CN102307435B - 一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺 - Google Patents
一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102307435B CN102307435B CN 201110246092 CN201110246092A CN102307435B CN 102307435 B CN102307435 B CN 102307435B CN 201110246092 CN201110246092 CN 201110246092 CN 201110246092 A CN201110246092 A CN 201110246092A CN 102307435 B CN102307435 B CN 102307435B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- circuit board
- printed circuit
- pcb
- cleaning
- high density
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 15
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GNFTZDOKVXKIBK-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methoxyethoxy)benzohydrazide Chemical compound COCCOC1=CC=CC(C(=O)NN)=C1 GNFTZDOKVXKIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 claims description 5
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 claims description 5
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 claims description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000007306 turnover Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 abstract 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-chlorophenyl)-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(CN)C1=CC=C(Cl)C=C1 JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 235000010855 food raising agent Nutrition 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺,该工艺包括如下步骤:常温高压清水清洗、超音波清洗、常温低压清水清洗、微蚀刻液清洗、常温低压清水清洗、稀硫酸清洗、常温低压清水清洗、常温高压自然风吹干与烘烤等步骤,本发明的工艺在保证盲孔清洁效果的同时,提升了生产效率及周转率,并有效降低了避免搬运过程中造成的板面刮伤报废,避免楔形孔破的风险,从而节约生产成本。
Description
技术领域
本发明公开了一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺。
背景技术
针对高密度互联印刷电路板(HDI PCB板),经过激光钻孔后,再经过化学方法清除孔内胶渣,最后经水洗段清洗烘干,再用镭射AOI(自动光学检验设备)设备检验盲孔底部有无清洁干净及盲孔有无漏接、击穿等品质状况。
流程:激光钻孔→化学方法除胶([注1]具体:蓬松剂蓬松→水洗→高锰酸钠腐蚀→水洗→双氧水,硫酸预中和→水洗→专用中和剂清洗高锰酸钠残留→水洗)→水洗机清洗烘干→自动光学检测。
已有加工工艺存在的问题:
化学方法除胶工艺流程长,其中使用到的蓬松剂,高锰酸钠对环境污染较重,废水处理不易,现场难保养设备,对生产效率也存在一定的影响;
由于高密度互联板(HDI)工艺制作盲孔和通孔工艺的特殊性,导致使用该工艺清洁盲孔的次数需要经过2次,造成除胶过度,电镀工艺容易产生楔形孔破的问题,详述如下:
激光钻孔→ 化学方法清洁盲孔→盲孔检验→机械钻机钻通孔→化学方法清洁通孔,盲孔→水洗,烘干→电镀;
(备注:此处化学方法同[注1])
从而存在潜在的品质风险----形成楔形孔破。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种可以提升生产效率、操作简便、成本低的一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺。
按照本发明提供的技术方案,所述高密度互联印刷电路板的清洁工艺包括如下步骤:
a、利用压力为50~70kg/cm2 的常温清水清洗高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
b、将步骤a的高密度互联印刷电路板放入超音波清洗槽内,超音波清洗槽壁安装有超音波发生器,超音波频率采用23~33KHz,超音波发生器的电流为2.0~3.0A,超音波清洗槽内的水温控制在35~45℃,超音波清洗时间为1~3分钟;
