CN102190452A - 二水柠檬酸出口级齿科用高强石膏及其生产方法 - Google Patents

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马振义
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    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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Abstract

本发明二水柠檬酸出口级齿科用高强石膏及其生产方法,即一种利用生产柠檬酸所排放的废渣——柠檬酸石膏,属于工业副产石膏资源化综合利用技术领域。配比组分为:二水柠檬酸石膏:80-100%、水:10-20%、媒晶剂1:0.01-0.04%、媒晶剂2:0.13-0.18%。制备方法:将石膏、水、媒晶剂在动态高压反应釜内按配比混合成料浆,搅拌升温,恒温135-150℃、时间1.5-2h,pH值3-5,然后高速离心机脱水,迅速110-130℃烘干,再粉磨。该产品充分发挥了四大优势:国际上先进的动态水热法加工工艺、纯度最高的柠檬酸石膏、成本最低的固体废弃物原材料和强度最高的齿科用a半水石膏。打破外国齿科石膏垄断中国高价位市场的局面,填补、进军国外市场。

Description

二水柠檬酸出口级齿科用高强石膏及其生产方法
技术领域
本发明属于将柠檬酸钙酸解过程所产生的固体废渣——柠檬酸石膏,变废为宝、减排、节能、节地、环保,资源化综合利用技术领域。具体涉及利用一种白度好、纯度高的固体废渣、及先进的动态水热法和媒晶剂转化生产工艺,生产出强度最好的a高强石膏,来加工制作出口级齿科专用石膏。打破国外产品对国内市场高价位的垄断,填补和进军国外市场。其优势在于:成本低、强度高、性价比高、膨胀率小优势十分明显。
背景技术
齿科用超硬石膏要做到极致,必须有二个先决条件:一是纯度高的石膏粉;二是先进的生产工艺。国内的条件明显不具备,石膏粉是天然石膏,纯度达到98%以上基本没有或极少,二水柠檬酸石膏纯度都在98%以上。而生产工艺大部分采取蒸压法而不是水热法,之间的强度可以差到20-30mpa。这个局面和状况,就造成国外品牌,至少5-6国家产品充斥了齿科用超硬石膏高端市场,价位高于国内产品3-4倍,国内产品只能在中低端产品中游荡,利润空间不大。
再说生产柠檬酸企业,加工一吨柠檬酸,要排放出2.4吨(湿)柠檬酸废渣石膏,然后购地堆放或填埋。我国是柠檬酸生产和出口大国,每年二水柠檬酸废渣石膏排放数字十分可观。而且废渣石膏,白度好,纯度高,是最满意成本低的加工齿科用a高强石膏的原料,是将来企业有国内高端市场和出口国外的理想产品。可目前的状况是堆积,既造成企业负担,又带来对水源、大气的污染。
目前,仍未检查出同类技术的发明专利申请。
发明内容
本发明的目的,在于提供一种二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法。
该技术的优势是:一是白度好,其他化工石膏无法比拟;二是纯度高达98%以上最好的化工石膏废渣资源;三是采用了先进的“动态水热法”和媒晶剂转化工艺手段,因此质量高、成本低,完全可以与国外产品抗衡或取而代之。在出口国外同时,消纳了大量的固体废弃物,节能减排,变废为宝,实现资源化综合利用。
本发明提供的是一种二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,由以下组份、重量组成:二水柠檬酸石膏:80-100%、水:10-20%、媒晶剂1:0.01-0.04%、媒晶剂2:0.13-0.18%。
上述二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,其特征在于:所述的二水柠檬石膏,系指生产柠檬酸酸解柠檬酸钙所产生的固体废渣;所述的媒晶剂1、系指羟基羧酸盐——丁二酸;所述的媒晶剂2,系指高分子类——明胶。
以上二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,其步骤包括:
1)将二水柠檬酸石膏加入可动态搅拌的高压反应釜内;
2)釜内料浆的浓度为:10-30%;
3)媒晶剂1:丁二酸、媒晶剂2:明胶按配比、计量加入高压釜内;
4)反应釜内的恒温温度为:135-150℃,压力为:0.35mpa-0.37mpa;
5)恒温持续时间:1.5-2H;
6)反应釜的酸碱度PH值为:3-5;
7)到时间后,迅速脱水,并在110-130℃温度内快速烘干,粉磨后即可得到a高强石膏。
本发明公开的一种二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,经过实验室检测:抗压强度:58-61.2mpa。其反应机理为:二水石膏在水溶液中脱水为半水石膏,必须具备二个条件:一是溶解度。常温下溶解度很低,只有2.05g/L,但温度升高、溶解度也相应提高。而107℃是平衡温度,要超过这个温度,二水石膏才能不断脱水。只有通过动态高压反应釜来实现。在温度升到140-150℃时,半水石膏在溶液中是个稳定相。但结晶形态似针状晶体,强度低;二是结晶形态。需要的是短粗状六棱形,这种形态、强度才高。所以必须添加特殊的外加剂——媒晶剂,抑制针状晶体的产生,并诱导和改变其晶体习性转化,生成我们需求的结晶形态——短柱状六棱形。当然,还与转化时间、PH值、柠檬酸纯度、料浆浓度、干燥温度、搅拌速度等因素有关。
本发明公开的二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏,抗压强度:50-60.0mpa,并能消纳大量二水柠檬酸废渣石膏,对于保护天然石膏资源、节约土地资源;对于减排、节能、利废、环保;对于提供质量、降低成本,打破国外企业垄断,走出国际市场,都是一场变革和机遇。
具体实施方式
下面结合实例,对本发明作进一步的阐述和说明。
本发明提供的一种二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,其组份、重量组成如下:
二水柠檬酸石膏:80-100%
水            :10-20%
媒晶剂1       :0.01-0.04%
媒晶剂2        :0.13-0.18%
以上所述的二水柠檬酸石膏,系指生成柠檬酸酸解柠檬酸钙所产生的废渣;所述的媒晶剂1,系指羟基羧酸盐——丁二酸;所述的媒晶剂2,系指高分子类——明胶。
本发明二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,其步骤包括为:
1)将二水柠檬酸石膏,计量加入可动态搅拌的高压反应釜内;
2)高压反应釜内料浆的浓度比为:10-30%;
3)媒晶剂1:丁二酸、媒晶剂2:明胶,计量加入高压釜内;
4)反应釜内的恒温为:135-150℃,压力为:0.35mpa-0.37mpa;
5)恒温时间为:1.5-2H;
6)酸碱度为:PH3-5;
7)时间到后,迅速脱水,并在110-130℃温度内快速烘干,粉磨后即可。
实施例一:
本案原材料配比如下:
原状二水柠檬酸石膏:80%
水                :20%
丁二酸            :0.02%
明胶              :0.13%
经电子扫描显微镜观测:结晶形态,典型的短柱状六棱形,晶面发育非常充分,表面完整光滑,强烈地抑制了石膏晶体向长轴方向的生长。
本发明二水柠檬酸石膏制取出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,其步骤包括:
1)将二水柠檬酸石膏80%,加入可动态搅拌的高压反应釜内;
2)高压反应釜内料桨的浓度比为:20%;
3)媒晶剂1:丁二酸:0.02%、媒晶剂2:明胶:0.13%,按配比、计量加入高压釜内;
4)反应釜内的恒温为:135℃,压力为:0.35mpa;
5)反应釜内恒温时间为:2H;
6)反应釜内的酸碱度为:PH值为3-4;
7)时间到后,迅速脱水,并在120℃温度内快速烘干,粉磨后即可得到a高强石膏。
实施例二:
本案原材料配比如下:
二水柠檬酸石膏:85%
水            :15%
媒晶剂1丁二酸:0.01%
媒晶剂2明胶  :0.10%

Claims (3)

1.二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,由以下组份组成:
二水柠檬酸石膏:80-100%
水            :10-20%
媒晶剂1       :0.01-0.04%
媒晶剂2       :0.13-0.18%
2.根据权利要求1所述的二水柠檬酸出口级齿科用a高强石膏及其生产方法,其特征在于:所述的二水柠檬酸石膏,为生产柠檬酸酸解柠檬酸钙所产生的固体废渣;所述的媒晶剂1,为羟基羧酸盐—丁二酸;所述的媒晶剂2:为高分子类——明胶。
3.根据权利要求1所述的二水柠檬酸石膏及其生产方法,其步骤包括:
1)将计量好的二水柠檬酸石膏加入可动态搅拌的高压反应釜内;
2)釜内料浆的浓度:为10-20%;
3)媒晶剂1:丁二酸、媒晶剂2:明胶按配比、计量加入高压釜内;
4)反应釜内的恒温温度:为135-150℃,压力为:0.35mpa-0.37mpa;
5)反应釜恒温时间:为1.5-2H;
6)反应釜的酸碱度PH值:为3-5;
7)时间到后,迅速脱水,并在110-130℃温度内快速烘干,粉磨后即可得到a高强石膏粉。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102584052A (zh) * 2012-02-10 2012-07-18 潍坊英轩实业有限公司 利用柠檬酸废渣生产α高强度石膏的方法
CN102659375A (zh) * 2012-04-23 2012-09-12 湖南顶春新型建材科技有限公司 一种超强牙科模型石膏粉的生产方法
CN113213793A (zh) * 2021-04-26 2021-08-06 浙江红狮环保股份有限公司 一种水泥窑协同处置石化废酸的方法

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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