CN102698847A - 深冷气流粉碎系统 - Google Patents
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Abstract
一种深冷气流粉碎系统,涉及粉体材料粉碎技术领域,包括依次串接的空气压缩机、制冷系统、流化床气流粉碎机、旋风分离器和除尘器,所述流化床气流粉碎机连接原料仓,其特征在于:所述流化床气流粉碎机与原料仓之间设置螺旋预冷器,所述旋风分离器和除尘器下端均通过过渡成品料筒连接成品料筒,空气压缩机、制冷系统、流化床气流粉碎机、旋风分离器和除尘器之间通过管路密闭循环连接。本发明结构设计合理,冷源形成闭路系统,能够得到充分运用,粉碎时温度可控,能根据物料的脆化温度随机调节,选择最佳粉碎温度,达到降低能耗的目的。
Description
技术领域:
本发明涉及粉体材料粉碎技术领域,尤其涉及一种深冷气流粉碎系统。
背景技术:
气流粉碎设备广泛应用于化工、矿物、冶金、磨料、陶瓷、耐火材料、医药、农药、食品、保健品、新材料等行业,粉碎机理决定了其适用范围广、成品细度高等特点,可满足高纯的要求,例如:陶瓷色料、医药、生化等;可满足低温的要求,例如:医药、PVC。通过将气源部份的普通空气变更为氮气、二氧化碳气等惰性气体,可使转变成为惰性气体保护设备,适用于易燃易爆、易氧化等物料的粉碎分级加工。气流粉碎设备通常与旋风分离器、除尘器、引风机组成一整套粉碎系统。现有技术中,气流粉碎系统的气流冲击力度不够大,粉碎效率较低,较粗粒子不能实现循环粉碎,粒子均匀度差,粒径分布范围较大,粉碎效果不理想。冷源利用率低,能耗高。
发明内容:
本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术的缺陷提供一种粉碎效果好、低能耗的深冷气流粉碎系统。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现。
一种深冷气流粉碎系统,包括依次串接的空气压缩机、制冷系统、流化床气流粉碎机、旋风分离器和除尘器,所述流化床气流粉碎机连接原料仓,其特征在于:所述流化床气流粉碎机与原料仓之间设置螺旋预冷器,所述旋风分离器和除尘器下端均通过过渡成品料筒连接成品料筒。
所述空气压缩机、制冷系统、流化床气流粉碎机、旋风分离器和除尘器之间通过管路密闭循环连接。
压缩气体通过制冷系统,将气体温度降至-120℃~-140℃,用于气流粉碎0.8MPa的研磨介质通过制冷系统使其温度降至-120℃~-140℃,实现物料在深冷状态下的超细气流粉碎,物料通过冷却呈低温脆化易粉碎状态后,进入粉碎室,冷却后的压缩气体通过特殊配置的超音速喷嘴向粉碎室高速喷射,物料在超音速喷射流中加速,并在喷嘴交汇处反复冲击、碰撞,达到粉碎效果,被粉碎物料经过分级轮分级,分离出来,由旋风分离器和捕集器收集,未达到要求的物料继续回到粉碎室粉碎,直到达到要求为止,冷空气返回压缩机吸气口循环使用。
本发明结构设计合理,冷源形成闭路系统,能够得到充分运用,粉碎时温度可控,能根据物料的脆化温度随机调节,选择最佳粉碎温度,达到降低能耗的目的。
附图说明:
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式:
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示,一种深冷气流粉碎系统,包括依次串接的空气压缩机9、制冷系统8、流化床气流粉碎机5、旋风分离器4和除尘器1,所述流化床气流粉碎机5连接原料仓6,流化床气流粉碎机5与原料仓6之间设置螺旋预冷器7,所述旋风分离器4和除尘器1下端均通过过渡成品料筒2连接成品料筒3,空气压缩机9、制冷系统8、流化床气流粉碎机5、旋风分离器4和除尘器1之间通过管路密闭循环连接。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (2)
1.一种深冷气流粉碎系统,包括依次串接的空气压缩机、制冷系统、流化床气流粉碎机、旋风分离器和除尘器,所述流化床气流粉碎机连接原料仓,其特征在于:所述流化床气流粉碎机与原料仓之间设置螺旋预冷器,所述旋风分离器和除尘器下端均通过过渡成品料筒连接成品料筒。
2.根据权利要求1所述的深冷气流粉碎系统,其特征在于:所述空气压缩机、制冷系统、流化床气流粉碎机、旋风分离器和除尘器之间通过管路密闭循环连接。
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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