通するフレーム開口部を覆うように配設する前記蒸着マスクを支承するマスク取付支承面を設けたことを特徴とする請求項11記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームの前記リブ部間に形成された前記フレーム開口部と前記飛散制限部の制限用開口部が連通するように構成し、この制限用開口部と連通した開口部を形成する前記リブ部の内側の開口部形成面積より、このリブ部の前記基板側先端面に設けられた前記マスク取付支承面の面積の方が小さい形状となるように前記リブ部を形成したことを特徴とする請求項12記載の蒸着装置。
- 前記温度制御機構は、前記マスクフレームホルダーの周辺部若しくは前記制限用開口部間に、熱交換して温度制御される媒体を流通させる媒体路を設けた構成としたことを特徴とする請求項1〜13のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記マスクフレームと前記マスクフレームホルダーとの間に、前記マスクフレーム及び前記マスクフレームホルダーより熱伝導率が高い部材で形成した熱伝導体を介在して接触配設したことを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記熱伝導体は、銅、アルミニウム、銀、インジウム、モリブデン、タングステン、炭素、窒化アルミニウムの少なくとも1種類を含むことを特徴とする請求項15記載の蒸着装置。
- 前記成膜材料を、有機材料としたことを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項に記載の蒸着装置。
- 前記請求項1〜17のいずれか1項に記載の蒸着装置を用いて、前記基板上に前記蒸着マスクにより定められた成膜パターンの蒸着膜を形成することを特徴とする蒸着方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012210851A JP2014065936A (ja) | 2012-09-25 | 2012-09-25 | 蒸着装置並びに蒸着方法 |
PCT/JP2013/074065 WO2014050501A1 (ja) | 2012-09-25 | 2013-09-06 | 蒸着装置並びに蒸着方法 |
TW102132794A TW201425608A (zh) | 2012-09-25 | 2013-09-11 | 蒸鍍裝置及蒸鍍方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012210851A JP2014065936A (ja) | 2012-09-25 | 2012-09-25 | 蒸着装置並びに蒸着方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014065936A true JP2014065936A (ja) | 2014-04-17 |
Family
ID=50387909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012210851A Pending JP2014065936A (ja) | 2012-09-25 | 2012-09-25 | 蒸着装置並びに蒸着方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2014065936A (ja) |
TW (1) | TW201425608A (ja) |
WO (1) | WO2014050501A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016204022A1 (ja) * | 2015-06-16 | 2016-12-22 | 株式会社アルバック | 成膜方法及び成膜装置 |
CN106847741B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-11-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种薄膜晶体管阵列基板制造方法、真空气相蒸发台及其控制方法 |
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Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005281745A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Seiko Epson Corp | 膜形成装置、蒸着装置 |
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JP5285187B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2013-09-11 | シャープ株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JP5616812B2 (ja) * | 2011-02-10 | 2014-10-29 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置並びに蒸着方法 |
JP5331264B2 (ja) * | 2011-03-10 | 2013-10-30 | シャープ株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
-
2012
- 2012-09-25 JP JP2012210851A patent/JP2014065936A/ja active Pending
-
2013
- 2013-09-06 WO PCT/JP2013/074065 patent/WO2014050501A1/ja active Application Filing
- 2013-09-11 TW TW102132794A patent/TW201425608A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014050501A1 (ja) | 2014-04-03 |
TW201425608A (zh) | 2014-07-01 |
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