CN101962746A - 在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于金属零件表面处理技术,涉及对金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜制备方法的改进。其特征在于,利用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜,制备的步骤如下:对零件表面进行清洗;制备过渡层;沉积TaN;在TaN层上进行Ta注入;然后再进行TaN沉积,如此重复进行注入/沉积操作形成Ta/TaN叠层。本发明所制备Ta/TaN叠层薄膜与金属零件表面之间具有附着力高、结合牢固的特点,解决了金属零件表面特别是曲面零件表面Ta/TaN叠层薄膜崩裂及脱落的问题。
Description
技术领域
本发明属于金属零件表面处理技术,涉及金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜制备方法的改进。
背景技术
TaN膜是一种稳定的电阻膜和良好的扩散阻挡层薄膜,具有较低的温度系数,因而在半导体、集成电路中有着重要的应用,其实,TaN在耐磨耐蚀方面也具有优异的性能,氮化钽薄膜最高硬度可达4100HV,其耐磨损性能优于氮化钛。研究表明,氮化钽薄膜中Ta-N主要以共价键形式存在,较一般氮化物薄膜具有更高的致密性,从而使氮化钽薄膜具有更加优异的耐蚀能力,因此这种薄膜适用于耐磨耐蚀要求都比较高的场合。但是由于单一膜层在制备过程中容易产生缺陷,如在TaN薄膜中会产生空洞、位错、微裂纹等,且薄膜应力较大,使得其耐磨、耐蚀性能受到很大限制。近些年来一些研究人员常采用金属/金属碳氮化物叠层结构来提高碳、氮化合物的性能,弥补制备过程中产生的一些缺陷,释放一些碳、氮化合物产生的应力。然而TaN如采用这种叠层结构,其界面状态是不容易控制的,由于Ta的原子序数大,不易热扩散,且硬度也高,同时TaN活性又小,因此采用磁控溅射等沉积方法制备Ta/TaN叠层膜时,Ta很难与基体及TaN膜形成牢固界面,薄膜附着力差,并且随着膜系层数的增加,应力也会不断积累而产生脱落,例如,《Effects of processing variables on the mechanical properties of Ta/TaN multilayer coaings》,Young kwon Kang等,Materials Science and Engineering,2000,1375:17-23。文中,韩国Inha大学冶金工程系的Young kwon Kang等人采用反应磁控溅射技术制备了Ta/TaN叠层膜,并进行了显微划痕试验,其临界载荷在35N左右,膜基界面附着力较低。另外,采用此类方法在曲面零件上生长Ta/TaN叠层膜,膜基界面附着力更差,在等离子体辅助沉积中,由于曲面零件周围电势分布和等离子体鞘层的厚度不同,导致零件表面薄膜生长情况不同,不同膜层间容易产生畸变,这使Ta/TaN叠层内应力恶化,更容易产生崩裂及脱落。
发明内容
本发明的目的是:提出一种具有高附着力的金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜的制备方法,以解决金属零件表面特别是曲面零件表面Ta/TaN薄膜开裂、 破碎和脱落的问题。
本发明的技术方案是:在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法,其特征在于,采用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜,该方法制备的叠层薄膜膜基界面附着力高,并且叠层层间结合牢固,其制备的步骤如下:
1、对零件表面进行清洗:
1.1、对零件进行超声清洗:将零件放入装有去离子水的容器中,进行超声清洗,清洗时间为20~40分钟,然后取出吹干;
1.2、对零件表面进行丙酮清洗:用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次,然后吹干;
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗:将零件放入设备的真空室中,抽真空,当气压低于4×10-3Pa时,向真空室通入氩气,使气压保持在5~8×10-2Pa,开启气体离子源,对工件加500V以上的负偏压进行清洗,直到零件表面没有打火现象为止;
2、制备过渡层:打开Ta靶电源,调节靶电流为1~2A,打开高压脉冲电源,调节高压脉冲电源频率为500~800Hz,脉冲宽度为2~5μs,电压幅度为-20KV~-40kV,对零件进行Ta离子注入,注入时间为10~20分钟;
3、沉积TaN:关闭高压脉冲电源,在继续通入氩气的同时,向真空室通入氮气,使气压保持在1~2×10-1Pa,开启脉冲偏压电源,调节脉冲偏压电源频率值为30~50kHZ,占空比为30~50%,偏压为-60~-300V;调节靶电流为1.0~2A,进行TaN层沉积,沉积时间为20~60分钟;
4、在TaN层上进行Ta注入:
关闭脉冲偏压电源和氮气,调节氩气流量,使气压保持在5~8×10-2Pa,打开高压脉冲电源,电压幅度为-15~-25kV,频率为500~800Hz,脉冲宽度为2~5μs,进行Ta离子注入,注入时间为10~20分钟;
5、叠层沉积TaN:重复步骤3;
6、制备叠层Ta/TaN:重复步骤4后再次重复步骤3,直到完成零件预定叠层层数的制备。
本发明的优点是:所制备Ta/TaN叠层薄膜与金属零件表面之间具有附着力高、结合牢固等特点,解决了金属零件表面特别是曲面零件表面Ta/TaN叠层薄膜崩裂及脱落的问题。
具体实施方式
下面对本发明做进一步详细说明。在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法,其特征在于,采用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜,该方法制备的叠层薄膜膜基界面附着力高,并且叠层层间结合牢固,其制备的步骤如下:
1、对零件表面进行清洗:
1.1、对零件进行超声清洗:将零件放入装有去离子水的容器中,进行超声清洗,清洗时间为20~40分钟,然后取出吹干;
1.2、对零件表面进行丙酮清洗:用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次,然后吹干;
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗:将零件放入设备的真空室中,抽真空,当气压低于4×10-3Pa时,向真空室通入氩气,使气压保持在5~8×10-2Pa,开启气体离子源,对工件加500V以上的负偏压进行清洗,直到零件表面没有打火现象为止;
2、制备过渡层:打开Ta靶电源,调节靶电流为1~2A,打开高压脉冲电源,调节高压脉冲电源频率为500~800Hz,脉冲宽度为2~5μs,电压幅度为-20KV~-40kV,对零件进行Ta离子注入,注入时间为10~20分钟;
3、沉积TaN:关闭高压脉冲电源,在继续通入氩气的同时,向真空室通入氮气,使气压保持在1~2×10-1Pa,开启脉冲偏压电源,调节脉冲偏压电源频率值为30~50kHZ,占空比为30~50%,偏压为-60~-300V;调节靶电流为1.0~2A,进行TaN层沉积,沉积时间为20~60分钟;
4、在TaN层上进行Ta注入:
关闭脉冲偏压电源和氮气,调节氩气流量,使气压保持在5~8×10-2Pa,打开高压脉冲电源,电压幅度为-15~-25kV,频率为500~800Hz,脉冲宽度为2~5μs,进行Ta离子注入,注入时间为10~20分钟;
5、叠层沉积TaN:重复步骤3;
6、制备叠层Ta/TaN:重复步骤4后再次重复步骤3,直到完成零件预定叠层层数的制备。
本发明的工作原理是:首先在基体上进行Ta离子注入,克服Ta原子序数大,不易进入基体的缺点,先将Ta牢牢钉扎在基体上,形成稳定过渡层,再进行TaN沉积,由于N原子序数小,易产生热扩散并形成填隙原子,可以在离子能量不高的情况下与Ta层形成渐变的牢固界面,然后在其上进行Ta离子注 入,使Ta进入TaN层,种植在TaN层上,控制好TaN层厚度与成分,在此基础之上再进行TaN沉积,如此反复形成Ta/TaN叠层结构。离子注入工艺不但可实现大原子序数元素在基体和膜层上的钉扎,而且离子轰击也会产生加热作用,从而产生注渗效果,这样就可以制备厚度较大、结合力较高的Ta/TaN叠层薄膜,解决曲面零件上制备氮化钽叠层薄膜的难题。
实施例1:(六层)
1、对零件表面进行清洗:
1.1、对零件表面进行清洗
1.1、对零件进行超声清洗:将零件放入装有去离子水的容器中,进行超声清洗,清洗时间为20~40分钟,然后取出吹干;
1.2、对零件表面进行丙酮清洗:用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次,然后吹干;
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗:将零件放入设备的真空室中,抽真空,当气压低于4×10-3Pa时,向真空室通入氩气,使气压保持在5~8×10-2Pa,开启气体离子源,对工件加500V以上的负偏压进行清洗,直到零件表面没有打火现象为止;
2、过渡层制备:
打开Ta靶电源,调节靶电流为1.5A,打开高压脉冲电源,调节高压脉冲电源频率为500Hz,脉冲宽度为5μs,电压幅度为-50kV,对零件进行Ta离子注入,注入时间为20分钟;
3、沉积TaN:
关闭高压脉冲电源,调节氮气流量至12sccm,调节氩气流量使真空室内气压保持在1.2×10-1Pa,开启脉冲偏压电源,调节脉冲偏压电源频率值为50kHz,占空比为30%,偏压为-200V;调节靶电流为1.5A,进行TaN层沉积,沉积时间为30min;
4、TaN层上进行Ta注入:
关闭脉冲偏压和氮气,调节氩气流量使气压控制在6×10-2Pa,打开高压电源,进行Ta离子注入,调节靶电流至1.5A,调节高压电源频率至500Hz,脉冲宽度为5μs,电压幅度调至-20kV,注入时间为15min。
5、叠层沉积TaN:重复步骤3;
6、制备叠层Ta/TaN:重复步骤4后再次重复步骤3。
实施例2:(六层,单层较厚)
1、对零件表面进行清洗:
1.1、对零件表面进行清洗
1.1、对零件进行超声清洗:将零件放入装有去离子水的容器中,进行 超声清洗,清洗时间为20~40分钟,然后取出吹干;
1.2、对零件表面进行丙酮清洗:用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次,然后吹干;
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗:将零件放入设备的真空室中,抽真空,当气压低于4×10-3Pa时,向真空室通入氩气,使气压保持在5~8×10-2Pa,开启气体离子源,对工件加500V以上的负偏压进行清洗,直到零件表面没有打火现象为止;
2、过渡层制备:
调节氩气流量使真空室内气压控制在6×10-2Pa,打开溅射靶电源,调节靶电流至2A,打开高压电源,调节高压电源频率至500Hz,脉冲宽度为5μs,电压幅度至-50kV,注入时间为20min。
3、沉积TaN:
关闭高压电源,调节氮气流量至16sccm,调节氩气流量使真空室内气压控制在0.2Pa,打开脉冲偏压电源,调节频率值至50kHz,占空比30%,偏压-200V,调节靶电流至2A,进行TaN层沉积,沉积时间为40min。
4、TaN层上进行Ta注入:
关闭脉冲偏压和氮气,调节氩气流量使气压控制在6×10-2Pa,打开高压电源,进行Ta离子注入,调节靶电流至2A,调节高压电源频率至500Hz,脉冲宽度为5μs,电压幅度调至-20kV,注入时间为20min。
5、叠层沉积TaN:重复步骤3;
6、制备叠层Ta/TaN:重复步骤4后再次重复步骤3。
实施例3:(10层)
1、对零件表面进行清洗:
1.1、对零件表面进行清洗
1.1、对零件进行超声清洗:将零件放入装有去离子水的容器中,进行超声清洗,清洗时间为20~40分钟,然后取出吹干;
1.2、对零件表面进行丙酮清洗:用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次,然后吹干;
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗:将零件放入设备的真空室中,抽真空,当气压低于4×10-3Pa时,向真空室通入氩气,使气压保持在5~8×10-2Pa,开启气体离子源,对工件加500V以上的负偏压进行清洗,直到零件表面没有打火现象为止;
2、过渡层制备:
调节氩气流量使真空室气压控制在6×10-2Pa,打开溅射靶电源,调节靶电流至2A,打开高压电源,调节高压电源频率至500Hz,脉冲宽度为5μs,电 压幅度至-50kV,注入时间为20min。
3、沉积TaN:
关闭高压电源,调节氮气流量至14sccm,调节氩气流量使真空室气压控制在0.12Pa,打开脉冲偏压电源,调节频率值至50kHz,占空比30%,偏压-200V,调节靶电流至1.5A,进行TaN层沉积,沉积时间为30min。
4、TaN层上进行Ta注入:
关闭脉冲偏压和氮气,调节氩气流量至6sccm,气压控制在0.06Pa,打开高压电源,进行Ta离子注入,调节靶电流至1.5A,调节高压电源频率至500Hz,脉冲宽度为5μs,电压幅度调至-20kV,注入时间为20min。
5、叠层沉积TaN:重复步骤3;
6、制备叠层Ta/TaN:重复步骤4后再次重复步骤3,总共重复操作3次。
Claims (1)
1.在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法,其特征在于,采用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜,其制备的步骤如下:
1.1、对零件表面进行清洗:
1.1.1、对零件进行超声清洗:将零件放入装有去离子水的容器中,进行超声清洗,清洗时间为20~40分钟,然后取出吹干;
1.1.2、对零件表面进行丙酮清洗:用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次,然后吹干;
1.1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗:将零件放入设备的真空室中,抽真空,当气压低于4×10-3Pa时,向真空室通入氩气,使气压保持在5~8×10-2Pa,开启气体离子源,对工件加500V以上的负偏压进行清洗,直到零件表面没有打火现象为止;
1.2、制备过渡层:打开Ta靶电源,调节靶电流为1~2A,打开高压脉冲电源,调节高压脉冲电源频率为500~800Hz,脉冲宽度为2~5μs,电压幅度为-20KV~-40kV,对零件进行Ta离子注入,注入时间为10~20分钟;
1.3、沉积TaN:关闭高压脉冲电源,在继续通入氩气的同时,向真空室通入氮气,使气压保持在1~2×10-1Pa,开启脉冲偏压电源,调节脉冲偏压电源频率值为30~50kHZ,占空比为30~50%,偏压为-60~-300V;调节靶电流为1.0~2A,进行TaN层沉积,沉积时间为20~60分钟;
1.4、在TaN层上进行Ta注入:
关闭脉冲偏压电源和氮气,调节氩气流量,使气压保持在5~8×10-2Pa,打开高压脉冲电源,电压幅度为-15~-25kV,频率为500~800Hz,脉冲宽度为2~5μs,进行Ta离子注入,注入时间为10~20分钟;
1.5、叠层沉积TaN:重复步骤1.3;
1.6、制备叠层Ta/TaN:重复步骤1.4后再次重复步骤1.3,直到完成零件预定叠层层数的制备。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103305883A (zh) * | 2013-05-07 | 2013-09-18 | 苏州奕光薄膜科技有限公司 | 一种电子器件镀膜表面的清洗工艺 |
CN108754425A (zh) * | 2018-06-06 | 2018-11-06 | 西安交通大学 | 一种新型防水蚀复合涂层结构 |
CN110783049A (zh) * | 2019-10-25 | 2020-02-11 | 北京朝歌汉荣科技有限公司 | 一种氮化钽薄膜的制备方法 |
CN111020516A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-04-17 | 中国航发西安动力控制科技有限公司 | 可提高分油活门自润滑性的方法 |
CN111485214A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-08-04 | 北京交通大学 | 一种复合梯度结构改性层的制备方法和产品 |
CN111593297A (zh) * | 2020-05-07 | 2020-08-28 | 西北工业大学 | 一种兼顾金属材料耐冲蚀和抗疲劳的复合表面强化方法 |
CN112323035A (zh) * | 2020-08-24 | 2021-02-05 | 机械科学研究总院集团有限公司 | 用于齿轮表面的自润滑耐磨薄膜的制备方法 |
CN113913763A (zh) * | 2021-08-27 | 2022-01-11 | 核工业西南物理研究院 | 一种身管抗烧蚀磨损涂层的制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5676587A (en) * | 1995-12-06 | 1997-10-14 | International Business Machines Corporation | Selective polish process for titanium, titanium nitride, tantalum and tantalum nitride |
CN1354807A (zh) * | 1999-04-27 | 2002-06-19 | 东京电子株式会社 | 自钽卤化物前体获得整体式的钽和钽氮化物膜的化学气相沉积方法 |
CN1652319A (zh) * | 2003-10-31 | 2005-08-10 | 国际商业机器公司 | 氮化钽及双层的等离子体增强原子层淀积 |
CN1950538A (zh) * | 2004-05-26 | 2007-04-18 | 应用材料股份有限公司 | 可变式四磁控管阵列,特别适用于多步骤工艺以在溅射反应器中形成金属阻挡层 |
-
2010
- 2010-10-08 CN CN2010102994691A patent/CN101962746B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5676587A (en) * | 1995-12-06 | 1997-10-14 | International Business Machines Corporation | Selective polish process for titanium, titanium nitride, tantalum and tantalum nitride |
CN1354807A (zh) * | 1999-04-27 | 2002-06-19 | 东京电子株式会社 | 自钽卤化物前体获得整体式的钽和钽氮化物膜的化学气相沉积方法 |
CN1652319A (zh) * | 2003-10-31 | 2005-08-10 | 国际商业机器公司 | 氮化钽及双层的等离子体增强原子层淀积 |
CN1950538A (zh) * | 2004-05-26 | 2007-04-18 | 应用材料股份有限公司 | 可变式四磁控管阵列,特别适用于多步骤工艺以在溅射反应器中形成金属阻挡层 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103305883A (zh) * | 2013-05-07 | 2013-09-18 | 苏州奕光薄膜科技有限公司 | 一种电子器件镀膜表面的清洗工艺 |
CN108754425A (zh) * | 2018-06-06 | 2018-11-06 | 西安交通大学 | 一种新型防水蚀复合涂层结构 |
CN110783049A (zh) * | 2019-10-25 | 2020-02-11 | 北京朝歌汉荣科技有限公司 | 一种氮化钽薄膜的制备方法 |
CN111020516A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-04-17 | 中国航发西安动力控制科技有限公司 | 可提高分油活门自润滑性的方法 |
CN111485214A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-08-04 | 北京交通大学 | 一种复合梯度结构改性层的制备方法和产品 |
CN111593297A (zh) * | 2020-05-07 | 2020-08-28 | 西北工业大学 | 一种兼顾金属材料耐冲蚀和抗疲劳的复合表面强化方法 |
CN112323035A (zh) * | 2020-08-24 | 2021-02-05 | 机械科学研究总院集团有限公司 | 用于齿轮表面的自润滑耐磨薄膜的制备方法 |
CN113913763A (zh) * | 2021-08-27 | 2022-01-11 | 核工业西南物理研究院 | 一种身管抗烧蚀磨损涂层的制备方法 |
Also Published As
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |