CN101706703A - 一种电容式触摸屏四边边缘金属膜的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明为一种电容式触摸屏四边边缘金属膜的制作方法。其加工工艺简单、加工成本低。其包括中心带有ITO膜且四边边缘带有ITO导线的玻璃基板，其特征在于：所述ITO导线表面所覆盖的金属膜通过镀金工艺制作而成，其镀金工艺步骤依次为：玻璃基板的脱脂、敏化、活化、通过无电解镀金将ITO导线镀上预处理金属膜、通过电解镀金将ITO导线镀上金属膜。
Description
(一)技术领域
本发明涉及电容式触摸屏技术领域，具体为一种电容式触摸屏四边边缘金属膜的制作方法。
(二)背景技术
现有的电容式触摸屏结构包括：(1)单面纳米铟锡金属氧化物(ITO)膜玻璃基板上贴上另外一层ITO膜的结构、(2)双面ITO膜玻璃基板，这两种结构均需要通过其四边边缘的ITO导线连通不在同一表面的ITO膜，为满足控制芯片的输入阻抗的限制，必须要降低边缘设置的ITO导线的电阻值，现有的成熟做法是预先在玻璃基板的ITO膜区域丝印上保护层后，将ITO导线上加上一层金属膜，现有的金属膜制作工艺：在ITO玻璃基板的ITO导线上溅射之后形成金属膜层，金属膜层上覆盖一层阻抗保护层，然后通过紫外线的露光照射使之显象，再进行蚀刻，最后对阻抗保护层进行剥离。其金属膜处理工艺复杂，加工成本高。
(三)发明内容
针对上述问题，本发明提供了一种电容式触摸屏四边边缘金属膜的制作方法，其加工工艺简单、加工成本低。
其技术方案是这样的：其包括中心带有ITO膜且四边边缘带有ITO导线的玻璃基板，其特征在于：所述ITO导线表面所覆盖的金属膜通过镀金工艺制作而成，其镀金工艺步骤依次为：玻璃基板的脱脂、敏化、活化、通过无电解镀金将ITO导线镀上预处理金属膜、通过电解镀金将ITO导线镀上金属膜。
其进一步特征在于：
所述镀金工艺的步骤具体如下：
(1)、脱脂：玻璃基板在含硫化合物的中性脱脂液进行浸渍处理，温度15℃～28℃，时间5分钟；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
(2)、敏化：用氨水将氯化锡、盐酸肼的混合液调整到PH3～PH5的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液中进行浸渍处理，温度15℃～28℃，时间2分钟～4分钟；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
(3)、活化：用氨水将氯化钯、盐酸的混合液调整到PH3～PH6的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液中进行浸渍处理，温度15℃～28℃，时间2分钟～4分钟；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；
(4)、无电解镀金：将玻璃基板非电镀区域的ITO膜区域丝印上保护层后，将玻璃基板放入含有酸性化学镀镍磷合金溶液进行浸渍处理，温度48℃～52℃，时间5分钟～10分钟，使得ITO导线上形成厚度为1μm～3μm的镍磷合金金属膜，镍磷合金金属膜中磷元素的所占的质量百分数为2％～4％；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度148℃～152℃的环境中进行5小时～10小时的退火处理；
(5)、电解镀金：采用电镀镍金，预先把电镀区域的ITO导线全部接通，ITO导线一端作为阴极，导通电流，电流密度为2A/dm2～5A/dm2，ITO导线另一端作为阳极，连接镍板，导通电流直至ITO导线的金属膜的厚度到达40μm～100μm；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度148℃～152℃的环境中进行23小时～25小时的退火处理。
采用本发明的方法，将所述ITO导线表面所覆盖的金属膜通过镀金工艺制作而成后，其ITO导线的电阻值的效果和溅射金属膜工艺一样。由于其镀金工艺步骤依次为：玻璃基板的脱脂、敏化、活化、通过无电解镀金将电镀区域的ITO导线镀上预处理金属膜、通过电解镀金将ITO导线镀上金属膜，其无需经过复杂的溅射、蚀刻工艺，其加工工艺简单、加工成本低。
(四)具体实施方式
具体实施例一：
将带有ITO膜且四边边缘带有ITO导线的玻璃基板放入含硫化合物的中性脱脂液进行浸渍脱脂处理，其温度15℃，时间5分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板各30分钟后，再用纯氮气吹干；
将1g/L的氯化锡，0.5g/L的盐酸肼的混合液，用氨水调整到PH3的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液进行浸渍处理，温度15℃，时间4分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
将0.1g/L的氯化钯，0.3cc/L的盐酸的混合液，用氨水调整到PH3的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液进行浸渍处理，温度15℃，时间4分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板各30分钟后，再用纯氮气吹干；
将玻璃基板非电镀区域的ITO膜区域丝印上保护层后，将玻璃基板放入含有酸性化学镀镍磷合金溶液进行浸渍处理，温度48℃，时间5分钟，使得ITO导线上形成厚度为1μm的镍磷合金金属膜，镍磷合金金属膜中磷元素的所占的质量百分数为2％；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度148℃的环境中进行10小时的退火处理；
采用电镀镍金，预先把电镀区域的ITO导线全部接通，ITO导线靠近ITO膜的一端为阴极，其导通电流，ITO导线靠近玻璃基板边缘的一端为阳极，其连接镍板，其阴、阳极面积比等于1∶1.5，其电解液为金属离子为镍离子的电解液，导通电流，电解液温度为15℃，其电流密度为2A/dm2，经过97.5分钟后，ITO导线的金属膜的厚度到达40μm(电流密度为1A/dm2时其成膜速度为0.205μm/分)，停止电离；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度148℃的环境中进行25小时的退火处理。
具体实施例二：
将带有ITO膜且四边边缘带有ITO导线的玻璃基板放入含硫化合物的中性脱脂液进行浸渍脱脂处理，其温度28℃，时间5分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板各30分钟后，再用纯氮气吹干；
将1g/L的氯化锡，0.5g/L的盐酸肼的混合液，用氨水调整到PH5的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液进行浸渍处理，温度28℃，时间2分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
将0.1g/L的氯化钯，0.3cc/L的盐酸的混合液，用氨水调整到PH6的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液进行浸渍处理，温度28℃，时间2分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板各30分钟后，再用纯氮气吹干；
将玻璃基板非电镀区域的ITO膜区域丝印上保护层后，将玻璃基板放入含有酸性化学镀镍磷合金溶液进行浸渍处理，温度52℃，时间10分钟，使得ITO导线上形成厚度为3μm的镍磷合金金属膜，镍磷合金金属膜中磷元素的所占的质量百分数为4％；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度152℃的环境中进行5小时的退火处理；
采用电镀镍金，预先把电镀区域的ITO导线全部接通，ITO导线靠近ITO膜的一端为阴极，其导通电流，ITO导线靠近玻璃基板边缘的一端为阳极，其连接镍板，其阴、阳极面积比等于1∶2，其电解液为金属离子为镍离子的电解液，导通电流，电解液温度为35℃，其电流密度为5A/dm2，经过97.5分钟后，ITO导线的金属膜的厚度到达100μm(电流密度为1A/dm2时其成膜速度为0.205μm/分)，停止电离；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度152℃的环境中进行23小时的退火处理。
具体实施例三：
将带有ITO膜且四边边缘带有ITO导线的玻璃基板放入含硫化合物的中性脱脂液进行浸渍脱脂处理，其温度23℃，时间5分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板各30分钟后，再用纯氮气吹干；
将1g/L的氯化锡，0.5g/L的盐酸肼的混合液，用氨水调整到PH4的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液进行浸渍处理，温度23℃，时间3分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
将0.1g/L的氯化钯，0.3cc/L的盐酸的混合液，用氨水调整到PH5的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液进行浸渍处理，温度23℃，时间3分钟，之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板各30分钟后，再用纯氮气吹干；
将玻璃基板非电镀区域的ITO膜区域丝印上保护层后，将玻璃基板放入含有酸性化学镀镍磷合金溶液进行浸渍处理，温度50℃，时间8分钟，使得ITO导线上形成厚度为2μm的镍磷合金金属膜，镍磷合金金属膜中磷元素的所占的质量百分数为3％；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度150℃的环境中进行7小时的退火处理；
采用电镀镍金，预先把电镀区域的ITO导线全部接通，ITO导线靠近玻璃基板边缘的一端为阴极，其导通电流，ITO导线靠近ITO膜的一端为阳极，其连接镍板，其阴、阳极面积比等于1∶1.75，其电解液为金属离子为镍离子的电解液，导通电流，电解液温度为25℃，其电流密度为3A/dm2，经过114分钟后，ITO导线的金属膜的厚度到达70μm(电流密度为1A/dm2时其成膜速度为0.205μm/分)，停止电离；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度150℃的环境中进行24小时的退火处理.
Claims (2)
1.一种电容式触摸屏四边边缘金属膜的制作方法，其包括中心带有ITO膜且四边边缘带有ITO导线的玻璃基板，其特征在于：所述ITO导线表面所覆盖的金属膜通过镀金工艺制作而成，其镀金工艺步骤依次为：玻璃基板的脱脂、敏化、活化、通过无电解镀金将ITO导线镀上预处理金属膜、通过电解镀金将ITO导线镀上金属膜。
2.根据权利要求1所述一种电容式触摸屏四边边缘金属膜的制作方法，其特征在于：所述镀金工艺的步骤具体如下：
(1)、脱脂：玻璃基板在含硫化合物的中性脱脂液进行浸渍处理，温度15℃～28℃，时间5分钟；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
(2)、敏化：用氨水将氯化锡、盐酸肼的混合液调整到PH3～PH5的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液中进行浸渍处理，温度15℃～28℃，时间2分钟～4分钟；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；
(3)、活化：用氨水将氯化钯、盐酸的混合液调整到PH3～PH 6的碱性范围后，将玻璃基板放入混合液中进行浸渍处理，温度15℃～28℃，时间2分钟～4分钟；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；
(4)、无电解镀金：将玻璃基板非电镀区域的ITO膜区域丝印上保护层后，将玻璃基板放入含有酸性化学镀镍磷合金溶液进行浸渍处理，温度48℃～52℃，时间5分钟～10分钟，使得ITO导线上形成厚度为1μm～3μm的镍磷合金金属膜，镍磷合金金属膜中磷元素的所占的质量百分数为2％～4％；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗玻璃基板后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度148℃～152℃的环境中进行5小时～10小时的退火处理；
(5)、电解镀金：采用电镀镍金，预先把电镀区域的ITO导线全部接通，ITO导线一端作为阴极，导通电流，电流密度为2A/dm2～5A/dm2，ITO导线另一端作为阳极，连接镍板，导通电流直至ITO导线的金属膜的厚度到达40μm～100μm；之后依次用去离子水、丙酮、无水醇三种液体超声波清洗后，再用纯氮气吹干；然后将整个玻璃基板置于温度148℃～152℃的环境中进行23小时～25小时的退火处理。
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