CN102695564B - 用于涂覆基底的设备和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于在基底（3）的表面（4）上由一种或多种液态前体产生液体膜以形成涂层的设备（1）和方法，所述设备布置成在涂覆室（21）中将浮质流（13）引到基底（3）的表面（4）。根据本发明，所述设备包括均化喷嘴（17），用于使浮质流（13）在进入到涂覆室（21）之前沿着基底（3）的表面（4）的方向基本均化。

Description

用于涂覆基底的设备和方法
技术领域
本发明涉及一种用于涂覆基底的设备，并且具体地涉及一种设备，所述设备用于在基底的表面上通过一种或多种液态前体生产液体膜以便形成涂层，所述设备布置成在涂覆室中使浮质流对准基底的表面。本发明还涉及一种用于涂覆基底的方法，并且具体地涉及一种方法，所述方法用于在基底的表面上由一种或多种液态前体生产液体膜以形成涂层，所述方法包括将一种或多种前体雾化成液滴，以便生成浮质流，使由此生成的浮质流进入到涂覆室并且在涂覆室中将浮质流引导到基底的表面上，以形成液体膜。另外，本发明涉及一种使用方法，其用于涂覆基底。
背景技术
对于涂覆不同种类的基底，已知的是采用将液体层施加到基底表面上。在此，液体膜覆盖基底表面，能够后置处理所述液体膜，以便干燥和固化所述液体膜。在传统技术的这样的分支上，采用将液体层施加在基底表面是制造玻璃。
在其表面上具有抗反射涂层的玻璃特别应用在光电装置中，以提高太阳能电池的效率。由于减少了从装置表面反射的太阳辐射，因此太阳能的很大部分能够被传递到太阳能电池的有效区域，从而允许更高效地将太阳能转化为电能。抗反射涂层必须尽可能的薄，以便最小化吸收在所述抗反射涂层中的太阳能。此外，抗反射材料的折射率必须显著小于用为基底的玻璃的折射率。玻璃的折射率通常为大约1.5。
抗反射涂层致使从涂层的底部表面和顶部表面所反射的波阵面之间发生相互干涉。当所反射的波适当地彼此异相时，这些反射的波趋于相减地干扰，从而显著降低被反射光的量。当将折射率调整为与基底玻璃材料的折射率相匹配并且同时涂层的厚度被设定成抗反射涂层的所针对的波长的四分之一时，抗反射的效率最优。然而，因为太阳辐射包括相对较宽波段的波长，所以通常，采用多层抗反射涂层，以便实现最大的传输效率。然而，对于生产速度和成本的具体实施例而言，利用单层涂层获得最为有利的结果，所述单层涂层以折射率从玻璃表面到空气逐渐发生变化为特征。即使对太阳辐射以变化的角度入射到太阳能电池的表面上而言，这种布置方案也最小化了反射。这种情况发生在例如当在一天中的不同时间太阳辐射入射到永久固定的太阳能电池上时。
现有技术已知的是，通过由液态前体所生产的涂覆材料来涂覆基底，所述涂覆材料在施加完涂层之后固化成固态。喷涂基体例如满足这样处理的规格。在要求有利地小于1μm的最小厚度和由涂覆获得高表面平滑度的应用中，传统的涂覆方法无法提供令人满意的结果。而且，抗反射表面对涂层的表面平滑度有极高的要求。
在美国电话和电报公司、AT&T贝尔实验室1989年10月3日的专利公报US4,871,105中描述了一种用于将熔剂流(fluxflow)施加在基底表面上的方法和设备。所述设备包括这样的装置，所述装置用于将液体流转化成雾状流以及然后将所述雾状流喷射到分层气流中，所述分层气流对准正在处理的基底的底部表面，由此一部分熔剂液滴流粘附到基底表面上，从而涂覆基底。所述专利公报没有提及雾状流液滴的尺寸。然而，可以从应用于最优选的实施例中的部件(Sono-Tek压电晶体，型号8700)推断出雾状液滴的直径大于10μm。
因此，生产通过这种大液滴的雾状流施加的平滑、薄的涂层较为困难。
如上所述，现有技术实施例中的问题是，传统布置方案无法在基底的表面上生产足够薄且平滑的液体层。厚且不平坦的液体层产生不平坦的涂层。而且，厚且不平坦的涂层无法提供最好的抗反射涂层。
发明内容
