CN102774845A - 三氟化硼-11电子特气的生产装置及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及三氟化硼-11(11BF3)电子特气的生产装置及方法,三氟化硼原料气体从合成装置底部进入,苯甲醚则从合成装置顶部喷流而下,在10—25℃的操作温度下,发生络合反应形成三氟化硼-苯甲醚络合物;由裂解装置中裂解开来的BF3气体由化学交换塔底部进入,气液逆流充分接触,在15—30℃的操作温度下,发生化学交换反应;较重的11B同位素以气体形式在塔顶富集,较轻的10B同位素则在塔底液相络合物中富集;富集后的11BF3气体由底部进入到合成装置中,重新与苯甲醚合成液相络合物;富集10B同位素的液相络合物则进入分解装置,在140—170℃受热分解为11BF3贫气,再进入化学交换塔进行化学交换;如此反复运行,直至11BF3气体11B丰度达到99.7%以上,从11BF3产品出口处采出产品。
Description
技术领域
本发明涉及三氟化硼-11(11BF3)电子特气的生产装置及方法,技术适用于电子、医药等行业,为之提供高丰度、高纯度需要的11BF3的生产工艺。
背景技术
三氟化硼-11(11BF3)气体在工业生产上的有很多方面的应用,可以用于电子工业和光纤工业,可作为制备光纤预制件的原料,是硅和锗外延、扩散和离子注入过程的P型掺杂源。在半导体制造过程中11BF3是重要的离子注入气,同时作为硼掺杂剂用于硅离子布植方面,生产出的芯片具有高集成、高密度特点,且体积小、性能优越。随着电子、通讯行业的飞速发展,11BF3气体的应用还有很大的发展前景。
对于11BF3的生产,发达国家如美国、德国、日本等都有大规模工业生产厂,其中美国的联合信号公司及德国的BASF公司生产的瓶装11BF3在国际上有较高的影响,日本钢铁化学公司生产的11BF3尽管有较高的纯度,但其规模相对较小。我国目前尚不具备11BF3气体的生产能力。
11BF3气体生产的工艺技术主要有两个难点:一是丰度要求。11BF3电子特气的丰度要求≥99.7%,而11B天然丰度为80%左右。二是纯度要求。11BF3作为电子特气,对各种杂质的要求相当严格,达到ppm级,产品总纯度≥99.995%。上世纪八十年代,我国开展超纯气体的攻关,产品纯度达到99.995%以上,实现了超纯产品的生产,其技术已大规模用于航空航天、光伏太阳能等领域,为电子特气的生产奠定了基础。因而真正制约11BF3电子特气生产的因素为99.7%的丰度要求,目前国内尚未有成功报道。
发明内容
本发明技术在国内率先提出了11BF3气体生产工艺技术,产品丰度达到99.7%以上,满足电子特气行业的要求,是一条可大规模工业化的技术路线。
本发明的技术方案如下:
三氟化硼-11(11BF3)电子特气的生产装置,由合成装置(2)、化学交换塔(3)、裂解装置(5)串联而成;裂解塔顶设置有塔顶冷凝器(4)、塔底设置有加热釜(6)组成;从合成装置中喷流而下的液相,通过泵打至化学交换塔顶,再经泵打至裂解装置塔顶;经裂解装置加热裂解开的气体经过冷凝器,从化学交换塔底部进入,与喷淋而下的液相逆流,发生交换反应,使11B在气相中富集;裂解装置中上升的苯甲醚气体冷凝下来后,先由换热器7换热,再经泵打至合成装置塔顶,重新发生合成反应。
在11BF3气体出口连接有吸附装置,吸附装置由一级吸附塔(10)、二级吸附塔(11)、中压精馏塔(12)和低压精馏塔(14)组成。待净化的BF3气体由吸附塔(10)顶部进入,从底部出来后再进入吸附塔(11)顶部,然后再由中压精馏塔(12)底部进入,从中压精馏塔(12)顶部出来后经由中间冷凝器(13),由低压精馏塔(14)中进入,低压精馏塔(14)底部为净化后的高纯11BF3产品气。
本发明的富集11BF3方法,三氟化硼原料气体从合成装置(2)底部进入,苯甲醚则从合成装置(2)顶部喷流而下,在10—25℃的操作温度下,发生络合反应形成三氟化硼-苯甲醚络合物;由裂解装置中裂解开来的BF3气体由化学交换塔(3)底部进入,气液逆流充分接触,在15—30℃的操作温度下,发生化学交换反应;较重的11B同位素以气体形式在塔顶富集,较轻的10B同位素则在塔底液相络合物中富集;富集后的11BF3气体由底部进入到合成装置(2)中,重新与苯甲醚合成液相络合物;富集10B同位素的液相络合物则进入分解装置(5),在140—170℃受热分解为11BF3贫气,再进入化学交换塔(3)进行化学交换;如此反复运行,直至11BF3气体11B丰度达到99.7%以上,从11BF3产品出口8处采出产品。
从11BF3产品出口采出的富集11BF3气体,在一级吸附塔(10)中除去部分的杂质气体后,进入内装活性氧化铝的二级吸附塔(11),进一步除去杂质气体,最后气体进入由中压精馏塔(12)和低压精馏塔(14)组成的精馏装置,在两精馏塔内进行多次气液接触和传质,最终得到纯度高达99.995%的11BF3产品气,从精馏塔(14)底部获得。
本发明的效果是为高丰度高纯度11BF3电子特气的工业化生产,提供一条可行的工艺技术及生产装置,获得的11BF3产品气丰度达到家99.7%,纯度达到99.995%以上,满足目前国内外11BF3电子特气的产品要求。
附图说明
图1:化学交换精馏法富集11BF3工艺流程图;
图2:气体净化工艺及装置流程图;
1.BF3钢瓶;2.合成装置;3.化学交换塔;4.冷凝器;5.裂解装置;6.加热釜;7.换热器;8.11BF3产品气;9.10BF3·苯甲醚络合物;10.一级吸附塔;11.二级吸附塔;12.中压精馏塔;13.中间冷凝器兼再沸器;14.低压精馏塔。
具体实施方式
采用原料:天然丰度的三氟化硼气体和苯甲醚。
装置如图1、2所示:由合成装置(2)、化学交换塔(3)、裂解装置(5)串联而成;裂解塔顶设置有塔顶冷凝器(4)、塔底设置有加热釜(6)组成;从合成装置中喷流而下的液相,通过泵打至化学交换塔顶,再经泵打至裂解装置塔顶;经裂解装置加热裂解开的气体经过冷凝器,从化学交换塔底部进入,与喷淋而下的液相逆流,发生交换反应,使11B在气相中富集;裂解装置中上升的苯甲醚气体冷凝下来后,先由换热器7换热,再经泵打至合成装置塔顶,重新发生合成反应。
在11BF3气体出口连接有吸附装置,吸附装置一级吸附塔(10)、二级吸附塔(11)、中压精馏塔(12)和低压精馏塔(14)组成。待净化的BF3气体由一级吸附塔(10)顶部进入,从底部出来后再进入二级吸附塔(11)顶部,然后再由中压精馏塔(12)底部进入,从中压精馏塔(12)顶部出来后经由中间冷凝器(13),由低压精馏塔(14)中进入,低压精馏塔(14)底部为净化后的高纯BF3产品气。
实例1:原料气钢瓶1三氟化硼原料气体从合成装置底部进入,苯甲醚则从合成装置顶部喷流而下,在10—15℃的操作温度下,发生络合反应形成三氟化硼-苯甲醚络合物。在裂解装置中裂解开来的BF3气由化学交换塔底部进入,气液逆流充分接触,在20—25℃的操作温度下,发生化学交换反应。较重的11B同位素以气体形式在塔顶富集,较轻的10B同位素则在塔底液相络合物中富集。富集后的11BF3气体由底部进入到合成装置中,重新与络合剂合成液相络合物。富集10B同位素的液相络合物则进入裂解装置,在140—150℃受热分解为的11BF3贫气,再进入交换塔进行化学交换。如此反复不停运行,直至11BF3气体11B丰度达到99.7%以上,采出产品。然后进入吸附塔进行除杂,气体进料后经过降温并在一级吸附塔10中进一步除去部分的杂质气体,再将11BF3充入内装活性氧化铝的二级吸附塔11,进一步除去杂质气体,最后气体进入由中压精馏塔和低压精馏塔组成的精馏装置,在两精馏塔内进行多次气液接触和传质,最终得到纯度可高达99.995%的11BF3产品气。
实例2:三氟化硼原料气体从合成装置底部进入,苯甲醚则从合成装置顶部喷流而下,在15—20℃的操作温度下,发生络合反应形成三氟化硼-苯甲醚络合物。在裂解装置中裂解开来的BF3气由化学交换塔底部进入,气液逆流充分接触,在25—30℃的操作温度下,发生化学交换反应。较重的11B同位素以气体形式在塔顶富集,较轻的10B同位素则在塔底液相络合物中富集。富集后的11BF3气体由底部进入到合成装置中,重新与络合剂合成液相络合物。富集10B同位素的液相络合物则进入裂解装置,在150—160℃受热分解为的11BF3贫气,再进入交换塔进行化学交换。如此反复不停运行,直至11BF3气体11B丰度达到99.7%以上,采出产品。然后进入吸附塔进行除杂,气体进料后经过降温并在一级吸附塔10中进一步除去部分的杂质气体,再将11BF3充入内装活性氧化铝的二级吸附塔11,进一步除去杂质气体,最后气体进入由中压精馏塔和低压精馏塔组成的精馏装置,在两精馏塔内进行多次气液接触和传质,最终得到纯度可高达99.995%的11BF3产品气。
实例3:三氟化硼原料气体(1)从合成装置底部进入,苯甲醚则从合成装置顶部喷流而下,在20—25℃的操作温度下,发生络合反应形成三氟化硼-苯甲醚络合物。在裂解装置中裂解开来的BF3气由化学交换塔底部进入,气液逆流充分接触,在15—20℃的操作温度下,发生化学交换反应。较重的11B同位素以气体形式在塔顶富集,较轻的10B同位素则在塔底液相络合物中富集。富集后的11BF3气体由底部进入到合成装置中,重新与络合剂合成液相络合物。富集10B同位素的液相络合物则进入裂解装置,在160—170℃受热分解为的11BF3贫气,再进入交换塔进行化学交换。如此反复不停运行,直至11BF3气体11B丰度达到99.7%以上,采出产品。然后进入吸附塔进行除杂,气体进料后经过降温并在一级吸附塔10中进一步除去部分的杂质气体,再将11BF3充入内装活性氧化铝的二级吸附塔11,进一步除去杂质气体,最后气体进入由中压精馏塔和低压精馏塔组成的精馏装置,在两精馏塔内进行多次气液接触和传质,最终得到纯度可高达99.995%的11BF3产品气。
本发明三氟化硼-11(11BF3)电子特气的生产装置及方法,本领域技术人员可通过借鉴本文内容,适当改变工艺参数、结构设计等环节实现。本发明的系统已通过不同的实施例子进行了描述,相关技术人员明显能在不脱离本发明内容、精神和范围内对本文所述的系统进行改动或适当变更与组合,来实现本发明技术。特别需要指出的是,所有相类似的替换和改动对本领域技术人员来说是显而易见的,他们都被视为包括在本发明精神、范围和内容中。
Claims (4)
1.一种三氟化硼-11电子特气的生产装置,其特征是由合成装置2、化学交换塔3、裂解装置5串联而成;裂解塔顶设置有塔顶冷凝器4、塔底设置有加热釜6组成;从合成装置中喷流而下的液相,通过泵打至化学交换塔顶,再经泵打至裂解装置塔顶;经裂解装置加热裂解开的气体经过冷凝器,从化学交换塔底部进入,与喷淋而下的液相逆流,发生交换反应,使11B在气相中富集;裂解装置中上升的苯甲醚气体冷凝下来后,先由换热器7换热,再经泵打至合成装置塔顶,重新发生合成反应。
2.如权利要求1所述的装置,其特征是在11BF3气体出口连接有吸附装置,吸附装置一级吸附塔10、二级吸附塔11、中压精馏塔12和低压精馏塔14组成;待净化的BF3气体由吸附塔10顶部进入,从底部出来后再进入吸附塔11顶部,然后再由中压精馏塔12底部进入,从中压精馏塔12顶部出来后经由中间冷凝器13,由低压精馏塔14中进入,低压精馏塔14底部为净化后的高纯BF3产品气。
3.权利要求1的三氟化硼-11电子特气的生产方法,其特征是三氟化硼原料气体从合成装置2底部进入,苯甲醚则从合成装置2顶部喷流而下,在10—20℃的操作温度下,发生络合反应形成三氟化硼-苯甲醚络合物;从裂解装置中裂解开来的BF3气体由化学交换塔3底部进入,气液逆流充分接触,在15—30℃的操作温度下,发生化学交换反应;11B同位素以气体形式在塔顶富集,10B同位素则在塔底液相络合物中富集;富集后的11BF3气体由底部进入到合成装置2中,重新与苯甲醚合成液相络合物;富集10B同位素的液相络合物则进入分解装置5,在140—170℃受热分解为11BF3贫气,再进入化学交换塔3进行化学交换;如此反复运行,直至11BF3气体11B丰度达到99.7%以上,从11BF3产品出口8处采出产品。
4.如权利要求2所述的生产方法,其特征是从11BF3产品出口8采出的富集11BF3气体,在吸附塔10中除去部分的杂质气体后,进入内装活性氧化铝的吸附塔11,进一步除去杂质气体,最后气体进入由中压精馏塔12和低压精馏塔14组成的精馏装置,在两精馏塔内进行多次气液接触和传质,最终得到纯度高达99.995%的11BF3产品气,从精馏塔14底部获得。
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