CN101846758A - 防眩处理方法、防眩薄膜的制造方法及模具的制造方法 - Google Patents

Abstract

一种透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法、及在该方法中适合使用的模具的制造方法，包括：适用从在第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少低空间频率成分的滤波器，制作第二图案的工序；基于该图案，在透明基材上加工凹凸形状的工序。还可以包括制作利用抖动法变换为离散化的信息的第三图案的工序、和利用蒙特-卡罗法使孤立的像素移动，制作第四图案的工序。

Description

防眩处理方法、防眩薄膜的制造方法及模具的制造方法

技术领域

本发明涉及防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法、及所述防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中使用的模具的制造方法。

背景技术

液晶显示器、等离子体显示器面板、布劳恩管(阴极射线管：CRT)显示器、有机电致发光(EL)显示器等图像显示装置在外光映入其显示面的情况下，视觉辨认性被显著损伤。以往，为了防止这样的外光的映入，在重视画质的电视机或个人计算机、外光强的室外使用的摄像机或数码相机、及利用反射光进行显示的移动电话等中，实施有用于防止外光映入图像显示装置的表面的处理。对这样的图像显示装置的表面实施的处理大致分为利用了基于光学多层膜的干涉的无反射处理、和通过在表面形成微细的凹凸而使入射光散射，使映入像晕映的防眩处理。前者的无反射处理需要形成均一的光学膜厚的多层膜，因此，成本变高。相对于此，后者的防眩处理能够比较廉价地进行，因此，广泛地使用于大型的个人计算机或监视器等用途。

上述图像显示装置的防眩处理是典型地通过在图像显示装置的表面贴合被赋予防眩性的防眩薄膜而进行。防眩薄膜以往通过例如将分散了微粒的树脂溶液调节膜厚而涂敷于基材片上，使该微粒露出在涂敷膜表面而将无规的表面凹凸形成于基材片的方法等来制造。然而，使用这样的分散了微粒的树脂溶液制造的防眩薄膜由于表面凹凸的配置或形状取决于树脂溶液中的微粒的分散状态或涂敷状态等，因此，难以得到期望的表面凹凸，降低设定防眩薄膜的浊度的情况下，存在得不到充分的防眩效果的问题。进而，在将这样的以往的防眩薄膜配置于图像显示装置的表面的情况下，由于散射光，导致显示面整体泛白，显示成为浑浊的颜色的所谓“褪色发白”容易发生的问题。另外，伴随最近的图像显示装置的高精细化，图像显示装置的像素和防眩薄膜的表面凹凸形状发生干涉，其结果，发生亮度分布，导致难以看见显示面的所谓“晃眼”现象容易发生的问题。为了消除晃眼，还尝试了在粘合剂树脂、和分散其中的微粒之间设置折射率差，使光散射，但在将那样的防眩薄膜配置于图像显示装置的表面时，由于微粒和粘合剂树脂的界面中的光的散射，还导致对比度容易降低的问题。

另一方面，还尝试了不含有微粒，仅用在透明树脂层的表面形成的微细的凹凸来显示防眩性。例如，在特开2002-189106号公报中公开有在透明树脂薄膜上，具有三维10点平均粗糙度、及三维粗糙度基准面上的邻接的凸部之间的平均距离分别满足规定值的微细的表面凹凸的电离辐射固化性树脂层的固化物层所层叠的防眩薄膜。该防眩薄膜是通过在压纹铸型和透明树脂薄膜之间夹着电离辐射固化性树脂的状态下，使该电离辐射固化性树脂固化来制造。然而，通过特开2002-189106号公报中公开的防眩薄膜，也难以实现充分的防眩效果、褪色发白的抑制、高对比度、及晃眼的抑制。

另外，不是作为在显示装置的显示面配置的防眩薄膜，而作为在液晶显示装置的背面侧配置的光漫射层，使用在表面形成有微细的凹凸的薄膜的情况也例如在特开平6-34961号公报、特开2004-45471号公报、特开2004-45472号公报等中公开。其中在特开2004-45471号公报及特开2004-45472号公报中，作为在薄膜的表面形成凹凸的方法，公开了向具有使凹凸反转的形状的压纹辊填充电离辐射固化性树脂液，使同步于辊凹版的旋转方向而行进的透明基材与填充的树脂接触，透明基材与辊凹版接触时，使位于辊凹版和透明基材之间的树脂固化，与固化同时，使固化树脂和透明基材密接后，从辊凹版剥离固化后的树脂和透明基材的层叠体的方法。

然而，在这样的特开2004-45471号公报及特开2004-45472号公报中公开的方法中，可以使用的电离辐射固化性树脂液的组成受到限制，另外，不能期待用溶剂稀释而涂敷时之类的流平，因此，可以预想在膜厚的均一性上存在问题。进而，在该方法中，需要向压纹辊凹版直接填充树脂液，因此，为了确保凹凸面的均一性，对压纹辊凹版要求高的机械精度，导致难以制作压纹辊的问题。

其次，作为在表面具有凹凸的薄膜的制作中使用的辊的制作方法，例如在上述特开平6-34961号公报中公开有使用金属等，制作圆筒体，在其表面利用电子雕刻、蚀刻、喷砂等方法来形成凹凸的方法。另外，在特开2004-29240号公报中公开有利用喷丸法来制作压纹辊的方法，在特开2004-90187号公报中公开有经过在压纹辊的表面形成金属镀敷层的工序、将金属镀敷层的表面镜面抛光的工序、以及根据需要进行喷砂处理的工序，制作压纹辊的方法。

然而，这样对压纹辊的表面实施了喷砂处理的原来状态下，喷射粒子的粒径分布引起的凹凸直径的分布发生，并且，难以控制通过喷砂得到的凹陷的深度，在再现性良好地得到防眩性能优越的凹凸的形状时存在问题。

另外，在上述特开2002-189106号公报中记载了优选使用在铁的表面镀敷铬的滚筒，利用喷砂法或喷丸法来形成凹凸型面的情况。进而，还记载了在这样形成有凹凸的型面上，出于提高使用时的耐久性的目的，优选实施铬镀敷等后使用，由此能够实现硬膜化及防腐蚀的意图。另一方面，在上述特开2004-45471号公报及特开2004-45472公报的各自的实施例中，记载了在铁芯表面镀敷铬，进行#250的液体喷砂处理后，再次进行铬镀敷处理，在表面形成微细的凹凸形状的情况。

然而，在这样的压纹辊的制法中，在硬度高的铬镀敷上进行喷丸或喷射，因此，难以形成凹凸，而且难以精密地控制形成的凹凸的形状。另外，还如在特开2004-29672号公报中的记载，铬镀敷的情况下，依赖于成为基底的材质及其形状，表面变得粗糙的情况居多，通过喷出来形成的凹凸上形成由于铬镀敷而产生的细小的裂纹，因此，存在难以设计何种凹凸的产生的问题。进而，由于铬镀敷而产生的细小的裂纹存在，因此，还存在最终得到的防眩薄膜的散射特性向不优选的方向变化的问题。进而，通过组合压纹辊母材表面的材质和镀敷种，精加工的辊表面变化为多种多样，因此，还存在为了精度良好地得到必要的表面凹凸形状，不得不选择适当的辊表面的材质、和适当的镀敷种的问题。进而，即使得到期望的表面凹凸形状，也有时根据镀敷种，使用时的耐久性变得不充分。

在特开2000-284106号公报中记载了对基材实施了喷砂加工后，实施蚀刻工序及/或薄膜的层叠工序的情况，但关于在喷砂工序前设置金属镀敷层的情况，没有记载也没有提示。另外，在特开2006-53371号公报中记载了将基材抛光，实施了喷砂加工后，实施无电解镍镀敷的情况。另外，在特开2007-187952号公报中公开了对基材实施了铜镀敷或镍镀敷后，进行抛光，实施了喷砂加工后，实施铬镀敷，制作压纹版的情况。进而，在特开2007-237541号公报中记载了实施了铜镀敷或镍镀敷后，进行抛光，实施喷砂加工后，实施了蚀刻工序或铜镀敷工序后实施铬镀敷，制作压纹版的情况。在使用这些喷砂加工的制法中，难以在将表面凹凸形状精密地控制的状态下形成，因此，还制作在表面凹凸形状上具有50μm以上的周期的比较大的凹凸形状。其结果，那些大的凹凸形状和图像显示装置的像素干涉，发生亮度分布，导致难以看见显示面的所谓“晃眼”容易发生的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供在适用于图像显示装置时，能够显示优越的防眩性能，同时，能够防止褪色发白引起的视觉辨认性的降低，并且，在适用于高精细的图像显示装置的情况下，也能够不发生晃眼而显示高的对比度的透明基材的防眩处理方法。

本发明的另一目的在于提供在配置于图像显示装置的表面时，能够显示优越的防眩性能，同时，能够防止褪色发白引起的视觉辨认性的降低，并且，在配置于高精细的图像显示装置的表面的情况下，也能够不发生晃眼而显示高的对比度的防眩薄膜的制造方法。

本发明的又另一目的在于提供被赋予了兼备上述显示特性的防眩性的图像显示装置。本发明的又另一目的在于在上述防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中适当地使用的金属模具的制造方法。

本发明人等为了实现上述目的，经过反复的专心致志的研究的结果发现，根据制作包括图像或图像数据等的第一图案后，通过对该第一图案，适用至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器来制作第二图案，基于该第二图案，在透明基材上加工凹凸形状的方法，能够向透明基材上加工再现性良好地赋予凹凸形状，并且，显示充分的防眩效果，且充分地抑制褪色发白及晃眼的发生及对比度的降低。另外发现，作为上述滤波器，可以适当地使用：除去或减少在第一图案中包含的空间频率成分中、包括低于特定的下限值B’的空间频率的低空间频率成分，提取包括该下限值B’以上的空间频率的空间频率成分(以下，将该下限值B’还称为空间频率范围下限值B’)的高通滤波器；或者，除去或减少在第一图案中包含的空间频率成分中、包括低于特定的下限值B的空间频率的低空间频率成分及包括超过特定的上限值T的空间频率的高空间频率成分，提取包括从该下限值B到该上限值T的特定的范围的空间频率的空间频率成分(以下，将该特定的范围的下限值B及上限值T还分别称为空间频率范围下限值B、空间频率范围上限值T)的带通滤波器。本发明是基于所述见解，进而加上各种探讨而完成的。

本发明提供一种透明基材的防眩处理方法，其中，包括：对于无规地配置有多个点、或配置有亮度分布的第一图案，适用从在第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器，制作第二图案的工序；基于所述第二图案，在透明基材上加工凹凸形状的工序。

作为上述滤波器，可以优选使用从在第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的高通滤波器。该高通滤波器优选从在第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于0.01μm^-1的低空间频率成分的高通滤波器。

另外，作为上述滤波器，还优选使用从在第一图案中包含的空间频率成分除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分，并且，除去或减少空间频率超过特定值的高空间频率成分，由此提取特定范围的空间频率成分的带通滤波器。

在本发明的防眩处理方法中，优选通过适用带通滤波器来提取的上述特定范围的空间频率成分中的空间频率的下限值B为0.01μm^-1以上，优选上限值T为1/(D×2)μm^-1以下。在此，D(μm)是在透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置的分辨率。另外，优选空间频率的上限值T及下限值B满足下述式(1)：

0.20＜2×(T-B)/(T+B)＜0.80              (1)。

作为上述第一图案，例如可以优选使用无规地配置多个点而成的图案。

优选本发明的防眩处理方法还包括：通过对上述第二图案适用抖动法，制作变换为离散化的信息的第三图案的工序。在这种情况下，在上述透明基材上加工凹凸形状的工序是基于第三图案进行的。作为抖动法，可以优选使用误差扩散法。另外，优选第三图案是变换为被离散化为两个等级的信息的图案。在本发明的防眩处理方法中的一个优选的实施方式中，通过适用使变换误差在3像素以上且6像素以下的范围中扩散的误差扩散法，制作第三图案。

优选本发明的防眩处理方法还包括：对于变换为被离散化为两个等级的信息的第三图案，利用蒙特-卡罗法，使孤立的黑、或白像素移动，制作第四图案的工序。在这种情况下，在上述透明基材上加工凹凸形状的工序是基于第四图案进行的。

优选在上述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于第二图案、第三图案或第四图案，制作具有凹凸面的模具，将模具的凹凸面转印于透明基材上的工序。

优选在上述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于第三图案或第四图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。

另外，本发明提供一种防眩薄膜的制造方法，其中，包括：对于无规地配置有多个点、或配置有亮度分布的第一图案，适用从在第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器，制作第二图案的工序；基于第二图案，在透明基材上加工凹凸形状的工序。

作为上述滤波器，可以优选使用从在第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的高通滤波器。优选该高通滤波器为从在第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于0.01μm^-1的低空间频率成分的高通滤波器。

另外，作为上述滤波器，还优选使用从在第一图案中包含的空间频率成分除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分，并且，除去或减少空间频率超过特定值的高空间频率成分，由此提取特定范围的空间频率成分的带通滤波器。

在本发明的防眩薄膜的制造方法中，通过适用带通滤波器来提取的上述特定范围的空间频率成分中的空间频率的下限值B为0.01μm^-1以上，上限值T为1/(D×2)μm^-1以下。D是与上述相同的意思。另外，优选空间频率的上限值T及下限值B满足下述式(1)：

0.20＜2×(T-B)/(T+B)＜0.80        (1)。

作为上述第一图案，例如，可以优选使用无规地配置多个点而成的图案。

优选本发明的防眩薄膜的制造方法还包括：通过对上述第二图案适用抖动法，制作变换为离散化的信息的第三图案的工序。在这种情况下，在上述透明基材上加工凹凸形状的工序是基于第三图案的进行。作为抖动法，可以优选使用误差扩散法。另外，第三图案优选变换为被离散化为两个等级的图案。在本发明的制造方法中的一个优选的实施方式中，通过适用使变换误差在3像素以上且6像素以下的范围中扩散的误差扩散法，制作第三图案。

优选本发明的防眩薄膜的制造方法还包括：对于变换为被离散化为两个等级的信息的第三图案，利用蒙特-卡罗法，使孤立的黑、或白像素移动，制作第四图案的工序。在这种情况下，在上述透明基材上加工凹凸形状的工序是基于第四图案进行的。

优选在上述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于第二图案、第三图案或第四图案，制作具有凹凸面的模具，将模具的凹凸面转印于透明基材上的工序。

优选在上述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于第三图案或第四图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。

进而，本发明提供上述本发明的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中适合使用的模具的制造方法。本发明的模具的制造方法包括：第一镀敷工序，其对模具用基材的表面实施铜镀敷或镍镀敷；抛光工序，其对利用第一镀敷工序实施有镀敷的表面进行抛光；感光性树脂膜形成工序，其在抛光的面形成感光性树脂膜；曝光工序，其在感光性树脂膜上将第二图案、第三图案或第四图案曝光；显影工序，其将曝光了第二图案、第三图案或第四图案的感光性树脂膜显影；第一蚀刻工序，其将显影的感光性树脂膜用作掩模，进行蚀刻处理，在抛光的镀敷面形成凹凸；感光性树脂膜剥离工序，其剥离感光性树脂膜；第二镀敷工序，其对形成的凹凸面实施铬镀敷。

优选本发明的模具的制造方法在感光性树脂膜剥离工序和第二镀敷工序之间包括：第二蚀刻工序，其通过蚀刻处理，使利用第一蚀刻工序形成的凹凸面的凹凸形状变钝。

优选在第二镀敷工序中形成的实施有铬镀敷的凹凸面是转印于透明基材上的模具的凹凸面。即，优选不设置在第二镀敷工序后抛光表面的工序，将实施有铬镀敷的凹凸面直接用作转印于透明基材上的模具的凹凸面。

优选通过第二镀敷工序中的铬镀敷来形成的铬镀敷层具有1～10μm的厚度。

进而，根据本发明可知，提供利用上述本发明的防眩处理方法，对图像显示装置所具备的透明基材的表面实施防眩处理的图像显示装置的防眩处理方法、及具备利用上述本发明的防眩薄膜的制造方法来得到的防眩薄膜的图像显示装置。

根据本发明可知，能够提供在适用于图像显示装置时，能够显示优越的防眩性能，同时，能够防止褪色发白引起的视觉辨认性的降低，并且，在适用于高精细的图像显示装置的情况下，也不发生晃眼，能够显示高的对比度的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜。另外，根据本发明可知，能够将赋予上述优越的显示特性的凹凸形状加工再现性良好地形成于透明基材上。另外，通过使用利用本发明的方法来得到的模具，能够生产率良好地进行本发明的防眩处理方法的实施及防眩薄膜的制造。根据本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法可知，能够提供同时兼备上述优越的显示特性的图像显示装置。

附图说明

图1是表示可以在本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中使用的、将多个点无规地配置而制作的第一图案的优选实例的放大图。

图2是表示可以在本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中使用的、由利用随机数来确定了浓淡的光栅图像构成的第一图案的优选实例的放大图。

图3是放大表示图2所示的第一图案的一部分的图。

图4是比较将由无规配置多个点而制作的第一图案(无规点图案)得到的二维排列，利用高速傅里叶变换(FFT)变换为空间频率区域而得到的空间频率分布的一例；和将从由利用随机数来确定了浓淡的光栅图像(随机数光栅图像)构成的第一图案得到的二维排列，利用FFT变换为空间频率区域而得到的空间频率分布的一例的图。

图5是表示将从图1所示的第一图案得到的二维排列，利用FFT变换为空间频率区域而得到的二维空间频率分布的图。

图6是表示对图4的虚线所示的空间频率分布进行了振幅修正的结果的一例的图。

图7是表示通过适用高通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带的形状的一例的图。

图8是表示通过适用高通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的其他一例的图。

图9是表示通过适用高通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的其他一例的图。

图10是表示通过适用带通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的一例的图。

图11是表示通过适用带通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的其他一例的图。

图12是表示通过适用带通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的其他一例的图。

图13是表示通过适用带通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的其他一例的图。

图14是表示通过适用带通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中的透过频带峰的形状的其他一例的图。

图15是表示对具有图5所示的空间频率分布的第一图案，适用了带通滤波器后的二维空间频率分布的一例的图。

图16是表示在图1所示的第一图案中适用带通滤波器制作的第二图案的一例的放大图。

图17是表示2×(T-B)/(T+B)的值、和将通过适用带通滤波器来得到的第二图案利用阈值法来二值化得到的自相关系数最大值之间的关系的图。

图18是表示2×(T-B)/(T+B)的值、和将通过适用带通滤波器来得到的第二图案利用阈值法来二值化得到的图案的孤立小点的产生个数之间的关系的图。

图19是表示关于图16所示的图像数据，通过解析灰色标度指示的直方图而得到的灰色标度指示的累积率的分布的图。

图20是表示利用阈值法来二值化的第二图案的一例的放大图。

图21是表示将从图20所示的二值化的第二图案得到的二维排列，利用高速傅里叶变换(FFT)变换为空间频率区域得到的空间频率分布的图。

图22是用于说明通常知道的误差扩散矩阵中的变换误差的扩散的加权的图。

图23是局部放大表示通过适用按照Floyd & Steinberg的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图24是局部放大表示通过适用按照Jarvis，Judis and Nink的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图25是局部放大表示通过适用按照Stucki的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图26是局部放大表示通过适用按照Sierra 3 Line的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图27是局部放大表示通过适用按照Sierra 2 Line的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图28是局部放大表示通过适用按照Sierra Filter Lite的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图29是局部放大表示通过适用按照Burks的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图30是局部放大表示通过适用按照Stevenson & Arche的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图31是局部放大表示在图23～30所示的第三图案的制作中使用的第二图案的图。

图32是比较图23～30所示的、通过按照各种矩阵的误差扩散法来二值化的第三图案的空间频率分布、和利用阈值法来二值化的图案的空间频率分布的图。

图33是将通过适用按照通常知道的误差扩散矩阵的误差扩散法来制作了第三图案时产生的孤立点的产生个数与利用阈值法来制作的情况进行比较的图。

图34是表示扩散距离为1的误差扩散矩阵的一例的图。

图35是表示扩散距离为2的误差扩散矩阵的一例的图。

图36是表示扩散距离为3的误差扩散矩阵的一例的图。

图37是表示扩散距离为4的误差扩散矩阵的一例的图。

图38是表示扩散距离为5的误差扩散矩阵的一例的图。

图39是表示扩散距离为6的误差扩散矩阵的一例的图。

图40是表示扩散距离为3+4的误差扩散矩阵的一例的图。

图41是表示扩散距离为4+5的误差扩散矩阵的一例的图。

图42是表示扩散距离为3+4+5的误差扩散矩阵的一例的图。

图43是局部放大表示通过适用按照图34所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图44是局部放大表示通过适用按照图35所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图45是局部放大表示通过适用按照图36所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图46是局部放大表示通过适用按照图37所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图47是局部放大表示通过适用按照图38所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图48是局部放大表示通过适用按照图39所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图49是局部放大表示通过适用按照图40所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图50是局部放大表示通过适用按照图41所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图51是局部放大表示通过适用按照图42所示的矩阵的误差扩散法来得到的第三图案的一例的图。

图52是将通过适用按照图34～42所示的误差扩散矩阵的误差扩散法来制作了第三图案时产生的孤立点的产生个数与利用阈值法来制作的情况进行比较的图。

图53是比较通过按照图34～42所示的误差扩散矩阵的误差扩散法来二值化的图43～51的第三图案的空间频率分布、和利用阈值法来二值化的图案的空间频率分布的图。

图54是表示基于蒙特-卡罗法的孤立点的处理方法的例子的图。

图55是表示基于蒙特-卡罗法适用次数的第四图案的变化的图。

图56是表示蒙特-卡罗法适用次数和孤立点的产生个数的关系的图。

图57是以示意性表示本发明的模具的制造方法的前半部分的优选的一例的图。

图58是以示意性表示本发明的模具的制造方法的后半部分的优选的一例的图。

图59是以示意性表示在第一蚀刻工序中进行侧面蚀刻的状态的图。

图60是以示意性表示利用第一蚀刻工序来形成的凹凸面通过第二蚀刻工序变钝的状态的图。

图61是局部放大表示在实施例1中使用的单位图案的图。

图62是局部放大表示在实施例1～3的单位图案的制作中使用的第一图案的图。

图63是局部放大表示在实施例2中使用的单位图案的图。

图64是局部放大表示在实施例3中使用的单位图案的图。

图65是局部放大表示在比较例1中使用的单位图案的图。

图66是局部放大表示在比较例2中使用的单位图案的图。

图67是局部放大表示在实施例4中使用的单位图案的图。

图68是表示在实施例1～3中使用的单位图案的空间频率分布的图。

图69是表示在比较例1～2中使用的单位图案的空间频率分布的图。

图70是表示在实施例4中使用的单位图案的空间频率分布的图。

图71是局部放大表示在实施例5中使用的单位图案的图。

图72是表示在实施例5中使用的单位图案的空间频率分布的图。

图73是以示意性表示晃眼的评价方法的图。

图74是局部放大表示在实施例6中使用的单位图案的图。

图75是局部放大表示在实施例7中使用的单位图案的图。

图76是比较图74所示的图案的空间频率分布、和图75所示的图案的空间频率分布的图。

图77是局部放大表示在实施例8中使用的单位图案的图。

图78是局部放大表示在实施例9中使用的单位图案的图。

图79是比较图77所示的图案的空间频率分布、和图78所示的图案的空间频率分布的图。

图80是局部放大表示在图案1的制作中使用的第一图案A的图。

图81是局部放大表示图案1的图。

图82是局部放大表示图案2的图。

图83是局部放大表示图案3的图。

图84是局部放大表示在图案4的制作中使用的第一图案B的图。

图85是局部放大表示图案4的图。

图86是局部放大表示图案5的图。

图87是局部放大表示图案6的图。

图88是局部放大表示在图案7的制作中使用的第一图案C的图。

图89是局部放大表示图案7的图。

图90是局部放大表示图案8的图。

图91是局部放大表示图案9的图。

图92是局部放大表示在图案10的制作中使用的第一图案D的图。

图93是局部放大表示图案10的图。

图94是局部放大表示图案11的图。

图95是局部放大表示图案12的图。

图96是局部放大表示在图案13的制作中使用的第一图案E的图。

图97是局部放大表示图案13的图。

图98是局部放大表示图案14的图。

图99是局部放大表示图案15的图。

图100是表示第一图案A～E的空间频率分布的图。

图101是表示图案1～3的空间频率分布的图。

图102是表示图案4～6的空间频率分布的图。

图103是表示图案7～9的空间频率分布的图。

图104是表示图案10～12的空间频率分布的图。

图105是表示图案13～15的空间频率分布的图。

图106是总结了图案的制作方法的差异引起的低空间频率成分的减少的程度的图。

图107是表示图案的制作方法、和孤立点产生个数的关系的图。

图108是局部放大表示将亮度分布无规地配置的第一图案的图。

图109是局部放大表示对图108所示的第一图案，进行高通滤波器的适用及基于阈值法的二值化得到的图案的图。

图110是局部放大表示对图108所示的第一图案，进行高通滤波器的适用及基于误差扩散法的二值化得到的图案的图。

图111是局部放大表示对图108所示的第一图案，进行高通滤波器的适用及基于误差扩散法的二值化及蒙特-卡罗法的适用得到的图案的图。

图112是表示图109～111所示的图案的孤立点产生个数的图。

图113是比较图108～111所示的图案的空间频率分布的图。

具体实施方式

<透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法>

以下，详细说明本发明的适当的实施方式。在本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中，其特征在于，为了在透明基材上形成具有特定的空间频率分布的微细的凹凸形状，制作了包括例如将多个点无规配置的图案或配置了亮度分布的图案等的第一图案后，在第一图案上，适用从在第一图案包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的、高通滤波器或带通滤波器等滤波器，制作第二图案，基于得到的第二图案，在透明基材上加工凹凸形状。另外，如后所述，还优选基于将得到的第二图案利用抖动法来变换为离散化的信息的第三图案、或将在二值化的第三图案中包含的孤立点利用蒙特-卡罗法来处理的第四图案，在透明基材上加工凹凸形状。这样，在本发明中，基于第二图案、第三图案或第四图案，向透明基材上赋予微细凹凸形状。

作为向透明基材赋予防眩性的方案或用于制作防眩薄膜的方案，以往知道有在透明基材中分散粒子的方法，但根据使用了通过适用高通滤波器或带通滤波器等来除去或减少低空间频率成分的图案的本发明的方法可知，能够实现赋予在这样的以往方法中不能实现的抑制了低空间频率成分的独特的表面形状的防眩处理。根据本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法，在透明基材上加工再现性良好地赋予凹凸形状，并且能够得到显示充分的防眩效果，且充分地抑制了褪色发白及晃眼的发生及对比度的降低的图像显示装置。另外，在适用了带通滤波器的情况下，抑制难以进行凹凸加工的高空间频率成分，因此，能够进一步提高透明基材表面的加工中的凹凸的再现性。

在此，“第一～第四图案”中的“图案”是指：图像、图像数据、离散化的信息的二维排列、或配置于板的开口的排列。

上述图像数据可以为光栅形式的图像数据(光栅图像)，也可以为矢量形式的图像数据(矢量图像)。光栅图像是将图像作为带有颜色的点(dot)的罗列来表现的数据。在光栅图像中，用数值保存各点的颜色的信息。作为保存这样的光栅图像的格式，存在各种形式，但作为特别通常的格式，例如，可以举出位图。作为位图，尤其广泛地使用将红、绿、蓝的强度分别以8比特深度表示的24比特彩色位图、将亮度以8比特深度256级表示的8比特灰度位图。

作为保存光栅图像的格式，除了位图之外，还可以举出作为适用压缩算法等的图像数据的PNG(Portable Network Graphics)、TIFF(TaggedImage File Format)、JPEG、GIF(Graphics Interchange Format)等各种格式。

在矢量图像中，用数值保存线的起终点的坐标(位置)、曲线的情况下为其弯曲方法、粗度、颜色、被那些线包围的面的颜色等信息。记录了这些数值数据的集合、或圆的半径或中心坐标、多边形的各顶点坐标等的数据也包含在矢量图像中。

作为保存矢量图像的格式，作为特别通常的格式，例示DXF(DrawingInterchange File)、SVG(Scalable Vector Graphics)。其中，在本发明中，矢量图像属于上述定义即可，不限定于这些例示的形式。另外，矢量图像不限于二维，具有三维的信息也可。

另外，矢量图像中、具有封闭的圆或多边形的排列的矢量图像可以容易地置换为上述“配置于板的开口的排列”。

本发明中的图案不限于如上所述地作为图像或图像数据处理的图案，可以作为离散化的信息的二维排列来赋予也可。作为保存离散化的信息的方法，可以举出浮点(例如64比特浮点)、整数(例如带有符号的32比特整数、没有符号的16比特整数)等各种形式。

(第一图案的制作)

作为第一图案，可以从在上述定义的图案中使用任意的图案，可以为具有浓淡或数值的变化的任意的图案。更具体来说，例如，可以举出：遍及图像的整个范围，配置了多个点的图像数据(在黑底配置了多个白点或在白底配置了多个黑点的图像数据等)；包括具有浓淡的变化的图案等的亮度分布的图案；离散化的信息的二维排列等，另外，对于第一图案，适用高通滤波器或带通滤波器等滤波器时(关于该点在后叙述)，利用光学方法来进行傅里叶变换的情况下，可以为配置有开口的板。进而，形成有图案的照片干版(干板)或在透明基材部分地附着了调色剂的情况下也可以用作第一图案。图像数据中的点的配置、亮度分布及板中的开口的配置等可以为规则的，也可以为无规(random)的，但由于在空间频率区域中，在广的范围具有振幅，并且，得到规则性低的凹凸形状加工用图案，因此，优选形成为无规配置。

在通过对于第一图案，将多个点遍及所制作的图像的整个范围无规地描绘来制作的情况下，作为将多个点无规地描绘的方案，可以举出通过例如对宽度WX、高度WY的图像，生成取0到1的值的伪随机数列R[n]，生成例如点中心的x坐标为WX×R[2×m-1]，y坐标为WY×R[2×m]的多个点的方法。在此，n、m均为自然数。作为生成伪随机数列的方法，只要是线形合同法、Knuth的随机数生成器减算算法、Xorshift或马特赛特旋转演算法(メルセンヌツイスタ)等具有能够与分布的点数对应的充分的周期长度，就可以使用任意的伪随机数生成法。或者，不限于伪随机数，利用通过热杂音等来生成随机数的硬件，制作将点无规排列的第一图案也可。

点的形状可以为圆形、椭圆形等圆状或多边形状，配置具有相同的形状的多个点也可，配置多个不同的两种以上形状的点也可。另外，点的大小对于所有的点而言，可以相同，也可以不同。从而，点为圆状的情况下，通过无规地配置具有一种点直径(点的直径)的多个点，制作第一图案也可，无规地配置具有多种点直径的多个点也可。

构成第一图案的点的平均点直径(图案中的所有点的点直径的平均值)不特别限定，但使用带通滤波器的情况下，优选设定为在透过频带的范围中具有点直径的峰，小于该透过频带的范围的低空间频率区域不具有峰，因此，通常为4～50μm，优选16～32μm。在平均点直径超过50μm的情况下，包含大量对晃眼赋予影响的低空间频率成分，在制作的第二图案中容易发生浓淡不均。另一方面，构成第一图案的点的平均点直径过小，适用带通滤波器时，提取的空间频率成分的振幅小的情况下，容易损伤第一图案所具有的无规性，不能得到优选的第二图案。平均点直径优选使用对带通滤波器赋予的空间频率范围上限值T，并大于0.5×(1/(2×T))。由此，点的填充率在后述的优选的范围内的情况下，充分地包含由带通滤波器提取的空间频率成分，且容易制作难以发生浓淡不均的第二图案。

优选使用高通滤波器的情况也相同地设定为在透过频带的范围中具有点直径的峰，在小于该透过频带的范围的低空间频率区域不具有峰，因此，构成第一图案的点的平均点直径通常为4～50μm，优选6μm以上，更优选8μm以上，另外，优选32μm以下，更优选30μm以下，进而优选12μm以下。在平均点直径超过50μm的情况下，包含大量的对晃眼赋予影响的低空间频率成分，在制作的第二图案容易发生浓淡不均。

通过配置多个点，制作第一图案的情况下的点的填充率(图像整个面积中的点的占有面积)优选20～80％，更优选20～70％，进而优选30～70％，更进而优选30～60％，尤其优选40～60％(例如可以为50％左右)。点数极少，第一图案中的点的填充率小于20％的情况下，在生成的第二图案产生由同心圆状的特征性图案构成的不均，处于不能得到优选的无规的图案的倾向。另外，在点的填充率超过80％的情况下也相同地，存在看见大量由封闭的圆形的图案构成的不均的倾向，损伤无规性。

第一图案作为矢量形式的图像数据来制作也可，作为光栅形式的图像数据来制作也可。在光栅形式的情况下，能够以1比特、2比特、8比特等任意的比特深度的图像形式制作第一图案。作为光栅形式的图像数据，制作第一图案时，优选能够描绘图案的详细情况地以高的析像度来制作。为了防眩处理，优选的析像度为6400dpi以上，更优选12800dpi以上。

图1是表示可以在本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中使用的、将多个点无规地配置而制作的第一图案的优选的一例的放大图。图1所示的第一图案为8比特等级的灰色标度图像，黑色圆形的区域为点1。在本发明中，将点的直径设为“点直径”，将图案中的所有点的点直径的平均值设为“平均点直径”。图1所示的第一图案的平均点直径为16μm。另外，图像析像度为12800dpi。即，1个像素的尺寸相当于纵横2μm。在图1所示的第一图案中，图像的尺寸为WX＝0.512mm、WY＝0.512mm，点的填充率为约50％。另外，确定点的中心坐标的伪随机数是通过对由广岛大学的小组来安装的SIMD oriented Fast MersenneTwister程序、SFMT ver1.3.3，主要赋予数值607来生成。

另外，作为第一图案，还优选使用配置了亮度分布的图案、例如通过随机数来确定了浓淡的光栅图像。通过利用随机数或由计算机生成的伪随机数来确定光栅图像的各像素(pixel)的浓度，能够得到规则性小的图案。

将关于像素的浓度的确定方法，使用输出0～1的范围的实数的伪随机数的情况为例子进行说明。像素的灰度数可以是任意的，但容易处理的灰度深度为1比特、8比特、16比特、24比特等，优选8比特(256灰度：指示：0～255)。例如，8比特灰度的情况下，通过对具有8比特的深度的PIXCEL[x，y]，代入PIXCEL[x，y]＝R[x+y×ImageWidth]×255，能够生成图像。在此，x、y为图像中的像素的坐标，ImageWidth为x坐标的图像宽度。在该例子中，生成平均指示为127～128的图像，但通过附加补偿，生成平均值不同的图像也可。

图2是表示包括通过随机数来确定了浓淡的光栅图像的第一图案的一例的图，图3是放大其一部分而示出的图。如图2所示的光栅图像为通过利用伪随机数来确定1像素1像素的亮度而制作的8比特灰度的图像，具体来说，通过对具有8比特的深度的二维排列PIXCEL[x，y]，代入PIXCEL[x，y]＝R[x+y×ImageWidth]×255而制作。在此，x、y为图像中的像素的坐标，ImageWidth为x坐标的像素宽度。作为排列R[]，使用了基于采用利用由微软公司开发的「.NET Framework2.0级别程序库」中包含的随机级别NextDouble方法来生成的0.0和1.0之间的值的Knuth的随机数发生器减算算法的伪随机数列。

另外，第一图案可以为与上述光栅图像相同地生成的、离散化的信息的二维排列。在这种情况下，为了确定排列的各要素的值，使用伪随机数。

第一图案的方式例如可以根据用于适用高通滤波器或带通滤波器的方法或对为了在透明基材上加工凹凸形状而使用的加工装置所要求的输入的形式等来适当地选择，但其中，利用随机数来确定了浓淡的光栅图像由于在宽阔的空间频率范围具有振幅，因此，可以优选使用。这是因为，与由高通滤波器或带通滤波器等滤波器提取的空间频率范围无关地容易维持第一图案的随机性。

图4是比较将从无规配置多个点而制作的第一图案(无规点图案)得到的二维排列利用FFT变换为空间频率区域得到的空间频率分布的一例、和将从包括利用随机数来确定了浓淡的光栅图像(随机数光栅图像)的第一图案得到的二维排列利用FFT变换为空间频率区域得到的空间频率分布的一例的图，表示空间频率0到0.30μm^-1的区域中的振幅的强度。如图4所示，无规点图案与随机数光栅图像相比，尤其在空间频率0.00～0.10μm^-1的区域具有高的振幅强度。还有，关于图4在后详述。

(第二图案的制作)

在本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中，第二图案是通过对第一图案，适用从在第一图案包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器来制作的。在本发明中，作为该滤波器，可以优选使用从在第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的高通滤波器、或从在第一图案中包含的空间频率成分除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分，并且，除去或减少空间频率超过特定值的高空间频率成分，由此提取特定范围的空间频率成分的高通滤波器。通常，图案包含与其变化相应的空间频率成分。变化剧烈或配置密集的图案包含大量空间频率高的成分，变化缓慢，或配置稀疏的图案中空间频率高的成分少。通过高通滤波器或带通滤波器的适用，能够从在第一图案中包含的空间频率成分除去或减少特定范围的空间频率成分即产生晃眼等的长周期成分即低空间频率成分。通过高通滤波器或带通滤波器的适用，能够减少用于对透明基材上赋予凹凸形状的第二图案、第三图案或第四图案中的低空间频率成分。具体来说，基于向第一图案的高通滤波器或带通滤波器的适用的第二图案的制作可以通过以下的(1)～(3)的一系列的操作来实施。

(1)向空间频率区域的变换

首先，为了能够从在第一图案中包含的空间频率成分提取(即除去或减少特定的空间频率成分)特定的空间频率成分，在第一图案为光栅图像时，将第一图案根据需要变换为代入了与各像素的亮度对应的值的浮点型的二维排列g[x，y]。在此，x、y表示光栅图像内的正交坐标上的位置。通过对于这样得到的二维排列g[x，y]，适用用于得到第一图案中的各种空间频率成分的大小的方案，得到表示在第一图案中包含的空间频率成分、和各空间频率中的振幅的空间频率分布。作为用于得到空间频率成分的大小的方案，有光学方法、数学方法等，通常尤其广泛地使用利用计算机以数学方法求出的方法。将得到空间频率成分的大小的数学方法通常称为傅里叶变换。傅里叶变换可以通过使用了计算机的离散傅里叶变换(以下为DFT)来进行。从而，向空间频率区域的变换可以通过对从第一图案得到的二维排列，例如使用计算机，适用二维的DFT来进行。

作为DFT算法，可以使用通常知道的算法，但尤其Cooley-Tukey型算法由于计算速度优越，因此可以适合使用。基于Cooley-Tukey型算法的DFT还称为高速傅里叶变换(以下为FFT)。

在以光栅形式制作第一图案的情况下，该光栅形式的图像数据可以通过使用上述DFT算法，在计算机上容易地变换为空间频率区域。以矢量形式制作第一图案，且使用上述DFT算法，变换为空间频率区域的情况下，将矢量形式的图像数据变换为光栅形式，在计算机上将变换为光栅形式的图像数据变换为二维排列g[x，y]。在此，x、y表示光栅图像内的正交坐标上的位置。作为通常的例如具有8比特灰度的灰色标度图像，制作第一图案的情况下，255分配于白的区域，0分配于黑的区域。使用这些值，利用DFT，在计算机上将图像数据变换为空间频率区域的二维排列G[f_x，f_y]。在此，f_x、f_y分别表示x方向的空间频率，y方向的空间频率。还有，第一图案作为离散化的信息的二维排列来赋予的情况下，当然可以通过对其适用DFT，能够在计算机上变换为空间频率区域的二维排列G[f_x，f_y]。

在使用DFT的情况下，进行从作为离散化的信息的二维排列的第一图案、或变换为二维排列的第一图案的各排列要件减去二维排列的总要素平均值PA的处理也可。例如，可以将作为具有0到255的值的8比特灰度的灰色标度图像来制作的第一图案变换为二维排列后，进行从各排列要素减去二维排列的总要素平均值PA的处理。若将具有0到255的值的8比特灰度的灰色标度图像变换为二维排列，则有时得到在空间频率0具有振幅的空间频率光谱。这是构成二维排列的所有的要素偏向正而引起的。在对透明基材实施的防眩处理及防眩薄膜的制造中，重要的是，能够掌握对透明基材赋予的表面凹凸形状的特性，但上述空间频率0中的振幅在知道最终形成的凹凸形状的特性的基础上不是有意义的信息。在空间频率0中使振幅成为0地进行从各排列要素减去二维排列的总要素平均值PA的处理，由此能够容易地掌握最终形成的凹凸形状的特性。

图5是表示将从图1所示的第一图案得到的二维排列利用FFT变换为空间频率区域得到的二维空间频率分布的图。在图5中，横轴及纵轴均表示空间频率。两轴交叉的点为空间频率0的点，随着从该交叉点(零点)远离，空间频率变大。另外，将各空间频率中的振幅的强度以颜色的深度来表示，表示颜色越深，振幅越大。

将作为二维数据的图像利用FFT变换为空间频率区域得到的情况如上所述地为图5所示的二维信息。但是，二维的显示的重现不良好，因此，以下，示出空间频率分布的情况下，示出将空间频率作为横轴，将各空间频率中的振幅强度的平均值作为纵轴的一维的空间频率分布。将图5所示的二维的空间频率分布以一维的空间频率分布示出的图表为上述图4中的虚线的图表。即，图4中的虚线的图表是表示将从图1所示的第一图案得到的二维排列利用FFT变换为空间频率区域得到的(利用FFT分解为空间频率的结果而得到)、一维的空间频率分布的图。在图4中，横轴表示空间频率，纵轴表示属于各空间频率的要素的振幅强度的平均值。在此，振幅强度是指二维排列的各要素的绝对值|G[f_x，f_y]|。另外，平均值是在将利用FFT得到的最高空间频率设为fmax的情况下，将空间频率0～fmax的范围分割128，将属于各自的被分割的空间频率范围的二维排列的要素平均而求出。要素所属的空间频率范围可以通过由f_x及f_y计算的值f_a来判断。作为fmax及f_a的计算式的式(A)及式(B)示出在下述中。

fmax＝(f_xmax²+f_ymax²)^1/2         (A)

f_a＝(f_x ²+f_y ²)^1/2                 (B)

还有，f_xmax表示f_x的最大值，f_ymax表示f_y的最大值。

如图4的虚线所示的图表一样，利用充分地无规的伪随机数来制作了第一图案的情况下，第一图案也有时在特定的空间频率具有振幅的峰。这样的振幅峰存在的情况下，可能由于对后述的高通滤波器指定的空间频率下限值或对带通滤波器指定的空间频率范围上限值或下限值，不能得到具有期望的空间频率特性的第二图案，因此，优选在特定的空间频率范围中使各空间频率中的振幅相等或大致相等地修正各要素的振幅。

图6是表示对图4的虚线所示的空间频率分布进行了振幅修正的结果的一例的图。用虚线表示振幅修正前的空间频率分布(与图4的虚线的分布相同)，用实线表示振幅修正后的空间频率分布。在图6所示的空间频率分布中，通过修正，在空间频率0到约0.30μm^-1的区域中，各要素的振幅大致恒定。这样，通过可以在由高通滤波器或带通滤波器提取的空间频率区域中使振幅恒定，从而通过高通滤波器或带通滤波器的适用来制作的第二图案具有：具有恒定的振幅的特定范围的空间频率成分。这在控制通过带通滤波器或高通滤波器的适用来生成的图案特性上有利。还有，具体来说，上述振幅的修正通过使用修正后的复数振幅绝对值C，将由下述式α＝C/|A_org|赋予的实数α乘于复数振幅A_org来进行。其中，|A_org|不应为零值。从而，上述修正可以在|A_org|是非零值的范围中进行。

(2)高通滤波器或带通滤波器的适用

其次，对通过DFT得到的空间频率区域中的二维排列，实施与高通滤波器或带通滤波器对应的操作。通过该操作，除去或减少在第一图案中包含的低空间频率成分。

高通滤波器还称为高域通过滤波器、Low-Cut Filter，在信号处理的领域中，具有除去或减少小于指定的频率的成分的作用。与高通滤波器对应的操作是除去或减少包括在第一图案中包含的空间频率成分中、比空间频率范围下限值B’低的空间频率的低空间频率成分，提取包括该下限值B’以上的空间频率的空间频率成分的操作。关于使用DFT的情况，更具体来说，是对于变换为空间频率区域的排列，对于比由空间频率范围下限值B’指定的范围低的低空间频率成分的排列要素(复数振幅的实部、虚部的各自)代入0(将振幅设为0)，或乘于绝对值比1充分地小的值的操作。作为绝对值比1充分地小的值，根据通常称为高通滤波器的滤波器的性能例示的情况下，例如，可以举出绝对值比0.5更接近零的数值、绝对值比0.3更接近零的数值、绝对值比0.1更接近零的数值、或绝对值比0.01更接近零的数值等。通常，所乘值的绝对值越接近零(包含零)，越成为理想的高通滤波器。

空间频率范围下限值B’的值在与高通滤波器对应的透过比率的空间频率依存例如图7所示，以某个空间频率为边界急剧地上升的情况下，可以视为其上升的始点。另一方面，在透过比率平缓地上升的情况下，空间频率范围下限值B’的值成为表示透过频带的峰强度的1/2的强度的空间频率。关于带通滤波器的空间频率范围上限值T及空间频率范围下限值B也同样。图7及后述的图8～14所示的透过比率表示与所述各要素所乘值的绝对值。还有，在以下所示的例子中，均乘上实数，进行与带通滤波器及高通滤波器对应的操作。

在通过高通滤波器的适用来提取的空间频带(透过频带)中，各空间频率成分的透过比率(相对于高通滤波器适用前的振幅强度的高通滤波器适用后的振幅强度的比例)如图7所示的例子，遍及透过频带整体而恒定也可，如图8所示的例子，值变化也可。另外，如图9所示的例子，透过频带具有多个峰也可。

带通滤波器还称为带通滤波器，在信号处理的领域中，具有使意图的范围的频率通过，除去或减少其以外的频率的作用。与带通滤波器对应的操作是在通过上述得到的第一图案的空间频率分布中，除去或减少由在第一图案中包含的空间频率成分中、比空间频率范围下限值B低的空间频率构成的低空间频率成分及由超过空间频率范围上限值T的空间频率构成的高空间频率成分，提取由从该下限值B至该上限值T的特定的范围的空间频率构成的空间频率成分的操作，关于使用DFT的情况，更具体来说，是对由通过的空间频率范围上限值T及空间频率范围下限值B指定的范围中未包含的排列要素代入0(将振幅设为0)，或乘上比1充分地小的值的操作。关于比1充分地小的值，如上所述。

在通过适用带通滤波器来提取的空间频带(透过频带)中，各空间频率成分的透过比率(相对于带通滤波器适用前的振幅强度的带通滤波器适用后的振幅强度的比例)如图10所示的例子(透过频带峰的形状具有矩形)，遍及透过频带整体而恒定也可，如图11所示的例子(透过频带峰的形状为高斯型)，值变化也可。另外，透过频带的峰形状相对于空间频率轴左右对称也可，如图12所示的例子(透过频带峰的形状是斜率在峰的右侧和左侧不同的变形高斯型)，非对称也可。另外，透过频带峰如图13及14所示的例子(透过频带峰包括两个峰)，可以包括多个峰。

图15是表示对具有图5所示的空间频率分布的第一图案，适用了带通滤波器后的二维空间频率分布的一例的图。在图15中，横轴、纵轴及颜色的浓度表示与图5相同的意思。如图15所示，通过与上述带通滤波器对应的操作，除去由空间频率范围上限值T或空间频率范围下限值B指定的特定的范围的空间频率成分或减少其振幅强度。

其次，说明向高通滤波器赋予的空间频率范围下限值B’、及向带通滤波器赋予的空间频率范围上限值T及空间频率范围下限值B的优选的范围。优选由高通滤波器或带通滤波器除去或减少的低空间频率成分相对于适用利用本发明得到的进行了防眩处理的透明基材(防眩薄膜等)的图像显示装置的平均的一边的像素尺寸[例如，RGB的三色横向排列的情况下，RGB各自的平均的一边的像素尺寸为长边和短边的平均值]为与约10分之一的周期对应的空间频率以下的低空间频率成分。由此，能够有效地抑制图像显示装置中的晃眼。

以市售的图像显示装置为例子具体叙述如下，例如适用于与对角为约103英寸的全高清(析像度水平1920×垂直1080点等)相当的图像显示装置的情况下，优选利用高通滤波器或带通滤波器除去或减少的低空间频率成分的空间频率的最大值即空间频率范围下限值B’或空间频率范围下限值B为0.01μm^-1以上。另外，适用于与对角为约50英寸的全高清(析像度水平1366×垂直768点等)相当的图像显示装置的情况下，优选空间频率范围下限值B’或空间频率范围下限值B为0.02μm^-1以上。从同样的观察可知，适用于与对角为约32英寸的全高清相当的图像显示装置的情况下，优选空间频率范围下限值B’或空间频率范围下限值B为0.03μm^-1以上。适用于与对角为约37英寸的全高清相当的图像显示装置的情况下，优选空间频率范围下限值B’或空间频率范围下限值B为0.04μm^-1以上。适用于与对角为约20英寸的全高清相当的图像显示装置的情况下，优选空间频率范围下限值B’或空间频率范围下限值B为0.05μm^-1以上。适用于与对角为约22英寸的全高清相当的图像显示装置的情况下，优选空间频率范围下限值B’或空间频率范围下限值B为0.07μm^-1以上。这样，根据适用的图像显示装置的析像度及尺寸，适当地调节向高通滤波器或带通滤波器赋予的空间频率范围下限值，由此能够制作对图像显示装置除去或减少了适当的范围的低空间频率成分的第二、第三或第四图案，基于此，加工凹凸形状，由此能够实现抑制了晃眼的优选的防眩处理。

另外，在带通滤波器中，从加工适合性的观点来说，空间频率范围上限值T优选1/(D×2)μm^-1以下。在此，D(μm)是在透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置的分辨率。在空间频率范围上限值T超过1/(D×2)μm^-1的情况下，有时难以加工再现性良好地向透明基材上赋予凹凸形状。就加工再现性来说，空间频率范围上限值T越小越良好，因此，空间频率范围上限值T更优选1/(D×4)μm^-1以下，进而优选1/(D×6)μm^-1以下。空间频率范围上限值T为1/(D×6)μm^-1以下的情况下，能够使用生产率高的激光描绘装置，以良好的加工再现性，在透明基材上形成凹凸形状，因此，尤其优选。另一方面，空间频率范围上限值T越大，形成具有周期越细小的结构的第二图案，因此，加工再现容易变得困难。

在透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置为以往公知的装置即可，例如，可以使用激光描绘装置、精密旋床等。使用激光描绘装置，将抗蚀剂进行曝光，形成凹凸形状的情况下，激光的点直径相当于分辨率D(μm)。另外，使用具备前端为半球状的球头立铣刀的精密旋床，形成凹凸形状的情况下即使用前端半径为r(μm)的球头立铣刀，使加工后的凹凸面中的平坦面和各位置中的面所成的角度成为θ度(θ例如为10度)以内，加工凹凸形状的情况下，2×r÷(sin(θ÷180×π))相当于分辨率D(μm)。还有，基于第二图案，制作具有凹凸面的模具，将模具的凹凸面转印于透明基材上，由此加工凹凸形状的情况下，在透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置是指在制作具有凹凸面的模具时使用的加工装置。

另外，优选在带通滤波器中，为了向透明基材赋予微细凹凸表面形状，空间频率范围下限值B的倒数即最长周期长度1/B、和空间频率范围上限值T的倒数即最短周期长度1/T的中间即中间周期长度MainPeriod＝(1/B+1/T)/2在6μm以上且33μm以下的范围内。MainPeriod相当于与对带通滤波器赋予的空间频率范围上限值T对应的周期长度(1÷T)μm、和与空间频率范围下限值B对应的周期长度(1÷B)μm的平均值。MainPeriod大于33μm的情况下，在向透明基材上的凹凸形状的加工中，难以形成空间频率低于0.10μm^-1的微细凹凸形状，不能有效地显示防眩性。另外，在MainPeriod小于6μm的情况下，在向透明基材上的凹凸形状的加工中，可能形成空间频率小于0.01μm^-1的微细凹凸表面形状，其结果，适用于高精细的图像显示装置时(例如，将得到的防眩薄膜配置于高精细的图像显示装置的表面时)，可能发生晃眼。

如上所述，适用高通滤波器或带通滤波器等滤波器的主要目的在于在为了最终加工凹凸形状而使用的图案(例如后述的第二、第三或第四图案)中，除去或减少包括比空间频率范围下限值B’或B低的空间频率的低空间频率成分。

(3)第二图案的生成

其次，将通过实施与高通滤波器或带通滤波器对应的操作而得到的空间频率的信息利用逆离散傅里叶变换(IDFT)变换为二维排列，基于该二维排列，生成第二图案。作为IDFT算法，与上述DFT相同地，可以使用通常知道的算法。第二图案可以具有8比特、16比特、32比特、64比特等各种比特深度。

图16是表示将带通滤波器适用于图1所示的第一图案制作的第二图案的一例的放大图。图16也与图1相同地为12800dpi的图像数据。向带通滤波器赋予的空间频率范围下限值B及空间频率范围上限值T分别为0.043μm^-1、0.059μm^-1。另外，2×(T-B)/(T+B)为0.30。

还有，在生成第二图案时，使通过IDFT得到的二维排列的最大值和最小值与由生成的第二图案的比特深度规定的最大值·最小值分别对应地换算而代入也可。即，若将通过IDFT来计算的二维排列要素的最大值设为Imax，将最小值设为Imin，则在将要素的值Ix变换为8比特(0-255)的图案的情况下，代入图案的各像素的值通过255×(Ix-Imin)÷(Imax-Imin)来计算。上述图16的图像数据是进行这样的换算来得到的。

以上，叙述了通过使用了DFT的高通滤波器或带通滤波器的适用来制作第二图案的方法的例子，但通过此以外的方法，也能够制作第二图案。例如，通过作为第一图案，使用配置有开口的板，对其利用光学方法来进行傅里叶变换，也能够得到第二图案。具体来说，准备包括使焦点一致的两片透镜的空间频率过滤光学系统，将第一图案配置于第一片透镜的焦点面。此时，在两片透镜的焦点一致的面(傅里叶面)得到图像的空间频率分布。在该傅里叶面中，通过使光的透过率发生空间变化，能够使期望的范围的空间频率透过。

在第二片的透镜的傅里叶面的相反侧的焦点面得到被过滤的输出图像。例如，若仅使开口的中心部透过傅里叶面地配置板，则只有上述图像的低空间频率成分作为输出图像来得到。相反，若遮蔽开口的中心部，则只有高空间频率成分作为输出图像来得到。从而，在傅里叶面中，通过遮蔽中心部分和其周边部分，能够得到在第二片的透镜的相反侧的焦点面具有作为目的的空间频率分布的第二图案。

(向离散化的信息的变换及第三图案的制作)

在本发明中，优选由如上所述地得到的第二图案制作变换为离散化的信息的图案。通过形成为变换为离散化的信息的图案，能够形成为在为了加工凹凸形状而使用的加工装置中优选使用的图案。例如，在后述的透明基材上加工凹凸形状的工序包括使用了激光描绘装置等的抗蚀剂作业或NC加工(Numerical Control Machining)的情况下，在其中使用的图案优选被二值化等多值化。尤其，后述的在透明基材上加工凹凸形状的工序包括使用了激光描绘装置等的抗蚀剂作业的情况下第二图案优选变换为被离散化为两个等级的信息即二值化的图案。这是因为，根据照射激光与否的二值，生成抗蚀剂图案。通过将第二图案二值化，能够生成能够适用于激光描绘装置等的图像。

“离散化的信息”通常还称为数字数据，在计算机上处理的信息在大部分的情况下为离散化的信息。作为离散化的信息的例子，可以举出：位图数据等能够在计算机上处理的图像数据；以及具有128比特、64比特、32比特、16比特等各种比特深度的浮点数、或有符号或没有符号的整数等。

“向离散化的信息的变换”是指；将连续函数变换为离散表现的情况、将模拟数据变换为数字数据的情况、或将以更多的级数表现的离散化的信息以更少的级数表现的信息的情况，包括将数字信号变换为以更少的比特深度表现的数字信号的情况。作为向离散化的信息的变换的例子，例如，可以举出将作为连续函数的余弦函数离散地表现的情况、及将以更多的级数的32比特浮点表现的信息变换为更少的级数的8比特整数的情况等。

在本发明中，通过高通滤波器或带通滤波器的适用来得到的第二图案的连续性高，因此，优选在得到多值化的图案、尤其二值化的图案时，在特定的条件下适用高通滤波器或带通滤波器，将得到的第二图案多值化或利用特定的方法多值化第二图案。以下，对于在本发明中优选使用的多值化方法，示出例子来进行说明。

(1)基于阈值法的二值化

作为将通过带通滤波器的适用来得到的第二图案二值化的方法，可以优选使用阈值法。阈值法为通过在灰色标度指示(亮度值)上设定特定的阈值，对于超过阈值的像素(pixel)赋予白(或黑)，对于阈值以下的像素，赋予黑(或白)，进行二值化的方法。

在通过带通滤波器的适用来得到的第二图案的基于阈值法的二值化中，向带通滤波器赋予的空间频率范围下限值B及空间频率范围上限值T优选满足下述式(1)：

0.20＜2×(T-B)/(T+B)＜0.80        (1)

更优选满足下述式(2)：

0.30≤2×(T-B)/(T+B)≤0.70        (2)

上述式(1)及(2)中的2×(T-B)/(T+B)为由上述带通滤波器提取的、成为第二图案所具有的空间频率的范围的指标的数值。即，2×(T-B)/(T+B)越大，第二图案具有的空间频率范围越宽，越小，第二图案具有的空间频率范围越窄。

图17是表示2×(T-B)/(T+B)的值、和将通过带通滤波器的适用来得到的第二图案利用阈值法来二值化而得到的图案的自相关系数最大值之间的关系的图。自相关系数最大值是指自相关系数的最大值。自相关系数是通过基于维纳辛钦定理，将第二图案利用二维傅里叶变换来变换为空间频率区域中的二维排列后，将各要素的系数进行自乘，进而对其实施逆傅里叶变换而得到。自相关系数最大值是成为表示与自身的平行移动有关的自相关的强度的指标的树脂。从而，自相关系数最大值越高，在透明基材上加工的凹凸形状中，类似的凹凸形状越容易连续，即使凹凸形状的周期长度短，在目视的情况下也容易感觉异常的周期性。还有，图17所示的自相关系数最大值为移动距离为20μm以上的范围中的自相关系数最大值。

如图17所示可知，自相关系数最大值在2×(T-B)/(T+B)为0.20以下时极端地增加，另一方面，2×(T-B)/(T+B)为0.30以上的情况下，维持比较低的值。从而，为了在透明基材上形成不感觉异常的周期性的凹凸形状，2×(T-B)/(T+B)的值优选大于0.20，更优选0.30以上。

另一方面，从探讨的结果明确知道了：第二图案具有的空间频率范围越宽，周期长度不同的多个成分相加，从而对第二图案，进行了基于阈值法的二值化处理时，容易生成孤立的小点的倾向。图18是表示2×(T-B)/(T+B)的值、和将通过带通滤波器的适用来得到的第二图案利用阈值法来二值化而得到的图案的孤立小点的产生个数的关系的图。在图18中，“产生个数”是指：在通过对第二图案实施基于阈值法的二值化处理来得到的图像中，将中心空间频率设为0.05μm^-1，将在透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置(激光描绘装置等)的分辨率D设为2μm时，连续的曝光范围的一边的长度为分辨率2×Dμm以下的孤立的小点的产生个数。这些连续的要素数少的孤立的小点的存在阻碍充分的加工再现性。还有，中心空间频率是上述MainPeriod的倒数。

如图18所示可知，孤立的小点的产生个数在2×(T-B)/(T+B)为0.80以上的范围的情况下，显示其值越大，越急剧地增加的倾向，另一方面，在2×(T-B)/(T+B)为0.70以下的情况下，维持比较低的值。从而，为了使凹凸形状的加工再现性良好，2×(T-B)/(T+B)的值优选小于0.80，更优选0.70以下。

从以上可知，为了形成加工再现性良好，且感觉不到异常的周期性的凹凸形状，空间频率范围下限值B及空间频率范围上限值T优选满足上述式(1)，更优选满足上述式(2)。通过满足上述式(1)优选满足上述式(2)的带通滤波器的适用，不一定进行使用了后述蒙特-卡罗法的孤立点的减少处理，利用基于阈值法的二值化，能够得到加工再现性良好的图案。

还有，对于适用了带通滤波器后的、从空间频率范围下限值B到空间频率范围上限值T的范围的空间频率分布，与第一图案的空间频率分布的情况相同地，优选使振幅强度恒定地实施增减振幅强度的处理也可。通过使空间频率成分的振幅强度圆滑地变化，能够得到更圆滑的凹凸形状。

在此，在抗蚀剂作业中，曝光区域的比率在30％～70％的范围时，向蚀刻或显影的适合性变得良好。进而优选40％～60％的范围。为了利用阈值法将第二图案二值化的图案满足该条件，需要适当地设定阈值。这可以通过关于所得到的第二图案的各像素解析频度分布，将累积度数成为目标的比率的值作为阈值进行二值化来实现。具体来说，例如，如下所述。

图19是表示关于图16所示的图像数据，通过解析灰色标度指示的直方图而得到的灰色标度指示的累积率的分布的图。根据图19所示的累积率分布可知，灰色标度指示125以下的像素数为40％。图20是通过考虑该累积率分布的解析结果，将灰色标度指示125作为阈值，将图16所示的图像数据利用阈值法来二值化而得到的图案的放大图。在图20所示的二值化的第二图案中，用黑色表示的部分(相当于曝光区域)的填充率通过将灰色标度指示125作为阈值，成为40％。图21表示将从图20所示的二值化的第二图案得到的二维排列利用高速傅里叶变换(FFT)变换为空间频率区域得到的空间频率分布。如图21所示，图20所示的二值化的第二图案具有：减少了参与晃眼的发生的低空间频率成分，且还减少了降低加工再现性的高空间频率成分的空间频率分布，因此，通过基于图20所示的二值化的第二图案，在透明基材上加工凹凸形状，期待优越的防眩性能、晃眼减少及加工适合性。

(2)基于抖动法的多值化

作为将通过高通滤波器或带通滤波器的适用来得到的第二图案二值化等多值化的方法，可以优选使用抖动法。在这种情况下，基于在第二图案中适用抖动法得到的第三图案，在透明基材上加工凹凸形状。抖动法是模拟数据的向数字数据的变换、或用于变换数字数据的比特率或比特深度的方法之一，可以作为数字信号处理的一个方法来定位。已知有通过赋予方形概率密度函数或三角形概率密度函数等无规的信号，降低离散化信号时的误差的偏差的方法、或图案抖动法、误差扩散法等各种方法。

在上述中，在本发明中，成为莫尔或干涉引起的着色的原因的重复花纹难以发生，另外，能够期待抑制局部的平均亮度的变动的效果，进而，通过矩阵的最佳化，具有能够抑制难以加工的细小的花纹的发生，因此，作为抖动法，优选使用误差扩散法。误差扩散法的特征在于，使在离散化时产生的误差向周边扩散。

以将8比特256灰度的灰色标度位图变换为1比特2灰度的白黑位图的情况为例子说明误差扩散法的算法的概要。当前，变换对象的像素(pixel)具有的亮度值设为64。在将该像素变换为1比特2灰度的白黑位图的情况下，需要变换为在8比特的情况下表现为亮度值255的白、或以亮度值0表现的黑。通常变换为更近的值。从而，亮度值为64的像素比255更接近0，因此，变换为与0对应的值(即黑)。此时，通过变换，与8比特灰度的图像比较的情况下，在变换后的图像中发生-64的亮度值误差。这表示图像的亮度的总和仅减少了64。在误差扩散法中，为了抵消产生的-64的亮度值误差，按照事先确定的加权，变更周围的像素的亮度值。通过关于所有的像素，重复进行这样的操作，进行二值化。

关于加权方法，已知在图像处理的领域中优选的若干个矩阵。例如，作为具有优选的加权的矩阵，已知有Floyd & Steinberg；Jarvis，Judis andNink；Stucki；Burks；Stevenson & Arche；Sierra 3 Line；Sierra 2Line；Sierra Filter Lite等。

图22是用于说明上述例示的矩阵中的变换误差的扩散的加权的图。作为矩阵的一例，以Floyd & Steinberg为例子进行说明的情况下，像素A为变换对象的像素。如上述例子，通过像素A的变换(从亮度值64向0的变换)，在变换后的图像中发生了-64的亮度值误差的情况下，抵消该亮度值误差地通过7∶1∶5∶3的加权来变更邻接的四个像素的亮度值。即，对于邻接的四个像素的亮度值分别只增加(7/16)×64、(1/16)×64、(5/16)×64、(3/16)×64。还有，附加了斜线的剖面线的像素B表示结束了二值化处理的像素。另外，记载为“0”的像素是不使误差扩散的加权为零的像素。

在图23～30中示出对于通过带通滤波器的适用来得到的第二图案，适用按照图22所示的矩阵的误差扩散法得到的第三图案的例子。图23～30所示的第三图案均为由作为8比特灰色标度图像得到的图31所示的第二图案制作的，包括1比特的白黑图像数据。更具体来说，图23～30所示的第三图案是使用各种矩阵，利用误差扩散法，将图31所示的第二图案二值化的，该第二图案是对于第一图案，适用空间频率范围下限值B及空间频率范围上限值T为下述式(I)及(II)：

B＝1/(MainPeriod＊(1+BandWidth/100))       (I)

T＝1/(MainPeriod＊(1-BandWidth/100))       (II)，

且透过频带峰的形状为矩形状的带通滤波器来得到的，所述第一图案是对于12800dpi的析像度，且1.024mm见方的8比特的位图图像，使用具有利用Knuth的随机数发生器减算算法生成的0到1的值的伪随机数列来制作的。设为MainPeriod＝12(μm)、BandWidth＝20(％)。还有，由于对于图23～30而言，容易把握图像的特征，因此从所生成的图案扩大一部分进行表示。

图32是比较图23～30所示的、通过按照各种矩阵的误差扩散法来二值化的第三图案的空间频率分布、和利用阈值法来二值化的图案的空间频率分布的图。如图32所示，利用阈值法来进行二值化的情况下，得到的图案在低空间频率区域中显示比较高的振幅强度。另一方面，在适用了误差扩散法的情况下，采用了任一个的矩阵的情况下，也能够进一步减少低空间频率成分。从而，通过误差扩散法的适用，能够实现更有效地抑制了晃眼的防眩处理及防眩薄膜。还有，图32中的利用阈值法来二值化的图案是通过对于图31所示的第二图案，将中间值127作为阈值，将比其大的值作为白，将其以下的值作为黑的二值化来制作的。

这样，通过按照图22所示的通常知道的误差扩散矩阵的误差扩散法的适用，能够得到具有良好的空间频率特性的第三图案。但是，制作按照这些误差扩散矩阵来二值化的第三图案的方法处于产生大量不以相同颜色的像素为恒定数量以上的集合存在的孤立的像素(以下，称为“孤立点”。该孤立点在概念上与上述“孤立的小点”类似，但如后述，其定义不同。)。在此，“孤立点”是指在二值化的图案存在的、包括16个以下的连续的相同颜色的像素(pixel)的块(岛)。在第三图案具有大量的孤立点的情况下，一边可能存在4像素以下的块(岛)，例如，对包括CTP法或湿式蚀刻的工序或旋床加工等基于该图案的凹凸加工要求极其高的精度，有时阻碍加工再现性。

图33是将通过按照通常知道的误差扩散矩阵的误差扩散法的适用来制作了第三图案时产生的孤立点的产生个数与利用阈值法来制作的情况进行比较的图。图示的数值表示相对于在制作了利用阈值法来二值化的图案时产生的孤立点的产生个数的比。如图33所示，在孤立点的产生频度最少的Stevenson & Arche的矩阵中，产生个数也为阈值法的27倍，在使用了Floyd & Steinberg的矩阵的情况下，还达到155倍。

本发明人等专心致志地探讨的结果发现了为了抑制孤立点的产生个数，作为误差扩散矩阵，优选使用不包含短距离的误差扩散的矩阵的事实。

图34～42是分别表示扩散距离为1、2、3、4、5、6、3+4、4+5及3+4+5的误差扩散矩阵的例子的图。这些图与图22相同地示出变换误差的扩散的加权。扩散距离是指为了抵消由于变换对象的像素(像素A)的向白或黑的变换而产生的亮度值误差，变更亮度值的像素和变换对象的像素的距离，“扩散距离1”表示变更亮度值的像素和变换对象的像素邻接的意思(参照图34)。“扩散距离2”是指：将从变换对象的像素算起第二个的像素设为(一个像素介于变更亮度值的像素、和变换对象的像素之间)变更亮度值的像素的意思(参照图35)。关于3以上的扩散距离也相同。另外，图40的“扩散距离3+4的矩阵”是图36所示的“扩散距离3的矩阵”和图37所示的“扩散距离4的矩阵”的合成。关于图41及42也相同。

另外，通过按照图34～42所示的矩阵的误差扩散法的适用来的得到的第三图案的例子分别示出在图43～51中。使用的第二图案为图31所示的图案。还有，在图43～51中，为了容易掌握图像的特征，从生成的第三图案放大一部分而示出。进而，图52是将通过按照图34～42所示的误差扩散矩阵的误差扩散法的适用来制作了第三图案时产生的孤立点的产生个数与利用阈值法来制作的情况进行比较的图。图示的数值表示相对于制作了利用阈值法来二值化的图案时产生的孤立点的产生个数的比。

如图52所示可知，在误差扩散距离为1的情况下，与阈值法相比，产生达到247倍的个数的孤立点，但随着增大设定误差扩散距离，产生个数减少。知道尤其误差扩散距离超过1的情况下，孤立点的数量急剧地减少。从图52所示的结果可知，为了更有效地抑制孤立点的产生，优选误差扩散距离超过1(即在超过1像素的范围内使变换误差扩散，下同)，更优选2以上，进而优选3以上。另外，误差扩散距离的上限不特别限定，但例如为6以下。其中，就使用具有3以上的误差扩散距离制作的图案来说，加工范围的宽度宽，期待良好的加工适合性。

图53是比较通过按照图34～42所示的误差扩散矩阵的误差扩散法来二值化的图43～51的第三图案的空间频率分布、和利用阈值法来二值化的图案的空间频率分布的图。利用该阈值法来二值化的图案与图32的图案相同。从图53可知，使用任一个误差扩散矩阵的情况下，均与阈值法相比，能够减小低空间频率成分的振幅。

(第四图案的制作)

利用阈值法或抖动法，变换为被离散化为两个等级的信息(二值化)的图案有时包含大量的孤立点。在这样的情况下，对第三图案等二值化的图案，进而实施减少孤立点的操作，制作第四图案也可。在这种情况下，基于得到的第四图案，在透明基材上加工凹凸形状。通过实施减少孤立点的操作，能够加工再现性更良好地向透明基材上赋予凹凸形状。在第四图案的制作中使用的二值化的图案可以为利用阈值法来二值化的图案，可以为利用误差扩散法等抖动法来二值化的图案。但是，如上所述，通过满足上述式(1)优选满足上述式(2)的带通滤波器的适用来制作第二图案的情况下，这样的孤立点的减少处理未必一定需要。

作为减少上述孤立点的操作，可以优选使用利用蒙特-卡罗法，使在第三图案等二值化的图案存在的孤立点即黑或白的像素移动至相同颜色的块(岛)的方法。蒙特-卡罗法是基于随机数进行模拟的方法的总称。作为孤立点的处理方法，最单纯的是单纯地删除孤立的点。但是，若在图像处理中使用这样的单纯的方法，则有时在局部，平均的亮度的值变化，这导致低空间频率成分的增大。蒙特-卡罗法是在局部地不对平均亮度赋予影响的情况下，处理孤立点的有效的方法。以下，参照图54，说明基于蒙特-卡罗法的孤立点的处理方法的具体例。

首先，判断对象像素(pixel)是否为“孤立点”。在此说明的具体例中的“孤立点”与上述定义不同，定义为周围的最接近8个像素中、位于(相同颜色的)与对象像素相同的等级的像素的个数为2个以下。例如，对象像素为黑色的情况下，最接近8个像素中、黑色像素的个数为2个以下的情况下，判断为孤立点。关于白色像素也相同。其次，使判断为孤立点的像素向空着的最接近像素中、由随机数选择的像素移动。

例如，在图54(a)中，对象像素为黑色的情况下，最接近8个像素中只有1个像素为黑色，因此，判断为孤立点，对象像素向空着的最接近7像素中由随机数选择的像素移动。另外，在图54(b)中，对象像素为黑色的情况下，最接近8个像素中2个像素为黑色，因此，判断为孤立点，对象像素向空着的最接近6个像素中由随机数选择的像素移动。在图54(c)中，对象像素为黑色的情况下，最接近8个像素中3个像素为黑色，因此，不判断为孤立点，不移动。

通过反复进行基于如上所述的蒙特-卡罗法的操作，能够有效地减少孤立点。若将基于蒙特-卡罗法的操作反复进行例如10～60次左右，则能够得到通过了带通滤波器的空间频率成分的空间频率的值换算为周期长度在3像素到6像素之间时，几乎检测不到孤立点的、期待良好的加工适合性的图案。

图55(a)～(f)是表示基于蒙特-卡罗法适用次数的第四图案的变化的图。图55(a)～(f)所示的图案是对于图47所示的第三图案(扩散距离5)，将蒙特-卡罗法分别适用0、4、8、20、40及60次，处理孤立点得到的。另外，图56是表示蒙特-卡罗法适用次数、和孤立点的产生个数的关系的图。图56中的孤立点产生个数比与图33及图52相同地为相对于从图31所示的第二图案利用阈值法制作二值化的图案时产生的孤立点的产生个数的比。这样，通过反复适用蒙特-卡罗法，能够减少孤立点，能够制作期待更优越的加工适合性的第四图案。

上述第四图案的制作例是作为第二图案，使用对第一图案适用带通滤波器来制作的图案的例子，但在使用适用高通滤波器制作的第二图案的情况下，也与带通滤波器的情况相同地，通过二值化及孤立点的减少处理，能够减少低空间频率成分，能够得到加工适合性优越的第四图案。

适用在为了以上所示的透明基材上加工凹凸形状而使用的图案的制作方法中、对第二图案进行抖动法(其中误差扩散法)制作第三图案，对其适用蒙特-卡罗法，制作第四图案的方法由于在制作第二图案时，不适用满足上述式(1)的带通滤波器的情况下，也能够得到减少了低空间频率成分及孤立点的图案，因此为优选的实施方式之一。

(基于图案的凹凸形状的加工)

在本工序中，基于如上所述地得到的图案的任一个(第二图案或将其利用阈值法变换为被离散化为两个等级的信息(二值化)的图案、第三图案或第四图案)，在透明基材上加工凹凸形状，向透明基材赋予防眩性。具体来说，例如利用以下的方法，基于图案，加工凹凸形状。在透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置可以为以往公知的装置，例如可以使用激光描绘装置、激光加工装置、精密旋床等。作为激光加工装置，例如，可以使用作为激光划线器、激光雕刻机、激光加工机等出售的各种加工装置。

向透明基材上的凹凸形状的加工优选使用基于上述图案所具有的离散化的信息，进行加工的加工装置来进行。具体来说，作为基于离散化的信息，进行加工的加工装置，可以举出精密旋床、自动雕刻装置、激光加工装置、激光描绘装置等各种NC加工装置。作为加工装置，例如，使用激光描绘装置等的情况下，离散化的信息优选离散化为两个等级的信息。利用这样的装置，使用离散化为两个等级的二维排列，加工凹凸形状的情况下，如下进行即可。首先，基于亮度信息，将图案变换为二维排列g[x，y]。在此，x、y表示二维排列的各要素所表示的位置坐标。其次，确认离散化为两个等级的二维排列g[x，y]的所有的要素中储存的值。在此，通过离散化为两个等级的操作，假设在二维排列中存储有0或1。在凹凸形状的加工中，例如，在与特定的位置x＝a1、y＝b1对应的二维排列的要素g[a1，b1]中储存的值为1的情况下，在加工装置中向与a1、b1对应的坐标照射激光，形成凹陷。在储存的值为0的情况下，向对应的坐标不照射激光。关于所有的要素，重复该作业，由此能够从图案得到凹凸形状。激光具有在加工对象形成凹陷的程度的强度的情况下，通过激光的照射来形成凹陷。在激光的强度弱的情况下，通过激光描绘，使抗蚀剂感光，将抗蚀剂显影后，通过蚀刻来形成凹陷，由此加工凹凸形状也可。

另外，在凹凸加工中使用的图案包括离散化的信息的二维排列的情况下，基于在该二维排列中储存的值进行的凹凸的加工中，可以根据加工装置的特性，将这些值变化，使用于加工。例如，激光加工机或激光雕刻机的情况下，更换读出为激光照射次数也可。在精密旋床之类的控制刀具的深度的加工装置的情况下，变换为与刀具压入量对应的量也可。将使用离散化为8比特灰度的二维排列的情况作为例子，具体说明值的变换。此时，假设二维排列g[x，y]取0～255的值。防眩性的强度可以通过凹凸形状的高低差来控制。向与刀具压入量对应的量的变换的式由必要的高低差、和在二维排列g[x，y]中储存的值的最大值及最小值来确定。在欲将高低差设为1μm的情况下，若将自坐标x、y中的平坦的加工对象的表面的刀具压入量设为z，则通过利用下式来计算，确定刀具压入量z。

z＝(g[x，y]-最小值)/(最大值-最小值)×高低差

在此叙述的具体例中，计算如下，

z＝(g[x，y]-0)/(255-0)×1μm

由此能够得到刀具压入量z。即，g[x，y]的值为255的情况下，将刀具压入量z设为1μm，g[x，y]的值为0的情况下，将刀具压入量z设为0μm。通过将其对于在二维排列g[x，y]中储存的所有的要素进行，形成凹凸形状。利用激光照射次数来控制深度的情况下，事先确认照射次数和加工深度的关系的基础上，成为与所述z对应的值地确定照射次数即可。

如上所述，将图案具有的信息变换为透明基材的雕刻深度的信息，反映在凹凸形状，或利用图案具有的信息来确定形成凹陷或不形成凹陷，由此加工凹凸形状。还有，由于加工装置的分辨率的限制，高低差变得过大的情况下，通过蚀刻整个面，在加工后减小高低差也可。另外，作为在透明基材形成凹凸形状的方法，将所述加工直接对透明基材实施也可，还优选使用利用所述方法，在模具形成了基于图案的凹凸形状后，将模具的凹凸形状转印于透明基材上，由此在透明基材上形成基于图案的凹凸形状的方法。

作为透明基材，只要是由光学透明的材料构成的部件，就不特别限定，例如除了由紫外线固化型树脂等固化性树脂、热塑性树脂等树脂材料构成的部件之外，可以为玻璃基板等。例如，通过对在图像显示装置的最外表面具备的玻璃基板等透明基材的表面直接实施本发明的防眩处理，能够对图像显示装置实施防眩处理，由此能够得到显示优越的防眩性能，同时，有效地抑制了褪色发白及晃眼的图像显示装置。另外，作为透明基材，使用树脂薄膜，利用本发明的方法，在该树脂薄膜上加工凹凸形状，由此能够得到防眩薄膜。通过将利用本发明的方法得到的防眩薄膜配置于图像显示装置的表面，能够得到显示优越的防眩性能，同时，有效地抑制了褪色发白及晃眼的图像显示装置。

在本发明的透明基材的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中，能够在透明基材上精度更良好地且加工再现性更良好地制造微细凹凸表面形状，生产率也优越，因此，优选包括：基于上述图案的任一个(第二图案或利用阈值法将其变换为被离散化为两个等级的信息(二值化)的图案、第三图案或第四图案)，制作具有凹凸面(微细凹凸表面形状)的模具，将制造的模具的凹凸面转印于透明基材上的工序。通过从模具剥离转印有凹凸面的透明基材，能够得到形成有微细凹凸表面形状的透明基材(包含防眩薄膜)。

向模具形状的透明基材的转印优选利用压纹法来进行。作为压纹法，例示使用光固化性树脂的UV压纹法、使用热塑性树脂的热压纹法，其中，从生产率的观点来看，优选UV压纹法。

UV压纹法是通过在透明基材的表面形成光固化性树脂层，将所述光固化性树脂层压紧于模具的凹凸面的同时使其固化，将模具的凹凸面转印于光固化性树脂层的方法。具体来说，通过在透明基材上涂敷紫外线固化型树脂，使涂敷的紫外线固化型树脂与模具的凹凸面密接的状态下，从透明基材侧照射紫外线，使紫外线固化型树脂固化，然后，从模具剥离形成有固化后的紫外线固化型树脂层的透明基材，将模具的形状转印于紫外线固化型树脂。

在使用UV压纹法的情况下，透明基材为基本上光学透明的薄膜即可，例如，可以举出三乙酰纤维素薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、以降冰片烯系化合物为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂浇铸薄膜或挤出薄膜等树脂薄膜。

另外，使用UV压纹法的情况下的紫外线固化型树脂的种类不特别限定，可以使用市售的适当的紫外线固化型树脂。另外，也可以组合适合紫外线固化型树脂选择的光引发剂，使用在波长比紫外线长的可见光下也能够进行固化的树脂。具体来说，将三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能团丙烯酸酯分别单独、或混合其中两种以上使用，可以适当地使用混合了其和伊路佳吉亚(イルガキユア一)907(汽巴精化公司制)、伊路佳吉亚184(汽巴精化公司制)、路西林(ルシリン)TPO(BASF公司制)等光聚合引发剂的物质。

另一方面，压纹法是将包括热塑性树脂的透明基材以加热状态压紧于模具，将模具的表面凹凸形状转印于透明支撑体的方法。作为在压纹法中使用的透明基材，只要是基本上透明的基材，就可以是任意的，例如，可以使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素、以降冰片烯系化合物为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂浇铸薄膜或挤出薄膜等。另外，这些透明树脂薄膜还可以作为上述说明的UV压纹法中的用于涂敷紫外线固化型树脂的透明基材适当地使用。

<模具的制造方法>

以下，说明在本发明的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法中适当地使用的模具的制造方法。图57是以示意性表示本发明的模具的制造方法的前半部分的优选的一例。图57中以示意性示出各工序中的模具的剖面。本发明的模具的制造方法基本上包括：[1]第一镀敷工序；[2]抛光工序；[3]感光性树脂膜形成工序；[4]曝光工序；[5]显影工序；[6]第一蚀刻工序；[7]感光性树脂膜剥离工序；[8]第二镀敷工序。以下，参照图57的同时，详细说明本发明的模具的制造方法的各工序。

[第一镀敷工序]

在本发明的模具的制造方法中，首先，对在模具中使用的基材的表面实施铜镀敷或镍镀敷。这样，通过在模具用基材的表面实施铜镀敷或镍镀敷，能够提高之后的第二镀敷工序中的铬镀敷的密接性或光泽性。即，作为背景技术，如上所述，在铁等的表面实施了铬镀敷的情况下，或在铬镀敷的表面利用喷砂法或珠喷射法等形成凹凸后，再次实施了铬镀敷的情况下，表面容易粗糙，产生细小的裂纹，难以控制模具的表面的凹凸形状。对此，首先，通过在基材表面实施铜镀敷或镍镀敷，能够消除这样的不妥善情况。这是因为，铜镀敷或镍镀敷的被覆性高，另外，平滑化作用强，因此，填埋模具用基材的微小的凹凸或洞(cavity)等而形成平坦且具有光泽的表面。即使根据这些铜镀敷或镍镀敷的特性，在后述的第二镀敷工序中实施了铬镀敷，也消除认为是在基材上存在的微小的凹凸或洞(cavity)引起的铬镀敷表面的粗糙，另外，由于铜镀敷户镍镀敷的被覆性的高，从而减少细小的裂纹的发生。

作为在第一镀敷工序中使用的铜或镍，除了可以为各自的纯金属之外，还可以为以铜为主体的合金、或以镍为主体的合金，从而，在本说明书中所述的“铜”是包括铜及铜合金的意思，另外，“镍”是包括镍及镍合金的意思。铜镀敷及镍镀敷可以分别通过电解镀敷来进行，也可以通过无电解镀敷来进行，但通常采用电解镀敷。

在实施铜镀敷或镍镀敷时，若镀敷层太薄，则不能完全排除基底表面的影响，因此，其厚度优选50μm以上。镀敷层厚度的上限没有临界性，但鉴于成本等，优选镀敷层厚度的上限为500μm左右为止。

在本发明的模具的制造方法中，作为在模具用基材的形成中适当地使用的金属材料，从成本的观点来说，可以举出铝、铁等。从处理的便利性来说，更优选使用轻量的铝。在此所述的铝或铁也可以分别为纯金属，而且也可以为以铝或铁为主体的合金。

另外，模具用基材的形状为在该领域中以往采用的适当的形状即可，例如，除了平板状之外，可以为圆柱状或圆筒状的辊。若使用辊状的基材，制作模具，则具有能够连续地进行防眩处理，以连续的辊状制造防眩薄膜的优点。

[2]抛光工序

在接下来的抛光工序中，将在上述第一镀敷工序中实施了铜镀敷或镍镀敷的基材表面抛光。优选经过该工序，基材表面抛光为接近镜面的状态。这是因为，作为基材的金属板或金属辊为了以期望的精度形成，实施切削或磨削等机械加工的情况居多，由此在基材表面残留加工孔，实施了铜镀敷或镍镀敷的状态下，也有时残留那些加工孔，另外，在镀敷的状态下，表面不是完全地平滑。即，即使对残留有这样的深的加工孔的表面实施后述的工序，也有时加工孔等凹凸比在实施了各工序后形成的凹凸深，存在加工孔等的影响遗留的可能性，使用那样的模具，实施防眩处理，或制造防眩薄膜的情况下，有时产生在光学特性上不能预期的影响。在图57(a)中，以示意性示出对于平板状的模具用基材7在第一镀敷工序中对其表面实施铜镀敷或镍镀敷(未图示在该工序中形成的铜镀敷或镍镀敷的层)，进而具有通过抛光工序，进行镜面抛光的表面8的状态。

关于将实施有铜镀敷或镍镀敷的基材表面抛光的方法，不特别限定，可以使用机械抛光法、电解抛光法、化学抛光法的任一种。作为机械抛光法，例示超精加工法、磨光法、流体抛光法、磨光抛光法等。就抛光后的表面粗糙度来说，优选依照JIS B 0601的规定的中心线平均粗糙度Ra为0.1μm以下，更优选0.05μm以下。若抛光后的中心线平均粗糙度Ra大于0.1μm，则在最终的模具表面的凹凸形状中可能残留抛光后的表面粗糙度的影响。另外，关于中心线平均粗糙度Ra的下限，不特别限定，从加工时间或加工成本的观点来说，自然存在极限，因此，没有特别指定的必要性。

[3]感光性树脂膜形成工序

在接下来的感光性树脂膜形成工序中，在利用上述抛光工序，实施了镜面抛光的模具用基材7的抛光的表面8上，作为将感光性树脂溶解于溶剂的溶液来涂敷，并加热·干燥，由此形成感光性树脂膜。在图57(b)中以示意性示出在模具用基材7的已抛光的表面8形成有感光性树脂膜9的状态。

作为感光性树脂，可以使用以往公知的感光性树脂。作为具有感光部分固化的性质的负型感光性树脂，例如，可以使用在分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的丙烯酸酯的单体或预聚物、双叠氮化物和二烯橡胶的混合物、聚乙烯基肉桂酸酯系化合物等。另外，作为具有通过显影，感光部分溶出，只有未感光部分残留的性质的正型的感光性树脂，例如，可以使用酚醛树脂系或酚醛清漆树脂系等。另外，在感光性树脂中，根据需要，配合增感剂、显影促进剂、密接性改性剂、涂敷性改良剂等各种添加剂也可。

优选在将这些感光性树脂涂敷于模具用基材7的已抛光的表面8时，为了形成良好的涂膜，稀释于适当的溶剂而涂敷。作为溶剂，可以使用纤维素系溶剂、丙二醇系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂、高极性溶剂等。

作为涂敷感光性树脂溶液的方法，可以使用弯液面涂敷、喷射涂敷、浸涂、旋涂、辊涂、金属线棒涂敷、气刀涂敷、刮板涂敷、及淋涂等公知的方法。优选涂敷膜的厚度在干燥后为1～6μm的范围。

[4]曝光工序

在接下来的曝光工序中，在上述感光性树脂膜形成工序中形成的感光性树脂膜9上将对上述第一图案，适用高通滤波器或带通滤波器制作的第二图案或将其利用阈值法来变换为被离散化为两个等级的信息(二值化)的图案、第三图案或第四图案曝光。就在曝光工序中使用的光源来说，根据涂敷的感光性树脂的感光波长或感度等，适当地选择即可，例如，可以使用高压汞灯的g射线(波长：436nm)、高压汞灯的h射线(波长：405nm)、高压汞灯的i射线(波长：365nm)、半导体激光(波长：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG激光(波长：1064nm)、KrF受激准分子激光器(波长：248nm)、ArF受激准分子激光器(波长：193nm)、F2受激准分子激光器(波长：157nm)等。

为了在本发明的模具的制造方法中，使表面凹凸形状精度良好地形成，优选在曝光工序中，在感光性树脂膜上以精密地控制的状态将上述图案曝光。在本发明的模具的制造方法中，为了在感光性树脂膜上精度良好地将上述图案曝光，优选基于在计算机上制作的图案即图像数据或离散化的信息的二维排列，利用由计算机控制的激光头发出的激光，在感光性树脂膜上描绘图案。在进行这样的激光描绘时，可以使用印刷版制作用激光描绘装置。作为这样的激光描绘装置，例如，可以举出Laser Stream FX((株)新科拉布特里制(シンクラボラトリ一))等。

在图57(c)中以示意性示出在感光性树脂膜9曝光有图案的状态。在用负型感光性树脂形成了感光性树脂膜的情况下，曝光的区域10通过曝光来发生树脂的交联反应，对后述的显影液的溶解性降低。从而，在显影工序中未曝光的区域11被显影液溶解，只有曝光的区域10残留在基材表面上，形成为掩模。另一方面，在用正型的感光性树脂形成了感光性树脂膜的情况下，在曝光的区域10中，树脂的结合因曝光被切断，对后述的显影液的溶解性增加。从而，在显影工序中曝光的区域10被显影液溶解，只有未曝光的区域11残留在基材表面上，形成为掩模。

[5]显影工序

在接下来的显影工序中，在感光性树脂膜9中使用了负型感光性树脂的情况下，未曝光的区域11被显影液溶解，只有曝光的区域10残留在模具用基材上，在接下来的第一蚀刻工序中作为掩模发挥作用。另一方面，在感光性树脂膜9中使用了正型感光性树脂的情况下，只有曝光的区域10被显影液溶解，未曝光的区域11残留在模具用基材上，作为在接下来的第一蚀刻工序中的掩模来发挥作用。

关于在显影工序中使用的显影液，可以使用以往公知的显影液。例如，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨水等无机碱类、乙胺、正丙胺等伯胺类、二乙胺、二正丁胺等仲胺类、三乙胺、甲基二乙胺等叔胺类、二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基羟基乙基氢氧化铵等季铵盐、吡咯、哌啶等环状胺等碱性水溶液、及二甲苯、甲苯等有机溶剂等。

关于显影工序中的显影方法，不特别限定，可以使用浸渍显影、溅射显影、刷显影、超声波显影等方法。

在图57(d)中，以示意性示出在感光性树脂膜9中使用负型感光性树脂，进行了显影处理的状态。在图57(c)中未曝光的区域11被显影液溶解，只有曝光的区域10残留在基材表面上，成为掩模12。在图57(e)中以示意性示出在感光性树脂膜9中使用正型感光性树脂，进行了显影处理的状态。在图57(e)中曝光的区域10被显影液溶解，只有未曝光的区域11残留在基材表面上，成为掩模12。

[6]第一蚀刻工序

在接下来的第一蚀刻工序中，在上述显影工序后，将在模具用基材表面上残留的感光性树脂膜作为掩模来使用，主要蚀刻没有掩模的部位的模具用基材，在抛光的镀敷面形成凹凸。图58是以示意性表示本发明的模具的制造方法的后半部分的优选的一例的图。在图58(a)中以示意性示出通过第一蚀刻工序，主要蚀刻没有掩模的部位13的模具用基材7的状态。掩模12的下部的模具用基材7不会从模具用基材表面被蚀刻，但进行蚀刻的同时，进行自没有掩模的部位13的蚀刻。从而，在掩模12和没有掩模的部位13的边界附近，还蚀刻掩模12的下部的模具用基材7。在这样的掩模12、和没有掩模的部位13的边界附近，还蚀刻掩模12的下部的模具用基材7的情况在以下称为侧面蚀刻。图59中以示意性示出侧面蚀刻的进展。图59的虚线14以阶段性表示进行蚀刻的同时变化的模具用基材的表面。

第一蚀刻工序中的蚀刻处理通常通过使用氯化铁(FeCl₃)液、氯化铜(CuCl₂)液、碱蚀刻液(Cu(NH₃)₄Cl₂)等，使金属表面腐蚀来进行，但可以使用盐酸或硫酸等强酸，也可以使用通过施加与电解镀敷时相反的电势来进行的反向电解蚀刻。在实施了蚀刻处理时的模具用基材中形成的凹形状根据基底金属的种类、感光性树脂膜的种类及蚀刻方法等而不同，因此，不能一概而论，但蚀刻量为10μm以下的情况下，从与蚀刻液接触的金属表面开始大致各向同性地蚀刻。在此所述的蚀刻量是通过蚀刻来削减的基材的厚度。

第一蚀刻工序中的蚀刻量优选1～50μm。在蚀刻量小于1μm的情况下，在金属表面几乎不形成凹凸形状，成为大致平坦的模具，因此，导致不显示防眩性。另外，在蚀刻量超过50μm的情况下，在金属表面形成的凹凸形状的高低差变大，适用了使用所得到的模具制作的防眩薄膜的图像显示装置中可能发生褪色发白。第一蚀刻工序中的蚀刻处理可以通过一次蚀刻处理来进行，也可以分为两次以上进行蚀刻处理也可。在分为两次以上进行蚀刻处理的情况下，优选两次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的总计为1～50μm。

[7]感光性树脂膜剥离工序

在接下来的感光性树脂膜剥离工序中，完全地溶解并除去在第一蚀刻工序中作为掩模使用的残留的感光性树脂膜。在感光性树脂膜剥离工序中使用剥离液，溶解感光性树脂膜。作为剥离液，可以使用与上述显影液相同的剥离液，通过改变pH、温度、浓度及浸渍时间等，在使用了负型感光性树脂膜的情况下，完全地溶解并除去曝光部的感光性树脂膜，在使用了正型的感光性树脂膜的情况下，完全地溶解并除去非曝光部的感光性树脂膜。关于感光性树脂膜剥离工序中的剥离方法，不特别限定，可以使用浸渍显影、溅射显影、刷显影、超声波显影等方法。

图58(b)以示意性表示利用感光性树脂膜剥离工序，完全地溶解并除去在第一蚀刻工序中作为掩模12使用的感光性树脂膜的状态。通过利用了包括感光性树脂膜的掩模12的蚀刻，在模具用基材表面形成第一表面凹凸形状15。

[8]第二镀敷工序

接着，通过对形成的凹凸面(第一表面凹凸形状15)实施铬镀敷，使表面的凹凸形状变钝。在图58(c)中示出通过如上所述地在利用第一蚀刻工序的蚀刻处理来形成的第一表面凹凸形状15形成铬镀敷层16，形成凹凸比第一表面凹凸形状15钝的表面(铬镀敷的表面17)的状态。

在本发明中，在平板或辊等的表面采用具有光泽，硬度高，摩擦系数小，能够赋予良好的脱模性的铬镀敷。铬镀敷的种类不特别限定，但优选使用称为所谓的光泽铬镀敷或装饰用铬镀敷等的、显示良好的光泽的铬镀敷。铬镀敷通常通过电解来进行，作为其镀敷浴，使用包含铬酸酐(CrO₃)和少量的硫酸的水溶液。通过调节电流密度和电解时间，能够控制铬镀敷的厚度。

在上述特开2002-189106号公报、特开2004-45472号公报、特开2004-90187号公报等中公开了采用铬镀敷的情况，但根据模具的镀敷前的基底和铬镀敷的种类，在镀敷后，表面变得粗糙，或发生多个铬镀敷引起的微小的裂纹的情况居多，其结果，使用该模具得到的、具有表面凹凸形状的透明基材(包含防眩薄膜)的光学特性向不优选的方向进展。镀敷表面粗糙的状态的模具不适合透明基材的防眩处理及防眩薄膜的制造。因为，通常为了消除粗糙，在铬镀敷后将镀敷表面抛光，但如后所述，在本发明中不优选镀敷后的表面的抛光。在本发明中，通过对基底金属实施铜镀敷或镍镀敷，消除在铬镀敷中容易发生的这样的不妥善情况。

还有，在第二镀敷工序中，优选实施铬镀敷以外的镀敷。因为，在铬以外的镀敷中，硬度或耐磨损性降低，因此，作为模具的耐久性降低，在使用中凹凸被磨削，或模具损伤。在使用了那样的模具的防眩处理及从该模具得到的防眩薄膜中，难以得到充分的防眩性能的可能性高，另外，在透明树脂薄膜等透明基材上发生缺陷的可能性也变高。

另外，在上述特开2004-90187号公报等中公开的镀敷后的表面抛光也仍然在本发明中不优选。即，优选不设置在第二镀敷工序后抛光表面的工序，将实施有铬镀敷的凹凸面直接作为转印于透明基材上的模具的凹凸面使用。理由如下，即：由于进行抛光，在最外表面发生平坦的部分，因此，可能导致光学特性变差，另外，形状的控制因子增加，因此，难以进行再现性良好的形状控制等。

这样在本发明的模具的制造方法中，通过对形成有微细表面凹凸形状的表面实施铬镀敷，得到凹凸形状变钝，并且，其表面硬度变高的模具。此时的凹凸的钝情况根据基底金属的种类、通过第一蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度、及镀敷的种类或厚度等而不同，因此不能一概而论，但在控制钝情况上最大的因子还是镀敷厚度。若铬镀敷的厚度薄，则使在铬镀敷加工前得到的凹凸的表面形状变钝的效果不充分，实施有将所述凹凸形状转印于透明薄膜等透明基材上得到的防眩处理的透明基材(防眩薄膜等)的光学特性不太良好。另一方面，若镀敷厚度过厚，则生产率变差，而且，发生称为节结的突起状的镀敷缺陷，因此不优选。因此，铬镀敷的厚度优选1～10μm的范围内，更优选3～6μm的范围内。

在该第二镀敷工序中形成的铬镀敷层优选维氏硬度成为800以上地形成，更优选成为1000以上地形成。因为在铬镀敷层的维氏硬度小于800的情况下，降低模具使用时的耐久性，而且，由于铬镀敷而硬度降低的情况下，在镀敷处理时，在镀敷浴组成、电解条件等上发生异常的可能性高，对缺陷的发生状况也赋予不优选的影响的可能性高。

另外，在本发明的模具的制造方法中，优选在上述[7]感光性树脂膜剥离工序、和[8]第二镀敷工序之间，包括利用蚀刻处理使由第一蚀刻工序形成的凹凸面变钝的第二蚀刻工序。在第二蚀刻工序中，使利用作为掩模使用了感光性树脂膜的第一蚀刻工序形成的第一表面凹凸形状15通过蚀刻处理来变钝。通过该第二蚀刻处理，利用第一蚀刻处理形成的第一表面凹凸形状15中的表面倾斜陡峭的部分消失，使用得到的模具制造的防眩薄膜等实施有防眩处理的透明基材的光学特性向优选的方向变化。图60中示出利用第二蚀刻处理，钝化模具用基材7的第一表面凹凸形状15，表面倾斜陡峭的部分变钝，形成有具有平缓的表面倾斜的第二表面凹凸形状18的状态。

第二蚀刻工序的蚀刻处理也与第一蚀刻工序相同地，通常使用氯化铁(FeCl₃)液、氯化铜(CuCl₂)液、碱蚀刻液(Cu(NH₃)₄Cl₂)等，使表面腐蚀来进行，但可以使用盐酸或硫酸等强酸，也可以使用通过施加与电解镀敷时相反的电势来进行的反向电解蚀刻。实施了蚀刻处理后的凹凸的钝情况根据基底金属的种类、蚀刻方法、及利用第一蚀刻工序来得到的凹凸的尺寸和深度等不同，因此，不能一概而论，但在控制钝情况方面最大的因子是蚀刻量。在此所述的蚀刻量也与第一蚀刻工序相同地为通过蚀刻来削减的基材的厚度。若蚀刻量小，则使利用第一蚀刻工序来得到的凹凸的表面形状变钝的效果不充分，实施有将所述凹凸形状转印于透明薄膜等透明基材上得到的防眩处理的透明基材(防眩薄膜等)的光学特性不太良好。另一方面，若蚀刻量过大，则凹凸形状大部分消失，形成为大致平坦的模具，因此，不显示防眩性。因此，蚀刻量优选1～50μm的范围内，更优选4～20μm的范围内。关于第二蚀刻工序中的蚀刻处理，也与第一蚀刻工序相同地，通过一次蚀刻处理来进行也可，将蚀刻处理分为两次以上进行也可。将蚀刻处理分为两次以上进行的情况下，两次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的总计优选1～50μm。

就利用本发明的防眩处理方法及防眩薄膜的制造方法得到的防眩薄膜等实施有防眩处理的透明基材来说，精度良好地控制其微细凹凸表面形状而形成，因此，显示充分的防眩性，且不发生褪色发白，在配置于图像显示装置的表面时也不发生晃眼，显示高的对比度。

例子

以下，举出例子，进而详细地说明本发明，但本发明不限定于这些实施例。

<实施例1～3及比较例1～2>

准备在直径200mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面实施有重复铜(バラ一ド)镀敷的辊。重复铜镀敷包括铜镀敷层/薄的银镀敷层/表面铜镀敷层，镀敷层整体的厚度设定为约200μm。将所述铜镀敷表面进行镜面抛光，在抛光的铜镀敷表面涂敷正型感光性树脂，并进行干燥，形成了感光性树脂膜。

接着，利用激光，将以下所示的5种图案I～V同时在上述感光性树脂膜上进行曝光，进行显影。基于激光的曝光、及显影是使用Laser Stream FX((株)新科拉布特里制)来进行的。

(1)图案I(实施例1)：是将图61中示出一部分的单位图案重复排列的图。该单位图案是以12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图案，图61是将其中1.024mm见方切出的图案。图61所示的单位图案是对于将平均点直径为16μm的点以2000个/mm²的密度无规分布的、图62中示出一部分的第一图案，适用一次空间频率范围下限值B为0.040μm^-1，空间频率范围上限值T为0.070μm^-1，[从而，2×(T-B)/(T+B)＝0.55]，透过频带峰具有低空间频率侧的倾斜更急剧的非对称形状的带通滤波器，接着，利用阈值法来将得到的第二图案二值化来得到的。得到的单位图案的空间频率范围下限值B为0.047μm^-1，空间频率范围上限值T为0.067μm^-1。

(2)图案II(实施例2)：是将图63中示出一部分的单位图案重复排列的图。该单位图案是以12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图案，图63是将其中1.024mm见方切出的图案。图63所示的单位图案是对于图62中示出一部分的第一图案，适用一次与在上述图案I中使用的带通滤波器相同的带通滤波器，接着，利用阈值法来将得到的第二图案二值化后，进而通过重复9次适用相同的带通滤波器来得到的。得到的单位图案的空间频率范围下限值B为0.047μm^-1，空间频率范围上限值T为0.067μm^-1。

(3)图案III(实施例3)：是将图64中示出一部分的单位图案重复排列的图。该单位图案是以12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图案，图64是将其中1.024mm见方切出的图案。图64所示的单位图案是对于图62中示出一部分的第一图案，适用一次与在上述图案I中使用的带通滤波器相同的带通滤波器，接着，利用阈值法来将得到的第二图案二值化后，进而通过重复19次适用相同的带通滤波器来得到的。得到的单位图案的空间频率范围下限值B为0.047μm^-1，空间频率范围上限值T为0.067μm^-1。

(4)图案IV(比较例1)：是将图65中示出一部分的单位图案重复排列的图。该单位图案是以12800dpi的析像度生成的20.944mm见方的图案，图65是将其中1.024mm见方切出的图案。图65所示的单位图案是将平均点直径为16μm的点以1419个/mm²的密度无规分布而制作的。

(5)图案V(比较例2)：是将图66中示出一部分的单位图案重复排列的图。该单位图案是以12800dpi的析像度生成的20.944mm见方的图案，图66是将其中1.024mm见方切出的图案。图66所示的单位图案是将平均点直径为16μm的点以1419个/mm²的密度无规分布而制作的。

利用激光，将以上的5种图案I～V同时在上述感光性树脂膜上进行曝光，进行显影后，利用氯化铜液来进行了第一蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为3μm。从第一蚀刻处理后的辊除去感光性树脂膜，再次用氯化铜液进行了第二蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为10μm。然后，进行铬镀敷加工，制作了模具。此时，铬镀敷厚度设定为4μm。

利用醋酸乙酯溶解光固化性树脂组合物GRANDIC 806T(大日本油墨化学工业(株)制)，形成为50重量％浓度的溶液，进而将作为光聚合引发剂的路西林TPO(BASF公司制、化学名：2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦)向每100重量份的固化性树脂成分添加5重量份，配制了涂敷液。在厚度80μm的三乙酰纤维素(TAC)薄膜上使干燥后的涂敷厚度成为10μm地涂敷该涂敷液，在设定为60℃的干燥机中将其干燥3分钟。使光固化性树脂组合物层成为模具侧地将干燥后的薄膜利用橡胶辊压紧于在先得到的模具的凹凸面并使其密接。在该状态下，从TAC薄膜侧将强度20mW/cm²的来自汞灯的光按h射线换算光量成为200mJ/cm²地照射，使光固化性树脂组合物层固化。然后，按固化树脂从模具剥离TAC薄膜，制作了由在表面具有凹凸的固化树脂和TAC薄膜的层叠体构成，具有与图案I～V对应的5种凹凸表面形状的透明的防眩薄膜。

<实施例4>

除了将图67中示出一部分的单位图案重复排列的图案遍及辊1周，利用激光，在感光性树脂膜上进行曝光，进行显影以外，与实施例1相同地制作模具，进而与实施例1相同地制作了防眩薄膜。进行2次相同的操作，得到了总计2个防眩薄膜。图67所示的单位图案是以12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图案，图67是将其中1.024mm见方切出的图案。

图67所示的单位图案是对第一图案，适用带通滤波器，制作了第二图案后，通过误差扩散法的适用来二值化，制作第三图案，进而，重复60次适用蒙特-卡罗法来制作的第四图案。使用的第一图案是12800dpi的析像度，32.768mm见方的8比特的位图图像，通过对于具有8比特的深度的二维排列PIXCEL[x，y]，代入PIXCEL[x，y]＝R[x+y×ImageWidth]×255来制作。在此，x、y为图像中的像素的坐标，ImageWidth为x坐标的像素宽度。作为排列R[]，使用了基于采用通过在「.NET Framework2.0级别程序库」中包含的随机级别NextDouble方法来生成的0.0和1.0之间的值的Knuth的随机数发生器减算算法的伪随机数列。作为带通滤波器，使用空间频率范围下限值B为0.045μm^-1，空间频率范围上限值T为0.080μm^-1〔从而，2×(T-B)/(T+B)＝0.56〕，透过频带峰具有低空间频率侧的倾斜更急剧的非对称形状的带通滤波器。另外，作为误差扩散矩阵，使用了将图36所示的扩散距离为3的误差扩散矩阵、和图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵以0.4∶0.6的比例合成的矩阵(图36×0.4+图37×0.6)。图67所示的单位图案的空间频率范围下限值B为0.045μm^-1，空间频率范围上限值T为0.086μm^-1。

将在实施例1～3中使用的单位图案的空间频率分布示出在图68中，将在比较例1～2中使用的单位图案的空间频率分布示出在图69中，将在实施例4中使用的单位图案的空间频率分布示出在图70中。

<实施例5>

准备在直径200mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面实施有重复铜镀敷的辊。重复铜镀敷包括铜镀敷层/薄的银镀敷层/表面铜镀敷层，镀敷层整体的厚度设定为约200μm。将所述铜镀敷表面进行镜面抛光，在抛光的铜镀敷表面涂敷正型感光性树脂，并进行干燥，形成了感光性树脂膜。

接着，利用激光，将图71中表示一部分的单位图案重复排列的图案在感光性树脂膜上进行曝光，进行显影。基于激光的曝光、及显影是使用Laser Stream FX((株)新科拉布特里制)来进行的。图71所示的单位图案是12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图案，图71是将其中1.024mm见方切出的图案。

图71所示的单位图案是对第一图案，适用带通滤波器，制作了第二图案后，通过误差扩散法的适用来二值化，制作第三图案，进而，重复60次适用蒙特-卡罗法来制作的第四图案。使用的第一图案是以12800dpi的析像度，32.768mm见方的8比特的位图图像，通过对于具有8比特的深度的二维排列PIXCEL[x，y]，代入PIXCEL[x，y]＝R[x+y×ImageWidth]×255来制作。在此，x、y为图像中的像素的坐标，ImageWidth为x坐标的像素宽度。作为排列R[]，使用了基于采用通过在「.NET Framework2.0级别程序库」中包含的随机级别NextDouble方法来生成的0.0和1.0之间的值的Knuth的随机数发生器减算算法的伪随机数列。作为带通滤波器，使用空间频率范围下限值B为0.055μm^-1，空间频率范围上限值T为0.100μm^-1〔从而，2×(T-B)/(T+B)＝0.58〕，透过频带峰的形状为高斯函数型的带通滤波器。另外，作为误差扩散矩阵，使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的矩阵(图37×0.9+图38×0.1)。图71所示的单位图案的空间频率范围下限值B为0.055μm^-1，空间频率范围上限值T为0.100μm^-1。图71所示的单位图案的空间频率分布示出在图72中。

然后，利用氯化铜液进行了第一蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为5μm。从第一蚀刻处理后的辊除去感光性树脂膜，再次利用氯化铜液进行了第二蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为8μm。然后，进行铬镀敷加工，制作了模具。此时，铬镀敷厚度设定为4μm。

利用醋酸乙酯溶解光固化性树脂组合物GRANDIC 806T(大日本油墨化学工业(株)制)，形成为50重量％浓度的溶液，进而将作为光聚合引发剂的路西林TPO(BASF公司制、化学名：2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦)向每100重量份的固化性树脂成分添加5重量份，配制了涂敷液。在厚度80μm的三乙酰纤维素(TAC)薄膜上使干燥后的涂敷厚度成为10μm地涂敷该涂敷液，在设定为60℃的干燥机中将其干燥3分钟。使光固化性树脂组合物层成为模具侧地将干燥后的薄膜利用橡胶辊压紧于在先得到的模具的凹凸面使其密接。在该状态下，从TAC薄膜侧将强度20mW/cm²的来自汞灯的光按h射线换算光量成为200mJ/cm²地照射，使光固化性树脂组合物层固化。然后，按固化树脂从模具剥离TAC薄膜，制作了由在表面具有凹凸的固化树脂和TAC薄膜的层叠体构成的透明的防眩薄膜。

关于在实施例1～5及比较例1～3中得到的防眩薄膜，进行了下述所示的评价试验。

(1)晃眼评价

通过以下的方法，评价了晃眼。首先，准备了将图73(a)所示的俯视图所示的单元体60的图案在约40mm×约25mm的范围中规则地排列而得的光掩模。在单元体60中，在透明的基板上以线宽10μm形成钥匙形的铬遮光图案61，未形成所述铬遮光图案61的部分成为开口部62。对应于单元体的尺寸，向这样的光掩模赋予“析像度称谓”〔单位：ppi(pixelper inch)〕。例如，析像度称谓90ppi的光掩模的单元体纵×单元横为282μm×94μm，开口部纵×开口部横为272μm×84μm。基于表1的数值，制作这样的单元体，在析像度称谓90～180ppi的范围中，准备共计10个图案的光掩模。

【表1】

其次，如图73(b)所示，将光掩模63的铬遮光图案61朝向上方，置于光盒65(在光盒内设置有灯66)，将在1.1m厚度的玻璃板67利用20μm厚度的粘着剂贴合防眩薄膜70而成的样品置于光掩模63上，从距样品约30cm的部位(目视观察部位69)进行目视观察，由此通过官能来评价晃眼的发生的有无。对准备的、具有不同的析像度称谓的光掩模分别进行该评价。

在上述评价中，依赖于防眩薄膜的特性，而在某个析像度称谓以上的光掩模中观察到晃眼。通过此时的析像度称谓评价来评价晃眼。具体举出例子，叙述评价数值的判别方法。

首先，在官能评价时，在析像度称谓90ppi的光掩模中观察到强的晃眼，在析像度称谓80ppi的光掩模中未观察到晃眼时，作为晃眼的评价，赋予80ppi。但是，依赖于防眩薄膜的特性，而在析像度称谓90ppi的光掩模中，只观察到弱的晃眼的状态也存在。为了将这样的状态与所述状态区别，这样只发生弱的晃眼的情况下，作为晃眼评价，赋予在评价中使用的光掩模的析像度称谓80ppi和90ppi的中间值即85ppi，将其区别。

(2)透过特性的评价

使用依照JIS  K7136的浊度仪(株式会社村上色彩技术研究所制HM-150)，测定了防眩薄膜的浊度。

将上述评价试验的结果与单位图案的制作方法及模具的制作条件一同示出在表2中。还有，关于实施例4，分别示出两个防眩薄膜的评价结果。

【表2】

从基于光掩模的晃眼评价试验确认到，基于通过带通滤波器的适用来减少了低空间频率成分的图案制作的实施例1～3的防眩薄膜均与基于使点无规地分布的第一图案制作的比较例1～2的防眩薄膜相比，不发生晃眼的析像度的上限成为更高的水准，显示良好的光学特性。另外，作为二值化方法，适用误差扩散法，基于第四图案制作的实施例4的两个防眩薄膜及实施例5的防眩薄膜均与使用了阈值法的实施例1～3的防眩薄膜相比，即使为更高的析像度的光掩模，也观察不到晃眼，显示了更优越的光学特性。

<实施例6>

准备在直径200mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面实施有重复铜镀敷的辊。重复铜镀敷包括铜镀敷层/薄的银镀敷层/表面铜镀敷层，镀敷层整体的厚度设定为约200μm。将所述铜镀敷表面进行镜面抛光，在抛光的铜镀敷表面涂敷正型感光性树脂，并进行干燥，形成了感光性树脂膜。

接着，利用激光，将图74中表示一部分的单位图案重复排列的图案在感光性树脂膜上进行曝光，进行显影。基于激光的曝光、及显影是使用Laser Stream FX((株)新科拉布特里制)来进行得。图74所示的单位图案是12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图案，图74是将其中1.024mm见方切出的图案。

图74所示的单位图案是对第一图案，适用高通滤波器，制作了第二图案后，通过误差扩散法的适用来二值化，制作第三图案，进而，重复60次适用蒙特-卡罗法来制作的第四图案。使用的第一图案是将平均点直径为8μm的点以10000个/mm²的密度无规地分布而制作的。此时，尽量使点均一地分布，因此，通过设定与设定的点密度对应的三角格子，从所述格子点开始使点的中心坐标X及Y分别相对于设定的三角格子的格子移位来生成图案。还有，在移位后的坐标的确定中，使用了基于下述所示的C#(是由微软公司开发的程序语言，语言格式通过「JIS X 3015程序语言C#」等来规定)的程序编码。在该函数中，对平均移位的格子点的坐标值(X或Y)及Deviation赋予0.3×15μm，由此使点位置无规地移位。此时，伪随机数(C#程序编码中的「RandomFunction()」)是通过利用由广岛大学的小组安装的SIMD oriented Fast Mersenne Twister程序，对SFMT ver1.3.3，作为种，赋予数值607而得到。

(在实施例6中使用的基于C#的程序编码)

  //cx，cy：表示重新描绘的点中心的X坐标·Y坐标。

  //px，py：表示设定的三角格子点的X坐标·Y坐标。

  //pD：0.3

  //CoreSize：点的直径

cX＝NormalRandom(px，pD * CoreSize)；

cY＝NormalRandom(py，pD * CoreSize)；

//随机数的正规化函数

         //RandomFunction()：返回随机数的函数。

         //RandomFunctionValueMax()：返回随机数取的值的最大值的函

数。

         //Math：.NET Framework Math级别程序库

public double NormalRandom(double Average，double Deviation)

{

      double buff＝0；

      buff＝Deviation*Math.Sqrt(-2*Math.Log(((double)RandomFunction

()/(double)RandomFunctionValueMax())))*Math.Sin(2*Math.PI

 *  ((double)RandomFunction()/(double)RandomFunctionValueMax()))

+Average；

         if(buff＜0){buff＝0；}；

         return buff；

}

作为高通滤波器，使用了空间频率范围下限值B’为0.067μm^-1的高通滤波器。另外，作为误差扩散矩阵，使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的矩阵(图37×0.9+图38×0.1)。图74所示的单位图案的空间频率范围下限值B’约为0.050μm^-1，

然后，利用氯化铜液进行第一蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为7μm。从第一蚀刻处理后的辊除去感光性树脂膜，再次利用氯化铜液进行第二蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为18μm。然后，进行铬镀敷加工，制作模具。此时，铬镀敷厚度设定为4μm。

利用醋酸乙酯溶解光固化性树脂组合物GRANDIC 806T(大日本油墨化学工业(株)制)，形成为50重量％浓度的溶液，进而将作为光聚合引发剂的路西林TPO(BASF公司制、化学名：2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦)向每100重量份的固化性树脂成分添加5重量份，配制了涂敷液。在厚度80μm的三乙酰纤维素(TAC)薄膜上使干燥后的涂敷厚度成为10μm地涂敷该涂敷液，在设定为60℃的干燥机中将其干燥3分钟。使光固化性树脂组合物层成为模具侧地将干燥后的薄膜利用橡胶辊压紧于在先得到的模具的凹凸面使其密接。在该状态下，从TAC薄膜侧将强度20mW/cm²的来自汞灯的光按h射线换算光量成为200mJ/cm²地照射，使光固化性树脂组合物层固化。然后，按固化树脂从模具剥离TAC薄膜，制作了由在表面具有凹凸的固化树脂和TAC薄膜的层叠体构成的透明的防眩薄膜。

<实施例7>

除了使用阈值法，进行二值化以外，与实施例相同地，制作了将图75中示出一部分的单位图案重复排列的图案。接着，除了使用该图案以外，与实施例6相同地，制作模具，得到防眩薄膜。

图76是比较图74所示的图案的空间频率分布、和图75所示的图案的空间频率分布的图。从图76可知，在适用误差扩散法的图74的图案中，进一步减少了低空间频率成分。

<实施例8>

除了使用将图77中表示一部分的图案重复排列的图案以外，与实施例6相同地，制作模具，得到防眩薄膜。

图77所示的第四图案是以12800dpi的析像度生成的32.768mm见方的图像，图77是将其中1.024mm见方切出的图案。该第四图案是将通过对于第一图案，适用空间频率范围下限值B及空间频率范围上限值T分别由上述式(I)及(II)〔设为MainPeriod＝12(μm)、BandWidth＝20(％)。〕表示，且透过频带峰的形状为高斯型的带通滤波器来得到的第二图案，通过按照误差扩散距离为4的图37所示的误差扩散矩阵的误差扩散法的适用来二值化，制作第三图案，进而，重复60次适用蒙特-卡罗法而制作的。上述第一图案为12800dpi的析像度、32.768mm见方的8比特的位图图像，通过对于具有8比特的深度的二维排列PIXCEL[x，y]，代入PIXCEL[x，y]＝R[x+y×ImageWidth]×255来制作。在此，x、y为图像中的像素的坐标，ImageWidth为x坐标的像素宽度。作为排列R[]，使用了基于采用通过在「.NET Framework2.0级别程序库」中包含的随机级别NextDouble方法来生成的0.0和1.0之间的值的Knuth的随机数发生器减算算法的伪随机数列。

<实施例9>

除了使用阈值法，进行二值化以外，与实施例8相同地，制作了将图78中示出一部分的单位图案重复排列的图案。接着，除了使用该图案以外，与实施例8相同地，制作模具，得到防眩薄膜。

图79是比较图77所示的图案的空间频率分布、和图78所示的图案的空间频率分布的图。从图79可知，在适用误差扩散法的图77的图案中，进一步减少了低空间频率成分。

利用本发明的方法制作的防眩薄膜等实施有防眩处理的透明基材具有反映了低空间频率成分少的图案的微细凹凸表面形状，因此，不发生晃眼，显示充分的防眩性，还不发生褪色发白。另外，浊度也低，因此，在配置于图像显示装置时，也不会引起对比度的降低。进而，难以进行基于抗蚀剂作业的再现的孤立的点少，因此，还能够适当地进行蚀刻处理。

<参考例：基于高通滤波器的适用的图案的制作及评价>

通过以下所示的方法，制作了图案1～15。

(1)图案1：通过将平均点直径为24μm的点以1111个/mm²的密度无规地分布而制作。对于图80中表示一部分的第一图案A，适用空间频率范围下限值B’为约0.07μm^-1的高通滤波器，制作了第二图案后，利用将127作为阈值的阈值法来二值化，得到了图案1。图81是局部放大表示图案1的图。还有，在上述第一图案的制作时，采用与在实施例6中使用的第一图案相同的方法，实现了点分布的均一化。

(2)图案2：在图案1的制作中使用的第二图案中，适用使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的误差扩散矩阵(图37×0.9+图38×0.1)的误差扩散法，得到了作为第三图案的图案2。图82是局部放大表示图案2的图。

(3)图案3：在图案2中重复60次适用蒙特-卡罗法来得到了作为第四图案的图案3。图83是局部放大表示图案3的图。

(4)图案4：通过将平均点直径为20μm的点以1600个/mm²的密度无规地分布而制作。除了使用图84中表示一部分的第一图案B以外，与图案1相同地得到了图案4。图85是局部放大表示图案4的图。

(5)图案5：在图案4的制作中使用的第二图案中，适用使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的误差扩散矩阵(图37×0.9+图38×0.1)的误差扩散法，得到了作为第三图案的图案5。图86是局部放大表示图案5的图。

(6)图案6：在图案5中重复60次适用蒙特-卡罗法来得到了作为第四图案的图案6。图87是局部放大表示图案6的图。

(7)图案7：通过将平均点直径为16μm的点以2500个/mm²的密度无规地分布而制作。除了使用图88中表示一部分的第一图案C以外，与图案1相同地得到了图案7。图89是局部放大表示图案7的图。

(8)图案8：在图案7的制作中使用的第二图案中，适用使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的误差扩散矩阵(图37×0.9+图38×0.1)的误差扩散法，得到了作为第三图案的图案8。图90是局部放大表示图案8的图。

(9)图案9：在图案8中重复60次适用蒙特-卡罗法来得到了作为第四图案的图案9。图91是局部放大表示图案9的图。

(10)图案10：通过将平均点直径为12μm的点以4444个/mm²的密度无规地分布而制作。除了使用图92中一表示部分的第一图案D以外，与图案1相同地得到了图案10。图93是局部放大表示图案10的图。

(11)图案11：在图案10的制作中使用的第二图案中，适用使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的误差扩散矩阵(图37×0.9+图38×0.1)的误差扩散法，得到了作为第三图案的图案11。图94是局部放大表示图案11的图。

(12)图案12：在图案11中重复60次适用蒙特一卡罗法来得到了作为第四图案的图案12。图95是局部放大表示图案12的图。

(13)图案13：通过将平均点直径为8μm的点以10000个/mm²的密度无规地分布而制作。除了使用图96中表示一部分的第一图案E以外，与图案1相同地得到了图案13。图97是局部放大表示图案13的图。

(14)图案14：在图案13的制作中使用的第二图案中，适用使用了将图37所示的扩散距离为4的误差扩散矩阵、和图38所示的扩散距离为5的误差扩散矩阵以0.9∶0.1的比例合成的误差扩散矩阵(图37×0.9+图38×0.1)的误差扩散法，得到了作为第三图案的图案14。图98是局部放大表示图案14的图。

(15)图案15：在图案14中重复60次适用蒙特一卡罗法来得到了作为第四图案的图案15。图99是局部放大表示图案15的图。

将第一图案A～E的空间频率分布示出在图100中，将图案1～15的空间频率分布示出在图101～105中。另外，图106是总结了图案的制作方法的差异引起的低空间频率成分的减少的程度的图。如图106所示可知，使用平均点直径不同的任一个第一图案的情况下，也通过高通滤波器的适用、以及误差扩散法、蒙特-卡罗法的适用，有效地减少低空间频率成分。尤其，在适用了误差扩散法的第三图案及进而适用了蒙特-卡罗法的第四图案中，低空间频率成分的减少效果显著。

在使用高通滤波器的情况下，与带通滤波器不同，在提取的空间频率区域不设置上限值，因此，可能还产生孤立点，但如上述图案1～15一样，使用的第一图案为将点无规地配置的图案的情况下，如图107所示，未发现孤立点的大量产生。

另一方面，优选在使用将图108所示的亮度分布无规地配置的第一图案的情况下，对其适用高通滤波器，适用利用阈值法来二值化的图案、及高通滤波器，在利用误差扩散法来二值化的图案中，孤立点难以减少至充分的程度，通过蒙特-卡罗法的适用来进行孤立点的减少处理。

图109是局部放大表示对图108所示的第一图案，利用与上述图案1的制作相同的方法进行高通滤波器的适用及基于阈值法的二值化得到的图案的图。图110是局部放大表示对图108所示的第一图案，利用与上述图案2的制作相同的方法进行高通滤波器的适用及基于误差扩散法的二值化得到的图案的图。图111是局部放大表示对图108所示的第一图案，利用与上述图案3的制作相同的方法进行高通滤波器的适用、基于误差扩散法的二值化及蒙特-卡罗法的适用得到的图案的图。图112是表示图109～111所示的图案的孤立点的产生个数的图。另外，图113是比较图108～111中所示的图案的空间频率分布的图。如图112及113所示，第一图案包含大量的高空间频率成分的情况下，也能够通过高通滤波器及蒙特-卡罗法的适用，得到充分地减少低空间频率成分，并且，孤立点的产生少的良好的图案。

Claims (38)

1.一种透明基材的防眩处理方法，其中，包括：

对于无规地配置有多个点或配置有亮度分布的第一图案，适用从第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器，制作第二图案的工序；以及

基于所述第二图案，在透明基材上加工凹凸形状的工序。

2.根据权利要求1所述的防眩处理方法，其中，

所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的高通滤波器。

3.根据权利要求2所述的防眩处理方法，其中，

所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于0.01μm^-1的低空间频率成分的高通滤波器。

4.根据权利要求1所述的防眩处理方法，其中，

所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分，并且，除去或减少空间频率超过特定值的高空间频率成分，由此提取特定范围的空间频率成分的带通滤波器。

5.根据权利要求4所述的防眩处理方法，其中，

通过适用所述带通滤波器来提取的所述特定范围的空间频率成分中的空间频率的下限值B为0.01μm^-1以上，上限值T为1/(D×2)μm^-1以下，其中，D(μm)是在所述透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置的分辨率。

6.根据权利要求5所述的防眩处理方法，其中，

所述空间频率的上限值T及下限值B满足下述式(1)：

0.20＜2×(T-B)/(T+B)＜0.80            (1)。

7.根据权利要求1所述的防眩处理方法，其中，

还包括：通过对所述第二图案适用抖动法，制作变换为离散化的信息的第三图案的工序，

其中，进行基于所述第三图案而在所述透明基材上加工凹凸形状的工序。

8.根据权利要求7所述的防眩处理方法，其中，

所述抖动法是误差扩散法。

9.根据权利要求8所述的防眩处理方法，其中，

通过适用使变换误差在3像素以上且6像素以下的范围中扩散的误差扩散法，制作第三图案。

10.根据权利要求7所述的防眩处理方法，其中，

所述第三图案是变换为离散化成两个等级的信息的图案。

11.根据权利要求10所述的防眩处理方法，其中，

还包括：对于变换为离散化成两个等级的信息的第三图案，利用蒙特-卡罗法，使孤立的黑或白像素移动，制作第四图案的工序，

其中，进行基于所述第四图案而在所述透明基材上加工凹凸形状的工序。

12.根据权利要求1所述的防眩处理方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于所述第二图案，制作具有凹凸面的模具，并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。

13.根据权利要求7所述的防眩处理方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于所述第三图案，制作具有凹凸面的模具，并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。

14.根据权利要求11所述的防眩处理方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于所述第四图案，制作具有凹凸面的模具，并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。

15.根据权利要求7所述的防眩处理方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于所述第三图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。

16.根据权利要求11所述的防眩处理方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于所述第四图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。

17.一种防眩薄膜的制造方法，其中，包括：

对于无规地配置有多个点或配置有亮度分布的第一图案，适用从第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器，制作第二图案的工序；

基于所述第二图案，在透明基材上加工凹凸形状的工序。

18.根据权利要求17所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的高通滤波器。

19.根据权利要求18所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于0.01μm^-1的低空间频率成分的高通滤波器。

20.根据权利要求17所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分，并且，除去或减少空间频率超过特定值的高空间频率成分，由此提取特定范围的空间频率成分的带通滤波器。

21.根据权利要求20所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

通过适用所述带通滤波器来提取的所述特定范围的空间频率成分中的空间频率的下限值B为0.01μm^-1以上，上限值T为1/(D×2)μm^-1以下，其中，D(μm)是在所述透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置的分辨率。

22.根据权利要求21所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

所述空间频率的上限值T及下限值B满足下述式(1)：

0.20＜2×(T-B)/(T+B)＜0.80        (1)。

23.根据权利要求17所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

还包括：通过对所述第二图案适用抖动法，制作变换为离散化的信息的第三图案的工序，

其中，进行基于所述第三图案而在所述透明基材上加工凹凸形状的工序。

24.根据权利要求23所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

所述抖动法是误差扩散法。

25.根据权利要求24所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

通过适用使变换误差在3像素以上且6像素以下的范围中扩散的误差扩散法，制作第三图案。

26.根据权利要求23所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

所述第三图案是变换为离散化成两个等级的信息的图案。

27.根据权利要求26所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

还包括：对于变换为离散化成两个等级的信息的第三图案，利用蒙特-卡罗法，使孤立的黑或白像素移动，制作第四图案的工序，

其中，进行基于所述第四图案而在所述透明基材上加工凹凸形状的工序。

28.根据权利要求17所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于所述第二图案，制作具有凹凸面的模具，并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。

29.根据权利要求23所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于所述第三图案，制作具有凹凸面的模具，并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。

30.根据权利要求27所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括：基于所述第四图案，制作具有凹凸面的模具，并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。

31.根据权利要求23所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于所述第三图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。

32.根据权利要求27所述的防眩薄膜的制造方法，其中，

在所述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于所述第四图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。

33.一种模具的制造方法，其中，

所述制造方法是制造权利要求12、13、14、28、29或30所述的模具的方法，其包括：

第一镀敷工序，其对模具用基材的表面实施铜镀敷或镍镀敷；

抛光工序，其对通过第一镀敷工序实施了镀敷的表面进行抛光；

感光性树脂膜形成工序，其在被抛光的面形成感光性树脂膜；

曝光工序，其在感光性树脂膜上将所述第二图案、所述第三图案或所述第四图案曝光；

显影工序，其将曝光了所述第二图案、所述第三图案或所述第四图案的感光性树脂膜显影；

第一蚀刻工序，其将显影的感光性树脂膜用作掩模，进行蚀刻处理，在被抛光的镀敷面形成凹凸；

感光性树脂膜剥离工序，其剥离感光性树脂膜；

第二镀敷工序，其对所形成的凹凸面实施铬镀敷。

34.根据权利要求33所述的制造方法，其中，

在所述感光性树脂膜剥离工序和所述第二镀敷工序之间包含第二蚀刻工序，所述第二蚀刻工序通过蚀刻处理，使所形成的凹凸面的凹凸形状变钝。

35.根据权利要求33所述的制造方法，其中，

在所述第二镀敷工序中所形成的实施有铬镀敷的凹凸面是转印于所述透明基材上的模具的凹凸面。

36.根据权利要求33所述的制造方法，其中，

通过所述第二镀敷工序中的铬镀敷来形成的铬镀敷层具有1～10μm的厚度。

37.一种图像显示装置的防眩处理方法，其中，

通过权利要求1所述的防眩处理方法，对图像显示装置所具备的透明基材的表面实施防眩处理。

38.一种图像显示装置，其中，具备：

通过权利要求17所述的方法得到的防眩薄膜。

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