CN102698848A - 流化床气流粉碎系统 - Google Patents
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Abstract
一种流化床气流粉碎系统,涉及粉体材料粉碎技术领域,包括依次串接的空气压缩机、贮气罐、空气冷冻干燥机、流化床气流粉碎机、旋风分离器、除尘器和引风机,贮气罐与空气冷冻干燥机之间依次串接有高效除油器和精密过滤器,空气压缩机、贮气罐、高效除油器、精密过滤器、空气冷冻干燥机、流化床气流粉碎机、旋风分离器、除尘器和引风机之间通过管路依次密闭连接,旋风分离器和除尘器下端的排料口处安装有星型出料阀。本发明结构设计合理,具有低噪音,无振动的优点,广泛应用于医药、化工、冶金等干粉类物料的超细粉碎,能获得粒子均匀、粒径分布范围小的制品,密闭性好、无粉尘,不会造成样品无谓损耗,气流洁净度高,不会对制品造成污染。
Description
技术领域:
本发明涉及粉体材料粉碎技术领域,尤其涉及一种流化床气流粉碎系统。
背景技术:
气流粉碎设备广泛应用于化工、矿物、冶金、磨料、陶瓷、耐火材料、医药、农药、食品、保健品、新材料等行业,粉碎机理决定了其适用范围广、成品细度高等特点,可满足高纯的要求,例如:陶瓷色料、医药、生化等;可满足低温的要求,例如:医药、PVC。通过将气源部份的普通空气变更为氮气、二氧化碳气等惰性气体,可使转变成为惰性气体保护设备,适用于易燃易爆、易氧化等物料的粉碎分级加工。气流粉碎设备通常与旋风分离器、除尘器、引风机组成一整套粉碎系统。现有技术中,气流粉碎系统的气流冲击力度不够大,粉碎效率较低,较粗粒子不能实现循环粉碎,粒子均匀度差,粒径分布范围较大,粉碎效果不理想。压缩气体洁净度不高,会对制品造成污染。
发明内容:
本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术的缺陷提供一种粉碎效果好、气流洁净度高的流化床气流粉碎系统。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现。
一种流化床气流粉碎系统,包括依次串接的空气压缩机、贮气罐、空气冷冻干燥机、流化床气流粉碎机、旋风分离器、除尘器和引风机,其特征在于:所述贮气罐与空气冷冻干燥机之间依次串接有高效除油器和精密过滤器,过滤掉压缩气体中的杂质,防止气流对制品造成污染。
所述空气压缩机、贮气罐、高效除油器、精密过滤器、空气冷冻干燥机、流化床气流粉碎机、旋风分离器、除尘器和引风机之间通过管路依次密闭连接。
所述旋风分离器和除尘器下端的排料口处安装有星型出料阀。
物料在高速气流中加速,并在喷嘴交汇处反复冲击、碰撞,达到粉碎效果,被粉碎物料经过分级轮分级,分离出来,由旋风分离器和捕集器收集,未达到要求的物料继续回到粉碎室粉碎,直到达到要求为止。
本发明结构设计合理,具有低噪音,无振动的优点,广泛应用于医药、化工、冶金等干粉类物料的超细粉碎,能获得粒子均匀、粒径分布范围小的制品,密闭性好、无粉尘,不会造成样品无谓损耗,气流洁净度高,不会对制品造成污染。
附图说明:
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式:
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示,一种流化床气流粉碎系统,包括依次串接的空气压缩机10、贮气罐9、空气冷冻干燥机6、流化床气流粉碎机5、旋风分离器4、除尘器2和引风机1,贮气罐9与空气冷冻干燥机6之间依次串接有高效除油器8和精密过滤器7,过滤掉压缩气体中的杂质,防止气流对制品造成污染,空气压缩机10、贮气罐9、高效除油器8、精密过滤器7、空气冷冻干燥机6、流化床气流粉碎机5、旋风分离器4、除尘器2和引风机1之间通过管路依次密闭连接,旋风分离器4和除尘器2下端的排料口处安装有星型出料阀3。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (3)
1.一种流化床气流粉碎系统,包括依次串接的空气压缩机、贮气罐、空气冷冻干燥机、流化床气流粉碎机、旋风分离器、除尘器和引风机,其特征在于:所述贮气罐与空气冷冻干燥机之间依次串接有高效除油器和精密过滤器。
2.根据权利要求1所述的流化床气流粉碎系统,其特征在于:所述空气压缩机、贮气罐、高效除油器、精密过滤器、空气冷冻干燥机、流化床气流粉碎机、旋风分离器、除尘器和引风机之间通过管路依次密闭连接。
3.根据权利要求1所述的流化床气流粉碎系统,其特征在于:所述旋风分离器和除尘器下端的排料口处安装有星型出料阀。
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Application publication date: 20121003 |