本发明的目的是提供能够克服现有技术中的劣势的设备和方法。本发明的目标通过根据本发明的设备来实现，所述设备包括均化喷嘴，所述均化喷嘴用于使浮质流在进入涂覆室之前沿着基底表面平面的方向基本均化。本发明的目标还通过根据本发明的方法来实现，在所述方法中，使浮质流在进入涂覆室之前沿着基底表面平面的方向基本均化。另外，本发明的方法的目标通过使用用于使浮质流均匀地进入到涂覆室的细长且渐缩的均化喷嘴来实现。
本发明的基本概念是由至少一种液态前体生产用于浮质流的液滴。因此，至少一种前体被有利地转化成平均直径小于10μm优选地小于3μm的液滴。液滴被收集到浮质流中，使所述浮质流在进入涂覆室之前在根据本发明的均化喷嘴中均化。最为有利地，浮质流在其进入到涂覆室之前被设定成涡旋运动或湍流运动。根据本发明，可以通过分离的气流引导浮质流。均化喷嘴有利地设计成使得所述均化喷嘴基本沿着基底表面的方向均化浮质流。因此，本发明的一个实施例中的均化喷嘴实现为细长的通道，所述通道沿着涂覆室的方向具有渐缩的横截面或逐渐减小的高度。
通过均化喷嘴，能够在浮质流进入到涂覆室且被引到基底表面之前使其均化。能够以受控的方式朝向基底表面引导包括小液滴的浮质流，以便将恒定厚度的薄液体层施加在所述基底表面上。这种平滑且薄的液体层有助于通过后置处理所施加的液体层而在基底上生产薄且均质的涂层。
附图说明
接下来，借助于优选的实施例并且参照附图将更加详细地描述本发明的一些优选的示例性实施例，在所述附图中：
图1示出了根据本发明的设备的实施例的侧视图，其中，雾化的液滴流被引导到正在涂覆的玻璃基底的顶部表面；
图2示出了根据本发明的设备的另一个实施例的侧视图，其中，雾化液滴流被引导到正在涂覆的玻璃基底的底部表面；
图3示出了图2的实施例的俯视图以及用于传送玻璃基底的输送装置；以及
图4示出了用于传送玻璃基底的输送机构的替代实施例。
具体实施方式
本发明涉及一种用于在涂层的干燥或固化步骤之前(即，在涂层的后处理之前)利用液体涂层来涂覆基底尤其是玻璃基底的设备和方法。继施加涂覆层之后，可以借助于具体结合在根据本发明的设备中的装置实施后处理步骤，以便使液体涂层经受外部能量(例如，对流热能或诸如红外线或紫外线的电磁辐射)。具体地，本发明涉及利用抗反射涂层涂覆玻璃基底。
在图1中示出了根据本发明的设备1的实施例，所述设备1包括用于将液态前体雾化成小液滴的雾化装置9，所述小液滴的平均直径有利地小于10μm，更有利地小于5μm并且更加有利地小于3μm。装置9包括一个或多个雾化器9，所述雾化器9适于将一种或多种液态前体转化成以上提及种类的小液滴。在本发明的一个实施例中，设备1包括至少一对彼此相对的雾化器9，所述一对雾化器9对准成使得从所述雾化器9喷射出的浮质流如图1所示那样相互撞击。雾化器的彼此相对的对准提供了较低速度的结合的浮质流。在极端情况中，这种布置方案产生几乎停止(stalled)的浮质流。由申请人BeneqOy在2009年7月2日提交的国际专利申请WO2009/080893中描述了这种现有技术的布置方案。在替代实施例中，可以以一些其它方式布置雾化器，由此所述设备可以包括一个或多个单独的雾化器。在优选的实施例中，雾化器是气体辅助雾化器，其中，借助于辅助气流实施液态前体的雾化。此外，在替代实施例中，能够借助于超声雾化器或其它类似的液滴喷雾生成器来生产液滴或雾状物，所述超声雾化器或液滴喷雾生成器能够生产充足的期望尺寸的液滴流。雾化器9有利地放置在单独的雾化室7中。液态前体可以是适于实际应用的前体化合物。另外，液态前体可以包含溶剂，所述溶剂在涂覆处理期间蒸发。液态前体还可以具有使得产生在基底3的表面4上的液体层或液体涂层包括至少一种聚合物组分的成分。
如上所述，雾化器9在雾化室7中产生浮质流13，借助于从导向气体喷嘴11喷射出的气流A能够进一步控制所述浮质流13。从导向气体喷嘴11喷射出的气流A可以包含与液态前体中使用的溶剂相同的且处于蒸发状态中的溶剂。因此，在雾化室7中产生了受控气氛，用于蒸发包含在浮质流13的液滴中的溶剂。导向气体喷嘴11还可以用于使有利地是与浮质流13的液滴不发生反应的种类的某些气体进入雾化室。一部分浮质流13在雾化室7中粘附到所述雾化室7的内壁上，并且沿着壁流到雾化室7的底部，自此处，能够通过再循环喷嘴15再循环过量的涂覆材料。尽管为了更加清晰起见，在附图中省略了再循环装置，但是所述再循环装置主要包括泵和再循环材料容器，所述再循环材料容器有利地补充有用于清理再循环材料使其没有固体颗粒的过滤器。
沿着雾化室7的流动路径配置有均化喷嘴17，浮质流13从雾化室7流到均化喷嘴17。可以例如通过从导向气体喷嘴11喷射出的材料流来加强将浮质流13引导到均化喷嘴17中。如图1所示，均化喷嘴17实现为细长的通道，所述通道包括用于接纳浮质流13的入口开口35和用于使浮质流13从均化喷嘴17流出的出口开口36。此外，均化喷嘴17成形为这样的通道，所述通道朝向出口开口36逐渐变细，并且具体地，具有朝向出口开口36逐渐减小的高度。因此，入口开口35的横截面能够大于出口开口36的横截面。均化喷嘴17的沿着浮质流13的流动方向的这种细长的形式和渐缩的横截面实现了使浮质流13均质且不发生湍流。
如图1所示，设备1还包括涂覆室21，所述涂覆室21与均化喷嘴17相连通，用于使来自均化喷嘴17的均化的浮质流13进入到涂覆室21。换言之，均化喷嘴17位于雾化室7和涂覆室21之间，使得浮质流13在雾化室7和涂覆室之间发生均化，并且更加具体地，使得浮质流13在雾化室7和涂覆室之间在浮质流13进入到涂覆室21之前发生均化。
在涂覆室21中，浮质流13被引到基底3的表面4，以便在基底3的表面4上形成液体层27。换言之，浮质流13以基本稳定且均化的浮质流13的形式从均化喷嘴17的出口开口36进入到涂覆室21。根据以上描述，均化喷嘴17实现为朝向涂覆室逐渐变细的通道。在图1的实施例中，基底3布置在涂覆室21中，使得所述基底3的顶部表面基本水平对准。然后，均化喷嘴17实现为朝向涂覆室21逐渐变细的通道。本发明的突出特征在均化喷嘴17的布置方案中是显而易见的，均化喷嘴17的布置方案使浮质流13在流入到涂覆室21之前，基本沿着基底3的表面4的方向均化。为此，均化喷嘴17能够设计成基本平行于基底3的表面4的方向覆盖所述基底3的表面4。
如图1所示，在基本正交于图1的平面的平面中，在均化喷嘴17中，浮质流13或类似的雾流被均质。浮质流13进一步到达连接在均化喷嘴17之后的涂覆室21。均化喷嘴17和涂覆室21之间有利地设有至少一个流动控制叶片19，所述流动控制叶片19将浮质流13设定成涡旋或其它湍流运动。流动控制叶片系统19包括至少一个流动控制叶片19，用于浮质流13在流入到涂覆室21之前，或替代地正好在浮质流13进入涂覆室21中的进入点处，在浮质流13的流型中引发湍流。在本发明的实施例中，所述至少一个流动控制叶片19设置在均化喷嘴17的出口开口36处，或设置在所述出口开口36的紧邻的附近区域，或者替代地，基本设置在涂覆室21的入口处或者所述入口的紧邻的附近区域，以便在涂覆室21内的浮质流13中产生湍流。湍流提高了浮质的混合，并且由此使所述浮质更平均地分布在基底3的表面4上。
以与均化喷嘴17协同操作或在均化喷嘴17的沿着浮质流13的流动方向的上游，还可以设置有液滴捕获装置(附图中未示出)，所述液滴捕获装置用于从浮质流13中移除大的液滴，从而能够以期望的方式控制进入到涂覆室中的液滴的尺寸分布。有利地，使液滴捕获装置定位成在均化喷嘴17的入口开口35处操作，从而允许在使浮质流13进入均化喷嘴17之前，使较大的液滴与浮质流13分离。液滴捕获装置可以例如是撞击器，其中，通过使浮质流13的较大液滴与撞击器的撞击板相撞击而移除浮质流13的较大液滴。换言之，能够通过将撞击板放置在均化喷嘴17的入口开口35处的方式来实现液滴捕获装置。替代地，液滴捕获装置能够放置到雾化室7中，或者能够通过引导雾化室7中的浮质流13与雾化室7的壁发生撞击，由此大液滴与雾化室7的壁碰撞，从而实现大液体的分离。从浮质流13分离较大液滴提供了更为均质的浮质流13，并且从而允许生产更为均质的涂层。
在图1的实施例中，正在被涂覆的玻璃基底3布置成在传送平台或传送装置5上行进。在涂覆室21的内部，当浮质流13被引到基底3的表面4时，基本湿的涂层或液体层27被沉积到基底3的表面4上。借助于单独的装置(例如，热能或诸如紫外线的电磁辐射)干燥或固化液体表面27，以便完成涂覆。在图3中示出了用于实现传送平台或传送装置5的实施例。传送装置5结合有基本手指状的夹持件33，所述夹持件用于从下面或基本在玻璃基底3的边缘附近处支撑所述玻璃基底3。这种传送布置方案是有利的，因为所述传送布置方案基本只在所述玻璃基底3的边缘区域支撑所述玻璃基底3，从而能够在两侧上对玻璃基底进行涂覆或其它处理，而基本不与涂层或基底发生任何接触。结果，可以减轻对基底表面的污染。
在图4中示出了实现传送装置的替代布置方案。在图4示出的实施例中，传送装置的至少一些传送元件包括有槽的轮41。有槽的轮41定位成使得所述有槽的轮41形成两行平行的有槽的轮，在所述两行平行的有槽的轮之间，玻璃基底3如图4所示那样延伸。有槽的轮41具有在其外周上制成的槽。槽的齿根角能够是90°或者更小，有利地小于70°并且最为有利地为约45°。借助于槽和所述槽的齿根角，能够沿着竖直和水平方向将平面的玻璃基底3容易地控制到期望的位置。换言之，有槽的轮41的槽自动地将玻璃基底3定中到槽的底部，从而能够沿着期望的轨道准确且精准地传送玻璃基底3。有槽的轮41定位成传送平面的玻璃基底3，所以玻璃基底3在有槽的轮41的平行的行之间的空隙上方延伸，从而玻璃基底的边缘搁置在相对的有槽的轮41的槽中。因此，两行中的任意一行或两行的有槽的轮41中的至少一些能够被固定的从动轮所取代，所述从动轮由外部致动器旋转。相应地，两行中的任意一行或两行的有槽的轮41中的至少一些能够是惰轮，所述惰轮能够在传送玻璃基底3时自由旋转。另外，空转的有槽的轮41可以附加地沿着玻璃基底3的表面的方向朝向玻璃基底3的中心弹簧地加载。然后，弹簧加载的空转的有槽的轮41在玻璃基底3的边缘处朝向相对的有槽的轮41按压所述玻璃基底3。
借助于有槽的轮41，能够传送基底3，使得基本仅仅玻璃基底的切割边缘碰触传送装置。因此，使用有槽的轮41使玻璃基底3运动有助于将涂层施加到玻璃基底的两个侧部，而不存在使玻璃基底3在其传送运动期间受到污染的任何风险。
在图4示出的实施例中，沿着直线传送轨道在水平位置中传送玻璃基底3。因此，有槽的轮41定位成使得旋转轴基本竖直地对齐，而有槽的轮的外周或槽基本水平对准。借助于有槽的轮41，还能够以这样的方式改变玻璃基底的位置，例如，接连的有槽的轮41的位置相对于彼此略微交错，由此随着玻璃基底3沿着由有槽的轮移动的轨道行进，玻璃基底3的位置发生改变。结果，玻璃基底3能够在有槽的轮41的引导下旋转到例如竖直位置。鉴于这种考虑，有槽的轮41还允许玻璃基底在竖直或倾斜的位置中传送或者允许所述玻璃基底旋转。这里，应当理解使用有槽的轮41的另一个益处：由于玻璃基底3不会在加速或制动时发生在其它传送系统中将会发生的滑动，所以所述有槽的轮41使传送运动的速度能够在很宽的范围内变化。玻璃基底3的传送速度也能够通过控制从动轮的旋转速度来容易地加以调整。
设备1还包括屏障气体喷嘴25和另一个屏障气体喷嘴29，用于使涂覆室21与环境大气隔离。在替代实施例中，所述设备可以包括仅仅一个屏障气体喷嘴，或者替代地，包括三个或更多个屏障气体喷嘴。在图1中，第一屏障气体喷嘴25适于连同均化喷嘴17的出口开口36一起以这样的方式操作：使得第一屏障气体喷嘴25既使涂覆室21与环境大气隔绝，又引发了传送流，所述传送流用于在涂覆室21中引导浮质流13。第一屏障气体喷嘴25还连接到加压室23，以便产生屏障气流B。离开屏障气体喷嘴25的屏障气流B可以包含处于蒸发状态的与用于在液态前体中的溶剂相同的溶剂。因此，涂覆室21被受控的气氛所充满，用于蒸发包含在浮质流13的液滴中的溶剂。如图1所示，同样，第二屏障气体喷嘴29也布置成使得涂覆室21与环境大气隔绝。同样，从第二屏障气体喷嘴29引导出的气流C可以包含处于蒸发状态中的与用于液态前体中的溶剂一样的溶剂。
设备1还包括排放通道31，通过所述排放通道31，将没有粘附到基底3的表面4上的一部分浮质从涂覆室21引出。通过调整涂覆室21和排放通道31之间的压差，能够控制浮质流13在涂覆室21中的保留时间。
在图2中示出了根据本发明的用于将液体层27施加到基底3的底部表面的设备1的另一个实施例。除了图2的设备适用于涂覆基底3的下侧部之外，图2的设备基本与图1示出的设备相同。之前所讨论的所有构造和功能特征均也能够应用于图2的设备。此外，图2示出的设备装配有排放喷嘴14，这是由于浮质流13中的液滴的一部分粘附到涂覆室21的壁并且从所述壁滴到涂覆室21的底部，自此处，能够通过回流喷嘴14再循环过量的材料。尽管为了清晰起见在附图中省略了再循环装置，但是所述再循环装置主要包括泵和再循环材料容器，所述再循环材料容器有利地设置有用于清理再循环材料使其没有固体颗粒的过滤器。通过在基底3的下侧部上实施涂覆操作，浮质流13能够有利地用于依靠重力移除通过凝聚或由于其它原因产生的较大的液滴。
如上所述，本发明使得能够将由一种或多种前体形成的液体膜27沉积到基底3的表面4上，以用于生产涂层。借助于一个或多个雾化器9将液态前体雾化成形成浮质流13的液滴。由此形成的浮质流进入到涂覆室21中，在涂覆室21中，所述浮质流被导引到基底的表面4，以便形成液体膜27。根据本发明，在使浮质流13进入到涂覆室21之前，使浮质流13沿着基底表面的方向基本均质。根据本发明，借助于细长且渐缩的均化喷嘴17来均化浮质流，通过所述均化喷嘴17，浮质流稳定地进入到涂覆室，在所述涂覆室中，浮质流被导引到基底3的表面4，用于形成生产涂层所需的液体膜27。均化喷嘴17实现为沿着基底3的表面4的方向以渐缩形式朝向涂覆室21延伸的通道。更加具体地，均化喷嘴的高度(即，正交于基底3的表面4的尺寸)逐渐减小。
对于本领域中的技术人员而言，显而易见的是，利用技术的发展，能够以多种不同的方式实施本发明的精神。因此，本发明及其实施例将不局限于上述示例，而是能够在所附权利要求的范围内进行变化。

Claims (20)

1.一种用于在基底(3)的表面(4)上生产由一种或多种液态前体所形成的液体膜(27)以形成涂层的设备，所述设备布置成将浮质流引到所述基底(3)的所述表面(4)上，所述设备包括：
一个或多个雾化器(9)，用于雾化所述一种或多种液态前体以形成浮质流；
雾化室(7)，利用所述一个或多个雾化器(9)将所述液态前体雾化而进入所述雾化室中，
涂覆室(21)，浮质流在所述涂覆室中被沉积在所述基底(3)的所述表面(4)上，
其特征在于，所述设备还包括均化喷嘴(17)，所述均化喷嘴(17)布置在雾化室(7)和涂覆室(21)之间，设计成用于使浮质流(13)在进入所述涂覆室(21)之前基本沿着所述基底(3)的所述表面(4)的方向均化。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)实现为细长通道。
3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)实现为朝向所述涂覆室(21)逐渐变细的通道。
4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)实现为高度朝向所述涂覆室(21)逐渐减小的通道。
5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)基本平行于所述基底(3)的所述表面(4)延伸。
6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)包括用于接纳浮质流(13)的入口开口(35)、和用于使所述浮质流(13)进入所述涂覆室(21)的出口开口(36)，其中，所述入口开口(35)的横截面大于所述出口开口(36)的横截面。
7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备包括至少一个流动控制叶片(19)，用于在所述浮质流(13)的流型中引发湍流。
8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述至少一个流动控制叶片(19)设置在所述均化喷嘴(17)和所述涂覆室(21)之间。
9.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)包括用于使所述浮质流(13)进入涂覆室(21)的出口开口(36)，并且所述至少一个流动控制叶片(19)设置在所述出口开口(36)处或者设置在紧邻所述出口开口的区域。
10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述雾化室(7)结合有至少一个雾化器(9)，用于由一种或多种液态前体生产所述浮质流(13)。
11.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述均化喷嘴(17)设置在所述雾化室(7)和所述涂覆室(21)之间，用于使所述浮质流(13)从所述雾化室(7)进入所述涂覆室(21)。
12.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述雾化室(7)结合有至少一个导向气体喷嘴(11)，用于将所述浮质流(13)引导到所述均化喷嘴(17)。
13.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括一个或多个屏障气体喷嘴(25，29)，用于使所述涂覆室(21)与环境大气隔离，并且在所述涂覆室(21)的内部引导所述浮质流(13)。
14.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，布置有与所述均化喷嘴(17)的所述入口开口(35)配合的液滴捕获装置，用于从所述浮质流(13)分离大液滴。
15.一种用于在基底(3)的表面(4)上由一种或多种液态前体生产液体膜以便施加涂层的方法，所述方法包括以下步骤：
-将所述一种或多种液态前体雾化成用于产生浮质流(13)的液滴而进入雾化室(7)中；
-使由此生成的浮质流(13)从雾化室(7)进入到涂覆室(21)中；以及
-将所述涂覆室(21)中的所述浮质流(13)引导到所述基底(3)的所述表面(4)上，以便生产液体膜(27)，
其特征在于，在所述方法中还包括：
-使所述浮质流(13)在进入到所述涂覆室(21)之前在雾化室(7)和涂覆室(21)之间基本沿着所述基底(3)的表面(4)的方向均化。
16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述浮质流(13)在高度朝向所述涂覆室(21)逐渐减小的细长通道中均化。
17.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，在雾化室(7)中将所述一种或多种液态前体雾化成用于产生浮质流(13)的液滴，随即，所述浮质流(13)通过均化喷嘴(17)从所述雾化室(7)进入所述涂覆室，以便在所述浮质流进入所述涂覆室(21)之前，均化在所述雾化室(7)中产生的所述浮质流(13)。
18.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，在所述浮质流(13)的流型中引发湍流。
19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，基本在所述涂覆室(21)的入口开口处或在紧邻所述入口开口的区域中，在所述浮质流(13)的流型中引发湍流。
20.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，在基本沿着所述基底的表面的方向均化所述浮质流(13)之前，从所述浮质流(13)中分离出大的液滴。
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