CN102483478B - 用于制造针对辐射的滤波材料的合成物、用于制造滤波材料的合成物的方法、用于对辐射滤波的材料以及包括该材料的光电子器件 - Google Patents
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Abstract
一种用于制造针对辐射的滤波材料的合成物，其包括：硅氧烷，以及分散在硅氧烷中的至少一种颜料，其中该合成物针对在400nm到700nm之间的波长的辐射具有小于20％的相对透射率，并且针对在850nm到1025nm之间的波长的辐射具有超过50％的相对透射率。
Description
本发明提出了一种根据权利要求1所述的用于制造针对辐射的滤波材料的合成物。
本专利申请要求德国专利申请10 2009 031 915.8的优先权，其公开内容通过引用结合于此。
在借助电磁辐射例如从发射单元到接收单元进行的数据传输中的一个广为人知的问题是，例如由于在与用于数据传输的波长范围邻接的波长范围中的电磁辐射而出现干扰。
本发明实施例的一个任务在于，减小或者完全避免这些干扰。
该任务通过根据权利要求1所述的用于制造针对辐射的滤波材料的合成物来解决。合成物的其他实施形式以及用于过滤辐射的材料、包括该材料的光电子器件、以及用于制造滤波材料的合成物的方法是其他权利要求的主题。
本发明的一个实施形式涉及一种用于制造针对辐射的滤波材料的合成物，其包括硅氧烷以及分散在硅氧烷中的至少一种颜料，其中该合成物针对在400nm到700nm之间的波长的辐射具有小于20％的相对透射率，并且针对在850nm到1025nm之间的波长的辐射具有超过50％的相对透射率。
在此，相对透射率涉及在700nm到1100nm的波长范围中达到的最大透射率值(100％)。
相对于其他材料，使用硅氧烷作为颜料的基质材料证明是有利的。于是，硅氧烷例如相对于环氧树脂具有一些技术上的优点。于是，例如可以制造具有针对来自红外光谱、780nm-1400nm(即进行数据传输的波长范围)的辐射的高透明度的硅氧烷。此外，与环氧化物相比，硅氧烷尤其是对于紫外光具有更高的光学稳定性。由此，硅氧烷具有相对于环氧树脂明显更低的老化趋势。使用软的硅氧烷例如减小了对于硅氧烷施加在其上的器件的热学机械应力，由此减小了器件的退化和老化。硅氧烷的另一优点是，其覆盖宽的持续温度使用范围(Dauer-Temperatur-Einsatzbereich)。该持续温度使用范围对于标准硅氧烷而言大致在-40℃至+150℃的范围中，然而可以通过使用特别硅氧烷扩展到例如-70℃至+200℃。这些特别硅氧烷例如可以通过蒸馏来净化，由此挥发性的硅氧烷的比例降低到例如2重量％。然而，温度使用范围例如也可以通过添加稳定剂或者通过将侧基(Seitengruppen)氟化来增大。
相对于环氧浇铸树脂，硅氧烷在处理或者硬化时对于湿气更不敏感。这例如能够实现对硅氧烷的更简单的处理。硅氧烷相对于环氧化物具有更为有利的、更低的湿气吸收特性。
通过合适地选择颜料，可能将400nm到700nm的波长范围的大部分滤除。而合成物对于850nm到1025nm之间的波长范围具有超过50％的透射率。对于相对透射率的说明在此涉及最大透射值(100％)，合成物在700nm到1100nm的波长范围中具有该最大透射值。由此，例如要检测在850nm到1025nm之间的波长范围中的电磁辐射的检测器例如可以通过带有该合成物的辐射入射窗的涂层被保护免受干扰性辐射例如日光的影响。
在此，颜料分散地存在于硅氧烷中。颜料不必溶解在硅氧烷中，优选的是其未溶解地存在于硅氧烷中。例如，其可以作为颜料颗粒存在于硅氧烷中。由此，颜料在合成物中具有漫射体作用。通过颜料未溶解地存在于硅氧烷中，合成物的非常薄的层(＜0.1μm)仅仅具有小的滤波作用。
在另一实施形式中，颜料均匀地分布在硅氧烷中。
颜料在硅氧烷中均匀的、有规律的分布一方面用于合成物的有规律的光学印象，然而同时也是由该合成物形成的层在其整个面上具有统一的吸收特性的前提条件。均匀的分布由此也是在由该合成物制造这种层时的可复制性的前提条件。
然而，均匀的颗粒分布并不意味着合成物一定必须没有凝聚物和聚集体。在本发明的情况中，均匀意味着颜料颗粒可以是单个颗粒和凝聚物，或者是二者的混合。它们在足够大的体积元件中有规律地分布，使得被观察者感知到可见的并且微观的色彩均匀性。通过入射光或者透射光不允许看到不均匀性。
由此，在器件中实现了完善的光学功能。颜料颗粒部分以及颗粒的大小、形状和分布对于光电子发射元件的近场和远场特性以及对于其检测器灵敏度具有直接影响。
颗粒分布的均匀性以及颗粒大小可以借助光学显微镜来确定。为此，可以将合成物例如施加到玻璃板上，并且借助另一玻璃板来覆盖。
为了实现相应的均匀的分布，需要一定顺序的方法步骤，其结合制造方法来进行阐述。此外，小的颗粒大小是有利的。
然而，其中颜料部分地溶解地存在的实施形式也是可能的。当颜料具有含硅氧烷的支链时，例如于是情况如此。通过该支链，颜料可以与硅氧烷相互作用，使得出现颜料在硅氧烷中的溶解。
在该合成物的另一实施形式中，颜料在硅氧烷中分散地作为大小为小于200μm的颗粒而存在。
在该上下文中，单个颗粒或者单个颗粒凝聚物应当理解为颗粒。它们应当小于200μm，其中在球形的圆形颗粒或者不规则成形的所谓薄片或者小板情况下，意味着最大直径而并非从分布曲线中得到的平均大小。在针状颗粒情况下，其应当相应地是最大针长度。因为由此并不涉及平均大小，所以通过显微镜确定颗粒大小。
优选的是，在合成物中颗粒以小于50μm的大小存在。使用小的颗粒能够实现颜料在硅氧烷中的更宽并且更均匀的分布。这一方面导致更为一致的光学印象，并且也导致由该合成物形成的层的更为恒定的吸收特性。
在本发明的另一实施形式中，使用了如下颜料：其吸收在400nm到700nm波长范围中的辐射，而并不发射更长波长的、可见范围中的辐射。
在本发明的另一实施形式中，该合成物包括选自如下材料的至少一种颜料：溶剂黄179、溶剂黄93、溶剂黄114、溶剂橙60、溶剂橙107、溶剂红179、溶剂红135、溶剂红111、溶剂红195、溶剂红52、溶剂紫36、溶剂紫13、溶剂蓝97、溶剂蓝104、溶剂绿3、溶剂绿28。
通过对颜料或者颜料组合的合适选择，可能将400nm到700nm的全部波长范围的辐射滤除。
在合成物的另一实施形式中，该合成物包括分别来自三个组I至III之一的至少一种颜料，所述组包括：
I)溶剂黄179、溶剂黄93、溶剂黄114、溶剂橙60、溶剂橙107、溶剂红179、溶剂红135、溶剂红111、溶剂红195、溶剂红52，
II)溶剂紫36、溶剂紫13、溶剂蓝97、溶剂蓝104，
III)溶剂绿3、溶剂绿28。
在下面的表中，针对上面说明的材料给出了相应的CAS编号：
| 溶剂黄179 | CAS 80748-21-6 |
| 溶剂黄93 | CAS 4702-90-3 |
| 溶剂黄114 | CAS 75216-45-4 |
| 溶剂橙60 | CAS 61969-47-9 |
| 溶剂橙107 | CAS 185766-20-5 |
| 溶剂红179 | CAS 89106-94-5 |
| 溶剂红135 | CAS 71902-17-5 |
| 溶剂红111 | CAS 82-38-2 |
| 溶剂红195 | CAS 164251-88-1 |
| 溶剂红52 | CAS 81-39-0 |
| 溶剂紫36 | CAS 61951-89-1 |
| 溶剂紫13 | CAS 81-48-1 |
| 溶剂蓝97 | CAS 61969-44-6 |
| 溶剂蓝104 | CAS 116-75-6 |
| 溶剂绿3 | CAS 128-80-3 |
| 溶剂绿28 | CAS 71839-01-5 |
通过颜料的相应组合，可以实现清晰的吸收边缘。这意味着，在要被吸收、即要被滤除的波长范围和针对其追求高透射率的波长范围之间仅仅存在非常窄的波长范围。在该窄的波长范围中，合成物的透射特性应当相对于通过组合物传播的辐射优选跳跃性地提高，即在优选最大50nm、特别优选最大20nm的波长范围中尽可能陡峭地提高。在该范围中，相对透射率应当倍增，例如双倍，优选三倍。
此外，可以通过组合来实现在整个滤波范围上的良好吸收。通常，各颜料仅仅具有对于小的波长范围的良好吸收，而通过多种颜料的组合，可以针对例如400nm到700nm的范围实现非常良好的滤波作用。于是，相对透射率可以通过针对这样大的波长范围合适地选择颜料来持续地保持在10％以下。
在合成物的另一实施形式中，该合成物包括在上面的组I至III中列出的颜料的多于三种的颜料。
通过更大数目的颜料，可以更好地调节其中吸收辐射的波长范围，或者更好地调节吸收边缘的斜率，并且由此更好地与其应用目的相协调。
除了有机颜料，合成物也还可以包括附加的无机颜料，例如有色的过渡金属复合物例如柏林蓝、带有Cu、Zn、Co、Mg、Fe的酞菁染料以及金属掺杂或者涂层(Mn、Eu或者纳米Al、Au、Ag、TiN)硅酸盐、铝酸盐、氟化物、氧化物和玻璃。
在另一实施形式中，颜料没有Pb和Cd。
在另一实施形式中，颜料是有机金属化合物，例如Zn-酞菁染料或者Cu-酞菁染料。
在另一实施形式中，合成物包括在2个重量百分比以下的颜料浓度。
更高的浓度会降低在大于700nm的范围中的电磁辐射的穿透性，并且由此影响在发射区域或者接收区域中的光学功能和所需的灵敏度。此外，在较长的存放时间情况下，更高的浓度会影响合成物中有规律的颜料颗粒分布。
在合成物的另一实施形式中，硅氧烷可以在60℃到180℃的范围中以热学方式硬化。优选的是，硅氧烷可以在100℃到150℃的范围中以热学方式硬化。
颜料颗粒例如可以添加到第一硅氧烷组分中，并且其随后与第二硅氧烷组分一同通过热学方式硬化。
在合成物的另一实施形式中，硅氧烷在室温情况下具有100mPas至100,000mPas范围中的粘度。优选的是，硅氧烷在室温情况下具有1,000mPas至40,000mPas范围中的粘度。
这种粘度的硅氧烷具有的优点是，其具有高的存放稳定性。也就是说，在硅氧烷中分布的颜料颗粒在较长的存放时间之后仍具有在硅氧烷中的相同空间分布，并且例如明显更弱地下沉和在存放容器的底部聚集，而在硅氧烷具有过低粘度时情况如此。而在较高粘度的硅氧烷情况下，在加工时，例如在压力铸造方法中由于增大的韧性而会产生困难。
在合成物的另一实施形式中，该合成物包括二烷基硅氧烷和/或芳香硅氧烷。
由此，硅氧烷可以是单组分硅氧烷，即纯的硅氧烷，然而也可以是双组分硅氧烷。其中硅氧烷包括多于两种组分的实施形式也是可能的。通过添加芳香硅氧烷，例如可以提高硅氧烷混合物的折射率并且由此提高合成物的折射率。
在双组分硅氧烷的情况下，颜料颗粒例如在将第一组分与第二组分混合之前才添入第一组分中。颜料颗粒也可以添入两种组分中。
通过使用例如其中一个或者两个烷基通过芳香残留物替代的硅氧烷，或者在由二烷基硅氧烷嵌段以及带有芳基烷基主链元素或者二芳基主链元素的区域构成的硅氧烷嵌段聚合物中，可以改变折射率。此外，可以改进溶剂稳定性和渗透特性以及附着稳定性。也可以增大硬度和E模式。
要交联的混合键功能和C-C双键功能例如可以位于相应的链端部或者位于侧基中。
在合成物的另一实施形式中，合成物具有在1.4到1.48的范围中的折射率。
在另一实施形式中，合成物具有大于1.50的折射率，由此将电磁辐射在硅氧烷至芯片的界面上过渡时的耦合损耗最小化。
在一个实施形式中，合成物具有在1.50至1.57的范围中的折射率。
在合成物的另一实施形式中，合成物具有加成交联的硅氧烷。在此，例如可以涉及双组分，其中之一具有C-C双键，并且另外一个具有氢化物。由此，在这两个组分之间可以进行氢化硅烷化。在此的优点是，在交联时并不积累附加副产品。
在合成物的另一实施形式中，合成物没有溶剂。
通过颜料可以直接分散在硅氧烷中，在此可以省去添加溶剂。由此可能的是，与硅氧烷是否可以被溶剂侵蚀(该溶剂用于将颜料引入溶液中)无关地来选择硅氧烷。同样地，在合成物的其他应用中，例如在将合成物施加到透明衬底上的情况下，不必关注在溶剂和衬底之间的相容性。
此外，在处理以及防爆措施中不必考虑膨胀和收缩现象，并且不必考虑由于关键的工位集中导致危害健康的工人暴露。
在合成物的另一实施形式中，该合成物并不包括环氧化物。由此，合成物并不具有在上面参照硅氧烷和环氧化物而讨论的缺点。
在合成物的另一实施形式中，该合成物除了硅氧烷之外并不包括其他的聚合物组分。此外，合成物还可以包括漫射体。漫射体材料例如可以选自CaF2、SiO2、BaSO4、CaCo3、Al2O3、TiO2、ZrO2、ZnO。漫射体在合成物中具有关于电磁辐射的散射作用，并且由此可以增强在合成物中的电磁辐射的散射。
此外，合成物也还可以包括增稠剂，例如热原硅酸。通过增稠剂，例如可以调节合成物的粘度，将吸收层的沉积特性和凝聚特性(Agglomerisationsverhaltten)最小化，并且更均匀地构建光学场中的所希望的滤波作用，并且通过散射作用效应将所希望的滤波作用优化。
除了该合成物，还要求保护一种材料，其可以通过将前面描述的合成物硬化来得到。
在此，该合成物例如可以硬化为例如透明衬底上的部件或者层。在一个实施形式中，层厚度在此在1μm至2mm的范围中，优选在10μm至1mm的范围中。如果层厚度在此选得太薄，则应当通过该层滤除的辐射还有大部分可以穿过该层。如果层厚度选得太厚，则这例如会导致不应当通过该层滤除的电磁辐射的过大部分被该层吸收。
该层例如也可以具有如像素点或者带的图案结构。也可以形成带有不同的层厚度的面。
所形成的层例如也可以用于保护对于光敏感的部件，例如芯片元件或者阵列布置。
除了合成物本身之外，还要求保护一种用于制造合成物的方法。在用于制造滤波材料的合成物的一个变形方案中，该方法包括以下方法步骤：作为方法步骤A)，提供硅氧烷；作为方法步骤B)，加热硅氧烷；作为方法步骤C)，将来自B)的硅氧烷与颜料交联，使得形成分散剂；作为方法步骤D)，将来自C)的分散剂混合，使得形成混合物；作为方法步骤E)，将来自D)的混合物加热；作为方法步骤F)，将来自E的混合物分散，使得形成滤波材料的合成物，其中该合成物对于波长在400nm到700nm之间的辐射具有小于20％的相对透射率，并且对于波长在850nm到1025nm之间的辐射具有超过50％的相对透射率。
颜料在方法步骤A)中例如可以作为粉末、色素或者颗粒存在。原材料优选存在于容器中，该容器没有含S和N的表面污染。
在方法步骤B)中，硅氧烷优选被加热到35℃至40℃的范围中的温度。这能够实现随后更容易地添入颜料。
在方法步骤D)中的分散例如可以借助搅拌装置、三辊磨或者优选借助溶解片(Dissolverscheiben)在200UPM至800UPM的情况下在20℃至80℃的温度下在1小时至8小时内或者整夜地进行。混合也可以借助溶解片在300UPM至600UPM的情况下或者借助Pendraulik搅拌器来混合。这例如可以在一个小时的时段上进行。
在方法步骤E)中，例如可以在炉中加热到60℃到80℃的温度。例如可以在2个小时的时段上加热。
在方法步骤F)中的分散例如可以在2个小时的时段上进行。
为了进一步改进在硅氧烷中的颜料分布，可以将合成物在混合器中在1600UPM至2000UPM的情况下进行混合。为此，例如可以使用SpeedMixer。其例如可以分别在两个2分钟长的步骤中被混合。可替选地或者附加地，也可以通过借助三辊炼胶机的处理来均匀化。
对于在合成物中还存在更大的颜料凝聚物的情况，其例如可以借助过滤工艺来分离。由此，提高了过滤物质的均匀性。为此，可以使用如下过滤介质：该过滤介质并不释放会影响或者抑制滤波材料的硬化的物质到合成物。例如，可以使用将所有大于50μm的颜料凝聚物都滤除的过滤器。
在合成物中的颗粒或者颜料凝聚物的最大大小应当不超过200μm，优选不超过50μm，尤其优选不超过20μm。
在方法步骤D)中的分散例如可以通过搅拌方法或者分散方法、优选通过粉碎研磨(Perlmuehlen)、高速溶解器(Ultra-Turrax)、碾压方法或者混合器(例如SpeedMixer)来混合，其中混合器应当达到2000UPM的速度。
相应设备的速度在此优选选择为使得硅氧烷通过在混合或者分散步骤中引入的机械剪切力尽可能少地在分子结构中通过链降解反应而被改变或者损坏。
在方法步骤D)中的混合优选在20℃到80℃之间的范围中的温度情况下进行。在可通过热学方式硬化的单组分硅氧烷系统情况下，混合温度优选并不超过40℃。
在该方法的另一变形方案中，来自F)的合成物被施加到表面上，使得形成层。这在附加的方法步骤G)中进行。
在施加之前，合成物也可以首先还被添加硬化剂。
该层可以具有横向图案以及局部的选择性过滤作用。
所构建的层在此优选具有10μm到2mm的层厚度，特别优选为100μm到1mm的层厚度。借助这种层厚度，实现了充分的吸收，而并不吸收应当穿过该层的电磁辐射的过大部分。
在方法步骤F)上的合成物可以在方法步骤G)中例如由液相借助分散剂或者通过喷射来施加。然而也可以使用例如丝网印刷、压印、旋涂、压制技术、浸渍或者碾压这些技术。借助丝网印刷或者喷射技术，也可以制造特定的几何结构(点、线、面)。由此，例如也可以仅仅有针对性地将衬底的部分区域涂层。
所施加的层的硬化例如可以在60℃到180℃的温度情况下、优选在100℃到150℃的温度情况下进行。这例如可以在流水线工艺(In-Line-Prozess)中进行，其中该层首先在150℃下硬化15分钟，并且接着在后硬化工艺(Nachhaertprozess)中在独立的炉中在150℃情况下再后硬化1小时，或者在一个阶段中(Batch-Prozess分批工艺)例如在150℃下硬化1小时。
在另一方法变形方案中，该层在其整个面上具有相同的吸收特性。这可以通过在硅氧烷中的颜料有规律地分布来实现。颜料的有规律的分布可以通过前面描述的混合技术来实现。
除了可以通过将合成物硬化来得到的材料之外，也要求保护包括这种材料的光电子器件。
本发明的一个实施形式涉及一种光电子器件，其发射或者吸收来自850nm至1025nm的波长范围的波长的电磁辐射。该器件在此在光路中包括如下层或者部件：其包括可以通过合成物的硬化来得到的材料。
通过该层或者部件，可以将500nm到700nm之间的波长的电磁辐射在很大程度上滤除，而光电子器件发射或者吸收的波长的电磁辐射的大部分并不通过滤波器滤除。由此，例如对于光电子器件是检测器的情况，可以将来自400nm到700nm的波长范围的干扰性辐射滤除，使得通过该辐射在检测器中并不产生不希望的信号。
在光电子器件的另一实施形式中，该层或者部件是日光滤波器。由此，可以通过其保护发射或者吸收的光学元件免受干扰性的日光影响。
颗粒在光电子器件中例如也用作散射颗粒并且由此例如通过反射效应强化了通过光吸收而得到的、针对而来自环境辐射的干扰信号的保护，使得进一步改进了背景噪声或者信噪比并且由此进一步改进了检测器品质。相应地，在发射器侧根据颜料添加和颗粒形状而通过颗粒散射优化了近场和远场。
下面要借助附图和实施例进一步阐述本发明的变形方案。
图1示出了三个透射光谱(a-c)，其中分别绘出了关于波长(λ)的相对透射率(Srel)。
图2示出了光电子器件的一个实施形式的示意性侧视图，该光电子器件构建为光电二极管。
图1在曲线图中示出了三个透射光谱a至c，其中分别以百分比绘出了关于400nm至1100nm的波长(λ)的相对透射率(Srel)。在此，100％是在该波长范围中对于相应的曲线达到的最高透射率。
对于测量，使用Bentem公司的定标后的单色仪作为辐射源。带有已知的光灵敏度的芯片被浇铸在壳体中作为接收器。使用各要测量的材料作为浇铸材料。
曲线a在此示出了没有添加颜料的纯硅氧烷的相对透射率的曲线图。曲线a在400nm到大约950nm的波长范围中连续地并且几乎线性地上升，即具有相同的斜率。在大约950nm处达到相对透射率最大值之后，曲线在进一步的走向中陡峭地抛物线形地下降，直到其在1100nm的波长范围左右达到大约20％的相对透射率的值。
曲线b示出了合成物Zb的相对透射率的曲线图。合成物Zb在此包括比例为98.4质量百分比的双组分硅氧烷系统(Shin Etsu KJR 9022 E1)、比例为0.08质量百分比的橙色颜料、比例为0.53质量百分比的紫色颜料、质量比例为0.20质量百分比的第一绿色颜料、以及比例为0.19质量百分比的第二绿色颜料。
如在图1中可以看到的那样，合成物Zb在400nm到700nm的波长范围中几乎不透射。在750nm到900nm的波长范围中，曲线b陡峭地抛物线形地上升，并且在大约950nm的波长处达到其相对透射率的最大值。在经过最大值之后，曲线类似于曲线a地以抛物线形状陡峭下降。
曲线c示出了合成物Zc的相对透射率。合成物Zc包括比例为98.2质量百分比的双组分硅氧烷系统(Shin Etsu KJR 9022E1)、比例为0.17质量百分比的橙色颜料、比例为1.06质量百分比的紫色颜料、比例为0.40质量百分比的第一绿色颜料、以及比例为0.37质量百分比的第二绿色颜料。
曲线c同样实际上在400nm至700nm的波长范围中并不具有相对透射率。在750nm至900nm的波长范围中，曲线c具有与曲线b类似的陡峭上升，然而曲线c的走向略微朝着更大波长推移。曲线c也大约在950nm的波长处达到其相对透射率的最大值，并且在该最大值之后，与其他两个曲线一样陡峭抛物线形地下降。
从图1中可以看到的是，通过添加合适的颜料组合，在400nm至700nm的波长范围中可以实现非常好的滤波功能，该滤波功能在纯硅氧烷情况下(如从曲线a可以看到的那样)并未给出。合成物Zb以及合成物Zc具有陡峭的吸收边缘，这可以在两个曲线的陡峭上升中在大约750nm至900nm的范围中看到。由此，合成物Zb和Zc非常良好地适合作为例如日光滤波器。它们例如可以用于以例如900nm至1000nm的波长范围中的电磁辐射工作的光电子器件。
图2在示意性侧视图中示出了成形为光电二极管的光电子器件的一个实施例。该光电二极管包括日光滤波器1，其由本申请中描述的材料制成。日光滤波器1以及第一电接触部2设置在强烈p掺杂的区域7上。强烈p掺杂的区域7在其侧面上以及从下侧被p掺杂的区域6包围。其后又朝着侧面以及朝着下侧跟随着n掺杂的区域5。n掺杂的区域5设置在强烈地n掺杂的区域4上，该区域4又设置在第二电接触部3上。上侧的边缘区域设置有电介质8。现在，如果并未通过日光滤波器1滤波的波长的电磁辐射射到日光滤波器的表面上，则在此例如作为光子9示出的电磁辐射可以通过日光滤波器1并且通过强烈地p掺杂的区域7到达p掺杂的区域6。在此，通过光子9的能量可以出现电荷分离称为电子10和空穴11。电子10或者空穴11于是可以朝着器件的第二电接触部或者第一电接触部运动。通过载流子的运动，在器件中出现电流。日光滤波器1现在可以防止的是，由于日光的波长范围中的电磁辐射入射而使得光子进入光电二极管的内部并且在那里通过电荷分离而在光电二极管中引发不希望的电流并且由此引发不希望的背景信号。
本发明并未由于借助实施例的描述而受到限制。更确切地说，本发明包括任意新的特征以及特征的任意组合，尤其是权利要求中的特征的任意组合，即使该特征或者该组合本身并未明确地在权利要求或者实施例中进行说明。
Claims (14)
1.一种用于制造针对辐射的滤波材料的合成物，其包括：
－硅氧烷，以及
－分散在硅氧烷中的至少一种颜料，其中该合成物针对在400nm到700nm之间的波长的辐射具有小于20％的相对透射率，并且针对在850nm到1025nm之间的波长的辐射具有超过50％的相对透射率，其中相对透射率涉及在700nm到1100nm的波长范围中达到的最大透射率值,其中所述硅氧烷能够在60℃至180℃的范围中以热学方式硬化。
2.根据权利要求1所述的合成物，其中所述合成物对于700nm到850nm之间的波长的辐射具有如下相对透射率：所述相对透射率从700nm处小于20％增大到850nm处大于50％。
3.根据上述权利要求之一所述的合成物，其中所述颜料均匀地分布在硅氧烷中。
4.根据权利要求1或2所述的合成物，其中所述颜料作为小于200μm的颗粒存在于所述合成物中。
5.根据权利要求1或2所述的合成物，其中所述合成物包括选自如下材料的至少一种颜料：溶剂黄179、溶剂黄93、溶剂黄114、溶剂橙60、溶剂橙107、溶剂红179、溶剂红135、溶剂红111、溶剂红195、溶剂红52、溶剂紫36、溶剂紫13、溶剂蓝97、溶剂蓝104、溶剂绿3、溶剂绿28。
6.根据权利要求5所述的合成物，其中所述合成物包括分别来自如下三个组I至III之一的至少一种颜料：
I)溶剂黄179、溶剂黄93、溶剂黄114、溶剂橙60、溶剂橙107、溶剂红179、溶剂红135、溶剂红111、溶剂红195、溶剂红52，
II)溶剂紫36、溶剂紫13、溶剂蓝97、溶剂蓝104，
III)溶剂绿3、溶剂绿28。
7.根据权利要求1或2所述的合成物，其中所述合成物包括二烷基硅氧烷和/或芳香硅氧烷。
8.根据权利要求1或2所述的合成物，其中所述合成物没有溶剂。
9.一种用于对辐射滤波的材料，所述材料能够通过将根据权利要求1或2所述的合成物硬化来得到。
10.一种用于制造滤波材料的合成物的方法，包括以下方法步骤：
A)提供硅氧烷；
B)加热硅氧烷；
C)将来自B)的硅氧烷掺以颜料，使得形成分散剂；
D)将来自C)的分散剂混合，使得形成混合物；
E)将来自D)的混合物加热到60℃至80℃的温度；
F)将来自E)的混合物分散，使得形成滤波材料的合成物，其中所述合成物对于波长在400nm到700nm之间的辐射具有小于20％的相对透射率，并且对于在850nm到1025nm之间的波长的辐射具有超过50％的相对透射率，其中相对透射率涉及在700nm到1100nm的波长范围中达到的最大透射率值。
11.根据权利要求10所述的方法，包括附加的方法步骤：
G)将来自F)的合成物施加到表面上，使得形成层。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述层在其整个面上具有相同的吸收特性。
13.一种光电子器件，其发射或者吸收来自850nm至1025nm的波长范围的波长的电磁辐射，其中所述器件在光路中具有包括根据权利要求9所述的材料的层或者部件。
14.根据权利要求13所述的器件，其中所述层或者部件是日光滤波器。
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