CN102011094B - 一种光学蒸镀用材料的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种光学蒸镀用材料的制备方法，取高纯初始原料银粉和铜粉按重量比70-99.9∶30-0.1配料混合，将混合粉体放入真空熔炼炉中；对真空熔炼炉抽真空；对真空熔炼炉加热；当真空熔炼炉炉温升至600-950℃时，充入惰性保护气体；当真空熔炼炉炉温继续升至1000-1300℃时，保持恒温2-8小时；不断搅拌原料，使两种原料混合均匀，冷却铸锭。本发明制成的材料膜层反射率高，尤其在可见光和红外区反射率高，对基底的附着力好，机械强度和化学稳定性都比较好。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种光学蒸镀用材料的制备方法。
【背景技术】
目前可供使用的薄膜材料虽已不下百余种，然而就其光学、机械和化学性能全面考虑，真正有用的材料却不多。在制备高反射率的涂层，目前主要有两种方案，一种为制备金属涂层，一种为介质涂层；为达到高折射率的要求，金属涂层只需镀制几层即可，制备简单，对设备及环境要求较低，截止带宽、中性好以及偏振效应小等优点。因此对于设计特殊应用的膜系具有重要的作用，金属涂层在工业中广泛应用。缺点为有较大的吸收，折射率最大只能达到99％，附着力较差，机械性能和化学稳定性均不好；介质涂层优点为：可以设计更高的折射率可以达到99.5％甚至更高折射率的涂层，缺点需要镀制几十层的镀层，设计麻烦对设备及环境要求很高，对一些特殊要求领域使用。
现阶段镀制金属涂层的材料主要有银、铝、金、铜、铬、锗、铂、铑等，大多数金属膜在红外区域都有很高的反射率，几乎可达98％，越向紫外区反射率越小。银具有高于一切已知材料的反射率，但银膜的附着力较差，机械性能和化学稳定性均不好，在空气中硫化物的作用下会很快的发黄变暗。为了解决一些特殊应用的膜系要求，通过添加合适或相应的元素，使其在不影响高反射率要求的情况下，增加材料的附着力，机械性能和化学稳定性。
【发明内容】
本发明所要解决的技术问题在于提供一种高反射率、附着力强的光学蒸镀用材料的制备方法，该光学蒸镀用材料作为金属膜，可以有效提高材料的附着力，增强机械强度和化学稳定性。
本发明采用以下技术方案解决上述技术问题：
一种光学蒸镀用材料的制备方法，包括如下步骤：
步骤一：取重量份数为70-99.9份的银、0.1-30份的铜；
步骤二：将重量份数为70-99.9份的银、0.1-30份的铜的混合粉体放入真空熔炼炉中；
步骤三：对所述真空熔炼炉抽真空；
步骤四：对所述真空熔炼炉加热；
步骤五：当所述真空熔炼炉炉温升至600-950℃时，充入惰性保护气体；
步骤六：当真空熔炼炉炉温继续升至1000-1300℃时，保持恒温2-8小时；
步骤七：不断搅拌原料，使两种原料混合均匀，冷却铸锭。
进一步地，所述步骤一和步骤二中，银占99份，铜占1份。
进一步地，所述步骤五中炉温为750℃。
进一步地，所述步骤五中惰性保护气体为氩气。
进一步地，所述步骤六中炉温为1200℃。
本发明的优点在于：该材料气相沉积法制备的膜层反射率高，尤其在可见光和红外区反射率高，对基底的附着力好，机械强度和化学稳定性都比较好。
【具体实施方式】
实施例一：
取高纯初始原料银粉和铜粉按重量比99∶1配料混合，将混合粉体放入真空熔炼炉中；对真空熔炼炉抽真空至10-4Pa；对真空熔炼炉加热；当真空熔炼炉炉温升至750℃时，充入惰性保护气体氩气；当真空熔炼炉炉温继续升至1200℃时，保持恒温5小时；不断搅拌原料，使两种原料混合均匀；以合适的降温速度进行降温，冷却铸锭。
将铸锭用车床机加工成所需形状规格。
实施例二：
取高纯初始原料银粉和铜粉按重量比99.9∶0.1配料混合，将混合粉体放入真空熔炼炉中；对真空熔炼炉抽真空至10-3Pa；对真空熔炼炉加热；当真空熔炼炉炉温升至600℃时，充入惰性保护气体氩气；当真空熔炼炉炉温继续升至1000℃时，保持恒温2小时；不断搅拌原料，使两种原料混合均匀；以合适的降温速度进行降温，冷却铸锭。
将铸锭用车床机加工成所需形状规格。
实施例三：
取高纯初始原料银粉和铜粉按重量比70∶30配料混合，将混合粉体放入真空熔炼炉中；对真空熔炼炉抽真空至10-3Pa；对真空熔炼炉加热；当真空熔炼炉炉温升至950℃时，充入惰性保护气体氩气；当真空熔炼炉炉温继续升至1300℃时，保持恒温8小时；不断搅拌原料，使两种原料混合均匀；以合适的降温速度进行降温，冷却铸锭。
将铸锭用车床机加工成所需形状规格。
本发明制成的材料膜层反射率高，尤其在可见光和红外区反射率高，对基底的附着力好，机械强度和化学稳定性都比较好。
Claims (5)
1.一种光学蒸镀用材料的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
步骤一：取重量份数为70-99.9份的银、0.1-30份的铜；
步骤二：将重量份数为70-99.9份的银、0.1-30份的铜的混合粉体放入真空熔炼炉中；
步骤三：对所述真空熔炼炉抽真空；
步骤四：对所述真空熔炼炉加热；
步骤五：当所述真空熔炼炉炉温升至600-950℃时，充入惰性保护气体；
步骤六：当真空熔炼炉炉温继续升至1000-1300℃时，保持恒温2-8小时；
步骤七：不断搅拌原料，使两种原料混合均匀，冷却铸锭。
2.如权利要求1所述的一种光学蒸镀用材料的制备方法，其特征在于：所述步骤一和步骤二中，银占99份，铜占1份。
3.如权利要求1所述的一种光学蒸镀用材料的制备方法，其特征在于：所述步骤五中炉温为750℃。
4.如权利要求1所述的一种光学蒸镀用材料的制备方法，其特征在于：所述步骤五中惰性保护气体为氩气。
5.如权利要求1所述的一种光学蒸镀用材料的制备方法，其特征在于：所述步骤六中炉温为1200℃。
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| CN1425196A (zh) * | 1999-11-24 | 2003-06-18 | 霍尼韦尔国际公司 | 导电互连 |
| CN1751345A (zh) * | 2003-03-13 | 2006-03-22 | 三菱麻铁里亚尔株式会社 | 光记录介质的反射层形成用银合金溅射靶材 |
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