CN102386086B - 刻蚀清洗机 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及刻蚀清洗技术领域,具体公开了一种滚轮和刻蚀清洗机,其中,在所述滚轮表面沿其径向方向设置有凹槽。本发明通过在滚轮上设置凹槽,利用凹槽携带药液能够实现对电池片下表面的均匀刻蚀,而且药液液面仅达到滚轮的四分之一直径处即可,避免了药液对电池片上表面的腐蚀。更进一步地,由于电池片和药液液面之间具有一定空隙,可以将排风管设置在电池片下方,有利于更好的排出药液形成的酸雾,避免酸雾对电池片上表面的腐蚀。提高了电池片的刻蚀效率,改善了电池片的刻蚀效果,提高了电池片的合格率。

Description

刻蚀清洗机
技术领域
本发明涉及刻蚀清洗技术领域,特别涉及一种滚轮及刻蚀清洗机。
背景技术
现有的湿法刻蚀清洗机通过控制药液液面高度,来保证药液只接触太阳能电池片下表面而不损伤电池片的上表面,来实现对工件的单面刻蚀,此种方式可以形象的称之为“水上漂”,如图1所示。在该方式中,盛放药液的储液槽3中安装有滚轮1’,作为太阳能电池片2(硅片)的传输载体。利用太阳能电池片2的吸水特性,电池片2与液面的距离必须保证小于0.5mm,这时电池片2的下表面就会吸附液面,吸附液面处电池片2和药液5发生化学反应,将理想刻蚀面21腐蚀掉,达到对电池片2进行单面刻蚀的目的。由于整个工艺过程中电池片2在滚轮1’的转动下传动,电池片2的厚度大概为180μm-220μm,比较薄,传动过程中,滚轮1’溅起的药液很容易对电池片2的上表面产生腐蚀,尤其电池片2的边缘部分为过蚀点7,腐蚀最为严重。
另一方面,由于药液5的挥发及凝结,挥发出来的气体与凝结的液滴也极易对电池片2的上表面产生腐蚀,为了解决这种问题通常会设置排风管,但此种结构只能将排风管设置于电池片2的上表面,在排风过程中酸雾就会对电池片2的上表面产生不必要的腐蚀。上表面被腐蚀的电池片2就是不合格品,造成资源的大量浪费。
再一方面,现有的滚轮1’通常采用“O”型圈或光面滚轮,滚轮1’仅仅作为传输用途。光面滚轮无法将药液5均匀的分布到电池片2的下表面上,还会形成间隔携带药液5的情况,造成刻蚀不均匀,且光面滚轮携带的药液量有限,无法满足刻蚀使用药液量。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是如何避免湿法刻蚀过程中药液对工件上表面的腐蚀。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种滚轮,其中,在所述滚轮表面沿其径向方向设置有凹槽。
进一步地,所述凹槽沿滚轮径向截面的形状,为方形、半圆形或V形。
进一步地,所述凹槽为若干个。
进一步地,所述凹槽的深度为0.2mm~0.5mm。
进一步地,沿所述滚轮轴向方向上各个凹槽之间的间距为0.2mm~0.4mm。
为了解决上述技术问题,本发明还提供了一种刻蚀清洗机,包括上述的滚轮,其中,还包括放置所述滚轮的储液槽,与所述储液槽连接的补液组件,以及设置在所述滚轮之间的排风组件。
进一步地,所述排风组件包括若干个排风管。
(三)有益效果
上述技术方案具有如下有益效果:通过在滚轮上设置凹槽,利用凹槽携带药液能够实现对电池片下表面的均匀刻蚀,而且药液液面仅达到滚轮的四分之一直径处即可,避免了药液对电池片上表面的腐蚀。更进一步地,由于电池片和药液液面之间具有一定空隙,可以将排风管设置在电池片下方,有利于更好的排出药液形成的酸雾,避免酸雾对电池片上表面的腐蚀。提高了电池片的刻蚀效率,改善了电池片的刻蚀效果,提高了电池片的合格率。
附图说明
图1是现有技术中湿法刻蚀的示意图;
图2是本发明实施例的滚轮的结构示意图;
图3是本发明实施例的刻蚀清洗机的结构示意图;
其中,1,1’:滚轮;11:凹槽;2:电池片;21:理想刻蚀面;3:储液槽;4:排风管;5:药液。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
实施例一
如图2、图3所示,为本发明实施例提供的滚轮的结构示意图,该滚轮1表面沿滚轮1的径向方向设置有凹槽11。
凹槽11沿滚轮1径向截面的形状,可以为方形、半圆形等规则形状。优选地,本实施例中的凹槽11为V形槽。在设置凹槽11时,不同尺寸会产生不同腐蚀效果。凹槽11间距过大会造成腐蚀不均匀;间距过小会造成加工难度增大,容易出现过蚀点。凹槽11的深度过大会造成药液无法形成弧面,达不到腐蚀效果;深度过小会造成携带药液量不足的情况。经过大量试验反复证明,优选地,凹槽11的深度为0.2mm~0.5mm,沿滚轮1轴向方向上凹槽11之间的间距为0.2mm~0.4mm。
由于用于刻蚀的药液为酸性,具有一定的粘性和浓度,本实施例利用V形槽的储液特性,当滚轮在药液中旋转时,药液能够附着于凹槽内,随着滚轮的转动,电池片的下表面一直与滚轮接触,电池片经过多根滚轮,凹槽中的药液就会均匀的布满电池片的下表面,对电池片的下表面进行单面刻蚀,而不会对电池片的上表面造成影响。这种情况下,刻蚀清洗剂的储液槽中的液面低于滚轮的最顶端即可,利用滚轮旋转就可以将药液附着于凹槽内。此外由于凹槽的结构是均匀分布,还可实现携带药液的均匀性。
此外,由于凹槽之间有一定距离,因此与电池片相接触处的滚轮不受任何影响,即不会对传输带来任何影响。滚轮设置有50根左右,即使单根滚轮的凹槽只会造成电池片下表面的部分腐蚀,其他滚轮交错布置,即可满足均匀腐蚀的要求。
本实施例中凹槽的深度,宽度以及各个凹槽之间的间隔可以灵活设置,以满足不同工艺对药液的不同需求量。而且该滚轮的选用可降低对循环管路流量及槽体加工制造精度的要求,大大降低成本。
本实施例的滚轮在传送电池片的同时又能满足单面刻蚀的目的,不会腐蚀到电池片的上表面,在保证工艺的前提下能够提高产能,提高电池片的合格率。
实施例二
如图3所示,本发明实施例还提供了一种刻蚀清洗机,该清洗机包括:储液槽3,用于盛放刻蚀电池片2的药液5;传动组件,包括若干个滚轮1,位于储液槽3中,用于放置电池片2以及传输电池片2运动;排风组件,包括若干个排风管4,设置在滚轮1之间,位于电池片2的下方,用于将电池片2下方的药液5产生的酸雾排走;还包括补液组件,与储液箱3连接,用于给储液箱3补充药液。
本实施例的滚轮1即实施例一的滚轮,在此不再赘述。由于滚轮1带有凹槽11,凹槽11可以携带一定量的药液5对电池片2的下表面进行刻蚀,因此液面不必再像现有技术中那样浸没滚轮1并离电池片2的下表面很近,而是仅达到滚轮1的四分之一直径处就可以,这样电池片2的下表面和液面之间就具有一定空间,因此将排风管4设置于电池片2的下方,对电池片2下方的酸雾排走即可。与现有技术将排气管设置在电池片2上方相比,不会将酸雾带到电池片2的上表面,仅对电池片2下表面的理想刻蚀面21进行刻蚀,保证电池片2上表面的完好。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种刻蚀清洗机,其特征在于,包括滚轮、放置所述滚轮的储液槽、与所述储液槽连接的补液组件以及设置在所述滚轮之间的排风组件,所述滚轮表面沿其径向方向设置有凹槽,所述滚轮的上部露出药液液面,所述排风组件位于液面上方且位于电池片下方。
2.如权利要求1所述的刻蚀清洗机,其特征在于,所述排风组件包括若干个排风管。
3.如权利要求1所述的刻蚀清洗机,其特征在于,所述凹槽沿滚轮径向截面的形状,为方形、半圆形或V形。
4.如权利要求1所述的刻蚀清洗机,其特征在于,所述凹槽为若干个。
5.如权利要求4所述的刻蚀清洗机,其特征在于,所述凹槽的深度为0.2mm~0.5mm。
6.如权利要求5所述的刻蚀清洗机,其特征在于,沿所述滚轮轴向方向上各个凹槽之间的间距为0.2mm~0.4mm。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103545191B (zh) * 2012-07-16 2016-06-15 中国科学院微电子研究所 栅极结构的形成方法、半导体器件的形成方法以及半导体器件
CN103441089B (zh) * 2013-08-02 2016-12-28 上海华力微电子有限公司 一种湿法刻蚀工艺的控制方法
CN105118802B (zh) * 2015-09-06 2018-04-10 昊诚光电(太仓)有限公司 电池片背面抛光用水膜厚度控制装置
CN107331639A (zh) * 2017-08-16 2017-11-07 国家电投集团西安太阳能电力有限公司 带液滚轮及太阳能电池清洗设备
CN108682620B (zh) * 2018-06-07 2020-01-14 通威太阳能(安徽)有限公司 一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法及其装置
CN110676153A (zh) * 2019-09-20 2020-01-10 常州捷佳创精密机械有限公司 太阳能电池、臭氧溶液施加装置及太阳能电池的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201126739A (en) * 2010-01-22 2011-08-01 Tainergy Tech Co Ltd Wet-etching machine for solar cell manufacturing process
CN201962364U (zh) * 2011-01-25 2011-09-07 东方电气集团(宜兴)迈吉太阳能科技有限公司 单晶硅太阳能电池片湿法刻蚀装置
CN202167531U (zh) * 2011-07-30 2012-03-14 常州天合光能有限公司 太阳能电池片刻蚀机传输装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07893A (ja) * 1993-06-18 1995-01-06 Mitsui Toatsu Chem Inc ロールコーターのドクターブレード及びインク循環方法
JP2010114345A (ja) * 2008-11-10 2010-05-20 Sharp Corp 太陽電池の製造方法
KR20100110422A (ko) * 2009-04-03 2010-10-13 (유)에스엔티 태양전지 제조용 기판 식각장치
JP2011082359A (ja) * 2009-10-07 2011-04-21 Mitsubishi Electric Corp 基板処理装置および基板処理方法
KR20110060082A (ko) * 2009-11-30 2011-06-08 현대중공업 주식회사 습식 식각장치
JP2011212810A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Bando Chemical Industries Ltd ワイヤーソー用メインローラ
CN201796936U (zh) * 2010-09-29 2011-04-13 常州天合光能有限公司 提高电池制备良率的链式制绒设备

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201126739A (en) * 2010-01-22 2011-08-01 Tainergy Tech Co Ltd Wet-etching machine for solar cell manufacturing process
CN201962364U (zh) * 2011-01-25 2011-09-07 东方电气集团(宜兴)迈吉太阳能科技有限公司 单晶硅太阳能电池片湿法刻蚀装置
CN202167531U (zh) * 2011-07-30 2012-03-14 常州天合光能有限公司 太阳能电池片刻蚀机传输装置

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特开2011-212810A 2011.10.27
JP特开2011-82359A 2011.04.21

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