CN101821659A - 色差共聚焦传感器 - Google Patents
色差共聚焦传感器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101821659A CN101821659A CN200880111183A CN200880111183A CN101821659A CN 101821659 A CN101821659 A CN 101821659A CN 200880111183 A CN200880111183 A CN 200880111183A CN 200880111183 A CN200880111183 A CN 200880111183A CN 101821659 A CN101821659 A CN 101821659A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- light beam
- wavelength
- substrate
- position signalling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 48
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 230000011664 signaling Effects 0.000 claims description 20
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 14
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010226 confocal imaging Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005388 cross polarization Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000016507 interphase Effects 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0075—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for altering, e.g. increasing, the depth of field or depth of focus
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
- G02B21/0024—Confocal scanning microscopes (CSOMs) or confocal "macroscopes"; Accessories which are not restricted to use with CSOMs, e.g. sample holders
- G02B21/0052—Optical details of the image generation
- G02B21/0064—Optical details of the image generation multi-spectral or wavelength-selective arrangements, e.g. wavelength fan-out, chromatic profiling
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
本发明公开了一种系统，所述系统包括其上具有多光子可固化光反应性组合物的基底、将具有多种波长的光束发射至所述基底上的组合物的至少一个区域上的光源、以及检测从所述组合物反射的光的一部分以获得相对于所述基底的位置信号的检测器，其中所述位置信号基于反射光的至少一种波长。
Description
技术领域
本发明涉及用于检测共聚焦显微镜系统内的焦点平面的方法和设备。
背景技术
在显微镜系统中使用共聚焦传感器进行逐点匹配三维图像或在二维图像上提供高分辨力的表面位置信息。在后一应用中，通常使用合适的照射源(例如激光)来产生高分辨力的焦点。
如图1所示，窄带光束20从源12发出并且穿过光学系统10。窄带光束20穿过分束器22和物镜镜头14。物镜镜头14将窄带光束20聚焦在镜头14之后的距离26处。当表面位于该焦点处时，窄带光束12向回逆向反射穿过光学系统10到达分束器22，其中窄带光束被反射并且引入焦点，前提条件是表面16的斜度足够小以使得逆向反射的光束完全或部分地返回穿过光学系统10。随后光线穿过针孔24并且利用检测器18来检测其强度。
针孔24用作空间滤光器，其避免了任何失焦光线穿过针孔24并且被检测到。此外，由于显微镜物镜的焦点和针孔为光学系统的共轭体，因此仅显微镜物镜的单一同轴焦点处的光线将穿过针孔到达检测器18上。由于针孔24具有通常为微米数量级的小尺寸，因此所有的其他光线被滤去。
利用图1所述的共聚焦成像系统，同时仅使用检测器18处的强度信息，使用者难以确定当焦点不能精确聚焦在表面16上时是位于表面16的16a侧还是16b侧。当焦点位于16a侧或16b侧时由检测器18产生的信号将同样较弱，这是因为检测器18的输出信号不提供内在的方向信息。
除缺少方向信息之外，图1的共聚焦成像系统产生剧变的信号，当表面位于焦点处时，该信号是强的，但当表面不在焦点处时该信号迅速减弱。
因此需要允许进行强度信号的早期检测并且因而能够进行更有效聚焦的共聚焦成像系统。
发明内容
本发明整体涉及共聚焦显微镜。
在一个方面，本发明涉及包括其上具有多光子可固化光反应性组合物的基底的系统、将包括多种波长的光束发射到基底上的组合物的至少一个区域上的光源、以及检测从组合物反射的光的一部分以获得相对于基底的位置信号，其中所述位置信号基于至少一种波长的反射光。
在一些实施例中，系统包括从第二光源发出的第二光束，并且第二光束至少部分地固化多光子可固化光反应性组合物的区域。
在某些实施例中，系统包括将反射光引至检测器的纤维光缆。
在一些优选的实施例中，系统包括至少两条可将反射光引至检测器的纤维光缆，其中所述纤维光缆中的至少一条具有的直径不同于所述纤维光缆中的至少另一条的直径。
在另一个方面，本发明涉及以下方法，该方法包括：提供其上具有多光子可固化光反应性组合物的基底，将包括多种波长的至少一个光束施加至材料的至少一个区域上，其中所述波长中的至少一种具有足以至少部分固化多光子可固化光反应性组合物的强度，以及处理从材料反射的光的一部分以获得相对于基底的位置信号，其中所述位置信号包括反射光的波长。
在一些实施例中，至少一个光束包括第一光束和第二光束。在某些优选的实施例中，第一光束包括具有足以至少部分固化多光子可固化光反应性组合物的强度的波长中的至少一种，并且第二光束包括从材料反射的以获得相对于材料的位置信号的光束的一部分。
在其他实施例中，单一光束包括具有足以至少部分固化多光子可固化光反应性组合物的强度的波长中的至少一种以及从材料反射的以获得相对于材料的位置信号的光束的一部分。
在某些实施例中，施加至少一个光束的步骤包括将色差引入至少一个光束中。
附图和下文的说明书详细描述了本发明的一个或多个实施例。在本发明说明书、附图以及权利要求书的基础上，本发明的其他特征、目标和优点将变得显而易见。
附图说明
图1为示出共聚焦传感器的示意图。
图2为示出纵向色差实例的示意图。
图3为色差共聚焦传感器的示意图。
图4A-4C为对于得自共聚焦传感器的焦点内、焦点上以及焦点下的反射点而言，强度相对波长的曲线图。
图5为具有适用于处理多光子可固化光反应性材料的色差共聚焦传感器的设备的示意图。
图6为适用于利用色差共聚焦传感器处理多光子可固化光反应性材料的设备的示意图。
图7为示出可用于控制图6的设备的示例性逻辑的框图。
图8为示出用于调整位置的步骤的流程图。
具体实施方式
图2示出了穿过透镜32的光线30。如果透镜32由单一材料制成，那么可产生纵向色差。作为另外一种选择，透镜32可利用不止一种的材料进行构造以产生或放大纵向色差。纵向色差使得不同波长的光线34、36、38聚焦在距透镜32不同距离的焦点平面上。具体地讲，较长波长的光线38穿过透镜32时将折射较小，因此它们与较短波长的光线36相比，将聚焦在距透镜32较远的位置。
图3涉及包括色差共聚焦传感器的示例性系统40。具有多种波长的光线50从光源42发出。在图示实施例中，光线50到达透镜44时得到准直。在其他实施例中，光线50到达透镜44时可未得到准直。可使用任何光源42或多个光源来发射具有足够数量的波长的光线50，从而在检测器48处允许在波长之间进行辨别。一种合适的光源42为(例如)光纤耦合宽带超发光二极管(LED)。光线50然后穿过分束器58和物镜镜头44。设计物镜镜头44以产生纵向色差，所述纵向色差使得具有不同波长52、54、56的光线聚焦在远离物镜镜头44的不同距离处。在其他实施例中，物镜镜头44可能不产生纵向色差，但该光学系统的其他任选组件(例如其他透镜、准直元件、偏振器等)可引起纵向色差。如上文图2中所简述，具有最长波长56的光线50将聚焦在距透镜44最远的焦点平面处。反之，具有最短波长52的光线将聚焦在距透镜44最近的焦点平面处。具有中间波长54的光线将聚焦在具有最长波长56的光线与具有最短波长52的光线的那些焦点平面之间的中间焦点平面处。
多种波长52、54、56中的至少一种聚焦在材料62的表面46处，该表面与滤光器60是共轭的。在此实例中，材料62的表面46与用于波长54的滤光器是共轭的。在其他实施例中，表面46可为两种材料的分界面，如下文将参照图5进行描述。在一些情况下，表面46可为材料62的内表面。其他的波长52和56可聚焦在表面46上方的正Z向上或者表面46另一侧的负Z向上。入射至材料62上的光线50的至少一部分从表面46进行逆向反射并且返回穿过物镜镜头44，在此处进行准直。逆向反射的光线51然后从分束器58反射并且聚焦在滤光器60附近。仅允许聚焦在表面46处的光线54的波长穿过滤光器60到达检测器48。
在一些实施例中，例如图3所示的实施例，透镜44可被构造成能在正和负Z向进行调整。在其他实施例中，整个光学系统(包括透镜44和透镜44上游的所有光学元件)可被构造成能移动。在另外其他实施例中，材料62可操作地连接到可移动工作台。这允许改变透镜44到表面46的相对距离，从而改变光线50与表面46的相对位置。透镜44到表面46的距离影响到哪种波长的光线将聚焦在表面46处。当移动透镜44靠近表面46时，较短波长的光线52将聚焦在表面46处。反之，当移动透镜44远离表面46时，较长波长的光线56将聚焦在表面46处。当聚焦在表面46处的光线的波长改变时，通过检测器48检测到的光线的波长也将改变。因此，通过检测器48检测到的光线的波长指示出聚焦在表面46处的光线的波长。
物镜镜头44也可被设计用于根据所需的应用来提供或多或少的纵向色差。例如，如果设计的纵向色差太大，那么各种波长可在z向上以相对较大距离聚焦在焦点平面上，并且界面处的所需焦点上方或下方相对较大距离的信号可被检测到。作为另外一种选择，如果设计的纵向色差太小，那么可以实现焦点平面相对界面的较精确定位。
物镜镜头44可利用一种材料或多种材料进行构造。此外，物镜镜头44可包括一个或多个透镜。另外，可将折射、反射和衍射表面进行组合以扩展透镜44的纵向色差。可利用这些示例性元件中的一种或多种来定制纵向色差的量。
除了物镜镜头44的构造之外，可通过选择从光源42发出的波长的范围将系统40定制用于专门用途。例如，如果光源42发出较窄波段的波长，那么与如果光源42发出较宽波段的波长相比，系统40在z向上可具有较小的范围。
滤光器60的构造也可根据所需应用进行大范围地改变。滤光器60可结合透镜44和光源42进行工作以提供可得范围和分辨率的测定。在一个实施例中，材料片材中的小孔，也称为针孔，可提供空间滤光。针孔的直径通常为数十微米的数量级，并且针孔的尺寸决定滤光器60的分辨力。换句话讲，针孔的直径越小，滤光器的分辨力就越高。
在一个实施例中，将纤维光缆用作滤光器60，其单独进行使用或结合针孔进行使用。可根据所需分辨力的量使用多模式纤维光缆或单模式纤维光缆。类似于空间滤光器，纤维光缆可被选择用于提供所需的分辨力。例如，一般来讲，单模式纤维光缆与多模式光缆相比更具分辨力。另外，可选择多模式纤维光缆的直径以进一步定制分辨力水平。如果所选择的单模式纤维光缆具有足够小的直径，那么制成的系统可用作检测一小部分窄带波长的光线的共聚焦传感器。
在另一个实施例中，可同时使用至少两条纤维光缆并结合分束器以将逆向反射光线51的一部分引导至至少两个检测器48中的各自检测器处。作为一个实例，分束器可将逆向反射光线51分成两个光束，并且可将一个光束引导至多模式纤维光缆，其将该光线传输至一个检测器。这种信号包括相对较宽波段的波长，并且可允许检测与聚焦在界面处所需的波长相比具有显著较长或较短波长的逆向反射光线51。可将由分束器产生的第二光束引导至单模式纤维光缆，其将逆向反射光线51引导至第二检测器。接收相对较窄波段的波长的第二检测器可用于对焦点在表面46处的特定波长的光线进行精确聚焦。
在另一个实施例中，可顺序使用两条对逆向反射光线51具有不同分辨力的纤维光缆，即一条纤维的分辨力高于另一条。例如，可首先使用较差分辨力的纤维光缆来提供聚焦在界面46的光线的波长的粗定位，然后可切换使用较高分辨力的纤维光缆来提供聚焦在界面46的光线的波长的较精确定位。
检测器48可检测光线强度、能量、光束尺寸、光线波长等。可使用任何合适的检测器，包括(但不限于)人眼、CCD或等效检测器、光谱仪等。在一个实施例中，使用光谱仪检测光线强度和波长。穿过滤光器60并且被检测器48检测到的光线的波长指示出聚焦在表面46的光线的波长。
在一个实施例中，希望特定波长聚焦在界面46处。在此实施例中，可使用检测器48(检测由滤光器60分辨的光线的波长)来确定所需波长的光线的焦点平面相对于表面46的相对位置。例如，如果与所需焦点光线相比具有较长波长的光线被检测器48检测到，那么所需波长的光线聚焦在界面上方。作为另外一种选择，如果与所需波长的光线相比具有较短波长的光线被检测器48检测到，那么所需波长的光线聚焦在界面下方。
也可使用光线强度与波长相结合来确定表面46的位置。例如，如果使用高分辨力的滤光器60以使得仅少量波长的光线到达检测器48，那么，测量强度的激增可表明光线的焦点平面位于表面46处。如果使用较差分辨力的滤光器60，光线强度也可提供可用信息。例如，在一个实施例中，使用发射光带50的光源42，其中光带的强度为波长的函数，即在所发射的波长的整个范围内是不均一的。如果各种发射波长的相对强度是已知的，那么由检测器检测到的相对强度也可用于辅助将所需的波长聚焦在所需的z位置处。
图4A-4C提供了使用上述色差共聚焦传感器的一些非限制性实例。在图4A-4C中，入射至表面上的光线包括范围为750nm至850nm的波长。在此实例中，当800nm波长的光线聚焦在表面46时，光学系统处于所需的焦点位置。图4A则示出了其中聚焦光线与所需焦点相比具有较长波长(约820nm)的情况。这表明表面46距透镜的距离远于使800nm光线聚焦在表面46的距离。作为另外一种选择，图4C示出了其中与使800nm波长的光线聚焦在表面46所需的物镜镜头相比，表面46距物镜镜头更近的情况。在这种情况下，由色差共聚焦传感器检测到的光线具有780nm的波长、或短于所需的波长。图4B则示出了其中根据需要使800nm波长的光线聚焦在表面46处的情况。
图4B还示出了所需波长大于图4A和4C中所示的光线波长的光线的强度。如上所述，发射光线的强度可以是或可以不是位于波长波段内的波长的函数。在图4A-4C所示的实例中，800nm发射光线的强度大于780nm或820nm的强度。因此，当800nm波长聚焦在表面46处时，逆向反射光线的强度大于780nm或820nm波长聚焦在表面46处时逆向反射光线的强度。
在另一个实施例中，可将第二材料层布置在图3的材料62上。第二材料可为能够利用足够强度的任何光源进行处理的任何材料。在一个优选的实施例中，可使用诸如飞秒或皮秒激光之类的超速激光来处理第二材料。在此实施例中，可使用两个光束。第一光束(探询光束)用于利用色差共聚焦传感器来确定上述材料内或上的位置。然后根据由探询光束和色差共聚焦传感器确定的位置，利用第二光束(例如超速激光)来处理材料。作为另外一种选择，可将单个光束同时用作探询光束和处理光束。
在另一个实施例中，第二材料层可为多光子可固化光反应性组合物。可用于固化多光子可固化光反应性组合物的以及利用色差共聚焦传感器的示例性设备将在下文参照图5进行描述。
图3中的基底62可为任何合适的材料。在一个实施例中，将硅用作基底62。
应当预见，可同时使用不止一个的光束和/或色差共聚焦传感器。在一个实例中，可使用多个光束和/或色差共聚焦传感器来设计高通过量成像系统。该系统可通过利用每个传感器的输出形成一个母合成图像以在较短时间内产生三维图像。作为另外一种选择，可使用多个光束和传感器来提供关于层和表面之间的界面位置的更精确信息。在一个实例中，可使用三个或更多个光束和色差共聚焦传感器来同时确定基底的三个或更多个区域处的界面位置。然后可使用该信息将光学系统或基底定位在所需的位置中以便于进行后续处理。
现在参见图5，示出了其中将色差共聚焦传感器用作固化多光子可固化光反应性组合物的系统的一部分的实施例。在本工艺中，在可进行多光子吸收的条件下，光反应性组合物可以曝光，并导致该层区域的化学或物理特性发生变化。此类变化的实例包括聚合、交联和/或与多光子组合物曝光之前相比溶解度特性的变化(例如，在特定溶剂中溶解性减小或增大)。可使用任何已知能够获得足够强度的光线的方法实现此类曝光，但通常使用超速激光发出的聚焦光源。优选的是，可使用飞秒激光提供固化光线。
在根据此实施例的系统的操作中，探询光线124从探询光源100发出。该光源可操作地连接到准直组件102。如上所述，探询光源可为发射宽度足以在滤光器/检测器处进行分辨的波长波段的任何光源。合适的探询光源100包括光纤耦合宽带超发光LED。可使用(例如)纤维光缆来完成探询光源100和准直组件102之间的连接。准直组件102准直探询光线124或使其平行。准直组件102的元件可引进或可不引进至少一些色差。
探询光线124然后穿过将其进行偏振的线性偏振器128，即仅允许在一个平面或方向上具有波振的光线穿过。接下来，探询光线124从偏振分束器104a进行反射。探询光线124然后穿过旋转器106，光线在此处经受0(零)度的净偏振旋转。探询光线124然后从折叠镜108a、108b进行反射并且从第二偏振分束器104b进行反射。如平行线134所示，将图5中的视角在元件108a和108b之间旋转90度(向纸面内或外)。
在该点，由第二光源136发出的固化光线126可轴向加入到探询光线124中。固化光线126可为能够提供足够光线强度的任何光线，以便至少部分固化光反应性组合物区域形成固化物。在一个优选的实施例中，可使用超速激光源来至少部分地固化多光子可固化光反应性组合物区域。引导这种合成光束132穿过物镜镜头130，这可引起更大的纵向色差。
探询光线124包括多种波长，并且可包括固化光线126的波长。作为另外一种选择，如果光学系统具有足够好的特征，那么探询光线124可不包括固化光线的波长。在一个优选的实施例中，探询光线124包括固化光线126的波长。这有利于将固化光线126聚焦在界面122处或其附近。多种波长中的至少一种将聚焦在基底116和层112之间的界面122处。探询光线124和固化光线126具有横向偏振组件，因此它们从界面122逆向反射返回时将采取不同的路径。逆向反射的固化光线126将穿过偏振分束器104b，而不进行反射。逆向反射的探询光线124将通过偏振分束器104b进行反射并且返回光学系统。逆向反射的光线在旋转器106处接收90度的净偏振旋转。这使得光线穿过偏振分束器104a并且通过盒110内的聚焦透镜聚焦在纤维光缆111上。盒110内的聚焦透镜可引入或可不引入更大的色差，这取决于透镜的设计和构造，如上所述。纤维光缆111进行分辨光线，如上所述。光线随后进入光谱仪114。光谱仪114检测逆向反射光线的波长和强度，并且可将收集的信息显示给用户，或将该信息发送至控制器(图5中未示出)。
如上所述，探询光线124的波段可包括固化光线126的波长。因此，由于探询光线124和固化光线126通过同一物镜镜头130进行聚焦，当由光谱仪114检测到的峰值波长与固化光线126的峰值波长匹配时，固化光线126聚焦在界面122处。另外，如果由光谱仪114检测到的光线峰值波长短于固化光线126的峰值波长，那么固化光线126聚焦在界面122之后。作为另外一种选择，如果由光谱仪114检测到的光线峰值波长大于固化光线126的峰值波长，那么固化光线126聚焦在界面122上方。这样，由光谱仪114检测到的光线波长可用于将固化光束126聚焦至所需位置。
由于探询光线124和固化光线126同时入射至界面122的同一位置处，因此可获得关于界面122相对固化光线126的焦点平面的位置的极度精确信息。在层112内固化多光子可固化光反应性组合物可与界面122定位同时发生，或者可发生在界面122定位之后，前提是直至将界面122定位之后才加入固化光线126。
在图6所示的可供选择的实施例中，从第二光源136发出的光线140同时用作探询光线124和固化光线126。光线140穿过偏振分束器104b以及合适的四分之一波长延迟元件，例如四分之一波片138，从而产生循环偏振光线。光线140随后穿过物镜镜头130并且聚焦在层112和基底116之间的界面122附近。聚焦在界面122处并且未被吸收的光线140的一部分从界面122进行逆向反射并且返回穿过物镜镜头130。逆向反射光线150返回穿过四分之一波片138(产生了相对光线140旋转90°的线性偏振光线)到达偏振分束器104b，逆向反射光线150在此处被反射并且被引至盒110内的透镜处。盒110内的透镜将逆向反射光线150聚焦在纤维光缆111上，纤维光缆将逆向反射光线150引至检测器114。
在其他实施例中，四分之一波片138是不必要的。例如，穿过具有足够高数值孔径的透镜的光线140可经受一些偏振旋转，这可提供足够强度的逆向反射光线150以用于被检测器114检测。
参见图7，该图示出了可用于对包含多光子可固化光反应性物质的层204的区域202进行固化的设备200。层204施加在基底206上，基底206放置在可调平台或工作台205上。可手动或通过控制线274由数字计算机270来调整工作台205沿z方向的高度以及层204在x-y平面之上或之下的倾斜度。同时包括探询光线和固化光线的光束216从光源210发出并且首先穿过包括分束器212和聚焦正透镜214的第一光学系统。也可手动或通过控制线272由数字计算机270来调整聚焦正透镜214沿z方向的高度。光束216离开正透镜214之后进入层204，对层204的区域202中的多光子可固化光反应性材料进行可选固化或引发固化，并且其中一部分光束在基底206的界面218处反射。然后光束216进入包括正透镜214和色差共聚焦传感器220的第二光学系统。
色差共聚焦传感器220的输出然后沿线271提供给数字计算机270。另外参见图8，在步骤300进行初始化后，计算机270在步骤302处接收来自正透镜214和可调工作台205的位置数据以及具有包括来自色差共聚焦传感器220的光线波长的位置信号的数据。在步骤304处，计算机270使来自色差共聚焦传感器220的信号与正透镜214沿z方向相对于界面218的高度以及工作台205的倾斜度关联起来。在步骤306中，将位置数据和检测器数据输入计算机270，并且在步骤308中，计算机评估检测器数据以确定由色差共聚焦传感器220检测到得波长是否为所需的波长。如果是，正透镜214沿z方向的位置不变。如果不是，在步骤310中计算机会调整正透镜214沿z轴的高度，直到由色差共聚焦传感器220检测到的波长为所需的波长。
使用该连续反馈系统，上述方法和装置可用于以多种方式准确找到界面218。例如，采用静态方法时，检测器220可用作光学探针，以在基底206的表面上的几个不同点(通常至少三个点)对层204/基底206的界面进行采样。对于基底206上的所有采样位置而言，如果所需波长的光线的焦点平面沿z轴的位置相对于界面218的位置不在约±0.5μm内，那么计算机270会执行必要的计算以调整正透镜214和/或工作台205。当基底206对于正透镜214下方沿x轴的运动平面足够水平时，可使用光束216固化层204的区域202。该方法仅可用于足够平坦的基底上，因为仅可校正基底相对于x-y平面的倾斜度。
在一个实施例中，例如，当正透镜214移动并且层204中的多光子可固化光反应性材料被固化形成固化物时，也可以使用动态方法提供有关界面218位置的连续反馈。例如，当层至少部分固化时，可间歇性地确定层204和基底206之间的界面218的位置。该方法可校正基底206的任何不平坦表面，因为在从层204的第一区域到第二区域等的固化过程中，可连续校正正透镜214沿z轴相对于界面218的位置。这种连续的动态反馈还可以在通常不平坦的表面(例如球面和非球面)的顶部构建结构。
可用于本文所述工艺的多光子可固化光反应性组合物在3M代理人档案号为62162US002的名称为“Process for Making Light Guideswith Extraction Structures and Light Guides Produces Thereby”的共同未决专利申请，以及在3M代理人档案号为63221US002的名称为“HighlyFunctional Multiphoton Curable Reactive Species”的共同未决专利申请中有详细讨论，这两个专利申请全文以引用方式并入本文中。
所施加层中的多光子可固化光反应性组合物包括至少一种能够经受酸或基引发的化学反应的活性物质和一个多光子引发剂系统。利用具有适当波长和足够强度的光对该层进行成像曝光，会在多光子引发剂系统中导致双光子吸收，从而在层的曝光区域中诱导活性物质中酸或基引发的化学反应。该化学反应会导致在暴露于光的层的区域中发生可检测到的化学或物理特性变化。可检测到的变化的实例包括(例如)暴露区域内的交联、聚合或溶解度特性变化。本文将任何这些可检测的变化的出现均称为固化，并且这种固化持续到固化物形成为止。固化步骤可以发生在包含多光子可固化光反应性组合物的层中的任何区域，包括与其上施加了该层的基底之间的界面附近。在固化步骤之后，可通过移除该层的非固化部分以获得固化物，或从该层上移除固化物本身可选地形成该层。
尽管已描述了涉及多光子可固化光反应性组合物的各种实施例，但应当理解，本公开中描述的色差共聚焦传感器可用于需要了解两种材料之间的界面或材料表面相对光学系统的位置的任何工艺中。合适系统的其他实例包括溶液中金属离子的多光子还原等。
本文描述了本发明的多个实施例。这些和其他实施例均在所附权利要求的范围内。
Claims (25)
1.一种系统，包括：
基底，所述基底上具有多光子可固化光反应性组合物；
光源，所述光源将具有多种波长的光束发射至所述基底上的组合物的至少一个区域上；和
检测器，所述检测器检测从所述组合物反射的光的一部分以获得相对于所述基底的位置信号，其中所述位置信号基于反射光的至少一种波长。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述位置信号还包括从所述基底反射的光的强度。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述位置信号还包括从所述基底反射的光的尺寸。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述检测器包括照相机。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述检测器包括光谱仪。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述基底位于可移动工作台上。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述光源是可移动的。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述光束至少部分地固化所述多光子可固化光反应性组合物的区域。
9.根据权利要求1所述的系统，还包括从第二光源发出的第二光束，其中所述第二光束至少部分地固化所述多光子可固化光反应性组合物的区域。
10.根据权利要求1所述的系统，还包括将所述反射光引至所述检测器的纤维光缆。
11.根据权利要求1所述的系统，还包括至少两条可将所述反射光引至所述检测器的纤维光缆，其中所述纤维光缆中的至少一条具有的直径不同于所述纤维光缆中的至少另一条的直径。
12.根据权利要求1所述的系统，其中所述光源包括超速激光。
13.一种方法，包括：
提供基底，所述基底上具有多光子可固化光反应性组合物；
将包括多种波长的至少一个光束施加至所述材料的至少一个区域，其中所述波长中的至少一种具有通过多光子吸收足以至少部分固化所述多光子可固化光反应性组合物的强度；以及
处理从所述材料反射的光的一部分以获得相对于所述基底的位置信号，其中所述位置信号包括反射光的波长。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述至少一个光束包括第一光束和第二光束。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述第一光束包括强度足以至少部分固化所述多光子可固化光反应性组合物的所述波长中的所述至少一种，并且所述第二光束包括从所述材料反射以获得相对于所述材料的位置信号的所述光束的所述一部分。
16.根据权利要求14所述的方法，其中所述第一光束在所述处理步骤之前、之后或之内进行至少部分地固化所述多光子可固化光反应性组合物的区域以形成固化物。
17.根据权利要求13所述的方法，其中单一光束包括强度足以至少部分固化所述多光子可固化光反应性组合物的所述波长中的所述至少一种以及从所述材料反射以获得相对于所述材料的位置信号的所述光束的所述一部分。
18.根据权利要求13所述的方法，其中所述位置信号还包括从所述基底反射的光的强度。
19.根据权利要求13所述的方法，其中所述位置信号还包括从所述基底反射的光的形状。
20.根据权利要求13所述的方法，其中所述位置信号是从包括纤维光缆的光学设备获得的。
21.根据权利要求13所述的方法，其中所述光学设备还包括至少两条纤维光缆和至少两个检测器，其中每条纤维光缆将光引至所述至少两个检测器中各自的检测器处。
22.根据权利要求13所述的方法，其中施加至少一个光束的所述步骤包括将色差引入所述至少一个光束中。
23.根据权利要求13所述的方法，还包括从所述基底移除未固化材料的至少一部分。
24.根据权利要求13所述的方法，还包括对所述位置信号进行响应来调整所述基底与所述至少一个光束的相对位置。
25.一种系统，包括：
多光子可固化光反应性组合物；
光源，所述光源发出具有多种波长的光束，所述光束入射到所述组合物的至少一个区域上，所述光束的至少一部分被所述组合物反射；以及
检测器，所述检测器检测反射光束并且产生基于所述反射光束的波长的位置信号。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US97924007P | 2007-10-11 | 2007-10-11 | |
| US60/979,240 | 2007-10-11 | ||
| PCT/US2008/078724 WO2009048808A1 (en) | 2007-10-11 | 2008-10-03 | Chromatic confocal sensor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101821659A true CN101821659A (zh) | 2010-09-01 |
| CN101821659B CN101821659B (zh) | 2014-09-24 |
Family
ID=40549506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200880111183.7A Active CN101821659B (zh) | 2007-10-11 | 2008-10-03 | 色差共聚焦传感器 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8451457B2 (zh) |
| EP (1) | EP2208100B8 (zh) |
| JP (2) | JP2011501209A (zh) |
| CN (1) | CN101821659B (zh) |
| WO (1) | WO2009048808A1 (zh) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107894208A (zh) * | 2016-10-04 | 2018-04-10 | 普莱斯泰克光电子有限公司 | 光谱共焦距离传感器 |
| CN111596464A (zh) * | 2020-05-28 | 2020-08-28 | 华中科技大学 | 一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法 |
| CN111656260A (zh) * | 2018-01-24 | 2020-09-11 | 赛博光学公司 | 用于镜像表面的结构式光投射 |
| CN114041048A (zh) * | 2019-04-11 | 2022-02-11 | 皇家飞利浦有限公司 | 例如用于防污口罩的颗粒感测系统 |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2198332A4 (en) | 2007-09-06 | 2011-11-30 | 3M Innovative Properties Co | LIGHT CONDUCTOR WITH LIGHT EXTRACTION STRUCTURES FOR PROVIDING REGIONAL CONTROL OF LIGHT OUTPUT |
| ATE534500T1 (de) | 2007-09-06 | 2011-12-15 | 3M Innovative Properties Co | Verfahren zum formen von formwerkzeugen und verfahren zum formen von artikeln unter verwendung der formwerkzeuge |
| US8455846B2 (en) | 2007-12-12 | 2013-06-04 | 3M Innovative Properties Company | Method for making structures with improved edge definition |
| EP2257854B1 (en) | 2008-02-26 | 2018-10-31 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon exposure system |
| KR101819006B1 (ko) * | 2010-10-27 | 2018-01-17 | 삼성전자주식회사 | 광학 측정 장치 |
| US10001622B2 (en) * | 2011-10-25 | 2018-06-19 | Sanford Burnham Medical Research Institute | Multifunction autofocus system and method for automated microscopy |
| GB2497792A (en) * | 2011-12-21 | 2013-06-26 | Taylor Hobson Ltd | Metrological apparatus comprising a confocal sensor |
| GB201205491D0 (en) * | 2012-03-28 | 2012-05-09 | Ucl Business Plc | Measuring surface curvature |
| US8654352B1 (en) | 2012-08-08 | 2014-02-18 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Chromatic confocal scanning apparatus |
| DE102013008582B4 (de) | 2013-05-08 | 2015-04-30 | Technische Universität Ilmenau | Verfahren und Vorrichtung zur chromatisch-konfokalen Mehrpunktmessung sowie deren Verwendung |
| CN105204151A (zh) * | 2014-06-17 | 2015-12-30 | 谢赟燕 | 一种照明装置和方法 |
| KR102299921B1 (ko) | 2014-10-07 | 2021-09-09 | 삼성전자주식회사 | 광학 장치 |
| US10627614B2 (en) * | 2016-04-11 | 2020-04-21 | Verily Life Sciences Llc | Systems and methods for simultaneous acquisition of multiple planes with one or more chromatic lenses |
| DE102016221630A1 (de) * | 2016-11-04 | 2018-05-09 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Konfokal chromatischer Sensor zur Bestimmung von Koordinaten eines Messobjekts |
| TWI674089B (zh) * | 2017-10-31 | 2019-10-11 | 銳準醫光股份有限公司 | 整合米洛(Mirau)光學干涉顯微術之光學切層裝置 |
| CN109752354A (zh) * | 2017-11-06 | 2019-05-14 | 锐准医光股份有限公司 | 整合米洛光学干涉显微术与荧光显微术的光学切层装置 |
| WO2019116802A1 (ja) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | 株式会社堀場製作所 | 粒子分析装置 |
| US10866092B2 (en) | 2018-07-24 | 2020-12-15 | Kla-Tencor Corporation | Chromatic confocal area sensor |
| EP3613561B1 (en) * | 2018-08-22 | 2023-07-26 | Concept Laser GmbH | Apparatus for additively manufacturing three-dimensional objects |
| US10900775B2 (en) * | 2018-08-24 | 2021-01-26 | Tdk Taiwan Corp. | Modeling system |
| CN113358030B (zh) * | 2021-07-15 | 2022-09-30 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 色散共焦测量系统及其误差修正方法 |
Family Cites Families (111)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3018262A (en) * | 1957-05-01 | 1962-01-23 | Shell Oil Co | Curing polyepoxides with certain metal salts of inorganic acids |
| US3729131A (en) * | 1970-07-13 | 1973-04-24 | United Gas Industries Ltd | Thermostatically controlled gas valve |
| US3729313A (en) | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
| US3808006A (en) * | 1971-12-06 | 1974-04-30 | Minnesota Mining & Mfg | Photosensitive material containing a diaryliodium compound, a sensitizer and a color former |
| US3779778A (en) | 1972-02-09 | 1973-12-18 | Minnesota Mining & Mfg | Photosolubilizable compositions and elements |
| US3741769A (en) * | 1972-10-24 | 1973-06-26 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive polymerizable systems and their use |
| AU497960B2 (en) * | 1974-04-11 | 1979-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable compositions |
| US4250053A (en) | 1979-05-21 | 1981-02-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Sensitized aromatic iodonium or aromatic sulfonium salt photoinitiator systems |
| US4262072A (en) * | 1979-06-25 | 1981-04-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic protective coatings |
| US4249011A (en) * | 1979-06-25 | 1981-02-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Poly(ethylenically unsaturated alkoxy) heterocyclic compounds |
| US4279717A (en) | 1979-08-03 | 1981-07-21 | General Electric Company | Ultraviolet curable epoxy silicone coating compositions |
| US4491628A (en) * | 1982-08-23 | 1985-01-01 | International Business Machines Corporation | Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone |
| US4668601A (en) * | 1985-01-18 | 1987-05-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective coating for phototools |
| US4642126A (en) | 1985-02-11 | 1987-02-10 | Norton Company | Coated abrasives with rapidly curable adhesives and controllable curvature |
| US4652274A (en) | 1985-08-07 | 1987-03-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive product having radiation curable binder |
| CA1323949C (en) | 1987-04-02 | 1993-11-02 | Michael C. Palazzotto | Ternary photoinitiator system for addition polymerization |
| JPH01188816A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-28 | Hitachi Ltd | 分光型走査顕微鏡 |
| US4859572A (en) * | 1988-05-02 | 1989-08-22 | Eastman Kodak Company | Dye sensitized photographic imaging system |
| KR920704159A (ko) * | 1989-08-21 | 1992-12-19 | 알. 아모스 칼 | 전자현상 조작방법 및 장치 |
| JP2724232B2 (ja) * | 1990-05-02 | 1998-03-09 | 株式会社日立製作所 | 自動焦点手段およびその自動焦点手段を用いた光ディスク装置 |
| US5235015A (en) | 1991-02-21 | 1993-08-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High speed aqueous solvent developable photopolymer compositions |
| GB9121789D0 (en) * | 1991-10-14 | 1991-11-27 | Minnesota Mining & Mfg | Positive-acting photothermographic materials |
| EP0544332B1 (en) * | 1991-11-28 | 1997-01-29 | Enplas Corporation | Surface light source device |
| TW268969B (zh) * | 1992-10-02 | 1996-01-21 | Minnesota Mining & Mfg | |
| US5298741A (en) * | 1993-01-13 | 1994-03-29 | Trustees Of Tufts College | Thin film fiber optic sensor array and apparatus for concurrent viewing and chemical sensing of a sample |
| US5512219A (en) | 1994-06-03 | 1996-04-30 | Reflexite Corporation | Method of casting a microstructure sheet having an array of prism elements using a reusable polycarbonate mold |
| US5856373A (en) | 1994-10-31 | 1999-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure |
| US5858624A (en) | 1996-09-20 | 1999-01-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for assembling planarization and indium-tin-oxide layer on a liquid crystal display color filter with a transfer process |
| US5922238A (en) * | 1997-02-14 | 1999-07-13 | Physical Optics Corporation | Method of making replicas and compositions for use therewith |
| DE19713362A1 (de) | 1997-03-29 | 1998-10-01 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Konfokale mikroskopische Anordnung |
| US5998495A (en) * | 1997-04-11 | 1999-12-07 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy/polyol resin compositions |
| US6025406A (en) * | 1997-04-11 | 2000-02-15 | 3M Innovative Properties Company | Ternary photoinitiator system for curing of epoxy resins |
| US6001297A (en) * | 1997-04-28 | 1999-12-14 | 3D Systems, Inc. | Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography |
| US5770737A (en) | 1997-09-18 | 1998-06-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Asymmetrical dyes with large two-photon absorption cross-sections |
| US5859251A (en) | 1997-09-18 | 1999-01-12 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Symmetrical dyes with large two-photon absorption cross-sections |
| CA2326322C (en) | 1998-04-21 | 2011-03-01 | University Of Connecticut | Free-form nanofabrication using multi-photon excitation |
| US6100405A (en) * | 1999-06-15 | 2000-08-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Benzothiazole-containing two-photon chromophores exhibiting strong frequency upconversion |
| US7046905B1 (en) | 1999-10-08 | 2006-05-16 | 3M Innovative Properties Company | Blacklight with structured surfaces |
| JP2001150451A (ja) | 1999-11-22 | 2001-06-05 | Canon Inc | 成形型およびその製造方法 |
| US6288842B1 (en) | 2000-02-22 | 2001-09-11 | 3M Innovative Properties | Sheeting with composite image that floats |
| US6696157B1 (en) * | 2000-03-05 | 2004-02-24 | 3M Innovative Properties Company | Diamond-like glass thin films |
| US6560248B1 (en) | 2000-06-08 | 2003-05-06 | Mania Barco Nv | System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation |
| US7265161B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-09-04 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures |
| KR100811017B1 (ko) * | 2000-06-15 | 2008-03-11 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 | 다중방향성 광반응성 흡수 방법 |
| US7381516B2 (en) | 2002-10-02 | 2008-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| EP1292852B1 (en) | 2000-06-15 | 2005-11-09 | 3M Innovative Properties Company | Microfabrication of organic optical elements |
| US6852766B1 (en) | 2000-06-15 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| JP4472922B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2010-06-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多光子光化学プロセスを使用したマルチカラー画像化 |
| DE10034737C2 (de) | 2000-07-17 | 2002-07-11 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung einer permanenten Entformungsschicht durch Plasmapolymerisation auf der Oberfläche eines Formteilwerkzeugs, ein nach dem Verfahren herstellbares Formteilwerkzeug und dessen Verwendung |
| ATE526135T1 (de) | 2001-03-26 | 2011-10-15 | Novartis Ag | Giessform und verfahren zur herstellung von opthalmischen linsen |
| US20020192569A1 (en) * | 2001-05-15 | 2002-12-19 | The Chromaline Corporation | Devices and methods for exposure of photoreactive compositions with light emitting diodes |
| KR100788827B1 (ko) | 2001-05-22 | 2007-12-27 | 니치아 카가쿠 고교 가부시키가이샤 | 면발광 장치의 도광판 |
| US20030006535A1 (en) * | 2001-06-26 | 2003-01-09 | Michael Hennessey | Method and apparatus for forming microstructures on polymeric substrates |
| DE10131156A1 (de) | 2001-06-29 | 2003-01-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Arikel mit plasmapolymerer Beschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US6804062B2 (en) | 2001-10-09 | 2004-10-12 | California Institute Of Technology | Nonimaging concentrator lens arrays and microfabrication of the same |
| US6948448B2 (en) * | 2001-11-27 | 2005-09-27 | General Electric Company | Apparatus and method for depositing large area coatings on planar surfaces |
| US6713718B1 (en) * | 2001-11-27 | 2004-03-30 | Vi Engineering, Inc. | Scoring process and apparatus with confocal optical measurement |
| US7887889B2 (en) | 2001-12-14 | 2011-02-15 | 3M Innovative Properties Company | Plasma fluorination treatment of porous materials |
| US6750266B2 (en) * | 2001-12-28 | 2004-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| US20030155667A1 (en) | 2002-12-12 | 2003-08-21 | Devoe Robert J | Method for making or adding structures to an article |
| US7478942B2 (en) | 2003-01-23 | 2009-01-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light guide plate with light reflection pattern |
| CN101441292A (zh) | 2003-02-28 | 2009-05-27 | 夏普株式会社 | 面辐射变换元件及其制造方法和液晶显示装置 |
| JP4269745B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2009-05-27 | 株式会社日立製作所 | スタンパ及び転写装置 |
| US20040202865A1 (en) * | 2003-04-08 | 2004-10-14 | Andrew Homola | Release coating for stamper |
| US7070406B2 (en) | 2003-04-29 | 2006-07-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media |
| EP1538482B1 (en) * | 2003-12-05 | 2016-02-17 | Obducat AB | Device and method for large area lithography |
| US7632087B2 (en) * | 2003-12-19 | 2009-12-15 | Wd Media, Inc. | Composite stamper for imprint lithography |
| US9040090B2 (en) * | 2003-12-19 | 2015-05-26 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof |
| US20050271794A1 (en) | 2003-12-24 | 2005-12-08 | Synecor, Llc | Liquid perfluoropolymers and medical and cosmetic applications incorporating same |
| US20050273146A1 (en) | 2003-12-24 | 2005-12-08 | Synecor, Llc | Liquid perfluoropolymers and medical applications incorporating same |
| US7282324B2 (en) | 2004-01-05 | 2007-10-16 | Microchem Corp. | Photoresist compositions, hardened forms thereof, hardened patterns thereof and metal patterns formed using them |
| WO2005087974A2 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-22 | Applied Materials, Inc. | Cvd processes for the deposition of amorphous carbon films |
| US20050254035A1 (en) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Chromaplex, Inc. | Multi-photon lithography |
| US20050272599A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Kenneth Kramer | Mold release layer |
| JP4389791B2 (ja) | 2004-08-25 | 2009-12-24 | セイコーエプソン株式会社 | 微細構造体の製造方法および露光装置 |
| JP2006165371A (ja) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | 転写装置およびデバイス製造方法 |
| JP4674333B2 (ja) * | 2005-01-18 | 2011-04-20 | 独立行政法人情報通信研究機構 | レーザー加工装置、この装置を用いて製造した光デバイス |
| US9370881B2 (en) | 2005-03-02 | 2016-06-21 | The Trustees Of Boston College | Structures and methods of replicating the same |
| KR100688866B1 (ko) * | 2005-04-07 | 2007-03-02 | 삼성전기주식회사 | 임프린트 장치, 시스템 및 방법 |
| US7478791B2 (en) | 2005-04-15 | 2009-01-20 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition |
| KR100692742B1 (ko) | 2005-05-13 | 2007-03-09 | 삼성전자주식회사 | 도광층을 갖는 키 패드 및 키 패드 어셈블리 |
| EP1731962B1 (en) | 2005-06-10 | 2008-12-31 | Obducat AB | Pattern replication with intermediate stamp |
| US7326948B2 (en) | 2005-08-15 | 2008-02-05 | Asml Netherlands B.V. | Beam modifying device, lithographic projection apparatus, method of treating a beam, and device manufacturing method |
| KR100610336B1 (ko) | 2005-09-12 | 2006-08-09 | 김형준 | 키패드 백라이트용 도광판 및 그 제조 방법 |
| US7878791B2 (en) * | 2005-11-04 | 2011-02-01 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
| US7583444B1 (en) | 2005-12-21 | 2009-09-01 | 3M Innovative Properties Company | Process for making microlens arrays and masterforms |
| DE112006003494T5 (de) * | 2005-12-21 | 2008-10-30 | 3M Innovative Properties Co., Saint Paul | Verfahren und Vorrichtung zur Verarbeitung von mehrphotonen-aushärtbaren photoreaktiven Zusammensetzungen |
| EP1962942A1 (en) | 2005-12-21 | 2008-09-03 | 3M Innovative Properties Company | Microneedle devices |
| US7545569B2 (en) | 2006-01-13 | 2009-06-09 | Avery Dennison Corporation | Optical apparatus with flipped compound prism structures |
| CA2643510C (en) * | 2006-02-27 | 2014-04-29 | Microcontinuum, Inc. | Formation of pattern replicating tools |
| TWM298289U (en) | 2006-03-17 | 2006-09-21 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Light guide plates and electronic products using the same |
| US20070216049A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Heptagon Oy | Method and tool for manufacturing optical elements |
| WO2007112309A2 (en) | 2006-03-24 | 2007-10-04 | 3M Innovative Properties Company | Process for making microneedles, microneedle arrays, masters, and replication tools |
| CN101448632B (zh) | 2006-05-18 | 2012-12-12 | 3M创新有限公司 | 用于制备具有提取结构的光导的方法以及由此方法生产的光导 |
| TWI322927B (en) * | 2006-05-24 | 2010-04-01 | Ind Tech Res Inst | Roller module for microstructure thin film imprint |
| TW200745490A (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-16 | Jeng Shiang Prec Ind Co Ltd | Light guide plate |
| US20080007964A1 (en) * | 2006-07-05 | 2008-01-10 | Tai-Yen Lin | Light guiding structure |
| US20080083886A1 (en) | 2006-09-14 | 2008-04-10 | 3M Innovative Properties Company | Optical system suitable for processing multiphoton curable photoreactive compositions |
| US7551359B2 (en) | 2006-09-14 | 2009-06-23 | 3M Innovative Properties Company | Beam splitter apparatus and system |
| US8241713B2 (en) | 2007-02-21 | 2012-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Moisture barrier coatings for organic light emitting diode devices |
| US7891636B2 (en) | 2007-08-27 | 2011-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Silicone mold and use thereof |
| EP2205521A4 (en) | 2007-09-06 | 2013-09-11 | 3M Innovative Properties Co | TOOL FOR MANUFACTURING MICROSTRUCTURE ARTICLES |
| EP2198332A4 (en) | 2007-09-06 | 2011-11-30 | 3M Innovative Properties Co | LIGHT CONDUCTOR WITH LIGHT EXTRACTION STRUCTURES FOR PROVIDING REGIONAL CONTROL OF LIGHT OUTPUT |
| ATE534500T1 (de) | 2007-09-06 | 2011-12-15 | 3M Innovative Properties Co | Verfahren zum formen von formwerkzeugen und verfahren zum formen von artikeln unter verwendung der formwerkzeuge |
| US20100227272A1 (en) | 2007-10-11 | 2010-09-09 | Innovative Properties Company | Highly Functional Multiphoton Curable Reactive Species |
| CN103257379B (zh) | 2007-11-27 | 2015-08-05 | 3M创新有限公司 | 形成具有悬浮合成图像的片材的母模 |
| US8455846B2 (en) | 2007-12-12 | 2013-06-04 | 3M Innovative Properties Company | Method for making structures with improved edge definition |
| US8080073B2 (en) | 2007-12-20 | 2011-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive article having a plurality of precisely-shaped abrasive composites |
| EP2257854B1 (en) | 2008-02-26 | 2018-10-31 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon exposure system |
| US8570270B2 (en) * | 2009-10-19 | 2013-10-29 | Apple Inc. | Backlight unit color compensation techniques |
| TWM385715U (en) * | 2009-12-14 | 2010-08-01 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Backlight module |
-
2008
- 2008-10-03 EP EP08837450.9A patent/EP2208100B8/en active Active
- 2008-10-03 JP JP2010528958A patent/JP2011501209A/ja not_active Withdrawn
- 2008-10-03 CN CN200880111183.7A patent/CN101821659B/zh active Active
- 2008-10-03 WO PCT/US2008/078724 patent/WO2009048808A1/en active Application Filing
- 2008-10-03 US US12/681,926 patent/US8451457B2/en active Active
-
2014
- 2014-01-29 JP JP2014014491A patent/JP5890443B2/ja active Active
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107894208A (zh) * | 2016-10-04 | 2018-04-10 | 普莱斯泰克光电子有限公司 | 光谱共焦距离传感器 |
| CN107894208B (zh) * | 2016-10-04 | 2021-09-14 | 普莱斯泰克光电子有限公司 | 光谱共焦距离传感器 |
| CN111656260A (zh) * | 2018-01-24 | 2020-09-11 | 赛博光学公司 | 用于镜像表面的结构式光投射 |
| CN114041048A (zh) * | 2019-04-11 | 2022-02-11 | 皇家飞利浦有限公司 | 例如用于防污口罩的颗粒感测系统 |
| CN111596464A (zh) * | 2020-05-28 | 2020-08-28 | 华中科技大学 | 一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法 |
| CN111596464B (zh) * | 2020-05-28 | 2021-10-15 | 华中科技大学 | 一种调控聚焦光斑三维方向强度的装置和方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5890443B2 (ja) | 2016-03-22 |
| EP2208100B1 (en) | 2017-06-28 |
| US8451457B2 (en) | 2013-05-28 |
| US20100296106A1 (en) | 2010-11-25 |
| EP2208100B8 (en) | 2017-08-16 |
| EP2208100A1 (en) | 2010-07-21 |
| JP2011501209A (ja) | 2011-01-06 |
| CN101821659B (zh) | 2014-09-24 |
| EP2208100A4 (en) | 2011-03-09 |
| JP2014088041A (ja) | 2014-05-15 |
| WO2009048808A1 (en) | 2009-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101821659B (zh) | 色差共聚焦传感器 | |
| US8736846B2 (en) | Optical sensor device | |
| TWI743200B (zh) | 用於最佳化以成像為基礎之疊對度量之聚焦的系統及方法 | |
| CN107525463B (zh) | 光干涉测定装置和光干涉测定方法 | |
| KR101609029B1 (ko) | 광 전달 매질의 투과 특성을 측정하는 방법 및 이를 이용한 이미지 획득 장치 | |
| US20140150953A1 (en) | Device and method for performing and monitoring a plastic laser transmission welding process | |
| US20140043610A1 (en) | Apparatus for inspecting a measurement object with triangulation sensor | |
| CN113365773B (zh) | 用于工件的受控加工的方法和设备 | |
| US5991034A (en) | Interferometer which varies a position to be detected based on inclination of surface to be measured | |
| KR20130132995A (ko) | 광학특성 측정장치 및 광학특성 측정방법 | |
| CN101868320A (zh) | 激光束加工 | |
| CN102818528A (zh) | 用于在增强景深的情形下检查物体的装置和方法 | |
| CN104482881B (zh) | 激光受激发射损耗三维超分辨差动共焦成像方法与装置 | |
| CN103954598A (zh) | 一种基于倏逝波照明的轴向高精度定位方法及装置 | |
| CN102589466B (zh) | 一种轮廓的显微方法 | |
| KR101233941B1 (ko) | 형상 측정 장치 및 방법 | |
| JP2010121960A (ja) | 測定装置及び被検物の測定方法 | |
| KR20220119398A (ko) | 공초점 거리 측정을 이용한 작업편의 제어되는 기계가공을 위한 방법 및 장치 | |
| Symes et al. | Progress on positioning of solid targets for Gemini | |
| CN220207024U (zh) | 一种光纤的检测系统 | |
| JP2019163946A (ja) | 非接触表面形状測定装置 | |
| CN102736140B (zh) | 光学器件、定位方法和定位装置 | |
| Langehanenberg et al. | High precision geometrical characterization and alignment of miniaturized optics | |
| JP5188377B2 (ja) | 球体の真球度の測定方法および球体の曲率半径の測定方法 | |
| DE102019105766A1 (de) | Sensor für Koordinatenmessgerät und Koordinatenmessgerät sowie Verfahren zum Betreiben dieser |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |