CN101962746A - 在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于金属零件表面处理技术，涉及对金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜制备方法的改进。其特征在于，利用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜，制备的步骤如下：对零件表面进行清洗；制备过渡层；沉积TaN；在TaN层上进行Ta注入；然后再进行TaN沉积，如此重复进行注入/沉积操作形成Ta/TaN叠层。本发明所制备Ta/TaN叠层薄膜与金属零件表面之间具有附着力高、结合牢固的特点，解决了金属零件表面特别是曲面零件表面Ta/TaN叠层薄膜崩裂及脱落的问题。
Description
技术领域
本发明属于金属零件表面处理技术，涉及金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜制备方法的改进。
背景技术
TaN膜是一种稳定的电阻膜和良好的扩散阻挡层薄膜，具有较低的温度系数，因而在半导体、集成电路中有着重要的应用，其实，TaN在耐磨耐蚀方面也具有优异的性能，氮化钽薄膜最高硬度可达4100HV，其耐磨损性能优于氮化钛。研究表明，氮化钽薄膜中Ta-N主要以共价键形式存在，较一般氮化物薄膜具有更高的致密性，从而使氮化钽薄膜具有更加优异的耐蚀能力，因此这种薄膜适用于耐磨耐蚀要求都比较高的场合。但是由于单一膜层在制备过程中容易产生缺陷，如在TaN薄膜中会产生空洞、位错、微裂纹等，且薄膜应力较大，使得其耐磨、耐蚀性能受到很大限制。近些年来一些研究人员常采用金属/金属碳氮化物叠层结构来提高碳、氮化合物的性能，弥补制备过程中产生的一些缺陷，释放一些碳、氮化合物产生的应力。然而TaN如采用这种叠层结构，其界面状态是不容易控制的，由于Ta的原子序数大，不易热扩散，且硬度也高，同时TaN活性又小，因此采用磁控溅射等沉积方法制备Ta/TaN叠层膜时，Ta很难与基体及TaN膜形成牢固界面，薄膜附着力差，并且随着膜系层数的增加，应力也会不断积累而产生脱落，例如，《Effects of processing variables on the mechanical properties of Ta/TaN multilayer coaings》，Young kwon Kang等，Materials Science and Engineering，2000，1375：17-23。文中，韩国Inha大学冶金工程系的Young kwon Kang等人采用反应磁控溅射技术制备了Ta/TaN叠层膜，并进行了显微划痕试验，其临界载荷在35N左右，膜基界面附着力较低。另外，采用此类方法在曲面零件上生长Ta/TaN叠层膜，膜基界面附着力更差，在等离子体辅助沉积中，由于曲面零件周围电势分布和等离子体鞘层的厚度不同，导致零件表面薄膜生长情况不同，不同膜层间容易产生畸变，这使Ta/TaN叠层内应力恶化，更容易产生崩裂及脱落。
发明内容
本发明的目的是：提出一种具有高附着力的金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜的制备方法，以解决金属零件表面特别是曲面零件表面Ta/TaN薄膜开裂、 破碎和脱落的问题。
本发明的技术方案是：在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法，其特征在于，采用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜，该方法制备的叠层薄膜膜基界面附着力高，并且叠层层间结合牢固，其制备的步骤如下：
1、对零件表面进行清洗：
1.1、对零件进行超声清洗：将零件放入装有去离子水的容器中，进行超声清洗，清洗时间为20～40分钟，然后取出吹干；
1.2、对零件表面进行丙酮清洗：用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次，然后吹干；
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗：将零件放入设备的真空室中，抽真空，当气压低于4×10-3Pa时，向真空室通入氩气，使气压保持在5～8×10-2Pa，开启气体离子源，对工件加500V以上的负偏压进行清洗，直到零件表面没有打火现象为止；
2、制备过渡层：打开Ta靶电源，调节靶电流为1～2A，打开高压脉冲电源，调节高压脉冲电源频率为500～800Hz，脉冲宽度为2～5μs，电压幅度为-20KV～-40kV，对零件进行Ta离子注入，注入时间为10～20分钟；
3、沉积TaN：关闭高压脉冲电源，在继续通入氩气的同时，向真空室通入氮气，使气压保持在1～2×10-1Pa，开启脉冲偏压电源，调节脉冲偏压电源频率值为30～50kHZ，占空比为30～50％，偏压为-60～-300V；调节靶电流为1.0～2A，进行TaN层沉积，沉积时间为20～60分钟；
4、在TaN层上进行Ta注入：
关闭脉冲偏压电源和氮气，调节氩气流量，使气压保持在5～8×10-2Pa，打开高压脉冲电源，电压幅度为-15～-25kV，频率为500～800Hz，脉冲宽度为2～5μs，进行Ta离子注入，注入时间为10～20分钟；
5、叠层沉积TaN：重复步骤3；
6、制备叠层Ta/TaN：重复步骤4后再次重复步骤3，直到完成零件预定叠层层数的制备。
本发明的优点是：所制备Ta/TaN叠层薄膜与金属零件表面之间具有附着力高、结合牢固等特点，解决了金属零件表面特别是曲面零件表面Ta/TaN叠层薄膜崩裂及脱落的问题。
具体实施方式
下面对本发明做进一步详细说明。在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法，其特征在于，采用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜，该方法制备的叠层薄膜膜基界面附着力高，并且叠层层间结合牢固，其制备的步骤如下：
1、对零件表面进行清洗：
1.1、对零件进行超声清洗：将零件放入装有去离子水的容器中，进行超声清洗，清洗时间为20～40分钟，然后取出吹干；
1.2、对零件表面进行丙酮清洗：用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次，然后吹干；
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗：将零件放入设备的真空室中，抽真空，当气压低于4×10-3Pa时，向真空室通入氩气，使气压保持在5～8×10-2Pa，开启气体离子源，对工件加500V以上的负偏压进行清洗，直到零件表面没有打火现象为止；
2、制备过渡层：打开Ta靶电源，调节靶电流为1～2A，打开高压脉冲电源，调节高压脉冲电源频率为500～800Hz，脉冲宽度为2～5μs，电压幅度为-20KV～-40kV，对零件进行Ta离子注入，注入时间为10～20分钟；
3、沉积TaN：关闭高压脉冲电源，在继续通入氩气的同时，向真空室通入氮气，使气压保持在1～2×10-1Pa，开启脉冲偏压电源，调节脉冲偏压电源频率值为30～50kHZ，占空比为30～50％，偏压为-60～-300V；调节靶电流为1.0～2A，进行TaN层沉积，沉积时间为20～60分钟；
4、在TaN层上进行Ta注入：
关闭脉冲偏压电源和氮气，调节氩气流量，使气压保持在5～8×10-2Pa，打开高压脉冲电源，电压幅度为-15～-25kV，频率为500～800Hz，脉冲宽度为2～5μs，进行Ta离子注入，注入时间为10～20分钟；
5、叠层沉积TaN：重复步骤3；
6、制备叠层Ta/TaN：重复步骤4后再次重复步骤3，直到完成零件预定叠层层数的制备。
本发明的工作原理是：首先在基体上进行Ta离子注入，克服Ta原子序数大，不易进入基体的缺点，先将Ta牢牢钉扎在基体上，形成稳定过渡层，再进行TaN沉积，由于N原子序数小，易产生热扩散并形成填隙原子，可以在离子能量不高的情况下与Ta层形成渐变的牢固界面，然后在其上进行Ta离子注 入，使Ta进入TaN层，种植在TaN层上，控制好TaN层厚度与成分，在此基础之上再进行TaN沉积，如此反复形成Ta/TaN叠层结构。离子注入工艺不但可实现大原子序数元素在基体和膜层上的钉扎，而且离子轰击也会产生加热作用，从而产生注渗效果，这样就可以制备厚度较大、结合力较高的Ta/TaN叠层薄膜，解决曲面零件上制备氮化钽叠层薄膜的难题。
实施例1：(六层)
1、对零件表面进行清洗：
1.1、对零件表面进行清洗
1.1、对零件进行超声清洗：将零件放入装有去离子水的容器中，进行超声清洗，清洗时间为20～40分钟，然后取出吹干；
1.2、对零件表面进行丙酮清洗：用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次，然后吹干；
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗：将零件放入设备的真空室中，抽真空，当气压低于4×10-3Pa时，向真空室通入氩气，使气压保持在5～8×10-2Pa，开启气体离子源，对工件加500V以上的负偏压进行清洗，直到零件表面没有打火现象为止；
2、过渡层制备：
打开Ta靶电源，调节靶电流为1.5A，打开高压脉冲电源，调节高压脉冲电源频率为500Hz，脉冲宽度为5μs，电压幅度为-50kV，对零件进行Ta离子注入，注入时间为20分钟；
3、沉积TaN：
关闭高压脉冲电源，调节氮气流量至12sccm，调节氩气流量使真空室内气压保持在1.2×10-1Pa，开启脉冲偏压电源，调节脉冲偏压电源频率值为50kHz，占空比为30％，偏压为-200V；调节靶电流为1.5A，进行TaN层沉积，沉积时间为30min；
4、TaN层上进行Ta注入：
关闭脉冲偏压和氮气，调节氩气流量使气压控制在6×10-2Pa，打开高压电源，进行Ta离子注入，调节靶电流至1.5A，调节高压电源频率至500Hz，脉冲宽度为5μs，电压幅度调至-20kV，注入时间为15min。
5、叠层沉积TaN：重复步骤3；
6、制备叠层Ta/TaN：重复步骤4后再次重复步骤3。
实施例2：(六层，单层较厚)
1、对零件表面进行清洗：
1.1、对零件表面进行清洗
1.1、对零件进行超声清洗：将零件放入装有去离子水的容器中，进行 超声清洗，清洗时间为20～40分钟，然后取出吹干；
1.2、对零件表面进行丙酮清洗：用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次，然后吹干；
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗：将零件放入设备的真空室中，抽真空，当气压低于4×10-3Pa时，向真空室通入氩气，使气压保持在5～8×10-2Pa，开启气体离子源，对工件加500V以上的负偏压进行清洗，直到零件表面没有打火现象为止；
2、过渡层制备：
调节氩气流量使真空室内气压控制在6×10-2Pa，打开溅射靶电源，调节靶电流至2A，打开高压电源，调节高压电源频率至500Hz，脉冲宽度为5μs，电压幅度至-50kV，注入时间为20min。
3、沉积TaN：
关闭高压电源，调节氮气流量至16sccm，调节氩气流量使真空室内气压控制在0.2Pa，打开脉冲偏压电源，调节频率值至50kHz，占空比30％，偏压-200V，调节靶电流至2A，进行TaN层沉积，沉积时间为40min。
4、TaN层上进行Ta注入：
关闭脉冲偏压和氮气，调节氩气流量使气压控制在6×10-2Pa，打开高压电源，进行Ta离子注入，调节靶电流至2A，调节高压电源频率至500Hz，脉冲宽度为5μs，电压幅度调至-20kV，注入时间为20min。
5、叠层沉积TaN：重复步骤3；
6、制备叠层Ta/TaN：重复步骤4后再次重复步骤3。
实施例3：(10层)
1、对零件表面进行清洗：
1.1、对零件表面进行清洗
1.1、对零件进行超声清洗：将零件放入装有去离子水的容器中，进行超声清洗，清洗时间为20～40分钟，然后取出吹干；
1.2、对零件表面进行丙酮清洗：用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次，然后吹干；
1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗：将零件放入设备的真空室中，抽真空，当气压低于4×10-3Pa时，向真空室通入氩气，使气压保持在5～8×10-2Pa，开启气体离子源，对工件加500V以上的负偏压进行清洗，直到零件表面没有打火现象为止；
2、过渡层制备：
调节氩气流量使真空室气压控制在6×10-2Pa，打开溅射靶电源，调节靶电流至2A，打开高压电源，调节高压电源频率至500Hz，脉冲宽度为5μs，电 压幅度至-50kV，注入时间为20min。
3、沉积TaN：
关闭高压电源，调节氮气流量至14sccm，调节氩气流量使真空室气压控制在0.12Pa，打开脉冲偏压电源，调节频率值至50kHz，占空比30％，偏压-200V，调节靶电流至1.5A，进行TaN层沉积，沉积时间为30min。
4、TaN层上进行Ta注入：
关闭脉冲偏压和氮气，调节氩气流量至6sccm，气压控制在0.06Pa，打开高压电源，进行Ta离子注入，调节靶电流至1.5A，调节高压电源频率至500Hz，脉冲宽度为5μs，电压幅度调至-20kV，注入时间为20min。
5、叠层沉积TaN：重复步骤3；
6、制备叠层Ta/TaN：重复步骤4后再次重复步骤3，总共重复操作3次。
Claims (1)
1.在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法，其特征在于，采用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜，其制备的步骤如下：
1.1、对零件表面进行清洗：
1.1.1、对零件进行超声清洗：将零件放入装有去离子水的容器中，进行超声清洗，清洗时间为20～40分钟，然后取出吹干；
1.1.2、对零件表面进行丙酮清洗：用干净的纱布沾丙酮对零件表面擦拭三次，然后吹干；
1.1.3、使用ECR离子源对零件表面进行离子溅射清洗：将零件放入设备的真空室中，抽真空，当气压低于4×10-3Pa时，向真空室通入氩气，使气压保持在5～8×10-2Pa，开启气体离子源，对工件加500V以上的负偏压进行清洗，直到零件表面没有打火现象为止；
1.2、制备过渡层：打开Ta靶电源，调节靶电流为1～2A，打开高压脉冲电源，调节高压脉冲电源频率为500～800Hz，脉冲宽度为2～5μs，电压幅度为-20KV～-40kV，对零件进行Ta离子注入，注入时间为10～20分钟；
1.3、沉积TaN：关闭高压脉冲电源，在继续通入氩气的同时，向真空室通入氮气，使气压保持在1～2×10-1Pa，开启脉冲偏压电源，调节脉冲偏压电源频率值为30～50kHZ，占空比为30～50％，偏压为-60～-300V；调节靶电流为1.0～2A，进行TaN层沉积，沉积时间为20～60分钟；
1.4、在TaN层上进行Ta注入：
关闭脉冲偏压电源和氮气，调节氩气流量，使气压保持在5～8×10-2Pa，打开高压脉冲电源，电压幅度为-15～-25kV，频率为500～800Hz，脉冲宽度为2～5μs，进行Ta离子注入，注入时间为10～20分钟；
1.5、叠层沉积TaN：重复步骤1.3；
1.6、制备叠层Ta/TaN：重复步骤1.4后再次重复步骤1.3，直到完成零件预定叠层层数的制备。
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| CN (1) | CN101962746B (zh) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103305883A (zh) * | 2013-05-07 | 2013-09-18 | 苏州奕光薄膜科技有限公司 | 一种电子器件镀膜表面的清洗工艺 |
| CN108754425A (zh) * | 2018-06-06 | 2018-11-06 | 西安交通大学 | 一种新型防水蚀复合涂层结构 |
| CN110783049A (zh) * | 2019-10-25 | 2020-02-11 | 北京朝歌汉荣科技有限公司 | 一种氮化钽薄膜的制备方法 |
| CN111020516A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-04-17 | 中国航发西安动力控制科技有限公司 | 可提高分油活门自润滑性的方法 |
| CN111485214A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-08-04 | 北京交通大学 | 一种复合梯度结构改性层的制备方法和产品 |
| CN111593297A (zh) * | 2020-05-07 | 2020-08-28 | 西北工业大学 | 一种兼顾金属材料耐冲蚀和抗疲劳的复合表面强化方法 |
| CN112323035A (zh) * | 2020-08-24 | 2021-02-05 | 机械科学研究总院集团有限公司 | 用于齿轮表面的自润滑耐磨薄膜的制备方法 |
| CN113913763A (zh) * | 2021-08-27 | 2022-01-11 | 核工业西南物理研究院 | 一种身管抗烧蚀磨损涂层的制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5676587A (en) * | 1995-12-06 | 1997-10-14 | International Business Machines Corporation | Selective polish process for titanium, titanium nitride, tantalum and tantalum nitride |
| CN1354807A (zh) * | 1999-04-27 | 2002-06-19 | 东京电子株式会社 | 自钽卤化物前体获得整体式的钽和钽氮化物膜的化学气相沉积方法 |
| CN1652319A (zh) * | 2003-10-31 | 2005-08-10 | 国际商业机器公司 | 氮化钽及双层的等离子体增强原子层淀积 |
| CN1950538A (zh) * | 2004-05-26 | 2007-04-18 | 应用材料股份有限公司 | 可变式四磁控管阵列，特别适用于多步骤工艺以在溅射反应器中形成金属阻挡层 |
-
2010
- 2010-10-08 CN CN2010102994691A patent/CN101962746B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5676587A (en) * | 1995-12-06 | 1997-10-14 | International Business Machines Corporation | Selective polish process for titanium, titanium nitride, tantalum and tantalum nitride |
| CN1354807A (zh) * | 1999-04-27 | 2002-06-19 | 东京电子株式会社 | 自钽卤化物前体获得整体式的钽和钽氮化物膜的化学气相沉积方法 |
| CN1652319A (zh) * | 2003-10-31 | 2005-08-10 | 国际商业机器公司 | 氮化钽及双层的等离子体增强原子层淀积 |
| CN1950538A (zh) * | 2004-05-26 | 2007-04-18 | 应用材料股份有限公司 | 可变式四磁控管阵列，特别适用于多步骤工艺以在溅射反应器中形成金属阻挡层 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103305883A (zh) * | 2013-05-07 | 2013-09-18 | 苏州奕光薄膜科技有限公司 | 一种电子器件镀膜表面的清洗工艺 |
| CN108754425A (zh) * | 2018-06-06 | 2018-11-06 | 西安交通大学 | 一种新型防水蚀复合涂层结构 |
| CN110783049A (zh) * | 2019-10-25 | 2020-02-11 | 北京朝歌汉荣科技有限公司 | 一种氮化钽薄膜的制备方法 |
| CN111020516A (zh) * | 2019-11-22 | 2020-04-17 | 中国航发西安动力控制科技有限公司 | 可提高分油活门自润滑性的方法 |
| CN111485214A (zh) * | 2020-03-13 | 2020-08-04 | 北京交通大学 | 一种复合梯度结构改性层的制备方法和产品 |
| CN111593297A (zh) * | 2020-05-07 | 2020-08-28 | 西北工业大学 | 一种兼顾金属材料耐冲蚀和抗疲劳的复合表面强化方法 |
| CN112323035A (zh) * | 2020-08-24 | 2021-02-05 | 机械科学研究总院集团有限公司 | 用于齿轮表面的自润滑耐磨薄膜的制备方法 |
| CN113913763A (zh) * | 2021-08-27 | 2022-01-11 | 核工业西南物理研究院 | 一种身管抗烧蚀磨损涂层的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| GR01 | Patent grant |