c、将步骤b的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7~1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
d、使用微蚀刻液对步骤c的高密度互联印刷电路板进行清洗,微蚀刻液中含有重量百分含量为2%~5%的H2O2与重量百分含量为20%~28%的中粗化药水,中粗化药水的型号为MES-68H,清洗过程中,清洗后溶液中铜离子的浓度需控制在30~50g/L;
e、将步骤d的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7~1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
f、使用压力为1.5~2.5kg/cm2、重量百分含量为2%~4%的H2SO4清洗步骤e的高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
g、将步骤f的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7~1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
h、使用压力为6~16 Kpa的常温自然风吹干步骤g的高密度互联印刷电路板;
i、将步骤h的高密度互联印刷电路板置于75~85℃的烘箱内烘烤1~3分钟。
本发明的工艺在保证盲孔清洁效果的同时,提升了生产效率及周转率,并有效降低了避免搬运过程中造成的板面刮伤报废,避免楔形孔破的风险,从而节约生产成本。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
手机、数码相机使用的高密度互联印刷电路板的清洁,其盲孔孔口直径为0.127mm(合5mil),具体清洁工艺如下:
a、利用压力为50kg/cm2 的常温清水清洗高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
b、将步骤a的高密度互联印刷电路板放入超音波清洗槽内,超音波清洗槽壁安装有超音波发生器,超音波频率采用23KHz,超音波发生器的电流为2.0A,每个超音波发生器的功率为1200W,超音波清洗槽内共安装四个超音波发生器,超音波清洗槽内的水温控制在35℃,超音波清洗时间为1分钟;
c、将步骤b的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
d、使用微蚀刻液对步骤c的高密度互联印刷电路板进行清洗,微蚀刻液中含有重量百分含量为2%的H2O2与重量百分含量为20%的中粗化药水,中粗化药水的主要成分为硫酸,中粗化药水的型号为MES-68H,中粗化药水的生产厂家为:昆山信科贸易有限公司;清洗过程中,清洗后溶液中铜离子的浓度需控制在30g/L;
e、将步骤d的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
f、使用压力为1.5kg/cm2、重量百分含量为2%的H2SO4清洗步骤e的高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
g、将步骤f的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
h、使用压力为6 Kpa的常温自然风吹干步骤g的高密度互联印刷电路板;
i、将步骤h的高密度互联印刷电路板置于75℃的烘箱内烘烤1分钟。
该实施例的高密度互联印刷电路板清洗后,可见盲孔底部的铜,盲孔底部的孔径大小为0.091mm(合3.58mil),盲孔底部的孔径与盲孔孔口的孔径之比为0.716。
实施例2
手机、数码相机使用的高密度互联印刷电路板的清洁,其盲孔孔口直径为0.127mm(合5mil),具体清洁工艺如下:
a、利用压力为70kg/cm2 的常温清水清洗高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
b、将步骤a的高密度互联印刷电路板放入超音波清洗槽内,超音波清洗槽壁安装有超音波发生器,超音波频率采用33KHz,超音波发生器的电流为3.0A,每个超音波发生器的功率为1200W,超音波清洗槽内共安装四个超音波发生器,超音波清洗槽内的水温控制在45℃,超音波清洗时间为3分钟;
c、将步骤b的高密度互联印刷电路板使用压力为1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
d、使用微蚀刻液对步骤c的高密度互联印刷电路板进行清洗,微蚀刻液中含有重量百分含量为5%的H2O2与重量百分含量为28%的中粗化药水,中粗化药水的主要成分为硫酸,中粗化药水的型号为MES-68H,中粗化药水的生产厂家为:昆山信科贸易有限公司;清洗过程中,清洗后溶液中铜离子的浓度需控制在30~50g/L;
e、将步骤d的高密度互联印刷电路板使用压力为1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
f、使用压力为2.5kg/cm2、重量百分含量为4%的H2SO4清洗步骤e的高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
g、将步骤f的高密度互联印刷电路板使用压力为1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
h、使用压力为16 Kpa的常温自然风吹干步骤g的高密度互联印刷电路板;
i、将步骤h的高密度互联印刷电路板置于85℃的烘箱内烘烤3分钟。
该实施例的高密度互联印刷电路板清洗后,可见盲孔底部的铜,盲孔底部的孔径大小为0.117mm(合4.6mil),盲孔底部的孔径与盲孔孔口的孔径之比为0.92。
实施例3
手机、数码相机使用的高密度互联印刷电路板的清洁,其盲孔孔口直径为0.127mm(合5mil),具体清洁工艺如下:
a、利用压力为60kg/cm2 的常温清水清洗高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
b、将步骤a的高密度互联印刷电路板放入超音波清洗槽内,超音波清洗槽壁安装有超音波发生器,超音波频率采用28KHz,超音波发生器的电流为2.5A,每个超音波发生器的功率为1200W,超音波清洗槽内共安装四个超音波发生器,超音波清洗槽内的水温控制在40℃,超音波清洗时间为2分钟;
c、将步骤b的高密度互联印刷电路板使用压力为1kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
d、使用微蚀刻液对步骤c的高密度互联印刷电路板进行清洗,微蚀刻液中含有重量百分含量为3%的H2O2与重量百分含量为24%的中粗化药水,中粗化药水的主要成分为硫酸,中粗化药水的型号为MES-68H,中粗化药水的生产厂家为:昆山信科贸易有限公司;清洗过程中,清洗后溶液中铜离子的浓度需控制在40g/L;
e、将步骤d的高密度互联印刷电路板使用压力为1kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
f、使用压力为2kg/cm2、重量百分含量为3%的H2SO4清洗步骤e的高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
g、将步骤f的高密度互联印刷电路板使用压力为1kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
h、使用压力为11 Kpa的常温自然风吹干步骤g的高密度互联印刷电路板;
i、将步骤h的高密度互联印刷电路板置于80℃的烘箱内烘烤2分钟。
该实施例的高密度互联印刷电路板清洗后,可见盲孔底部的铜,盲孔底部的孔径大小为0.104mm(合4.08mil),盲孔底部的孔径与盲孔孔口的孔径之比为0.816。
从以上实施例可以看出,本发明的工艺清洗效果达到标准。
Claims (1)
1. 一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺,其特征在于该清洁工艺包括如下步骤:
a、利用压力为50~70kg/cm2 的常温清水清洗高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
b、将步骤a的高密度互联印刷电路板放入超音波清洗槽内,超音波清洗槽壁安装有超音波发生器,超音波频率采用23~33KHz,超音波发生器的电流为2.0~3.0A,超音波清洗槽内的水温控制在35~45℃,超音波清洗时间为1~3分钟;
c、将步骤b的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7~1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
d、使用微蚀刻液对步骤c的高密度互联印刷电路板进行清洗,微蚀刻液中含有重量百分含量为2%~5%的H2O2与重量百分含量为20%~28%的中粗化药水,清洗过程中,清洗后溶液中铜离子的浓度需控制在30~50g/L;
e、将步骤d的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7~1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
f、使用压力为1.5~2.5kg/cm2、重量百分含量为2%~4%的H2SO4清洗步骤e的高密度互联印刷电路板的板面及盲孔;
g、将步骤f的高密度互联印刷电路板使用压力为0.7~1.3kg/cm2 的常温清水清洗其板面及盲孔;
h、使用压力为6~16 Kpa的常温自然风吹干步骤g的高密度互联印刷电路板;
i、将步骤h的高密度互联印刷电路板置于75~85℃的烘箱内烘烤1~3分钟。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201110246092 CN102307435B (zh) | 2011-08-25 | 2011-08-25 | 一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 201110246092 CN102307435B (zh) | 2011-08-25 | 2011-08-25 | 一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102307435A CN102307435A (zh) | 2012-01-04 |
CN102307435B true CN102307435B (zh) | 2012-11-21 |
Family
ID=45381215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 201110246092 Expired - Fee Related CN102307435B (zh) | 2011-08-25 | 2011-08-25 | 一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102307435B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015006907A1 (zh) * | 2013-07-15 | 2015-01-22 | 深圳崇达多层线路板有限公司 | 高频pcb阻焊前处理工艺及其制备工艺 |
CN105657976A (zh) * | 2016-01-19 | 2016-06-08 | 深圳崇达多层线路板有限公司 | 一种整板沉镍金阶梯板的制作方法 |
CN106498466A (zh) * | 2016-11-04 | 2017-03-15 | 北京曙光航空电气有限责任公司 | 一种表面带盲孔的零件的电镀方法 |
CN113477596B (zh) * | 2021-07-16 | 2022-04-22 | 四川成焊宝玛焊接装备工程有限公司 | 铝合金电池总成壳体自动化清洗系统及工艺 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10163627A (ja) * | 1996-12-04 | 1998-06-19 | Nippon Steel Chem Co Ltd | バイアホールの形成方法 |
JP2001077514A (ja) * | 1999-09-03 | 2001-03-23 | Cmk Corp | プリント配線板の製造方法 |
US6398937B1 (en) * | 2000-09-01 | 2002-06-04 | National Research Council Of Canada | Ultrasonically assisted plating bath for vias metallization in printed circuit board manufacturing |
JP2003283111A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-03 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プリント配線板の洗浄方法 |
JP4761694B2 (ja) * | 2002-11-15 | 2011-08-31 | 日立化成工業株式会社 | 印刷配線板又は銅張積層板の洗浄方法及び印刷配線板 |
CN100482039C (zh) * | 2007-07-27 | 2009-04-22 | 瀚宇博德科技(江阴)有限公司 | 印刷电路板制程克服非导通孔孔内沾金的方法 |
JP5097979B2 (ja) * | 2008-08-25 | 2012-12-12 | メック株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
CN102026488B (zh) * | 2010-12-18 | 2013-07-17 | 奥士康精密电路(惠州)有限公司 | 一种改善多层电路板过孔质量的方法 |
-
2011
- 2011-08-25 CN CN 201110246092 patent/CN102307435B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102307435A (zh) | 2012-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102307435B (zh) | 一种高密度互联印刷电路板的清洁工艺 | |
CN104519664B (zh) | 印制电路板的清洗方法和印制电路板 | |
CN102071446B (zh) | 可焊性铝卷材连续电镀工艺 | |
CN103945648B (zh) | 一种高频电路板生产工艺 | |
CN102728573B (zh) | 一种晶体硅rie制绒表面损伤层的清洗工艺 | |
CN106085639A (zh) | 一种pcb板水性清洗剂及其使用方法 | |
CN201898664U (zh) | 一种线路板前处理机 | |
CN108024451A (zh) | 一种pcb板退油工艺 | |
CN104270893A (zh) | 一种pcb板表面处理工艺 | |
CN104726853A (zh) | 一种光学用铜表面消光发黑处理方法 | |
CN201817568U (zh) | 钢线盘条表面预处理装置 | |
CN104313581B (zh) | 一种铝合金无氟酸砂处理工艺及酸砂处理剂 | |
CN102698983A (zh) | 一种太阳能级硅片的清洗方法 | |
CN102497734B (zh) | 一种铝基覆铜板铝表面的处理方法 | |
CN210837672U (zh) | 一种大尺寸硅片碱腐清洗装置 | |
CN103361690B (zh) | Pcb的盲孔清洗方法 | |
CN103938238B (zh) | 一种钢带连续镀铜方法 | |
CN101662896A (zh) | 印刷布线板的制造方法 | |
CN103668192A (zh) | 一种铝合金板用四元浸锌锡镍铁工艺 | |
CN109518240A (zh) | 一种微盲孔电镀前处理方法 | |
CN203007370U (zh) | 一种涂锡铜带浸锡前表面预处理装置 | |
CN206970715U (zh) | 一种化学镍金生产线 | |
CN101161360A (zh) | 清洗聚合物锂离子电池集流体的方法 | |
CN106513375A (zh) | 清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗ic衬底传送滚轮的清洗液及方法 | |
CN106654399A (zh) | 一种高效自动清除锌银电池极片化成后残留碱液的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20121121 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |