CN108823526B - 一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法 - Google Patents

一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108823526B
CN108823526B CN201810738954.0A CN201810738954A CN108823526B CN 108823526 B CN108823526 B CN 108823526B CN 201810738954 A CN201810738954 A CN 201810738954A CN 108823526 B CN108823526 B CN 108823526B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
crn
tialsiyn
parts
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810738954.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108823526A (zh
Inventor
王丽君
文广
李明昆
黄清宇
武昭妤
蹇清平
王梦超
陈辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Southwest Jiaotong University
Chengdu Vocational and Technical College of Industry
Original Assignee
Southwest Jiaotong University
Chengdu Vocational and Technical College of Industry
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Southwest Jiaotong University, Chengdu Vocational and Technical College of Industry filed Critical Southwest Jiaotong University
Priority to CN201810738954.0A priority Critical patent/CN108823526B/zh
Publication of CN108823526A publication Critical patent/CN108823526A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108823526B publication Critical patent/CN108823526B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641Nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/16Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
    • C23C14/165Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon by cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)

Abstract

本发明提供的纳米多层复合超硬刀具涂层,由依次沉积在刀具基体材料上的Cr过渡层(金属结合层)、CrN过渡层、CrN/TiAlSiYN交替层构成,所述CrN/TiAlSiYN交替层由CrN层、TiAlSiYN层依次交替沉积构成。所述TiAlSiYN层的组成组分按重量份计由15~35份的Ti,25~50份的Al,25~60份的N,3~5份的Si,0.8~1.5份的Y组成。本发明还提供了所述涂层的制备方法。本发明可提高刀具涂层的强度、韧性、耐热性以及膜基结合强度。

Description

一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法
技术领域
本发明属于刀具材料领域,特别涉及一种刀具涂层材料。
背景技术
随着主流刀具向着高速切削和干式切削发展,其对涂层的要求也越来越高,常规TiAlN涂层慢慢变得难以满足提高刀具综合机械性能的要求。刀具切削区域的温度通常可达到甚至高于TiAlN涂层的热分解温度,致使刀具氧化、刀尖软化、瞬间磨损等失效形式的出现。近来添加有B,Si的纳米结构TiBN、TiSiN等涂层具有高硬度和高温抗氧化性等特点,但目前面对难加工金属材料和恶劣的切削条件,单一涂层材料难以满足加工的需要。近年来,多层或超晶格结构涂层 (TiN/TiC/TiN多层、TiAlN/TiN多层、TiN/AlN超晶格等)、纳米复合结构涂层(TiSiN、TiAlSiN等)的受到关注和研究,涂层的硬度和最高使用温度不断提高。其中,多层涂层是由两种或两种以上成分或结构不同的材料在垂直于涂层表面方向上相互交替生长而形成的二维多层材料,对于两种不同结构或组成的多层涂层, 每相邻两层形成一个基本单元,其厚度称为调制周期。研究一种新的多层复合超硬刀具涂层材料,进一步提升刀具涂层的强度、韧性、耐热性以及膜基结合强度具有重要意义。
发明内容
本发明目的是提供一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法,提高刀具涂层的强度、韧性、耐热性以及膜基结合强度。
本发明提供的纳米多层复合超硬刀具涂层,由依次沉积在刀具基体材料上的Cr过渡层(金属结合层)、CrN过渡层、CrN/TiAlSiYN交替层构成,所述CrN/TiAlSiYN交替层由CrN层、TiAlSiYN层依次交替沉积构成。
进一步地,所述TiAlSiYN层的组成组分按重量份计由15~35份的Ti,25~50份的Al,25~60份的N,3~5份的Si,0.8~1.5份的Y组成。
进一步地,所述CrN/TiAlSiYN交替层调制周期为20nm~50nm。
进一步地,所述CrN/TiAlSiYN交替层中CrN层与TiAlSiYN层的厚度比为1.5~1.7。
进一步地,涂层总厚度为2.7~3μm(包含两层过渡层厚度)。
进一步地,两层过渡层的厚度为0.1~0.2μm。
本发明所述纳米多层复合超硬刀具涂层的制备方法,包括以下步骤:
a.预处理:对刀具基体表面进行喷砂清洗,去除表面油污、氧化层及其他附着物,再对刀具进行酸洗,这一步主要是为了提高涂层与基体之间的结合强度;
b.溅射清洗:利用靶材溅射出的离子对基体表面进行溅射清洗。处理室内压力10-3~7×10-3Pa,充入的气体为Ar(99.99%),基体偏压为50~150V,温度为200~250℃,清洗时间为10~20min;
c.沉积纯Cr过渡层:利用物理气相沉积法沉积纯Cr层,只开启Cr靶,沉积总电量为10~20Ah,基体偏压为80~120V,电流为80~130A,温度最好控制在220℃;
d.沉积CrN过渡层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为5Ah,靶材电流为100~130A,基体偏压为50~60V,温度最好控制在220℃;
e.沉积交替层的第一层CrN层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为100~130A,基体偏压为50~60V,温度最好控制在220℃;
f.沉积TiAlSiYN层:利用物理气相沉积法沉积TiAlSiYN层,只开启TiAlSiY靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为130~160A,基体偏压为50~60V,温度最好控制在250℃。
g.重复e、f步骤,最外层为TiAlSiYN涂层。
h.冷却:冷却一个小时,镀膜完成,关闭真空设备。
以上方法中,所述TiAlSiY靶的组成为15~35份的Ti,25~50份的Al,25~60份的N,3~5份的Si,0.8~1.5份的Y组成。可根据组分需求于市场订制。根据组分需求,由靶材厂家制作粉末冶金靶材。
本发明提供的基于上述纳米多层复合超硬刀具涂层材料的刀具,由刀具基体和涂覆在基体上的上述纳米多层复合超硬刀具涂层构成,所述刀具基体按重量份数由90~92份的WC、8~10份Co构成。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
1、本发明所述涂层中,调制周期为25nm的多层复合涂层显微组织出现超晶格结构,使涂层具备高硬度,达到超硬涂层的硬度值,并且备较好的热稳定性和化学稳定性。
2、本发明所述涂层中,在TiAlN涂层中添加了Si、Y元素有利于晶粒细化,Si元素的添加形成了非晶组织Si3N4,包裹着纳米晶,形成纳米晶结构,阻碍晶粒长大,从而增加晶界数量,涂层具备更高的硬度。非晶的存在不仅提高涂层硬度还可以提高涂层韧性,阻碍裂纹扩展。
3、本发明所述涂层中,Si、Y两种元素组合添加,有利于在切削加工过程中生成致密氧化膜,对元素扩散快速通道的封闭起到促进和维持作用,延缓氧化膜的失效进程,从而使涂层的耐氧化时间增加,提高涂层的高温氧化性能。
4、本发明所述涂层中,TiAlSiYN涂层中Y原子、Si原子和Al原子进入TiN晶格内部形成间隙原子或形成置换原子,导致晶格畸变,从而固溶强化的效应提高了涂层的强度和硬度。
5、本发明所述涂层中,由于Cr结合层和CrN过渡层的存在,涂层的膜基结合强度较高,在切削加工过程中不易发生涂层剥落。
附图说明
图1是本发明所述刀具涂层的结构示意图。
具体实施方式
下面通过具体实施方式对本发明所述纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法作进一步说明。
以下是实施例中,所述TiAlSiY靶材为根据交替层中TiAlSiY层的组分配比于市场订制,由靶材厂家根据粉末冶金的方法制备的靶材。
实施例1
本实施例所述纳米多层复合超硬刀具涂层,采用PVD沉积的方法在刀具基体上沉积3μm厚的涂层。刀具基体组成为92份WC粉末,8份Co。所述涂层由依次沉积在刀具基体材料上的Cr过渡层、CrN(氮化铬化合物)过渡层、CrN/TiAlSiYN交替层构成,所述CrN/TiAlSiYN交替层由CrN层、TiAlSiYN层依次交替沉积构成。CrN/TiAlSiYN交替层调制周期为25nm ,CrN层厚约15nm,TiAlSiYN层厚约10nm,Cr过渡层厚50nm、CrN(氮化铬化合物)过渡层厚70nm。所述TiAlSiYN层的组成组分按重量份计由15份的Ti,45份的Al,25份的N,5份的Si,1.5份的Y组成。
制备方法:
采设备瑞士Oerlikon Balzers Domino.mini进行制备
本发明所述纳米多层复合超硬刀具涂层的制备方法,包括以下步骤:
a.预处理:对刀具基体表面进行喷砂清洗,去除表面油污、氧化层及其他附着物,再对刀具进行酸洗,这一步主要是为了提高涂层与基体之间的结合强度。
b.溅射清洗:利用靶材溅射出的离子对基体表面进行溅射清洗。处理室内压力10- 3Pa,充入的气体为Ar(99.99%),基体偏压为150V,温度为200℃,清洗时间为10min。
c.沉积纯Cr过渡层:利用物理气相沉积法沉积纯Cr层,只开启Cr靶,沉积总电量为10Ah,基体偏压为120V,电流为80A,温度为220℃。
d.沉积CrN过渡层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为5Ah,靶材电流为100A,基体偏压为60V,温度为220℃。
e.沉积交替层的第一层CrN层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为130A,基体偏压为50V,温度为220℃。
f.沉积TiAlSiYN层:利用物理气相沉积法沉积TiAlSiYN层,只开启TiAlSiY靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为160A,基体偏压为50V,温度控制在250℃。
g.重复e、f步骤,最外层为TiAlSiYN涂层。
h.冷却:冷却一个小时,镀膜完成,关闭真空设备。
将沉积了涂层的刀具用于切削淬硬钢Cr12MoV,铣削参数为:铣削速度v=200m/min,转速n=10616r/min,每齿进给量f=0.05mm/z,铣削深度ap=2mm,铣削宽度ae=0.1mm。切削过程为干式切削。
硬度测试:采用Wilson 400型显微维氏硬度计进行测试,测试载荷为0.05N,载荷保持时间为15s,尽量保证压头深度不超过涂层厚度的1/10-1/7,减少由于压头压入过深而受到基体硬度的影响所造成的误差。测试20个结果,取平均值。
膜基结合强度测试:采用划痕法对膜基结合强度进行测试,使用设备为瑞士CSM生产的MST型纳米划痕仪。金刚石划痕针头曲率半径100μm,在声发射模式下,采用多点测量求平均值的方法对涂层的结合力进行测试。取10个测试结果,计算平均值。
断裂韧性测试:
Figure DEST_PATH_IMAGE001
P为施加载荷;δ为常数,为0.016;E为弹性模量;H为硬度值;C为裂纹长度。
涂层的力学性能检测结果如下表:
硬度/HV<sub>0.05</sub> 膜基结合强度/N 断裂韧性K<sub>IC</sub>/MPa m<sup>1/2</sup>
3211 97 3.4
耐热性测试:将涂层置于1200℃环境下保温6h,取出冷却后对其硬度和增重情况进行测试。判断硬度低于测试前测量值的80%为失效(耐热性不符合要求)。结果证明该刀具涂层的热稳定温度可达1200℃。
经测量,切削工件表面精度较普通刀片提高了50%,表面粗糙度降低了30%,加工效率提高了50%,刀片寿命是普通刀片的7倍。
通过试验证明:本发明的纳米多层复合超硬刀具涂层,CrN/TiAlSiYN交替沉积明显降低涂层内应力,改善涂层的韧性,在铣削加工过程中很好的避免了涂层的剥落磨损,提高刀具材料使用寿命。Cr金属结合层和CrN过渡层能够很好的增强涂层与基体间的结合强度;涂层中存在的超晶格结构令涂层的硬度和耐磨性有了明显提高。
实施例2
本实施例所述纳米多层复合超硬刀具涂层,采用PVD沉积的方法在刀具基体上沉积2.8μm厚的涂层。刀具基体的按重量份数由92份WC粉末、8份Co粉末烧结而成。所述涂层由依次沉积在刀具基体材料上的Cr过渡层、CrN(氮化铬化合物)过渡层、CrN/TiAlSiYN交替层构成,所述CrN/TiAlSiYN交替层由CrN层、TiAlSiYN层依次交替沉积构成。CrN/TiAlSiYN交替层调制周期为50nm ,CrN层厚约31nm,TiAlSiYN层厚约19nm, Cr过渡层厚30nm、CrN(氮化铬化合物)过渡层厚80nm。所述TiAlSiYN层的组成组分按重量份计由30份的Ti,48份的Al,40份的N,3份的Si, 0.8份的Y组成。
采设备瑞士Oerlikon Balzers Domino.mini进行制备
制备方法:
a.预处理:对刀具基体表面进行喷砂清洗,去除表面油污、氧化层及其他附着物,再对刀具进行酸洗,这一步主要是为了提高涂层与基体之间的结合强度。
b.溅射清洗:利用靶材溅射出的离子对基体表面进行溅射清洗。处理室内压力7×10-3Pa,充入的气体为Ar(99.99%),基体偏压为60V,温度为250℃,清洗时间为20min。
c.沉积纯Cr过渡层:利用物理气相沉积法沉积纯Cr层,只开启Cr靶,沉积总电量为20Ah,基体偏压为100V,电流为130A,温度为220℃。
d.沉积CrN过渡层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为5Ah,靶材电流为130A,基体偏压为60V,温度为220℃。
e.沉积交替层的第一层CrN层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为130A,基体偏压为50V,温度为220℃。
f.沉积TiAlSiYN层:利用物理气相沉积法沉积TiAlSiYN层,只开启TiAlSiY靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为130A,基体偏压为60V,温度控制在250℃。
g.重复e、f步骤,最外层为TiAlSiYN涂层。
h.冷却:冷却一个小时,镀膜完成,关闭真空设备。
实施例3
本实施例所述纳米多层复合超硬刀具涂层,采用PVD沉积的方法在刀具基体上沉积2.7μm厚的涂层。刀具基体的按重量份数由92份WC粉末、8份Co粉末烧结而成。所述涂层由依次沉积在刀具基体材料上的Cr过渡层、CrN(氮化铬化合物)过渡层、CrN/TiAlSiYN交替层构成,所述CrN/TiAlSiYN交替层由CrN层、TiAlSiYN层依次交替沉积构成。CrN/TiAlSiYN交替层调制周期为39nm ,CrN层厚约24nm,TiAlSiYN层厚约15nm, Cr过渡层厚50nm、CrN(氮化铬化合物)过渡层厚50nm。所述TiAlSiYN层的组成组分按重量份计由35份的Ti,30份的Al,60份的N,5份的Si, 1份的Y组成。
制备方法:
a.预处理:对刀具基体表面进行喷砂清洗,去除表面油污、氧化层及其他附着物,再对刀具进行酸洗,这一步主要是为了提高涂层与基体之间的结合强度。
b.溅射清洗:利用靶材溅射出的离子对基体表面进行溅射清洗。处理室内压力5×10-3Pa,充入的气体为Ar(99.99%),基体偏压为120V,温度为240℃,清洗时间为20min。
c.沉积纯Cr过渡层:利用物理气相沉积法沉积纯Cr层,只开启Cr靶,沉积总电量为18Ah,基体偏压为90V,电流为80A,温度为220℃。
d.沉积CrN过渡层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为5Ah,靶材电流为120A,基体偏压为50V,温度为220℃。
e.沉积交替层的第一层CrN层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为110A,基体偏压为50V,温度为220℃。
f.沉积TiAlSiYN层:利用物理气相沉积法沉积TiAlSiYN层,只开启TiAlSiY靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为150A,基体偏压为55V,温度控制在250℃。
g.重复e、f步骤,最外层为TiAlSiYN涂层。
h.冷却:冷却一个小时,镀膜完成,关闭真空设备。

Claims (8)

1.一种纳米多层复合超硬刀具涂层,其特征在于,由依次沉积在刀具基体材料上的Cr过渡层、CrN过渡层、CrN/TiAlSiYN交替层构成,所述CrN/TiAlSiYN交替层由CrN层、TiAlSiYN层依次交替构成;
所述TiAlSiYN层的组成组分按重量份计由15~35份的Ti,25~50份的Al,25~60份的N,3~5份的Si,0.8~1.5份的Y组成。
2.根据权利要求1所述纳米多层复合超硬刀具涂层,其特征在于所述CrN/TiAlSiYN交替层调制周期为20nm~50nm。
3.根据权利要求1或2所述纳米多层复合超硬刀具涂层,其特征在于所述CrN/TiAlSiYN交替层中CrN层与TiAlSiYN层的厚度比为1.5~1.7。
4.根据权利要求1所述纳米多层复合超硬刀具涂层,其特征在于涂层总厚度为2.7~3μm。
5.根据权利要求2所述纳米多层复合超硬刀具涂层,其特征在于涂层总厚度为2.7~3μm。
6.根据权利要求5所述纳米多层复合超硬刀具涂层,其特征在于起始Cr过渡层与CrN过渡层两层的总厚度为0.1~0.2μm。
7.权利要求1~6中任一权利要求所述纳米多层复合超硬刀具涂层的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
a.预处理:对刀具基体表面进行喷砂清洗,去除表面油污、氧化层及其他附着物,再对刀具进行酸洗;
b.溅射清洗:利用靶材溅射出的离子对基体表面进行溅射清洗,处理室内压力10-3~7×10-3Pa,充入的气体为Ar,基体偏压为50~150V,温度为200~250℃,清洗时间为10~20min;
c.沉积纯Cr过渡层:利用物理气相沉积法沉积纯Cr层,只开启Cr靶,沉积总电量为10~20Ah,基体偏压为80~120V,电流为80~130A,温度为220℃;
d.沉积CrN过渡层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入气体为N2,沉积总电量为5Ah,靶材电流为100~130A,基体偏压为50~60V,温度为220℃;
e.沉积交替层的第一层CrN层:利用物理气相沉积法沉积CrN层,只开启Cr靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为100~130A,基体偏压为50~60V,温度为220℃;
f.沉积TiAlSiYN层:利用物理气相沉积法沉积TiAlSiYN层,只开启TiAlSiY靶,充入N2,沉积总电量为15Ah,靶材电流为130~160A,基体偏压为50~60V,温度为250℃;
g.重复e、f步骤,且最外层为TiAlSiYN层;
h.冷却:冷却一个小时,镀膜完成。
8.根据权利要求7所述纳米多层复合超硬刀具涂层的制备方法,其特征在于所述TiAlSiY靶的组成为15~35份的Ti,25~50份的Al,25~60份的N,3~5份的Si,0.8~1.5份的Y。
CN201810738954.0A 2018-07-06 2018-07-06 一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法 Active CN108823526B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810738954.0A CN108823526B (zh) 2018-07-06 2018-07-06 一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810738954.0A CN108823526B (zh) 2018-07-06 2018-07-06 一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108823526A CN108823526A (zh) 2018-11-16
CN108823526B true CN108823526B (zh) 2020-08-11

Family

ID=64136082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810738954.0A Active CN108823526B (zh) 2018-07-06 2018-07-06 一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108823526B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020133511A1 (zh) * 2018-12-29 2020-07-02 深圳市金洲精工科技股份有限公司 一种具有硬质涂层和超硬涂层的刀具及其制造方法
CN109763093A (zh) * 2019-01-09 2019-05-17 纳狮新材料(浙江)有限公司 具有复合涂层的机械部件及其制备方法
CN111041481A (zh) * 2019-11-20 2020-04-21 中南大学 一种含梯度及纳米多层结构的涂层刀具及制备方法
CN111549326A (zh) * 2020-06-20 2020-08-18 华伟纳精密工具(昆山)有限公司 具有复合镀膜涂层的pcb微钻钻头
CN112662996A (zh) * 2020-11-30 2021-04-16 宁波革创新材料科技有限公司 稳定负载型纳米复合刀具涂层及其制备方法
CN114672763B (zh) * 2022-03-02 2023-08-04 上海应用技术大学 一种提高金属陶瓷表面AlCrN涂层附着力的方法
CN115156541B (zh) * 2022-05-13 2023-06-09 北京工业大学 一种高性能叠层结构硬质合金的制备方法
CN115058687B (zh) * 2022-06-13 2023-05-05 西南交通大学 一种刀具涂层及其制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101690978B (zh) * 2009-09-30 2011-01-26 株洲钻石切削刀具股份有限公司 周期性沉积的多涂层刀具及其制备方法
JP2011173176A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Mitsubishi Materials Corp 耐熱性および耐溶着性にすぐれた表面被覆切削工具
CN101879794B (zh) * 2010-05-31 2012-10-17 武汉嘉树科技有限公司 CrTiAlSiN纳米复合涂层、沉积有该涂层的刀具及其制备方法
CN103215542B (zh) * 2013-04-15 2015-01-28 中国兵器科学研究院宁波分院 一种纳米多层涂层及其制备方法
CN103789723B (zh) * 2014-01-24 2015-12-02 四川大学 一种Cr/CrN/(Ti,Al,Si,Cr)N复合硬质涂层及其制备方法
CN108165937B (zh) * 2018-01-16 2020-12-01 浙江神钢赛欧科技有限公司 一种纳米复合交替涂层刀具及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108823526A (zh) 2018-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108823526B (zh) 一种纳米多层复合超硬刀具涂层及其制备方法
CN106893986B (zh) 一种高硬度AlCrN纳米复合涂层及其制备工艺
CN110453190B (zh) 一种AlCrSiN/Mo自润滑薄膜的复合磁控溅射制备方法
CN103826773B (zh) 滑动特性优异的被覆构件
JP5303816B2 (ja) 硬質皮膜被覆工具
JP2009090452A (ja) 耐熱超合金の一般旋削のための被覆切削工具
CN104928638A (zh) 一种AlCrSiN基多层纳米复合刀具涂层及其制备方法
CN104271792B (zh) 切削工具用硬质涂层
CN101700573A (zh) 一种高硬度高耐磨性磁性材料粉末成型模具及制作方法
CN105088127B (zh) 一种涂层及其制备方法
CN108251797B (zh) 一种钛合金切削刀具用TiAlN/CrN多层涂层及其制备方法
CN106893987A (zh) 一种物理气相沉积Ta‑C涂层的制备方法及Ta‑C涂层
CN110241387A (zh) 一种基于HIPIMS技术的CrAlN涂层制备方法
CN110670038A (zh) 具有自润滑和耐磨性能的AlCrN/MoS2纳米复合薄膜及其制备方法
Zhao et al. Enhanced tribological and corrosion properties of DLC/CrN multilayer films deposited by HPPMS
CN113862613A (zh) 非晶梯度结构超硬dlc刀具涂层及其制备方法和刀具
Cheng et al. Effect of substrate bias on structure and properties of (AlTiCrZrNb) N high-entropy alloy nitride coatings through arc ion plating
CN102758201A (zh) 镁合金表面兼具耐蚀润滑特性的复合涂层及其制备方法
CN108559957B (zh) 一种具有pvd涂层的钛合金切削刀具材料及其制备方法
CN111424254B (zh) 一种提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层韧性与耐磨性的热处理工艺
CN111485219B (zh) 具有高耐磨性的AlCrSiN/Mo热处理型涂层及其制备工艺
CN107354442B (zh) 一种基体表面硬且韧的减磨防护涂层及其制备方法
JP4827204B2 (ja) 塑性加工用被覆金型およびその製造方法
CN104372299B (zh) 多层结构硬质、耐磨、润滑涂层及其制备方法
CN102465258A (zh) 镀膜件及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant