CN104968827A - 蒸镀装置和蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

蒸镀装置(50)包括Y轴和X轴方向的长度比被成膜基板(200)短的多个蒸镀掩模(80)，在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模(80)在X轴方向上错开地配置，在Y轴方向上相邻的各掩模开口组区域(82)在X轴方向上重叠的重叠区域(83)中，在平面视图中Y轴方向的开口长度随着向各掩模开口组区域(82)的外侧去而逐渐变短。

Description

蒸镀装置和蒸镀方法

技术领域

本发明涉及扫描蒸镀中使用的蒸镀装置和蒸镀方法。

背景技术

近年来，在各种商品和领域中较多地使用平板显示器，从而要求平板显示器的大型化、高画质化、低消弧电力化。

在这样的状况下，具备利用了有机材料的电场发光(电致发光，以下记作“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为全固体型且低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板显示器而备受关注。

有机EL显示装置例如在有源矩阵方式的情况下，具有在由设置有TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板等构成的基板上设置与TFT电连接的薄膜状有机EL元件的结构。

在全彩色的有机EL显示装置中，一般而言，红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各色的有机EL元件作为子像素排列形成于基板上，通过使用TFT使这些有机EL元件有选择地以所期望的亮度发光而进行图像显示。

因此，为了制造这样的有机EL显示装置，至少需要将由发出各色光的有机发光材料构成的发光层按规定的图案形成于每个有机EL元件。

作为按规定图案形成这样的发光层的方法，例如已知有真空蒸镀法、喷墨法、激光转印法等。例如在低分子型有机EL显示装置(OLED)中，主要在发光层的图案形成中使用真空蒸镀法。

在真空蒸镀法中，使用形成有规定图案的开口的蒸镀掩模(也称为荫罩)。而且，通过使来自蒸镀源的蒸镀颗粒(蒸镀材料、成膜材料)通过蒸镀掩模的开口而蒸镀于被蒸镀面，形成规定图案的薄膜。此时，蒸镀按发光层的每种颜色进行(将这称为“分涂蒸镀”)。

真空蒸镀法大致分为：通过使被成膜基板和蒸镀掩模固定或依次移动地紧贴而进行成膜的方法；和使被成膜基板与蒸镀用的掩模分离地一边扫描一边进行成膜的扫描蒸镀法。

在前者的方法中，使用与被成膜基板同等大小的蒸镀掩模。但是，当使用与被成膜基板同等大小的蒸镀掩模时，随着基板的大型化，蒸镀掩模也大型化。因而，如果被成膜基板变大，则随之容易由于蒸镀掩模的自重变形和延展而在被成膜基板与蒸镀掩模之间产生间隙。因此，在大型基板，难以进行高精度的图案形成，会产生蒸镀位置的偏移和混色，难以实现高精细化。

此外，如果被成膜基板变大，则不仅蒸镀掩模而且保持蒸镀掩模等的框架等也变得巨大，其重量也増加。因此，当被成膜基板变大时，蒸镀掩模和框架等处理变得困难，存在在生产性和安全性方面产生障碍的问题。此外，蒸镀装置本身和附属于其的装置也同样巨大化、复杂化，因此装置设计变得困难，设置成本也变得昂贵。

此外，在大型的蒸镀掩模，除了变形和重量、成本以外，还存在蒸镀掩模的材料的加工以及图案形成、框架粘贴等掩模生产环境不齐备的大的问题。

因此，近年来，使用比被成膜基板小的蒸镀掩模进行说明并且进行蒸镀的扫描蒸镀法受到瞩目(例如，专利文献1、2等)。

在这样的扫描蒸镀法中，例如使用带状的蒸镀掩模，将蒸镀掩模与蒸镀源一体化等，一边使蒸镀掩模及蒸镀源与被成膜基板中的至少一方相对移动，一边在被成膜基板整个面蒸镀蒸镀颗粒。

因此，在扫描蒸镀法中，不需要使用与被成膜基板同等大小的蒸镀掩模，能够实现蒸镀掩模的小型化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国公开专利公报“特开2011-47035号公报(2011年3月10日公开)”

专利文献2：国际公开第2012/124512号小册子(2012年9月20日国际公开)

专利文献3：日本国公开专利公报“特开2007-23358号公报(2007年2月1日公开)”

发明内容

发明所要解决的问题

在扫描蒸镀法中，能够使基板搬送方向那样的扫描方向的蒸镀掩模的长度变短。

但是，如专利文献1、2所示，与扫描方向正交的方向的蒸镀掩模的长度形成为与被成膜基板同等以上的大小。

即，如果一边使蒸镀掩模的扫描方向和与扫描方向垂直的方向的长度比被成膜基板200的扫描方向和与扫描方向垂直的方向的长度短的小型的掩模，向扫描方向和与扫描方向垂直的方向移动，一边形成蒸镀膜，则成膜需要时间，并且难以将与扫描方向垂直的方向的蒸镀膜的膜厚控制为一定。

因此，蒸镀掩模的与扫描方向正交的方向的蒸镀掩模的长度形成为与被成膜基板同等以上的大小。

另外，作为将蒸镀掩模小型化的方法，在专利文献3中公开有使称为掩模基片的微小的多个蒸镀掩模接合，形成大型的蒸镀掩模的技术。

但是，专利文献3是形成与大型的被成膜基板对应的蒸镀掩模的方法，不是以扫描蒸镀为对象。

此外，上述专利文献3是在相邻的掩模基片的彼此相对的侧面中的至少一个侧面设置缺口部的技术，在相邻的掩模基片的接缝部，形成包含由上述缺口部构成且与形成的图案对应的开口部的间隙部，由此，使在X轴方向上相邻的掩模基片，在与形成的蒸镀膜的图案对应的开口部内(即，子像素内)在X轴方向上相连接。因此，专利文献3具有由连结部的间隙部引起的图案控制难以进行的问题、

此外，当这样使用多个小型的蒸镀掩模进行扫描蒸镀时，在蒸镀掩模的边界部，不能形成均匀的蒸镀膜，产生蒸镀膜呈块状分开的分离块。

本发明是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于，提供与现有技术相比能够将蒸镀掩模小型化并且不产生分离块地形成均匀的蒸镀膜的蒸镀装置和蒸镀方法。

用于解决问题的技术手段

为了解决上述问题，本发明的一个方式的蒸镀装置是在用于显示装置的被成膜基板上，对上述显示装置的每个子像素形成规定的图案的蒸镀膜的蒸镀装置，该蒸镀装置包括：具有蒸镀源和多个蒸镀掩模的蒸镀单元；和使上述蒸镀单元和被成膜基板中的一方相对于另一方相对移动的移动装置，上述各蒸镀掩模的作为上述移动装置的移动方向的第一方向和与该第一方向垂直的第二方向的长度，比各自方向上的上述被成膜基板的蒸镀区域的长度短，上述蒸镀掩模至少在上述第一方向上配置有多个，上述各蒸镀掩模在上述第二方向上具有一个掩模开口组区域，或者隔着至少一个像素的遮蔽区域具有多个掩模开口组区域，上述掩模开口组区域各自由至少在上述第二方向上排列的多个掩模开口构成，且各自与上述蒸镀源的蒸镀颗粒的射出口成对设置，上述第一方向上相邻的蒸镀掩模在上述第二方向上错开位置地配置，使得各个蒸镀掩模的各掩模开口组区域的上述第二方向的端部中的与另一个蒸镀掩模的掩模开口组区域相对的一侧的端部的多个掩模开口，在沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠，并且通过该端部的在上述第一方向上相邻的掩模开口形成的蒸镀膜沿上述第一方向位于同一直线上，上述第二方向上的上述蒸镀掩模的合计长度比上述第二方向上的上述被成膜基板的蒸镀区域的长度长，上述各掩模开口与上述各子像素对应地设置，在上述各蒸镀掩模的各掩模开口组区域中的沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠的区域中，从与上述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度随着向上述各掩模开口组区域的外侧去而逐渐变短。

此外，本发明的一个方式的蒸镀方法是在用于显示装置的被成膜基板上，对上述显示装置的每个子像素形成规定的图案的蒸镀膜的蒸镀方法，在该蒸镀方法中，使具有蒸镀源和多个蒸镀掩模的蒸镀单元与上述被成膜基板中的一方相对于另一方沿第一方向相对移动，并且，作为上述蒸镀单元，使用如下的蒸镀单元：(a)上述各蒸镀掩模的上述第一方向和与该第一方向垂直的第二方向的长度，比各自方向上的上述被成膜基板的蒸镀区域的长度短，(b)上述蒸镀掩模至少在上述第一方向上配置有多个，(c)上述各蒸镀掩模在上述第二方向上具有一个掩模开口组区域，或者隔着至少一个像素的遮蔽区域具有多个掩模开口组区域，(d)上述掩模开口组区域各自由至少在上述第二方向上排列的多个掩模开口构成，且各自与上述蒸镀源的蒸镀颗粒的射出口成对设置，(e)上述第一方向上相邻的蒸镀掩模在上述第二方向上错开位置地配置，使得各个蒸镀掩模的各掩模开口组区域的上述第二方向的端部中的与另一个蒸镀掩模的掩模开口组区域相对的一侧的端部的多个掩模开口，在沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠，并且通过该端部的在上述第一方向上相邻的掩模开口形成的蒸镀膜沿上述第一方向位于同一直线上，(f)上述第二方向上的上述蒸镀掩模的合计长度比上述第二方向上的上述被成膜基板的蒸镀区域的长度长，(g)在上述各蒸镀掩模的各掩模开口组区域中的沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠的区域，从与上述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度随着向上述各掩模开口组区域的外侧去而逐渐变短。

另外，此处所谓的“从与蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度”不是蒸镀掩模的掩模开口本身的上述第一方向的长度，而是表示在从与蒸镀掩模的主面垂直的方向看时实际开口着的蒸镀掩模的实质上的上述第一方向的开口长度(即，蒸镀颗粒能够通过的开口区域的上述第一方向的长度)。即，在从与蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，蒸镀掩模的掩模开口的一部分例如被遮蔽板堵塞的情况下，从与蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度表示在从与蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，实际开口的掩模开口的第一方向的长度(即，未被上述遮蔽板堵塞的掩模开口的第一方向的长度)。

发明的效果

根据本发明的一个方式，能够将与被成膜基板的上述第二方向的各子像素对应的掩模开口分割，实现使用了比现有技术小型的蒸镀掩模的扫描蒸镀，因此，能够使蒸镀掩模比现有技术轻量化，能够抑制蒸镀掩模的变形引起的蒸镀位置偏移。因此，能够抑制起因于蒸镀掩模的变形的蒸镀模糊。

此外，根据本发明的一个方式，将在上述第一方向上相邻的蒸镀掩模在上述第二方向上错开地配置，在沿上述第一方向看时各个蒸镀掩模的掩模开口组区域在上述第二方向上重叠的区域中，使从与上述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度随着向各掩模开口组区域的外侧去逐渐变短，由此，在成为连结多个蒸镀掩模的掩模相连部分的、在上述第一方向上相邻的蒸镀掩模的各掩模开口组区域的边界部，能够使开口长度逐渐变化。

因此，即使在如上述那样将与被成膜基板的上述第二方向的各子像素对应的掩模开口分割，使用比现有技术小型的蒸镀掩模进行扫描蒸镀的情况下，也不会产生上述掩模开口组区域的边界部的分离块，能够进行均匀的蒸镀。

此外，根据本发明的一个方式，在子像素内不在X轴方向上连结蒸镀掩模，因此容易进行图案控制。

此外，根据本发明的一个方式，各掩模开口组区域与蒸镀源的射出口成对设置，由此，能够限定向各个掩模开口飞来的蒸镀颗粒的飞来源(射出口)，所以能够对于其飞来角度设定最佳的掩模开口的位置。因此，能够防止蒸镀模糊，并且能够提高蒸镀效率。

此外，在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域的边界部，从各掩模开口组区域中的2个射出口飞来的蒸镀颗粒容易相混。但是，如上述那样，在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域隔着至少一个像素的遮蔽区域设置，由此，能够防止蒸镀模糊，特别能够防止在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域的边界部的蒸镀模糊。

附图说明

图1是表示将实施方式1的作为有机EL装置的制造装置来使用的蒸镀装置中使用的蒸镀单元的主要部分的结构，与被成膜基板200一并表示的平面图。

图2是示意地表示实施方式1的蒸镀装置的主要部分的概略结构的截面图。

图3(a)是示意地表示实施方式1的蒸镀装置中的真空腔室内的主要构成要素的截面图，(b)是示意地表示从与(a)所示的蒸镀装置的在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模的主面垂直的方向看这些蒸镀掩模时的各个掩模开口彼此的位置关系，和这些掩模开口与由这些掩模开口形成的蒸镀膜的位置关系的说明图。

图4是表示实施方式1中使用的蒸镀掩模的掩模开口组的开口图案的平面图。

图5是表示实施方式1的蒸镀掩模的掩模图案的一个例子的平面图。

图6(a)、(b)依次是作为比较例1、2表示将具有由同一形状的掩模开口构成的掩模开口组区域的蒸镀掩模与图1同样地配置的例子的平面图。

图7是表示使用图1所示的蒸镀掩模进行蒸镀时的、第I列蒸镀掩模的蒸镀区域和第II列蒸镀掩模的蒸镀区域的蒸镀膜的结构的平面图。

图8是表示实施方式1的RGB全彩色显示的有机EL显示装置的概略结构的截面图。

图9是表示构成图8所示的有机EL显示装置的各子像素的结构的平面图。

图10是表示图9所示的有机EL显示装置的TFT基板的W-W线箭头方向截面图。

图11是按工序顺序表示实施方式1的有机EL显示装置的制造工序的一个例子的时序图。

图12(a)～(d)是表示实施方式1的蒸镀掩模的掩模开口组区域的图案形状的另一个例子的主要部分平面部。

图13是表示实施方式1的蒸镀装置的主要部分的概略结构的其他例子的截面图。

图14(a)是表示从实施方式2的蒸镀掩模的背面侧看被成膜基板时的实施方式2的蒸镀单元的主要部分的概略结构的立体图，(b)是表示对(a)所示的构成要素从其侧面看时的概略结构的侧面图，(c)是表示(a)所示的蒸镀掩模的概略结构的平面图。

图15(a)是表示从实施方式3的蒸镀掩模的背面侧看被成膜基板时的实施方式3的蒸镀单元的主要部分的概略结构的立体图，(b)是表示对(a)所示的构成要素从其侧面看时的概略结构的侧面图，(c)是表示(a)所示的蒸镀掩模的概略结构的平面图。

图16(a)、(b)是示意地表示蒸镀源与被成膜基板之间的距离相对长的情况下和短的情况下的蒸镀膜的膜厚分布的差异的图，(a)表示蒸镀源与被成膜基板之间的距离相对长的情况，(b)表示蒸镀源与被成膜基板之间的距离相对短的情况。

图17(a)、(b)是表示实施方式4的蒸镀掩模的掩模开口组的开口图案的一个例子的平面图。

图18(a)是表示在第I列的蒸镀掩模的蒸镀区域没有蒸镀掩模的情况下的、图5所示的成膜区间L的X轴方向的各位置的蒸镀膜的膜厚分布与膜厚修正系数的关系的图表，(b)是表示上述成膜区间L的、蒸镀掩模的膜厚修正前后的掩模开口比率的变化与膜厚修正系数的关系的图表，(c)是表示X轴方向的各位置的、开口长度修正前的设置在Y轴方向上的各蒸镀掩模的掩模开口比率的表。

图19(a)是表示在第II列的蒸镀掩模的蒸镀区域，使用在X轴方向上使开口长度一样的蒸镀掩模的情况下，图5所示的成膜区间L的X轴方向的各位置的蒸镀膜的膜厚分布与膜厚修正系数的关系的图表，(b)是表示上述成膜区间L的、蒸镀掩模的膜厚修正前和修正后的掩模开口比率的变化与膜厚修正系数的关系的图表。

图20(a)是表示图5所示的成膜区间L的X轴方向的各位置的、膜厚修正后的蒸镀掩模的掩模开口比率的变化与膜厚修正后的将设置在Y轴方向上的各蒸镀掩模所形成的膜厚合成而得到的合成膜厚的关系的图表，(b)是表示膜厚修正前后的主要部分的掩模开口比率的变化的图表。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。

(实施方式1)

根据图1～图13对本发明的一个实施方式进行说明如下。

以下，在本实施方式中，作为使用本实施方式的蒸镀装置的显示装置的制造方法，以具有与子像素对应地配置的有机EL元件(发光元件)的有机EL显示装置的制造方法为例进行说明。

＜有机EL显示装置的整体结构＞

首先，作为由本实施方式的蒸镀装置制造的有机EL显示装置的一个例子，以下对从TFT基板侧取出光的底部发射型、RGB全彩色显示的有机EL显示装置的结构进行说明。

图8是表示RGB全彩色显示的有机EL显示装置1的概略结构的截面图。此外，图9是表示构成图8所示的有机EL显示装置1的各子像素2R、2G、2B的结构的平面图，图10是图9所示的有机EL显示装置1中的TFT基板10的W-W线箭头方向截面图。

如图8所示，根据本实施方式制造的有机EL显示装置1具有在设置有TFT12(参照图10)的TFT基板10上依次设置有与TFT12连接的有机EL元件20(发光元件)、粘接层30、密封基板40的结构。

有机EL元件20通过使用粘接层30使层叠有该有机EL元件20的TFT基板10与密封基板40贴合而被封入该一对基板(TFT基板10、密封基板40)间。

如图10所示，TFT基板10作为支承基板具备例如玻璃基板等透明的绝缘基板11。在绝缘基板11上，如图9所示，设置有由在水平方向上铺设的多个栅极线和在垂直方向上铺设的与栅极线交叉的多个信号线构成的多个配线14。在栅极线连接有驱动栅极线的未图示的栅极线驱动电路，在信号线连接有驱动信号线的未图示的信号线驱动电路。

有机EL显示装置1是全彩色的有源矩阵型的有机EL显示装置，在绝缘基板11上，在由这些配线14围成的区域呈矩阵状排列有分别由红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各色的有机EL元件20构成的各色子像素2R、2G、2B。由这些配线14围成的区域是一个子像素(点)，与各子像素对应地配置有有机EL元件20。由此，在每个子像素区划出R、G、B的发光区域。

像素2(即，一个像素)由使红色的光透射的红色子像素2R、使绿色的光透射的绿色子像素2G、使蓝色的光透射的蓝色子像素2B这三个子像素2R、2G、2B构成。

在各子像素2R、2G、2B，作为担负各子像素2R、2G、2B的发光的各色的发光区域，分别设置有由条形状的各色发光层23R、23G、23B覆盖的开口部15R、15G、15B。这些发光层23R、23G、23B按各种颜色，通过蒸镀而被图案形成。

此外，在这些子像素2R、2G、2B分别设置有与有机EL元件20的第一电极21连接的TFT12。各子像素2R、2G、2B的发光强度由利用配线14和TFT12进行的扫描和选择决定。这样，有机EL显示装置1利用TFT12来使有机EL元件20有选择地以所期望的亮度发光，从而实现图像表示。

＜TFT基板10的结构＞

如图10所示，TFT基板10具有在玻璃基板等透明的绝缘基板11上依次形成有TFT12(开关元件)和配线14、层间膜13(层间绝缘膜、平坦化膜)、边罩15的结构。

在上述绝缘基板11上设置有配线14，并且与各子像素2R、2G、2B对应地分别设置有TFT12。另外，TFT的结构历来广为人知。因而，省略TFT12的各层的图示以及说明。

层间膜13以覆盖各TFT12和配线14的方式在上述绝缘基板11上遍及上述绝缘基板11的整个区域地层叠。

在层间膜13上形成有有机EL元件20的第一电极21。

此外，在层间膜13设置有用于将有机EL元件20的第一电极21与TFT12电连接的接触孔13a。由此，TFT12经由上述接触孔13a与有机EL元件20电连接。

此外，在层间膜13上，为了防止有机EL元件20的第一电极21与第二电极26的短路，以覆盖第一电极21的图案端部的方式形成有边罩15。在边罩15，按每个子像素2R、2G、2B设置有开口部15R、15G、15B。该边罩15的开口部15R、15G、15B成为各子像素2R、2G、2B的发光区域。

＜有机EL元件20的结构＞

有机EL元件20是能够通过低电压直流驱动进行高亮度发光的发光元件，依次层叠有第一电极21、有机EL层、第二电极26。

第一电极21是具有向上述有机EL层注入(供给)空穴的功能的层。第一电极21如上述那样经由接触孔13a与TFT12连接。

在第一电极21与第二电极26之间，作为有机EL层具有从第一电极21侧起例如依次形成有空穴注入层兼空穴输送层22、发光层23R、23G、23B、电子输送层24、电子注入层25的结构。另外，上述层叠顺序是以第一电极21为阳极，以第二电极26为阴极的层叠顺序，在以第一电极21为阴极，以第二电极26为阳极的情况下，有机EL层的层叠顺序相反。

此外，在本实施方式中，作为空穴注入层和空穴输送层，列举设置有空穴注入层与空穴输送层形成为一体的空穴注入层兼空穴输送层22的情况为例进行图示，但是本实施方式并不限定于此。空穴注入层和空穴输送层也可以作为相互独立的层形成。此外，上述有机EL显示装置1也可以代替电子输送层24和电子注入层25具备电子输送层兼电子注入层。

另外，构成有机EL层的这些层的功能以及材料，如本申请的申请人提出申请的专利文献2所述为现有公知的技术，因此，此处省略其说明。

另外，作为有机EL元件20的结构，并不限定于上述结构，能够根据所要求的有机EL元件20的特性，采用现有公知的各种层结构。

＜有机EL显示装置的制造方法＞

此外，图11是按工序顺序表示上述有机EL显示装置1的制造工序的一个例子的时序图。

如图11所示，本实施方式的有机EL显示装置1的制造方法例如包括TFT基板及第一电极制作工序(S1)、空穴注入层及空穴输送层蒸镀结构(S2)、发光层蒸镀工序(S3)、电子输送层蒸镀工序(S4)、电子注入层蒸镀工序(S5)、第二电极蒸镀工序(S6)、密封工序(S7)。

其中，上述层叠顺序是以第一电极21为阳极，以第二电极26为阴极的层叠顺序，在相反地以第一电极21为阴极，以第二电极26为阳极的情况下，有机EL层的层叠顺序相反。此外，构成第一电极21和第二电极26的材料也相反。

首先，如图10所示，在利用公知的技术形成有TFT12以及配线14等的绝缘基板11上涂敷感光性树脂，利用光刻技术进行图案形成，由此在绝缘基板11上形成层间膜13。

接着，在层间膜13，形成用于将第一电极21与TFT12电连接的接触孔13a。接着，在层间膜13上形成第一电极21。在第一电极21，例如使用由ITO(Indium Tin Oxide：铟锡氧化物)等透明电极材料构成的导电膜(电极膜)，或者由金(Au)等金属材料构成的透明或半透明薄膜。

第一电极21例如能够通过将溅射法、CVD(chemical vapordeposition，化学蒸镀)法、印刷法等公知的成膜方法，或者使用显示区域整个面开口的开放式掩模的真空蒸镀方法和使用光刻技术的图案形成方法组合而形成。

接着，形成规定图案的边罩15。在边罩15的形成中，能够使用与层间膜13同样的方法和材料。

通过以上的工序，制作TFT基板10和第一电极21(S1)。

接着，对经过上述那样的工序的TFT基板10实施用于脱水的减压烘焙，以及作为第一电极21的表面清洗而实施氧等离子体处理。

接着，通过使用了显示区域整个面开口的开放掩模的真空蒸镀法，在上述TFT基板10上，将空穴注入层和空穴输送层(在本实施方式中为空穴注入层兼空穴输送层22)蒸镀于上述TFT基板10的显示区域整个面(S2)。另外，此处，在显示区域整个面的蒸镀是指遍及相邻的颜色不同的子像素间，不间断地进行蒸镀。

接着，在上述空穴注入层兼空穴输送层22上，以覆盖边罩15的开口部15R、15G、15B的方式，与子像素2R、2G、2B对应地分别分涂(分开涂敷)形成(图案形成)发光层23R、23G、23B(S3)。

在上述分涂蒸镀中，使用利用了本实施方式的蒸镀装置的真空蒸镀法。利用了本实施方式的蒸镀装置的蒸镀方法，特别适合在这样的发光层23R、23G、23B的分涂形成(图案形成)中使用。

接着，利用与上述的空穴注入层、空穴输送层蒸镀工序(S2)同样的方法，将电子输送层24以覆盖上述空穴注入层兼空穴输送层22和发光层23R、23G、23B的方式蒸镀于上述TFT基板10的显示区域整个面(S4)。

接着，利用与上述的空穴注入层、空穴输送层蒸镀工序(S2)同样的方法，将电子注入层25以覆盖上述电子输送层24的方式蒸镀于上述TFT基板10的显示区域整个面(S5)。

接着，利用与上述的空穴注入层、空穴输送层蒸镀工序(S2)同样的方法，将第二电极26以覆盖上述电子注入层25的方式蒸镀于上述TFT基板10的显示区域整个面(S6)。

作为第二电极26的材料(电极材料)，优选使用镁合金(MgAg)等功函数小的金属等。由此，在TFT基板10上，形成由上述的有机EL层、第一电极21和第二电极26构成的有机EL元件20。

另外，有机EL元件20的各层的材料能够使用与现有技术同样的材料，它们的厚度以及大小也能够与现有技术同样地设定。例如，能够为与专利文献2同样的材料以及尺寸。

接着，如图8所示，利用粘接层30将形成有有机EL元件20的上述TFT基板10与密封基板40贴合，进行有机EL元件20的封入。作为密封基板40，使用玻璃基板或塑料基板等绝缘基板。通过上述的工序，制成有机EL显示装置1。

＜蒸镀方式＞

如上所述，在有机EL显示装置1的制造中，在由发光层23R、23G、23B等有机材料构成的有机膜的蒸镀等与子像素2R、2G、2B对应的层(覆盖膜)的形成中，使用利用了本实施方式的蒸镀装置的扫描蒸镀。

在本实施方式中，在本实施方式的蒸镀装置的蒸镀单元与被成膜基板之间设置一定的空隙的状态下，使被成膜基板和上述蒸镀单元中的至少一方相对移动，进行扫描，由此，使用具有比被成膜基板的蒸镀区域小的尺寸的开口区域(掩模开口部群形成区域)的蒸镀掩模，来形成蒸镀膜。

＜蒸镀装置＞

接着，详细叙述作为有机EL显示装置1的制造装置使用本实施方式的蒸镀装置，来对蒸镀膜221进行图案形成的方法。

另外，作为在被成膜基板200的蒸镀膜221的图案形成，进行TFT基板10的发光层23R、23G、23B的分涂形成的情况下，蒸镀掩模80的掩模开口81与这些发光层23R、23G、23B的同色列的尺寸和间距一致地被形成。此外，在这样蒸镀材料为有机EL显示装置1的发光层23R、23G、23B的材料的情况下，有机EL蒸镀过程中的发光层23R、23G、23B的蒸镀，按发光层23R、23G、23B的每种颜色进行。

图1是将本实施方式的作为有机EL装置的制造装置来使用的蒸镀装置50中使用的蒸镀单元54的主要部分的结构，与被成膜基板200一并进行表示的平面图。

此外，图2是示意地表示本实施方式的蒸镀装置50的主要部分的概略结构的截面图。此外，图3(a)是示意地表示本实施方式的蒸镀装置50的真空腔室51内的主要构成要素的截面图，图3(b)是表示从与图3(a)所示的蒸镀装置50的在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模80A、80B的主面垂直的方向看这些蒸镀掩模80A、80B时的各自的掩模开口81A、81B彼此的位置关系，和这些掩模开口81A、81B与由这些掩模开口81A、81B形成的蒸镀膜221的位置关系的模式图。另外，图2表示将本实施方式的蒸镀装置50与扫描方向平行地截断时的截面，图3(a)表示将本实施方式的蒸镀装置50与扫描方向垂直的方向平行地截断时的截面。

另外，图1～图3(a)、(b)为了图示的简化而省略表示蒸镀掩模80的数量和蒸镀源60的射出口61的数量、掩模开口81的数量、限制板73的数量。

此外，以下为了便于说明，以沿被成膜基板200的扫描方向的水平方向轴为Y轴，以沿与被成膜基板200的扫描方向垂直的方向的水平方向轴为X轴，以被成膜基板200的被蒸镀面的法线方向且作为与该被蒸镀面正交的蒸镀轴线延伸的方向的、与X轴和Y轴垂直的垂直方向轴(上下方向轴)为Z轴进行说明。此外，为了便于说明，只要没有特别提及，就以Z轴方向的箭头一侧(图1的纸面的上侧)为“上侧”进行说明。

如图2所示，本实施方式的蒸镀装置50包括真空腔室51(成膜腔室)、基板保持部件52(基板保持部件)、基板移动装置53、蒸镀单元54、蒸镀单元移动装置55、图像传感器等未图示的对准观测机构和用于驱动控制蒸镀装置50的未图示的控制电路等。此外，如图1～图3(a)所示，蒸镀单元54包括蒸镀源60、限板制单元70、多个蒸镀掩模80、保持部件90和未图示的开闭部件等。

其中，基板保持部件52、基板移动装置53、蒸镀单元54、蒸镀单元移动装置55设置在真空腔室51内。

另外，在真空腔室51，为了在蒸镀时将该真空腔室51内保持为真空状态，设置有通过设置在该真空腔室51的未图示的排气口对真空腔室51内进行真空排气的未图示的真空泵。

(基板保持部件52)

基板保持部件52是保持被成膜基板200的基板保持部件。基板保持部件52将由TFT基板等构成的被成膜基板200以其被蒸镀面201(被成膜面)面向蒸镀单元54的蒸镀掩模80的方式进行保持。

被成膜基板200与蒸镀掩模80离开一定距离地相对配置，在被成膜基板200与蒸镀掩模80之间设置有一定高度的空隙。

在基板保持部件52，例如优选使用静电吸盘等。利用静电吸盘等方式使被成膜基板200固定于基板保持部件52，由此，被成膜基板200以没有自重导致的变形的状态被保持于基板保持部件52。

＜基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55＞

在本实施方式中，通过基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55中的至少一方，使被成膜基板200与蒸镀单元54以Y轴方向(第一方向)为扫描方向(通过基板移动装置53或蒸镀单元移动装置55进行移动的移动方向)的方式相对地移动，而进行扫描蒸镀。

基板移动装置53例如包括未图示的发动机，通过利用未图示的发动机驱动控制部驱动发动机，使保持在基板保持部件52的被成膜基板200移动。

此外，蒸镀单元移动装置55例如包括未图示的发动机，利用未图示的发动机驱动控制部来驱动发动机，由此，使蒸镀单元54相对于被成膜基板200相对移动。

此外，这些基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55例如通过使未图示的发动机驱动，根据设置在蒸镀掩模80的非开口区域的未图示的对准标记和设置在被成膜基板200的非蒸镀区域的未图示的对准标记进行位置修正，以解决蒸镀掩模80与被成膜基板200的位置偏移。

这些基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55例如既可以为辊式的移动装置也可以为油压式的移动装置。

这些基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55例如也可以包括由步进发动机(脉冲发动机)等发动机(XYθ驱动发动机)、滚子和齿轮等构成的驱动部以及发动机驱动控制部等驱动控制部，由驱动控制部驱动驱动部，从而使被成膜基板200或蒸镀单元54移动。此外，这些基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55也可以包括由XYZ载物台等构成的驱动部，在X轴方向、Y轴方向、Z轴方向的任何方向均自如地移动。

不过，被成膜基板200和蒸镀单元54也可以设置成其至少一方能够相对移动。换言之，设置基板移动装置53和蒸镀单元移动装置55的至少一方即可。

例如在以被成膜基板200设置成能够移动的情况下，蒸镀单元54也可以固定在真空腔室51的内壁。相反，在以蒸镀单元54设置成能够移动的情况下，基板保持部件52也可以固定在真空腔室51的内壁。

(蒸镀单元54)

如图1～图3(a)所示，蒸镀单元54包括蒸镀源60、限制板单元70、蒸镀掩模80、保持部件90和未图示的开闭部件等。

(蒸镀源60)

蒸镀源60例如是在内部收纳蒸镀材料的容器。蒸镀源60既可以为在容器内部直接收容蒸镀材料的容器，也可以具有预真空锁(LoadLock)的配管，形成为从外部被供给蒸镀材料。

蒸镀源60例如形成为矩形状。蒸镀源60在其上面(即，与限制板单元70相对面)具有使蒸镀颗粒211射出的多个射出口61(贯通口，喷嘴)。

蒸镀源60通过对蒸镀材料进行加热而使其蒸发(蒸镀材料为液体材料的情况下)或升华(蒸镀材料为固体材料的情况下)来产生气体状的蒸镀颗粒211。蒸镀源60将这样成为气体的蒸镀材料作为蒸镀颗粒211从射出口61向限制板单元70射出。

射出口61例如在Y轴方向上设置2列。以下，为了便于说明，将蒸镀源60的、设置在以Y轴表示的扫描方向(被成膜基板200的移动方向)的上游侧的第I列射出口61记作射出口61A，将设置在该扫描方向的下游侧的第II列的射出口61记作射出口61B。

如图1所示，射出口61A和射出口61B交错配置。即，如图2所示，在Y轴方向的上游侧的第I列，多个射出口61A在与X轴平行的方向上以等间距配置，在Y轴方向的下游侧的第II列，多个射出口61B在与X轴平行的方向上以等间距配置。

另外，在第I列和第II列，射出口61A、61B的X轴方向(第二方向)的间距相同。另外，如图3(a)所示，从Y轴方向的上游侧看XZ平面时，在X轴方向上，第I列的射出口61A和第II列的射出口61B交替地配置。

(蒸镀掩模80)

蒸镀掩模80是其主面(面积最大的面)即掩模面与XY平面平行的板状物。

在各蒸镀掩模80的主面，设置有用于在蒸镀时使蒸镀颗粒211通过的多个掩模开口81(开口部，贯通口)。掩模开口81与上述蒸镀区域的子像素对应地设置，使得蒸镀颗粒211不附着于被成膜基板200的作为目标的子像素以外的区域。

即，上述各掩模开口81与有机EL显示装置1的各子像素对应地设置，使得仅从掩模开口81通过的蒸镀颗粒211到达被成膜基板200。由此，在被成膜基板200，与掩模开口81对应地形成与各子像素对应的规定图案的蒸镀膜221(参照图3(a)、(b))。

在各蒸镀掩模80集中设置有在X轴方向上排列的多个掩模开口81的两个掩模开口组区域82，但作为开口区域分别设置在X轴方向的不同的位置。

如图1所示，各掩模开口组区域82以与蒸镀源60的射出口61一对一地对应的方式配置。射出口61的X轴方向位置例如位于各掩模开口组区域82的X轴方向的中央位置。由此，能够提高蒸镀效率。此外，通过这样地各掩模开口组区域82与蒸镀源60的射出口61成对设置，能够限定向各个掩模开口81飞来的蒸镀颗粒211的飞来源(射出口61)。因而，根据上述结构，能够设定对于向各个掩模开口81飞来的蒸镀颗粒211的飞来角度来说最佳的掩模开口81的位置。因此，能够防止蒸镀模糊，并且能够提高蒸镀效率。

因此，蒸镀掩模80与蒸镀源60A、60B对应地在Y轴方向配置有2列。因而，以下为了便于说明，将与设置在扫描方向上游侧的第I列蒸镀源60A对应地设置的第I列蒸镀掩模80记作蒸镀掩模80A，将与设置在扫描方向下游侧的第II列蒸镀源60B对应地设置的第II列蒸镀掩模80记作蒸镀掩模80B。此外，将蒸镀掩模80A的各掩模开口81和掩模开口组区域82分别记作掩模开口81A和掩模开口组区域82A，将蒸镀掩模80B的各掩模开口81和掩模开口组区域82分别记作掩模开口81B和掩模开口组区域82B。

如图1和图3(b)所示，蒸镀掩模80A和蒸镀掩模80B的掩模开口81A、81B在X轴方向上错开位置地配置，使得在沿Y轴方向看时，Y轴方向上相邻的掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B在彼此相对的一侧的端部，在X轴方向上分别重叠，并且通过该端部的在Y轴方向上相邻的掩模开口81A、81B而形成的蒸镀膜221沿上述第一方向位于同一直线上。

由此，蒸镀掩模80A、80B在上述端部，通过彼此相对的掩模开口81A、81B形成同一子像素的蒸镀膜221。

即，如图1和图3(b)所示，通常，不同的蒸镀部件101(参照图3)间的掩模开口81的位置本身不在同一直线上，为错开的位置。

其理由如下。一般掩模开口81相对于子像素在对応的射出口61一侧错开若干地配置。这是因为从蒸镀源60飞来的蒸镀颗粒211在从掩模开口81通过而附着于分离的被成膜基板200之前在X轴方向上移动，掩模开口81的位置考虑其位置偏移量地配置。该位置偏移起因于蒸镀颗粒211的行进方向相对于Z轴具有角度、以及蒸镀掩模80与被成膜基板200分离。因此，掩模开口81相对于对应的子像素一定配置在射出口61侧。因此，不同的蒸镀部件101间的掩模开口81的位置一般在X轴方向彼此错开。

此外，在本实施方式中，在各蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82的、沿Y轴方向看时掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B在X轴方向上重叠的区域(以下，称为“重叠区域83”)，从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度以随着向各掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短的方式形成，使得与各子像素对应的各蒸镀膜221的厚度彼此相等。

另外，此处所谓的“从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度”不是蒸镀掩模80的掩模开口81本身的Y轴方向的长度，表示从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的实际开口的蒸镀掩模80的实质上的Y轴方向的开口长度(即，蒸镀颗粒211能够通过的开口区域的Y轴方向的长度)。其中，在本实施方式中，从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度和在蒸镀掩模80形成的掩模开口81的Y轴方向的长度相等。

图4是表示蒸镀掩模80的掩模开口组区域82的开口图案的平面图。

如图4所示，各掩模开口组区域82的掩模开口81分别在X轴方向上以相同的间距相互平行地形成。另一方面，各掩模开口组区域82的掩模开口81在上述重叠区域83以各蒸镀掩模80的Y轴方向的开口长度d1逐渐变短的方式形成。

在本实施方式中，在上述重叠区域83，在图4中从A1至A2，开口长度d1以一定的变化率从285mm变化为15mm，并且以Y轴方向的蒸镀掩模80A与蒸镀掩模80B的合计开口长度保持为300mm的方式形成掩模开口组区域82。

此外，图5是表示本实施方式的蒸镀掩模80的掩模图案的一个例子的平面图。

在本实施方式中，作为一个例子，在图5中，令d1＝300mm、d2＝d4＝d5＝50mm、d3＝100mm。另外，此处所示的d1的长度是各蒸镀掩模80的掩模开口组区域82的Y轴方向的最大开口长度，分别等于各掩模开口组区域82的、在沿Y轴方向的同一直线上不存在其它蒸镀掩模80的掩模开口81的区域(以下，称为“非重叠区域84”)的Y轴方向的开口长度，以及Y轴方向上的蒸镀掩模80A与蒸镀掩模80B的合计开口长度。另外，各掩模开口组区域82的重叠区域83的掩模开口81的开口长度如使用图4说明的那样。此外，d2是上述重叠区域83的X轴方向的宽度，表示掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B的X轴方向的重叠宽度。d3表示相邻的掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B之间的X轴方向的间距，d3＝(d4/2)+d2+(d5/2)。d4表示各掩模开口组区域82的、在沿Y轴方向的同一直线上不存在蒸镀掩模80的掩模开口81的非重叠区域84的X轴方向的宽度。此外，d5表示在X轴方向上相邻的掩模开口组区域82间的遮蔽区域85的X轴方向的宽度。不过，这些数值均为一个设计例，并不仅限定于上述数值。

在X轴方向上相邻的掩模开口组区域82，从防止蒸镀模糊的观点出发，隔着至少一个像素的遮蔽区域85彼此分离地形成，具体而言，例如分离5mm以上地形成。

在X轴方向上相邻的掩模开口组区域82的边界部，从各掩模开口组区域82的两个射出口61飞来的蒸镀颗粒211容易相混。但是，通过这样隔着至少一个像素的遮蔽区域85设置相邻的掩模开口组区域82，能够防止蒸镀模糊，特别能够如上述那样防止在X轴方向上相邻的掩模开口组区域82的边界部的蒸镀模糊。

另外，在图5中以下述情况为例进行图示：在一个蒸镀掩模80，将具有图4所示的开口图案的在X轴方向上设置有两个掩模开口组区域82的蒸镀掩模80，在X轴方向上设置两个，且在Y轴方向上设置两个。

不过，图5只不过表示在X轴方向和Y轴方向上设置有多个蒸镀掩模80的情况，X轴方向和Y轴方向的蒸镀掩模80的数量并不限定于上述个数。在使用大型基板的情况下，为了实现蒸镀掩模80的小型化，在X轴方向上设置大量的蒸镀掩模80。

即，蒸镀单元54的蒸镀掩模80的数量，根据被成膜基板200的尺寸以及在一个蒸镀掩模80形成的掩模开口组区域82的数量适当地决定。此时，以在Y轴方向上配置的蒸镀掩模80的Y轴方向的合计长度比Y轴方向的被成膜基板200的蒸镀区域的长度短的方式，决定蒸镀单元54的蒸镀掩模80的数量。此外，以X轴方向的蒸镀掩模80的合计长度(总长)比X轴方向的被成膜基板200的蒸镀区域的长度长的方式，决定蒸镀单元54的蒸镀掩模80的数量。由此，能够遍及X轴方向的被成膜基板200的蒸镀区域整个区域地设置掩模开口81。

另外，对于不同列的蒸镀掩模80，在各自的蒸镀掩模80的掩模开口组区域82的端部进行对位，以使得通过各自的蒸镀掩模80的掩模开口81形成的蒸镀膜221位于同一直线上，为此，优选使蒸镀掩模80在Y轴方向尽量相互接近地配置。此外，如果Y轴方向的蒸镀掩模80的个数增加，则随之射出口61的数量和后述的限制板73、75的数量等蒸镀掩模80以外的零件个数也增加。因此，优选各列的蒸镀掩模80在X轴方向上以不存在空缺图案的方式连续配置，由此将Y轴方向的蒸镀掩模80的数量(列数)控制为两个。

不过，本实施方式并不限定于此，在Y轴方向上配置的蒸镀掩模80的Y轴方向的合计长度也可以超过Y轴方向的被成膜基板200的蒸镀区域的长度。

扫描蒸镀法的蒸镀膜221的膜厚能够通过下式求取。

80的Y轴方向的开口长度[mm]/搬送速度[mm/s]

因此，例如如在生产线上制造有机EL显示装置1的情况那样，生产线的装置结构中，在进行扫描蒸镀时需要使被成膜基板200的输送速度与前后工序一致等，要提高输送速度、获得相同膜厚的蒸镀膜221的情况下，需要提高蒸镀率或加长蒸镀掩模80的Y轴方向的开口长度。由于材料的劣化和辐射热引起的基板过热等理由，在与现状相比难以提高蒸镀率的情况下，需要将蒸镀掩模80的Y轴方向的开口长度加长。因此，在例如要在不能将蒸镀率提高至现状以上的状况下提高输送速度的情况下，根据状况必须以非常低蒸镀率的处理进行扫描蒸镀的情况下，或者必须形成厚度非常厚的蒸镀膜221的情况下等，根据状况，也可以使用在Y轴方向上配置的蒸镀掩模80的Y轴方向的合计长度超过基板长度的蒸镀单元54。

(限制板单元70)

限制板单元70设置在蒸镀源60与蒸镀掩模80之间，使这些蒸镀源60与蒸镀掩模80分别分离。

如图1和图3(a)所示，限制板单元70包括沿X轴方向配置在X轴方向的不同位置的多个限制板73(第一限制板)。这些限制板73分别以相同尺寸的板状部件形成。

限制板73在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时分别与Y轴平行地延伸设置，以相同间距在X轴方向上相互平行地排列有多个。由此，从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向(即，与Z轴平行的方向)看时，在X轴方向上相邻的限制板73间分别形成一个限制板开口74作为开口区域。

另外，此处也将设置在限制板单元70的扫描方向上游侧的第I列限制板73记作限制板73A，将设置在扫描方向下游侧的第II列限制板73记作限制板73B。此外，将相邻的限制板73A间的限制板开口74记作限制板开口74A，将相邻的限制板73B间的限制板开口74记作限制板开口74B，将第I列限制板列72记作限制板列72A，将第II列限制板列72记作限制板列72B。

如图1所示，限制板73A以在X轴方向上分别夹着第I列的射出口61A的方式，沿X轴方向配置在X轴方向的不同位置。此外，限制板73B以在X轴方向上分别夹着第II列的射出口61B的方式，沿X轴方向配置在X轴方向的不同位置。

因此，在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，限制板73A和限制板73B与射出口61同样地交错配置。

在X轴方向上相邻的一对限制板73、配置在一对限制板73之间的一个射出口61、由配置在一对限制板73之间的多个掩模开口81构成的一个掩模开口组区域82构成一个蒸镀部件101。因而，在本实施方式中，在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，多个蒸镀部件101排列成三角形，第I列蒸镀部件101与第II列蒸镀部件101在X轴方向上错开1/2间距(具体而言，按在X轴方向上相邻的限制板73的间距为1/2间距)地配置。

这样，限制板73配置成蒸镀源60的射出口61与各限制板开口74一对一地对应。射出口61的X轴方向位置位于相邻的限制板73的X轴方向的中央位置。限制板开口74的间距配置成与各掩模开口组区域82一对一地对应，形成为比掩模开口81的间距大。因此，在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，在X轴方向上相邻的限制板73间配置有多个掩模开口81。

此外，限制板73分别以YZ平面为主面，分别配置成与蒸镀掩模80的主面垂直。

另外，优选在第I列限制板73A与第II列限制板73B之间，沿X轴方向设置作为第二限制板的限制板75或分隔部。

图1～图3(a)以在限制板73A与限制板73B之间与X轴平行地设置有限制板75的情况为例进行图示。

限制板73A的第II列侧的端面和限制板73B的第I列侧的端面与限制板75连接。另外，限制板75的Z轴方向的长度没有特别限定，优选具有与限制板73A、73B同等以上的长度，优选限制板75的Z轴方向的上侧端缘与各限制板73A、73B的Z轴方向的上侧端缘相比向蒸镀掩模80侧突出，限制板75的Z轴方向的下侧端缘与各限制板73A、73B的Z轴方向的下侧端缘相比向蒸镀源60侧突出。

限制板75作为各限制板73A、73B的支承部件发挥作用，并且防止射入该限制板单元70的蒸镀颗粒211向不同列蒸镀部件101入射。

从蒸镀源60射出的蒸镀颗粒211从限制板73间通过后，通过在蒸镀掩模80形成的掩模开口81，被蒸镀于被成膜基板200。

限制板单元70对射入该限制板单元70的蒸镀颗粒211，根据其入射角度有选择地进行捕捉。限制板单元70通过捕捉与限制板73、75冲突的蒸镀颗粒211的至少一部分，对从蒸镀源60射出的蒸镀颗粒211，限制向限制板73、75的配置方向去的蒸镀颗粒211的移动。

由此，限制板单元70将向蒸镀掩模80的掩模开口81入射的蒸镀颗粒211的入射角限制在一定范围内，防止来自相对于被成膜基板200的倾斜方向的蒸镀颗粒211的附着。

另外，为了截止斜向的蒸镀成分，限制板73、75不加热或者利用未图示的热交换器进行冷却。因此，限制板73、75与蒸镀源60的射出口61相比为低的温度(更严密而言，蒸镀材料与成为气体的蒸镀颗粒发生温度相比为低的温度)。

因此，在限制板单元70，也可以根据需要设置对限制板73、75进行冷却的未图示的冷却机构。由此，能够对所期望的角度以外的不需要的蒸镀颗粒211，通过限制板73、75进行冷却固化而进行捕捉(截止)。

(保持部件90)

保持部件90是保持蒸镀源60、限制板单元70、蒸镀掩模80的保持部件。

保持部件90作为蒸镀掩模保持部件包括掩模保持部件91(掩模框架)、掩模托盘92和未图示的掩模保持部件固定部件。

如图1、图2、图5所示，蒸镀掩模80载置于在掩模保持部件91上配置的掩模托盘92上。掩模保持部件91通过对直接保持蒸镀掩模80的掩模托盘92进行保存而保持蒸镀掩模80。此外，在蒸镀掩模80的下方配置有蒸镀源60。

掩模保持部件91通过被未图示的掩模保持部件固定部件保持而被固定。另外，掩模保持部件91和掩模托盘92的形状没有特别限定，只要能够将蒸镀掩模80从蒸镀源60和限制板单元70离开一定距离地保持、固定即可。

如图1和图5所示，掩模保持部件91例如具有中央开口的框架形状。此外，掩模托盘92例如具有中央开口的框架形状。

在掩模托盘92的与蒸镀掩模80直接面对的部分设置有开口部92a，掩模托盘92将蒸镀掩模80通过该蒸镀掩模80的外缘部进行保持。

此外，在掩模保持部件91的与蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82直接面对的部分设置有开口部91a，掩模保持部件91将载置蒸镀掩模80的掩模托盘92通过该掩模托盘92的外缘部进行保持。

不过，本实施方式并不限定于此，也可以在掩模保持部件91直接保持蒸镀掩模80。例如，掩模保持部件91通过具有形成掩模保持部件91的外缘部(外框)的框架部和在该框架部的内侧的开口部内设置有保持各蒸镀掩模80的梁部的结构，即使不使用掩模托盘92也能够保持蒸镀掩模80。另一方面，通过使用掩模托盘92，能够对每个掩模托盘92进行蒸镀掩模80的取下、交换等，能够容易地进行维护。

此外，在保持部件90，为了支承限制板单元70，具备支承部件93和未图示的一对滑动装置等。

支承部件93例如在保持部件90的X轴方向两个端部分别相对地配置。另外，在设置滑动装置的情况下，滑动装置在保持部件90的X轴方向两个端部分别相对地配置，支承部件93设置在各滑动装置的相对面侧。通过设置滑动装置，支承部件93能够以彼此相对的状态在Z轴方向和X轴方向实现滑动变位。支承部件93与滑动装置和未图示的限制板控制装置的联动，由此控制其动作。

限制板单元70例如包括未图示的框状的保持体，在该框状的保持体的X轴方向的两个端部，分别设置有以能够装卸的方式设置在支承部件93的支承部71。由此，限制板单元70能够从保持部件90进行装卸，能够定期回收沉积在该限制板单元70的蒸镀材料。

蒸镀源60、限制板单元70和蒸镀掩模80通过保持部件90被保持为一体，这些蒸镀源60、限制板单元70和蒸镀掩模80的位置被彼此相对地固定。

不过，在使被成膜基板200相对于蒸镀单元54相对移动的情况下，这些蒸镀源60、限制板单元70和蒸镀掩模80彼此相对地被固定位置即可，并不需要被保持在同一保持部件90，不一定形成为一体。

这些蒸镀源60、限制板单元70和蒸镀掩模80从蒸镀源60侧起彼此分开一定距离地相对配置。另外，这些蒸镀源60、限制板单元70与蒸镀掩模80之间的空隙能够任意设定，没有特别限定。

(开闭部件)

在使蒸镀颗粒211不向被成膜基板200的方向飞来时，优选使用未图示的开闭部件控制蒸镀颗粒211到达蒸镀掩模80的情况。

因此，例如在蒸镀源60与限制板单元70之间，为了控制蒸镀颗粒211到达蒸镀掩模80的情况，也可以根据需要设置成能够基于蒸镀停止(OFF)信号或蒸镀开始(ON)信号进行开闭(插拔)的未图示的开闭部件。

通过在蒸镀源60与限制板单元70之间适当地插入开闭部件，能够防止在不进行蒸镀的非蒸镀区域进行蒸镀。另外，开闭部件既可以与蒸镀源60设置成一体，也可以与蒸镀源60分别设置。

＜效果＞

如上所述，在本实施方式中，例如如图1和图5所示，第I列蒸镀掩模80A与第II列蒸镀掩模80B在X轴方向上错开位置地配置，使得在各自的蒸镀掩模80A、80B的掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B彼此相对的一侧的端部，沿Y轴方向看时在X轴方向上彼此重叠。此外，在沿Y轴方向看时掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B在X轴方向上重叠的重叠区域83，以从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度d1随着向各掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短，并且，Y轴方向的蒸镀掩模80A和蒸镀掩模80B的合计开口长度，与掩模开口81在X轴方向上的位置无关地保持相等的方式，形成掩模开口组区域82。

另一方面，图6(a)、(b)依次是作为比较例1、2表示代替图1所示的蒸镀掩模80、与图1同样地配置有具有由同一形状的掩模开口81构成的掩模开口组区域82的蒸镀掩模80的例子的平面图。此外，图7是表示使用图1所示的蒸镀掩模80进行蒸镀时的、第I列蒸镀掩模80A的蒸镀区域和第II列蒸镀掩模80B的蒸镀区域的蒸镀膜221的结构的平面图。

在图7，蒸镀膜221A是由蒸镀掩模80A形成的蒸镀膜221，蒸镀膜221B是由蒸镀掩模80B形成的蒸镀膜221。

图6(a)表示比较例1的蒸镀掩模80。在重叠区域83、即第I列蒸镀掩模80A的蒸镀区域与第II列蒸镀掩模80B的蒸镀区域重叠的区域，与非重叠区域84相比，掩模开口81A与掩模开口81B的Y轴方向的合计开口长度成为约2倍，形成的蒸镀膜221的膜厚也成为约2倍。由此，不适合通过比较例1的蒸镀掩模进行重叠。

图6(b)表示比较例2的蒸镀掩模80。在重叠区域83，与比较例1相比合计开口长度相等，因此重叠区域83的膜厚均匀，但是产生以下的问题。例如在由于某些问题而与掩模开口组区域82A对应的蒸镀源60A的蒸镀率变得比设定值高5％的情况下，与重叠区域83对应的蒸镀膜221的膜厚变厚2.5％。由该蒸镀掩模80A和蒸镀掩模80B形成的膜厚的急剧的变化容易被人眼察觉，该重叠区域83在显示器中成为条带状而被察觉，成为缺陷不良。

与此相对，根据本实施方式，在X轴方向的任何地点，合计开口长度均相等，重叠区域83的膜厚变得均匀。进一步，重叠区域83的掩模开口81A、81B随着向掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短，因此，例如即使在与掩模开口组区域82A对应的蒸镀源60A的蒸镀率变得比设定值高5％的情况下，与重叠区域83对应的蒸镀膜221的膜厚形成为向掩模开口组区域82的外侧去而其膜厚不均逐渐变小(此处为5％～0％)。因此，该膜厚不均难以被人眼察觉，重叠区域83在显示器中不会成为条带状被察觉。这样，根据本实施方式，即使产生膜厚不均也难以被察觉，能够形成膜厚均匀且高精细的蒸镀膜图案。

此外，根据本实施方式，能够如上述那样，将与被成膜基板200的X轴方向的各子像素对应的掩模开口81分割，实现使用了比现有技术小型的蒸镀掩模80的扫描蒸镀，因此与现有技术相比能够实现蒸镀掩模80的轻量化，能够抑制蒸镀掩模80的变形导致的蒸镀位置偏移。因此，能够抑制起因于蒸镀掩模80的变形的蒸镀模糊，所以能够实现没有混色的有机EL显示装置1。

此外，根据本实施方式，通过如上述那样，将在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模80A和蒸镀掩模80B在X轴方向上错开配置，在重叠区域83令从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度d1随着向各掩模开口组区域82的外侧去(即，图4中从A1向A2去)逐渐变短，能够在成为掩模相连部分的、掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B的边界部，使开口长度d1逐渐变化。

因此，如上所述，即使在将与被成膜基板200的X轴方向的各子像素对应的掩模开口81分割，使用比现有技术小型的蒸镀掩模80进行扫描蒸镀的情况下，也不会产生掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B的边界部的分离块，能够进行均匀的蒸镀。

此外，此时在上述端部，以在Y轴方向上相邻的掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B重叠一个像素以上的方式，在X轴方向上错开位置地配置，能够可靠地防止边界部的分离块，并且能够进行更均匀的蒸镀。

另外，由于这些掩模开口组区域82A、82B的掩模开口81A、81B的数量有限，因此掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B的重叠宽度的上限当然是与掩模开口组区域82A、82B的掩模开口81A、81B的数量相应地受到自身的限制。

＜蒸镀掩模80的变形例＞

在图1、图4、图5，以蒸镀掩模80的掩模开口组区域82为大致六角形的情况进行图示。

但是，上述掩模开口组区域82只要以从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度d1随着向各掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短，并且在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模80的合计开口长度与掩模开口81在X轴方向上的位置无关地保持相等的方式形成，就不限定于上述形状。

图12(a)～(d)是表示本实施方式的蒸镀掩模80的掩模开口组区域82的图案形状的另一个例子的主要部分平面部。

各掩模开口组区域82例如也可以如图12(a)所示那样形成为梯形。此外，各掩模开口组区域82例如既可以如图12(b)所示那样在重叠区域83具有断续地形成有开口长度不同的多个掩模开口81的形状，也可以如图12(c)所示那样，在重叠区域83具有掩模开口组区域82的外缘部形成为曲折状的形状。

此外，重叠区域83的开口长度的变化率也可以不为一定。即，在重叠区域83，开口长度并不一定以随着向掩模开口组区域82的外侧去(即，从A1向A2去)而开口长度连续地逐渐变短的方式变化。例如，既可以如图12(d)所示那样，掩模开口组区域82在重叠区域83呈台阶状形成，也可以在重叠区域83，开口长度以逐级变短的方式变化。这样，掩模开口组区域82的形状能够与掩模设计和制造方法等一致地、适当地改变。

另外，在本实施方式中，列举在一个蒸镀掩模80设置有两个掩模开口组区域82的情况进行说明，但是本实施方式并不限定于此。在各蒸镀掩模80，掩模开口组区域82至少设置一个即可，也可以设置一个或三个以上。

在任一情况下，根据本实施方式的蒸镀装置50，均如专利文献3那样不将X轴方向相邻的掩模基片在与形成的蒸镀膜的图案对应的开口部内连结，因此能够在X轴方向形成膜厚均匀且高精细的蒸镀膜图案。

＜蒸镀单元54的变形例＞

在图2，列举蒸镀源60的射出口61呈二维状交错配置的場合为例进行说明，但是本实施方式并不限定于此。

图13是示意地表示本实施方式的蒸镀装置50的主要部分的概略结构的另一个例子的截面图。

本实施方式的蒸镀装置50例如也可以如图13所示那样，代替图2所示的蒸镀源60使用两个呈一维状(即，线状)排列有射出口61的蒸镀源60，在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，扫描方向上游侧的蒸镀源60和扫描方向下游侧的蒸镀源60，以各自的射出口61成为交错状的方式，错开X轴方向上的位置地配置。

此外，在图2，列举扫描方向上游侧的蒸镀掩模80A和扫描方向下游侧的蒸镀掩模80B被保持在同一个保持部件90的情况为例进行说明，也可以如图13所示那样，扫描方向上游侧的蒸镀掩模80A和扫描方向下游侧的蒸镀掩模80B被分别保持在不同的保持部件90。

＜其它变形例＞

另外，在本实施方式中，列举将蒸镀装置50用作有机EL显示装置1的制造装置、图案形成蒸镀膜221的情况为例进行了说明。但是，本实施方式并不限定于此，能够作为用于形成与显示装置的子像素对应的蒸镀膜图案的装置广泛地加以应用。

(实施方式2)

基于图14(a)～(c)对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，对与实施方式1的不同点进行说明，对具有实施方式1中使用的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的附图标记，省略其说明。

图14(a)是表示从蒸镀掩模80的背面侧看被成膜基板200时的本实施方式的蒸镀单元54的主要部分的概略结构的立体图，图14(b)是表示从图14(a)所示的构成要素的侧面看其时的概略结构的侧面图，图14(c)是表示图14(a)所示的蒸镀掩模80的概略结构的平面图。

在实施方式1中，列举各蒸镀掩模80的各掩模开口81与各掩模开口81的X轴方向的位置相应地在Y轴方向上形成为不同的长度的情况为例进行了说明。

在本实施方式中，如图14(c)所示，在各蒸镀掩模80形成的各掩模开口81均为同一形状，如图14(a)、(b)所示，在蒸镀掩模80的正下方，在每个掩模开口组区域82分别设置有覆盖各掩模开口组区域82的重叠区域83的一部分的遮蔽板111，在这方面与实施方式1不同。

这样，本实施方式的蒸镀装置50通过遮蔽板111，分别覆盖各蒸镀掩模80的各掩模开口81中的沿Y轴方向看时掩模开口组区域82在X轴方向上分别重叠的区域(即，重叠区域83)的掩模开口81的一部分，由此，改变该掩模开口81的从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的Y轴方向的开口长度。

这样，蒸镀掩模80的开口长度，除了如实施方式1那样改变在蒸镀掩模80实际形成的掩模开口81本身的长度以外，还可以通过另外插入的遮蔽板111，与实施方式1同样地改变实质上的开口长度。

在如实施方式1那样改变在蒸镀掩模80实际形成的掩模开口81本身的长度的情况下，不需要遮蔽板111，因此能够削减零件个数。

另一方面，根据本实施方式，能够令蒸镀掩模80的掩模开口81为同一形状，能够在蒸镀掩模80的制造后容易地改变沿Y轴方向看时的掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B的X轴方向的重叠宽度(即，重叠区域83的X轴方向的宽度)。因此，能够提高蒸镀掩模80的布局的自由度。

此外，在改变蒸镀掩模80的掩模开口81自身的形状的情况下，虽然因为在一个蒸镀掩模80一并制作掩模开口81所以容易获得精度，但是在由于处理条件和材料的种类的改变和时效等而膜厚分布发生变化的情况下，需要重新制作蒸镀掩模80，在费用、交货期(生产所需时间)方面缺乏灵活性。另一方面，在如本实施方式那样利用遮蔽板111进行掩模开口81的开口长度的调节的情况下，能够通过根据蒸镀膜221的膜厚的多样的分布特性个别地调整遮蔽板111的位置和形状来灵活地进行应对。

遮蔽板111例如为铝和不锈钢等材质，具有相应的加工精度(例如±0.1mm等)即可，大小也比蒸镀掩模80小，因此在费用、交货期方面优势大。

另外，上述遮蔽板111的大小和形状以使得重叠区域83的掩模开口组区域82的形状获得与实施方式1的重叠区域83的掩模开口组区域82的形状相同的形状的方式适当地设定即可，没有特别限定。

此外，遮蔽板111的材料也没有特别限定。不过，遮蔽板111能够防止蒸镀颗粒211通过设置有该遮蔽板111的区域中的掩模开口81即可，只要能够以不产生变形的方式进行保持，就为了实现轻量化而优选为尽量轻的原料且厚度薄地形成。

(实施方式3)

基于图15(a)～(d)对本实施方式进行说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式2的不同点进行说明，对具有实施方式1、2中使用的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的附图标记，省略其说明。

图15(a)是表示从蒸镀掩模80的背面侧看被成膜基板200时的本实施方式的蒸镀单元54的主要部分的概略结构的立体图，图15(b)是表示从图15(a)所示的构成要素的侧面看其时的概略结构的侧面图，图15(c)是表示图15(a)所示的蒸镀掩模80的概略结构的平面图，图15(d)是表示图15(a)所示的遮蔽板111的概略结构的平面图。

在实施方式3中，列举在各蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82，在每个重叠区域83设置遮蔽板111的情况为例进行了图示。因此，在实施方式2中，在各掩模开口组区域82，各设置了两个遮蔽板111。

在本实施方式中，列举通过将实施方式2所示的遮蔽板111形成为一体而对多个掩模开口组区域82共用地设置一个遮蔽板111的情况为例进行了说明。

在本实施方式中，如图15那样，在多个蒸镀掩模80的正下方设置一个遮蔽板111。在遮蔽板111设置有用于使各掩模开口组区域82的一部分露出的开口区域112。

另外，开口区域112的形状能够适当地设定，以使得掩模开口组区域82在重叠区域83的形状获得与实施方式1的掩模开口组区域82在重叠区域83的形状相同的形状。

本实施方式，与实施方式2一样，也能够令蒸镀掩模80的掩模开口81为同一形状，能够在蒸镀掩模80的制造后容易地改变沿Y轴方向看时的掩模开口组区域82A与掩模开口组区域82B的X轴方向的重叠宽度(即，重叠区域83的X轴方向的宽度)。因此，能够提高蒸镀掩模80的布局的自由度。此外，在本实施方式中，能够通过对多个掩模开口组区域82共用地设置一个遮蔽板111而容易地进行遮蔽板111与蒸镀掩模80的对位。进一步，在本实施方式中，因为在一个遮蔽板111一并制作开口区域112，所以容易获得精度。此外，在上述开口区域112不需要蒸镀掩模80那样的高精细图案。因此，与将蒸镀掩模80的掩模开口81的形状(Y轴方向的长度)根据各掩模开口81的X轴方向的位置进行改变的情况相比较，在费用、交货期方面有利。

(实施方式4)

对本实施方式，主要基于图16(a)、(b)～图20(a)、(b)说明如下。

另外，在本实施方式中，主要对与实施方式1～3不同点进行说明，对具有实施方式1～3中使用的构成要素相同的功能的构成要素标注相同的附图标记，省略其说明。

图16(a)、(b)是示意地表示蒸镀源60与被成膜基板200之间的距离(靶距)相对长的情况下与短的情况下的蒸镀膜221的膜厚分布的不同的图，图16(a)靶距相对长的情况，图16(b)表示靶距相对短的情况。

在靶距长的情况下，具有如图16(a)所示那样膜厚分布好的优点，另一方面，具有蒸镀率低的缺点。另一方面，如果靶距短，则具有蒸镀率高、生产节拍(Tact)快的优点，但是另一方面具有如图16(b)所示那样膜厚分布大的缺点。因此，优选根据靶距区别使用所使用的蒸镀掩模80。在靶距长、膜厚分布为能够无视的程度那么小的情况下，即使为实施方式1～3的掩模开口81的图案形状也能够形成均匀的蒸镀膜。但是，在为了提升生产节拍而将靶距设计得短的情况下，该膜厚分布变得不能无视，需要进行考虑了膜厚分布的掩模开口81的图案形状的设计。

图17(a)、(b)分别是表示本实施方式的蒸镀掩模80的掩模开口组区域82的开口图案的一个例子的平面图。

具有图17(a)所示的开口图案蒸镀掩模80，例如在图16(a)所示那样靶距比较长而膜厚分布不能无视的情况下使用。在图16(b)所示那样靶距短的情况下，例如使用具有图17(b)所示的开口图案的蒸镀掩模80。

真空中的蒸镀如从图16(a)、(b)所示的膜厚分布判断的那样，因为射出口61的X轴方向的位置位于各掩模开口组区域82的X轴方向的中央位置，所以根据余弦定律，在与蒸镀源60的射出口61垂直的部分，即各蒸镀部件101(蒸镀空间)的中心部分，发射最多的蒸镀颗粒211，越靠近限制板73侧，发射的蒸镀颗粒211的量就越减少。

因此，虽然根据掩模开口组区域82的大小、换言之根据蒸镀部件101的X轴方向的大小，但是通过使掩模开口81的Y轴方向的长度在位于射出口61的正上方的掩模开口81最短，自射出口61的X轴方向位置起位于X轴方向上的越远的位置的掩模开口81就越长，能够形成同一厚度的条形状的蒸镀膜221。

因此，优选如图17(a)、(b)所示那样，在从蒸镀源中心至A1，令蒸镀掩模80的开口长度(图17(a)、(b)中与掩模开口81的Y轴方向的长度相等)反映膜厚分布，逐渐变长，在从A1至A2，与实施方式1～3同样地令蒸镀掩模80的开口长度随着向掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短。

即，优选在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，各掩模开口组区域82的、在沿Y轴方向的同一直线上不存在其它蒸镀掩模80的掩模开口81的非重叠区域84的掩模开口81，以随着自X轴方向的射出口61的正上方起的距离变长而Y轴方向的开口长度变长的方式设定开口长度。

例如，图17(a)、(b)所示的蒸镀掩模80的各掩模开口81的开口长度能够作为膜厚修正后掩模开口长度如式(1)所示那样，使用从掩模开口组区域82内的蒸镀膜221的膜厚分布算出的膜厚修正系数来进行计算。

膜厚修正后掩模开口长度＝基准掩模开口长度×膜厚修正系数……(1)

此处，膜厚修正系数如以下那样求取。即，使用图6(a)、(b)那样的在X轴方向上令开口长度一样的蒸镀掩模80，仅通过列I来蒸镀，测定与各掩模开口81对应的蒸镀膜221的膜厚。这样，求取与X轴方向的各掩模开口81对应的蒸镀膜221的膜厚和最小膜厚值(与掩模开口组区域82的最端部的掩模开口81)，根据下式(2)求取膜厚修正系数。此外，对列II也同样地求取膜厚修正系数。

膜厚修正系数＝1/(与X轴方向的各掩模开口81对应的蒸镀膜221的膜厚/最小膜厚值)……(2)

另外，此处，膜厚修正后掩模开口长度表示如上述那样使用蒸镀膜221的膜厚分布修正后的、各掩模开口81的修正后的开口长度。此外，基准掩模开口长度是实施方式1～3那样的、不考虑膜厚分布的掩模开口81的开口长度。此外，根据X轴方向的各位置的、开口长度改变前的各掩模开口81获得的膜厚如图16(a)、(b)所示那样具有膜厚分布。

以下，以图5所示的成膜区间L的成膜为例，对图17(a)、(b)所示的蒸镀掩模80的开口长度的改变方法进行说明。

图18(a)是表示在第I列的蒸镀掩模80A的蒸镀区域使用如图6(a)、(b)所示那样在X轴方向上令开口长度一样的蒸镀掩模80的情况下的、成膜区间L的X轴方向的各位置的蒸镀膜221的膜厚分布与膜厚修正系数的关系的图表。此外，图18(b)是表示上述成膜区间L的、蒸镀掩模80A的掩模开口比率(令膜厚修正前的非重叠区域84的掩模开口81的开口长度、即非重叠区域84的基准掩模开口长度为100％时的比率)的膜厚修正前后的变化与膜厚修正系数的关系的图表，图18(c)是表示X轴方向的各位置的、膜厚修正前的蒸镀掩模80A与蒸镀掩模80B的掩模开口比率的表。

此外，图19(a)是表示在第II列的蒸镀掩模80B的蒸镀区域使用如图6(a)、(b)所示那样在X轴方向上令开口长度一样的蒸镀掩模80的情况下的、成膜区间L的X轴方向的各位置的蒸镀膜221的膜厚分布与膜厚修正系数的关系的图表。此外，图19(b)是表示上述成膜区间L的、蒸镀掩模80B的膜厚修正前和修正后的掩模开口比率的变化与膜厚修正系数的关系的图表。

此外，图20(a)是表示成膜区间L的X轴方向的各位置的、膜厚修正后的蒸镀掩模80A、80B的掩模开口比率的变化与由膜厚修正后的蒸镀掩模80A、80B形成的蒸镀膜221的膜厚(将膜厚修正后的蒸镀掩模80A、80B的膜厚合成而得到的合成膜厚)的关系的图表，(b)是表示膜厚修正前后的主要部分的掩模开口比率的变化的图表。

另外，图18(a)、(b)～图20(a)、(b)中，A2、A2’表示与图5所示的、成膜区间L的蒸镀掩模80A的掩模开口81的X轴方向的两个端部的位置相当的位置。此外，图18(a)、(b)～图20(a)、(b)中，位置“0”表示上述成膜区间L的蒸镀掩模80A的X轴方向的蒸镀区域中心。此外，图18(a)、(b)～图20(a)、(b)的纵轴表示将各图中记载的值基准化(标准化)时的、相对于基准值的比率。具体而言，表示膜厚分布以及合成膜厚的情况下、以膜厚分布的最大膜厚为100％时的X轴方向的各位置的蒸镀膜221的膜厚的比率，膜厚修正系数表示以膜厚修正系数的最大值为100％时的膜厚修正系数的比率，开口比率表示X轴方向的各位置的、相对于非重叠区域84的基准掩模开口长度的各蒸镀掩模80A、80B的掩模开口长度的比率(掩模开口比率)。

具有图17(b)所示的开口图案的蒸镀掩模80A、80B的膜厚修正后的掩模开口比率(即，图18(b)、图19(b)和图20所示的膜厚修正后的蒸镀掩模80A、80B的掩模开口比率)分别能够根据下式(3)计算。另外，在下式(3)，膜厚修正前的掩模开口比率是基准掩模开口长度的开口比率。

膜厚修正后的掩模开口比率＝膜厚修正前的掩模开口比率×膜厚修正系数……(3)

如从图17(b)、图18(b)、图19(b)、图20(b)判断的那样，根据本实施方式，在膜厚分布大的情况下，通过基于膜厚修正后掩模开口长度来決定或改变各掩模开口81的开口长度，膜厚修正后的掩模开口组区域82的形状在重叠区域83、连结掩模开口组区域82的各顶点的线的中间部成为与直线连结各顶点的情况相比稍膨胀的形状。

另外，由膜厚修正后掩模开口长度形成的蒸镀膜221的膜厚与最小膜厚值相等。在图18(a)所示的例子中，修正后的膜厚与修正前的膜厚相比成为约82％的膜厚。这样，将膜厚向变小的方向进行修正的理由是因为：从提高蒸镀的材料的利用效率的观点出发，使得掩模开口长度在初期形成得最长，在从该长度变短的方向对掩模开口长度进行修正。这样，虽然修正后的膜厚变小，但是例如通过蒸镀源60的蒸镀温度、提高蒸镀率，进行使修正后的膜厚与修正前的膜厚一致的调整。这样，能够消除膜厚分布，以所期望的的膜厚形成均匀的蒸镀膜。

如上所述，在本实施方式中，根据通过各掩模开口81来实际形成的蒸镀膜221的膜厚，计算各掩模开口81的膜厚修正后掩模开口长度，由此，能够如图20(a)所示那样，与掩模开口81在X轴方向上的位置无关地，均形成相等膜厚的蒸镀膜221。

由此，能够不仅考虑一个蒸镀部件101的膜厚，而且考虑通过在Y轴方向上相邻的蒸镀部件101的掩模开口81来形成的蒸镀膜221的重叠地，形成同一厚度的条形状的蒸镀膜221。

另外，在本实施方式中，列举如实施方式1中所示那样将蒸镀掩模80的掩模开口81的Y轴方向的长度与该掩模开口81的X轴方向的位置相应地进行变更的情况，当然也可以如实施方式2、3所示那样使用遮蔽板111改变蒸镀掩模80的实质上的开口长度。

此外，在本实施方式中，作为靶距短的情况下使用的蒸镀掩模80列举具有图17(b)所示的开口图案的蒸镀掩模80的例子进行了说明，但是本实施方式并不限定于此。例如，即使靶距短，也可以通过例如使用限制板(控制板)遮蔽掩模开口组区域82的重叠区域83的一部分的膜厚分布差的区域，即使在使用具有图17(a)所示的开口图案的蒸镀掩模80的情况下，也能够与掩模开口81在X轴方向上的位置无关地形成相等膜厚的蒸镀膜221。同样，通过遮蔽掩模开口组区域82的重叠区域83的一部分的膜厚分布差的区域，即使在使用具有实施方式1～3所示的开口图案的蒸镀掩模80的情况下，也能够与掩模开口81在X轴方向上的位置无关地形成相等膜厚的蒸镀膜221。

(总结)

本发明的方式1的蒸镀装置50是在用于显示装置(例如有机EL显示装置1)的被成膜基板200上，对上述显示装置的每个子像素(子像素2R、2G、2B)形成规定的图案的蒸镀膜221的蒸镀装置，其包括：具有蒸镀源60和多个蒸镀掩模80的蒸镀单元54；以及使上述蒸镀单元54和被成膜基板200中的一方相对于另一方相对移动的移动装置(基板移动装置103或蒸镀单元移动装置104)，上述各蒸镀掩模80的作为上述移动装置的移动方向(扫描方向)的第一方向(Y轴方向)和与该第一方向垂直的第二方向(X轴方向)的长度，比各自方向上的上述被成膜基板200的蒸镀区域的长度短，上述蒸镀掩模80至少在上述第一方向上配置有多个，上述各蒸镀掩模80在上述第二方向上具有一个掩模开口组区域82或者隔着至少一个像素的遮蔽区域85具有多个掩模开口组区域82，上述掩模开口组区域82各自由至少在上述第二方向排列的多个掩模开口81构成，且各自与上述蒸镀源60的蒸镀颗粒211的射出口61成对设置，上述第一方向上相邻的蒸镀掩模80在上述第二方向上错开位置地配置，使得各个蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82的上述第二方向的端部中的与另一个蒸镀掩模80的掩模开口组区域82相对的一侧的端部的多个掩模开口81，在沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠，并且通过该端部的在上述第一方向上相邻的掩模开口81形成的蒸镀膜221沿上述第一方向位于同一直线上，上述第二方向的上述蒸镀掩模80的合计长度(总长)比上述第二方向的上述被成膜基板200的蒸镀区域的长度长，上述各掩模开口81与上述各子像素对应地设置，在上述各蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82中的沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠的区域(重叠区域83)中，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度随着向上述各掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短。

另外，此处所谓的“从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度”不是蒸镀掩模80的掩模开口81本身的上述第一方向的长度，而是表示在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时实际开口着的蒸镀掩模80的实质上的上述第一方向的开口长度(即，蒸镀颗粒211能够通过的开口区域的上述第一方向的长度)。即，在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，蒸镀掩模80的掩模开口81的一部分例如被遮蔽板111堵塞的情况下，从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度表示在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，实际开口的掩模开口81的第一方向的长度(即，未被上述遮蔽板111堵塞的掩模开口81的第一方向的长度)。

根据上述结构，能够将与被成膜基板200的上述第二方向的各子像素对应的掩模开口81分割，实现使用了比现有技术小型的蒸镀掩模80的扫描蒸镀，因此，能够使蒸镀掩模80比现有技术轻量化，能够抑制蒸镀掩模80的变形引起的蒸镀位置偏移。因此，能够抑制起因于蒸镀掩模80的变形的蒸镀模糊。

此外，根据上述结构，如上所述，将在上述第一方向上相邻的蒸镀掩模80A和蒸镀掩模80B在上述第二方向上错开地配置，在沿上述第一方向看时各个蒸镀掩模80的掩模开口组区域82在上述第二方向上重叠的区域83中，使从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度随着向各掩模开口组区域82的外侧去逐渐变短，由此，在成为连结多个蒸镀掩模80的掩模相连部分的、在上述第一方向上相邻的蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82的边界部，能够使开口长度逐渐变化。

因此，如上所述，即使在如上述那样将与被成膜基板200的上述第二方向的各子像素对应的掩模开口81分割，使用比现有技术小型的蒸镀掩模80进行扫描蒸镀的情况下，也不会产生上述掩模开口组区域的边界部的分离块，能够进行均匀的蒸镀。

此外，根据上述结构，在子像素内不在X轴方向上连结蒸镀掩模80，因此容易进行图案控制。

此外，根据上述结构，各掩模开口组区域82与蒸镀源60的射出口61成对设置，由此，能够限定向各个掩模开口81飞来的蒸镀颗粒211的飞来源(射出口61)，所以能够对于其飞来角度设定最佳的掩模开口81的位置。因此，能够防止蒸镀模糊，并且能够提高蒸镀效率。

此外，在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域82的边界部，从各掩模开口组区域82的两个射出口61飞来的蒸镀颗粒211容易相混。但是，通过如上述那样，隔着至少一个像素的遮蔽区域85设置在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域82，能够防止蒸镀模糊，特别能够防止在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域的边界部的蒸镀模糊。

此外，根据本发明的一个方式，各掩模开口组区域与蒸镀源的射出口成对设置，因此能够限定向各个掩模开口飞来的蒸镀颗粒的飞来源(射出口)，因此能够对于其飞来角度设定最佳的掩模开口的位置。因此，能够防止蒸镀模糊，并且能够提高蒸镀效率。

此外，在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域的边界部，从各掩模开口组区域的两个射出口飞来的蒸镀颗粒容易相混。但是，通过如上述那样，隔着至少一个像素的遮蔽区域设置在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域，能够防止蒸镀模糊，特别能够防止在上述第二方向上相邻的掩模开口组区域的边界部的蒸镀模糊。

本发明的方式2的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1中，上述蒸镀掩模80在上述第一方向和第二方向上分别配置有多个。

由此，能够实现蒸镀掩模80的更小型化。

本发明的方式3的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1或2中，上述第一方向上相邻的蒸镀掩模80，在上述各蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82的上述端部，在上述第二方向上将位置错开一个像素以上地配置。

根据上述结构，能够可靠地防止上述边界部的分离块，并且能够进行更均匀的蒸镀。

本发明的方式4的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1～3中的任一方式中，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，在上述各蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82的、沿上述第一方向看时与上述第二方向分别重叠的区域(重叠区域83)中，与各子像素对应的配置在上述第一方向的蒸镀掩模80的掩模开口81的上述第一方向的合计开口长度分别相等。

此外，本发明的方式5的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1～4中的任一方式中，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，与各子像素对应的配置在上述第一方向的蒸镀掩模80的掩模开口81的上述第一方向的合计开口长度，与掩模开口81在上述第二方向上的位置无关地分别相等。

根据上述方式5和方式6的各结构，在上述第二方向(X轴方向)上相邻的掩模开口81间，在蒸镀量方面不产生不均，能够均匀地进行蒸镀。因此，能够形成膜厚均匀且高精细的蒸镀膜图案。

本发明的方式6的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1～4中的任一方式中，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，上述各掩模开口组区域82中的、在沿上述第一方向的同一直线上不存在其它蒸镀掩模80的掩模开口81的区域的掩模开口81，随着上述第二方向上的自上述射出口61的正上方起的距离变长而使上述第一方向的开口长度变长。

真空中的蒸镀根据余弦定律，在与蒸镀源60的射出口61垂直的部分即各蒸镀部件101(蒸镀空间)的中心部分发射最多的蒸镀颗粒211，越靠近限制板73侧，发射的蒸镀颗粒211的量就越减少。

因此，虽然根据掩模开口组区域82的大小、换言之根据蒸镀部件101的X轴方向的大小，但是通过使掩模开口81的Y轴方向的长度在位于射出口61的正上方的掩模开口81最短，自射出口61的X轴方向位置起位于X轴方向上的越远的位置的掩模开口81就越长，能够形成同一厚度的条形状的蒸镀膜221。

因此，如上所述，在从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，各掩模开口组区域82中的、在沿上述第一方向的同一直线上不存在其它蒸镀掩模80的掩模开口81的区域的掩模开口81，以随着自上述第二方向的射出口61的正上方起的距离变长而上述第一方向的开口长度变长的方式设定开口长度。

本发明的方式7的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式6中，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，与各子像素对应的配置在上述第一方向上的蒸镀掩模80的掩模开口81的上述第一方向的合计开口长度(膜厚修正后掩模开口长度)，在使上述各蒸镀掩模80的上述第一方向的开口长度一样时的开口长度改变前的上述第一方向的开口长度为基准掩模开口长度时，满足下式：

上述第一方向的合计开口长度(膜厚修正后掩模开口长度)＝基准掩模开口长度×膜厚修正系数，

膜厚修正系数＝1/(与上述第二方向的上述各掩模开口81对应的蒸镀膜221的膜厚/最小膜厚值)。

根据上述结构，能够与掩模开口81在上述第二方向上的位置无关地形成相等膜厚的蒸镀膜221。

本发明的方式8的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式6中，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时，与各子像素对应的配置在上述第一方向上的蒸镀掩模80的掩模开口81的上述第一方向的掩模开口比率，在使上述各蒸镀掩模80的上述第一方向的开口长度一样时的开口长度改变前的上述第一方向的开口长度为基准掩模开口长度，该基准掩模开口长度的开口比率为掩模开口比率100％时，满足下式：

上述第一方向的掩模开口比率＝基准掩模开口长度的开口比率×膜厚修正系数，

膜厚修正系数＝1/(与上述第二方向的上述各掩模开口81对应的蒸镀膜221的膜厚/最小膜厚值)。

根据上述结构，能够还考虑了由在上述第一方向上相邻的蒸镀掩模80的掩模开口81形成的蒸镀膜221的重叠地形成同一厚度的条形状蒸镀膜221。

本发明的方式9的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1～8中的任一方式中，上述各蒸镀掩模80的各掩模开口81，与该掩模开口81的上述第二方向的位置相应地在上述第一方向上形成为不同的长度。

根据上述结构，由于改变在蒸镀掩模80实际形成的掩模开口81本身的长度，所以能够削减零件个数。此外，在这样改变蒸镀掩模80的掩模开口81自身的形状的情况下，因为在一个蒸镀掩模80一并制作掩模开口81，所以具有容易地获得精度的优势。

本发明的方式10的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式1～8中的任一方式中，在上述各蒸镀掩模80形成的各掩模开口81均为同一形状，上述蒸镀单元54具有遮蔽板111，该遮蔽板111对上述各蒸镀掩模80的各掩模开口81中的在沿上述第一方向的同一直线上设置有其它蒸镀掩模80的掩模开口81的一部分掩模开口81分别进行覆盖，由此改变该掩模开口81的从与上述蒸镀掩模的主面垂直80的方向看时的上述第一方向的开口长度。

此外，本发明的方式11的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式10中，在上述各蒸镀掩模80的上述各掩模开口组区域82分别设置有上述遮蔽板111。

此外，本发明的方式12的蒸镀装置50优选如下方式：在上述方式10，上述遮蔽板111具有使上述各掩模开口组区域82的一部分露出的开口区域112，对多个掩模开口组区域82共用地设置。

根据上述方式8～10的各结构，能够令蒸镀掩模80的掩模开口81为同一形状，能够在蒸镀掩模80的制造后容易地改变沿上述第一方向看时的在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模80的掩模开口组区域82的、上述第二方向的重叠宽度(即，重叠区域83的X轴方向的宽度)。因此，能够提高蒸镀掩模80的布局的自由度。

此外，在改变蒸镀掩模80的掩模开口81自身的形状的情况下，虽然因为在一个蒸镀掩模80一并制作掩模开口81所以容易获得精度，但是在由于处理条件和材料的种类的变更和时效等而膜厚分布发生变化的情况下，需要重新制作蒸镀掩模80，在费用、交货期方面缺乏灵活性。但是，在如上述那样利用遮蔽板111进行掩模开口81的开口长度的调节的情况下，能够根据蒸镀膜221的膜厚的多样的分布特性个别地调整遮蔽板111的位置和形状来灵活地进行应对。此外，遮蔽板111例如为铝和不锈钢等材质、具有相应的加工精度即可，大小也比蒸镀掩模80小，因此在费用、交货期方面优势大。

此外，根据上述方式10，对多个掩模开口组区域82共用地设置有一个遮蔽板111，由此能够不仅获得上述效果，而且进一步获得能够容易地进行遮蔽板111与蒸镀掩模80的对位的效果。此外，根据上述方式10，在一个遮蔽板111一并制作开口区域112，因此容易获得精度。此外，在上述开口区域112不需要蒸镀掩模80那样的高精细图案。因此，与根据各掩模开口81的上述第二方向的位置改变蒸镀掩模80的掩模开口81的形状(上述第一方向的长度)的情况相比，在费用、交货期方面有利。

此外，本发明的方式13的蒸镀方法是在用于显示装置(例如有机EL显示装置1)的被成膜基板200上，对上述显示装置的每个子像素(子像素2R、2G、2B)形成规定的图案的蒸镀膜221的蒸镀方法，在该蒸镀方法中，使具有蒸镀源60和多个蒸镀掩模80的蒸镀单元54与上述被成膜基板200中的一方相对于另一方沿第一方向(扫描方向)相对移动，并且，作为上述蒸镀单元，使用如下的蒸镀单元：(a)上述各蒸镀掩模80的上述第一方向(Y轴方向)和与该第一方向垂直的第二方向(X轴方向)的长度，比各自方向上的上述被成膜基板200的蒸镀区域的长度短，(b)上述蒸镀掩模80至少在上述第一方向上配置有多个，(c)上述各蒸镀掩模80在上述第二方向上具有一个掩模开口组区域82，或者隔着至少一个像素的遮蔽区域85具有多个掩模开口组区域82，(d)上述掩模开口组区域82各自由至少在上述第二方向上排列的多个掩模开口81构成，且各自与上述蒸镀源60的蒸镀颗粒211的射出口61成对设置，(e)在上述第一方向上相邻的蒸镀掩模80在上述第二方向上错开位置地配置，使得各个蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82的上述第二方向的端部中的与另一个蒸镀掩模80的掩模开口组区域82相对的一侧的端部的多个掩模开口81，在沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠，并且通过该端部的在上述第一方向上相邻的掩模开口81形成的蒸镀膜221沿上述第一方向位于同一直线上，(f)上述第二方向上的上述蒸镀掩模80的合计长度比上述第二方向上的上述被成膜基板200的蒸镀区域的长度长，(g)在上述各蒸镀掩模80的各掩模开口组区域82中的沿上述第一方向看时在上述第二方向上分别重叠的区域(重叠区域83)，从与上述蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度随着向上述各掩模开口组区域82的外侧去而逐渐变短

另外，上述方式13的“从与蒸镀掩模80的主面垂直的方向看时的上述第一方向的开口长度”与上述方式1相同。根据上述方式13，能够获得与上述方式1相同的效果。

本发明并不限定于上述各实施方式，能够在技术方案所示的范围内进行各种变更，将在不同的实施方式中分别公开的技术方法适当地进行组合而得到的实施方式也包含在本发明的技术范围内。进一步，通过将在各实施方式中分别公开的技术方法进行组合，能够形成新的技术特征。

工业上的可利用性

本发明能够优选应用于使用了一边使被成膜基板与蒸镀单元相对移动地进行扫描一边进行蒸镀的扫描方式的扫描蒸镀中使用的蒸镀装置和蒸镀方法。特别是本发明的蒸镀装置例如能够优选应用于有机EL显示装置的有机层的分涂形成等成膜处理中使用的有机EL显示装置的制造装置以及制造方法等。此外，本发明的蒸镀方法例如能够优选应用于有机EL显示装置的有机层的分涂形成等成膜处理。

附图标记的说明

1  有机EL显示装置(显示装置)

2  像素

2R、2G、2B  子像素

10  TFT基板

11  绝缘基板

12  TFT

13  层间膜

13a 接触孔

14  配线

15  边罩

15R、15G、15B  开口部

20  有机EL元件

21  第一电极

22  空穴注入层兼空穴输送层

23R、23G、23B  发光层

24  电子输送层

25  电子注入层

26  第二电极

30  粘接层

40  密封基板

50  蒸镀装置

51  真空腔室

52  基板保持部件

53  基板移动装置

54  蒸镀单元

55  蒸镀单元移动装置(移动装置)

60、60A、60B  蒸镀源

61、61A、61B  射出口

70  限制板单元

71  支承部

72、72A、72B  限制板列

73、73A、73B  限制板

74、74A、74B  限制板开口

75  限制板

80、80A、80B  蒸镀掩模

81、81A、81B  掩模开口

82、82A、82B  掩模开口组区域

83  重叠区域

84  非重叠区域

85  遮蔽区域

90  保持部件

91  掩模保持部件

91a 开口部

92  掩模托盘

92a 开口部

93  支承部件

101 蒸镀部件

111 遮蔽板

112 开口区域

200 被成膜基板

201 被蒸镀面

211 蒸镀颗粒

221、221A、221B  蒸镀膜

Claims (13)

1.一种蒸镀装置，其是在用于显示装置的被成膜基板上，对所述显示装置的每个子像素形成规定的图案的蒸镀膜的蒸镀装置，该蒸镀装置的特征在于，包括：

具有蒸镀源和多个蒸镀掩模的蒸镀单元；和

使所述蒸镀单元和被成膜基板中的一方相对于另一方相对移动的移动装置，

所述各蒸镀掩模的作为所述移动装置的移动方向的第一方向和与该第一方向垂直的第二方向的长度，比各自方向上的所述被成膜基板的蒸镀区域的长度短，

所述蒸镀掩模至少在所述第一方向上配置有多个，

所述各蒸镀掩模在所述第二方向上具有一个掩模开口组区域，或者隔着至少一个像素的遮蔽区域具有多个掩模开口组区域，

所述掩模开口组区域各自由至少在所述第二方向上排列的多个掩模开口构成，且各自与所述蒸镀源的蒸镀颗粒的射出口成对设置，

所述第一方向上相邻的蒸镀掩模在所述第二方向上错开位置地配置，使得各个蒸镀掩模的各掩模开口组区域的所述第二方向的端部中的与另一个蒸镀掩模的掩模开口组区域相对的一侧的端部的多个掩模开口，在沿所述第一方向看时在所述第二方向上分别重叠，并且通过该端部的在所述第一方向上相邻的掩模开口形成的蒸镀膜沿所述第一方向位于同一直线上，

所述第二方向上的所述蒸镀掩模的合计长度比所述第二方向上的所述被成膜基板的蒸镀区域的长度长，

所述各掩模开口与所述各子像素对应地设置，

在所述各蒸镀掩模的各掩模开口组区域中的沿所述第一方向看时在所述第二方向上分别重叠的区域中，从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的所述第一方向的开口长度随着向所述各掩模开口组区域的外侧去而逐渐变短。

2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀掩模在所述第一方向和第二方向上分别配置有多个。

3.如权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述第一方向上相邻的蒸镀掩模，在所述各蒸镀掩模的各掩模开口组区域的所述端部，在所述第二方向上将位置错开一个像素以上地配置。

4.如权利要求1～3中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，在所述各蒸镀掩模的各掩模开口组区域中的、沿所述第一方向看时在所述第二方向上分别重叠的区域中，与各子像素对应的配置在所述第一方向上的蒸镀掩模的掩模开口的所述第一方向的合计开口长度分别相等。

5.如权利要求1～4中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，与各子像素对应的配置在所述第一方向上的蒸镀掩模的掩模开口的所述第一方向的合计开口长度，与掩模开口在所述第二方向上的位置无关地分别相等。

6.如权利要求1～4中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，所述各掩模开口组区域中的、在沿所述第一方向的同一直线上不存在其它蒸镀掩模的掩模开口的区域的掩模开口，随着所述第二方向上的自所述射出口的正上方起的距离变长而使所述第一方向的开口长度变长。

7.如权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于：

从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，与各子像素对应的配置在所述第一方向上的蒸镀掩模的掩模开口的所述第一方向的合计开口长度，在使所述各蒸镀掩模的所述第一方向的开口长度一样时的开口长度改变前的所述第一方向的开口长度为基准掩模开口长度时，满足下式：

所述第一方向的合计开口长度＝基准掩模开口长度×膜厚修正系数，

膜厚修正系数＝1/(与所述第二方向的所述各掩模开口对应的蒸镀膜的膜厚/最小膜厚值)。

8.如权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于：

从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时，与各子像素对应的配置在所述第一方向上的蒸镀掩模的掩模开口的所述第一方向的掩模开口比率，在使所述各蒸镀掩模的所述第一方向的开口长度一样时的开口长度改变前的所述第一方向的开口长度为基准掩模开口长度，该基准掩模开口长度的开口比率为掩模开口比率100％时，满足下式：

所述第一方向的掩模开口比率＝基准掩模开口长度的开口比率×膜厚修正系数，

膜厚修正系数＝1/(与所述第二方向的所述各掩模开口对应的蒸镀膜的膜厚/最小膜厚值)。

9.如权利要求1～8中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述各蒸镀掩模的各掩模开口，与该掩模开口的所述第二方向的位置相应地在所述第一方向上形成为不同的长度。

10.如权利要求1～8中任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：

在所述各蒸镀掩模形成的各掩模开口均为同一形状，

所述蒸镀单元具有遮蔽板，该遮蔽板对所述各蒸镀掩模的各掩模开口中的在沿所述第一方向的同一直线上设置有其它蒸镀掩模的掩模开口的一部分掩模开口分别进行覆盖，由此改变该掩模开口的从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的所述第一方向的开口长度。

11.如权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于：

在所述各蒸镀掩模的所述各掩模开口组区域分别设置有所述遮蔽板。

12.如权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于：

所述遮蔽板具有使所述各掩模开口组区域的一部分露出的开口区域，对多个掩模开口组区域共用地设置。

13.一种蒸镀方法，其是在用于显示装置的被成膜基板上，对所述显示装置的每个子像素形成规定的图案的蒸镀膜的蒸镀方法，该蒸镀方法的特征在于：

使具有蒸镀源和多个蒸镀掩模的蒸镀单元与所述被成膜基板中的一方相对于另一方沿第一方向相对移动，并且，

作为所述蒸镀单元，使用如下的蒸镀单元：

所述各蒸镀掩模的所述第一方向和与该第一方向垂直的第二方向的长度，比各自方向上的所述被成膜基板的蒸镀区域的长度短，

所述蒸镀掩模至少在所述第一方向上配置有多个，

所述各蒸镀掩模在所述第二方向上具有一个掩模开口组区域，或者隔着至少一个像素的遮蔽区域具有多个掩模开口组区域，

所述掩模开口组区域各自由至少在所述第二方向上排列的多个掩模开口构成，且各自与所述蒸镀源的蒸镀颗粒的射出口成对设置，

所述第一方向上相邻的蒸镀掩模在所述第二方向上错开位置地配置，使得各个蒸镀掩模的各掩模开口组区域的所述第二方向的端部中的与另一个蒸镀掩模的掩模开口组区域相对的一侧的端部的多个掩模开口，在沿所述第一方向看时在所述第二方向上分别重叠，并且通过该端部的在所述第一方向上相邻的掩模开口形成的蒸镀膜沿所述第一方向位于同一直线上，

所述第二方向上的所述蒸镀掩模的合计长度比所述第二方向上的所述被成膜基板的蒸镀区域的长度长，

在所述各蒸镀掩模的各掩模开口组区域中的沿所述第一方向看时在所述第二方向上分别重叠的区域，从与所述蒸镀掩模的主面垂直的方向看时的所述第一方向的开口长度随着向所述各掩模开口组区域的外侧去而逐渐变短。