CN101662858B - 高频加热用烹调器具和使用该烹调器具的高频加热装置 - Google Patents

Abstract

本发明的高频加热用烹调器具能够防止由于微波集中在距离狭小的金属部件之间引起的加热室金属壁面和金属烹调盘之间的绝缘体熔融，其包括：金属制的壁面构成的用来收纳被加热物的加热室；外周部设有绝缘体构成的支承部并用来放置上述被加热物的金属制的烹调盘；通过和上述支承部进行结合将上述烹调盘设置在上述加热室内规定位置上的盘用支架；和用来对上述被加热物和上述烹调盘加热的加热装置。在上述烹调器具设置在规定位置时，上述烹调器具的外周部和上述壁面之间设有空间，同时，上述支承部中上述烹调盘的部分和上述壁面之间也有空间，而上述支承部中不靠近上述烹调盘的部分则和上述壁面接触。

Description

高频加热用烹调器具和使用该烹调器具的高频加热装置

技术领域

本发明涉及一种高频加热装置中使用的烹调器具，具体的说，涉及一种通过微波对食品加热烹调的烹调盘。

背景技术

近年的高频加热装置除了通过对食品照射微波从而对其进行加热的功能之外，有的还在烹调盘上涂有能吸收微波而进行加热的发热体。在将烹调盘设置在加热室内、并在烹调盘上放置食品时，发热体产生的热量对食品进行烹调，拥有这样的功能的高频加热装置现在已经逐渐普及起来了(其中一例可参照日本专利公开公报2006-97988)。

但是，在上述这种现有的高频加热装置构成中，在金属制成的加热室壁面和同样也是金属制成的烹调盘之间存在着构成烹调盘外周部的支承部(绝缘体)。从加热室底面送入的微波中的一部分会穿过烹调盘和加热室壁面之间的间隙，到达烹调盘之上的加热室上部空间，在烹调盘上放置有被加热物的情况下，这部分微波能被烹调盘上的被加热物吸收。

但是，在使用者还没有放置被加热物就因误操作而开始进行烹调操作的情况下，从烹调盘和加热室壁面的间隙到达加热室上侧空间的微波由于没有被加热物进行吸收，会在上部空间内发生反射，其中的部分微波会再次穿过烹调盘和加热室壁面之间的间隙，向烹调盘的下方传播。

这样，微波就会集中在间隔距离狭小的金属部件之间，微波的反复反射使得电场集中，处于金属制成的加热室壁面和同样也是金属制成的烹调盘之间的绝缘体会由于电场集中而被加热，导致温度上升。这样的状态不断持续的话，就会出现绝缘体的温度超过耐久温度、甚至出现绝缘体发生熔化等问题。

发明内容

为了解决上述现有技术的课题，本发明的高频加热装置用烹调器具包括：金属制的壁面构成的用来收纳被加热物的加热室；外周部设有绝缘体构成的支承部并用来放置上述被加热物的金属制的烹调盘；通过和上述支承部进行卡合将上述烹调盘设置在上述加热室内规定位置的盘用支架；用来加热上述被加热物和上述烹调盘的加热装置。在上述烹调器具设置在规定位置时，上述烹调器具的外周部和上述壁面之间设有空间，同时，上述支承部中靠近上述烹调盘的部分和上述壁面之间也有空间，而上述支承部中不靠近上述烹调盘的部分则和上述壁面接触。

这样，在本发明的高频加热装置用烹调器具中，在构成烹调盘的金属材料与金属制的壁面之间这样的强电场空间不设置由树脂材料构成的支承部，从而可以防止支承部在该空间内发生熔融。

本发明的第1方案的烹调器具包括：金属制的壁面构成的用来收纳被加热物的加热室；外周部设有绝缘体构成的支承部并用来放置上述被加热物的金属制的烹调盘；通过和上述支承部进行卡合将上述烹调盘设置在上述加热室内规定位置的盘用支架；用来加热上述被加热物和上述烹调盘的加热装置。在上述烹调器具设置在规定位置时，上述烹调器具的外周部和上述壁面之间设有空间，同时，上述支承部中靠近上述烹调盘的部分和上述壁面之间也有空间，而上述支承部中不靠近上述烹调盘的部分则和上述壁面接触。

这样，在金属制成的烹调盘和同样也是金属制成的壁面之间出现的电场集中、导致支承部发热熔化的现象就可以防止。

本发明的第2方案为，在第1方案的基础上，上述烹调盘的外周部设有弯曲部，上述支承部与上述烹调盘靠近的部分设置在上述烹调盘的上述弯曲部的下方或内侧。

这样，可以防止在烹调盘的弯曲部的前端与支承部的靠近烹调盘的部分之间产生使用者的指甲容易被夹住的间隙，且不产生这样的间隙还可以提高审美效果。

本发明的第3方案为，在第1和第2方案的基础上，上述加热装置是产生微波的高频发生装置，上述烹调盘上具有吸收上述微波进行发热的发热层。这样，即使使用者频繁使用高频加热对烹调盘进行加热，也可以防止熔融现象的发生。

本发明的第4方案为，在第1和第2方案的基础上，上述加热装置是产生微波的高频发生装置，上述烹调盘是由金属制成的。这样，即使将本来用于电加热的烹调盘放置在加热室内、且错误地进行高频加热的场合下，也可以防止产生火花和防止支承部熔融。

本发明的第5方案的高频加热装置包括第1至第4方案中任一方案中记载的高频加热装置用烹调器具。这样，可以实现一种安全性更高的高频加热装置。

附图说明

图1为本发明的一个实施例中的高频加热装置的正面截面图，

图2为本发明的上述实施例中的高频加热装置的外观斜视图，

图3为本发明的上述高频加热装置中的烹调盘8的侧面图，

图4为本发明的上述高频加热装置中的加热室1内的壁面示意图。

其中，1为加热室，2为磁控管，3为波导管，4a为左天线，4b为右天线，5为放置台，6a、6b为电机，7为加热器，8为烹调盘，9为滑动导轨，10为支承部，10a为凹部，10b为凸部，10c为脚部，11为门，12为操作部，13为显示部，14为小孔，15为空间。

具体实施方式

下面参照附图来对本发明的一个实施例进行详细说明。需要指出的是，这样的实施例并不具有限定本发明范围的作用。

(实施例)

图1为本发明的一个实施例中的高频加热装置从正面方向看到的截面图。这一高频加热装置中设有：用于收容食品的加热室1；用来对加热室1前表面开口进行开闭的门(图中未示出)；和用于对设在加热烹调器机体内的控制部分(图中未示出)进行加热条件设定和加热开始指示的控制面板(图中未示出)。

上述加热室1的底面下方设有：作为微波的提供源的用来产生微波的磁控管2；引导微波的波导管3；将波导管3供给的微波加以扩散、发射的2个旋转天线即左旋转天线4a和右旋转天线4b。从这些旋转天线发射出的微波穿过陶瓷制成的能够透过微波的放置台5，供给到加热室1内。

通过将微波供给加热室1内，就可以实行高频加热。上述左天线4a、右天线4b分别由设置在下部的波导管3的背面的电机6a、6b驱动着旋转。加热室1的上部设置有通电后产生辐射热从而对食品进行加热的加热器7，加热器7实行电加热。

另外，加热室1的左侧面和右侧面上形成有滑动轨道9，烹调时所使用的金属制成的烹调盘8可以在滑动轨道9上滑动，并承载在加热室1内的规定位置上。当烹调盘8承载在滑动轨道9上时，烹调盘8和放置台5之间就形成了规定的空间。

上述烹调盘8包括盘体8a和凸缘部8b。其中盘体8a的截面呈凹凸状，主要成分是铁或铝，上面涂有氟化树脂。凸缘部8b设置在烹调盘8的外周沿部上，朝上方外侧呈倒L字扩展，其前端部分上设有为避免用户烫伤的折弯部8c。

烹调盘8的下底面上设有发热层8d，发热层8d上涂有能够吸收磁控管2发出的微波进行发热的铁氧体等高频吸收发热体，通过发热层8d的发热来加热放置在烹调盘8上的被加热物。同时，穿过烹调盘8和加热室1壁面之间的间隙的部分微波也会到达被加热物，进行高频加热。

还有，位于上述烹调盘8的外周部的凸缘部8b上设有耐热树脂等绝缘体制成的支承部10，通过使支承部10在滑动轨道9上滑动，可将烹调盘8设置在加热室1内的规定位置上。

支承部10的构造是，在夹在加热室1的壁面和烹调盘8的凸缘部8b之间且易于形成电场集中的空间15不存在凹部10a。还有，支承部10被设置成缩进到凸缘8b的弯曲部8c的下方或内侧(远离加热室1壁面的一侧)，从而避免使用者的指甲被夹在凹部10a和烹调盘8之间的间隙中的情况发生。

另外，为了在烹调盘8设置在加热室内的规定位置上后不使烹调盘8产生左右晃动，支承部10上还设有从凹部10a向外侧(靠近加热室1的壁面的一侧)凸起的凸部10b。

支承部10上还设有脚部10c。这是为了在将烹调盘8从加热室1中取出后放置在桌子上的场合下，可以使高温部分不直接与桌子接触，另外在使用者使用手套的情况下也能容易拿住烹调盘。

图2为本实施例中的高频加热装置的外观斜视图。如图2所示，门11的下部设有：用来进行菜单选择及指示加热开始等的操作部12、和用于显示选择菜单及加热时间等的显示部13。

下面对具有以上构成的本发明的高频加热装置的操作情况和作用进行说明，具体通过用装有高频发热体的烹调盘8来烧“盐烤秋刀鱼”为例进行说明。

要使得作为被加热物的秋刀鱼的内外均呈现烧烤色，要求在短时间内用高火力进行烹调。在本实施例的高频加热装置中，可以采用(比方说)输出功率为800W的微波加热10分钟。在进行高频加热的过程中，用来搅拌高频微波的左天线6a被控制成连续不停地转动，而右天线6b则反复进行先在规定位置停止20秒、然后进行转动、接着再在该规定位置停止20秒、再转动的操作。

为了能够进行与菜单对应的恰当的加热，天线的控制顺序被预先存贮在控制装置内。具体说来，10分钟的高频加热结束后，从高频加热切换到电加热，再用上部的加热器7进行10分钟的辐射加热。这种在合计20分钟内将对秋刀鱼上下面进行烧烤的火力设定被预先存贮在控制装置中。

但是控制装置仅仅根据所选择的菜单按照存贮着的设定进行加热控制，而对烹调盘上是否放置有秋刀鱼则无法把握。

所以，如果是现有的烹调盘构造的话，亦即支承部10的凹部10a处在加热室1的壁面和烹调盘8的外周部之间、处于容易产生集中电场的空间内的话，在烹调盘上没有放置秋刀鱼的状态下选择“盐烤秋刀鱼”进行烹调的话，7分钟后会感觉到异味，再将烹调盘取出来看的话，会发现外周部的支承部已经被熔融了。此时，支承部10的温度会达到270℃。

由于支承部10所使用的PPS树脂的耐热温度为260℃，故上述温度达到了PPS树脂的熔融温度。以下，将在烹调盘8上不放置被加热物状态就进行烹调的状态称为“空烧”。

本来，从加热室壁面和烹调盘之间的间隙传播到烹调盘上面的微波会被加热物吸收，但在空烧状态下，没有物体来吸收微波。还有，如上面所述右天线6b的转动会停止20秒，在这个期间内从右天线6b发射出来的微波会持续地朝同一方向发射。因此，这个状态下产生电场集中的话，电场就会集中在同一位置上，使支承部件达到熔融状态。

相反，采用本实施例中的烹调盘8之后，即使在空烧状态下选定“盐烤秋刀鱼”方式进行烹调，7分钟后也不会产生异味，10分钟后高频加热结束时，也不会产生异味。此时，对支承部10的温度进行测定，结果为190℃，还没有达到熔融的温度。

上述是以最严格条件下的空烧为例进行的说明，对于负荷量少的情况和在负荷与预定的烹调方式的操作方式不同的情况下，本发明也同样有效。

采用如上所述的实施方式的话，可以提供了一种即使客户的使用方法有误、支承部10也不会发生熔融的安全的加热装置。

另外，本实施例虽然是以带有高频发热体的烹调盘为例进行说明的，但是对于通过电加热器进行烹调时使用的搪瓷类不锈钢板制成的烹调器皿也同样适用。

具体说来，在使用者将通常在加热器加热时使用的烹调器皿放在加热室1内并错误地启动高频加热操作时，加热室1的壁面、滑动轨道9和烹调盘之间会产生火花，金属表面的涂膜就会掉落，绝缘性能就会劣化。这样一来，火花更容易产生，壁面就有可能会出现穿孔等问题。为防止火花的产生，有时需要设置树脂制成的支承部。

若考虑采用本实施例，即使在这样的状态下，本实施例也可以提供一种不但能够防止火花产生、支承部10又不会熔融的安全性高的高频加热装置。

图3是本实施例中的烹调盘8的侧面图。如图3所示，上述支承部10的凹部10a也可以不设置在烹调盘8的端部，凸部10b可以延伸至凸缘部8b的外侧(靠近加热室1的壁面的一侧)。也就是说，烹调盘8放置在加热室1内的规定位置时，设置在烹调盘8端部的凸部10b就位于容易产生集中电场的空间15内。

这样一来，与烹调盘8的中央部相比，在烹调盘8的端部位置上的加热室1的壁面和烹调盘8之间的间隙的电场较弱，发热量较少。

图4是本实施例中的加热室1内的壁面示意图。如图4所示，一般的高频加热装置在加热室1的外侧设有用于照亮加热室1内的室内灯。另外，为了使微波不从室内灯部分发生泄漏，加热室1的壁面上设有许多小孔14。在这样的场合下，滑动轨道9也前后分割成二段。

将烹调盘8水平插入时，烹调盘8在没有滑动轨道9的地方也不会掉落。但是，在误将烹调盘8斜向插入的情况下，烹调盘8在无滑动轨道9的部分就可以掉落。

因此，支承部10中与加热室1的壁面靠近的部分的上下方向尺寸必须得到保证。这样，在烹调盘8沿着加热室1前部的滑动导轨9斜向插入时，就会与后部导轨的结合面相碰撞，无法插到底。这样，使用者就会察觉这样的情况，会重新水平地插入，从而可以防止烹调盘8的掉落。

综上所述，本发明可以适用于采用烹调盘对被加热物进行烹调的高频加热装置。本发明在烹调盘支承部的外周部和加热室壁面之间设有空间，同时支承部中与烹调盘靠近的部分与壁面之间也留有空间，且让支承部中不靠近烹调盘的部分与上述壁面发生接触，从而提供了一种即使使用者发生误操作支承部也不会发生熔融的安全性好的加热装置。

Claims (5)

1.一种高频加热用烹调器具，其特征在于包括：

由金属制成的壁面构成的、用来收纳被加热物的加热室；

外周部设有绝缘体构成的支承部、用来放置上述被加热物的金属制的烹调盘；

通过和上述支承部进行结合，将上述烹调盘设置在上述加热室内的规定位置上的盘用支架；和

用来对上述被加热物和上述烹调盘进行加热的加热装置，

在上述烹调器具设置在规定位置时，上述烹调器具的外周部和上述壁面之间设有空间，同时，上述支承部中靠近上述烹调盘的部分和上述壁面之间也有空间，并且在上述烹调盘的外周部和上述壁面之间所设有的空间中不存在上述支承部中靠近上述烹调盘的部分，而上述支承部中不靠近上述烹调盘的部分则和上述壁面接触。

2.根据权利要求1所述的高频加热用烹调器具，其特征在于：上述烹调盘的外周部设有折弯部，上述支承部中与上述烹调盘靠近的部分设置在上述烹调盘上的上述折弯部的下方或内侧。

3.根据权利要求1或2所述的高频加热用烹调器具，其特征在于：上述加热装置是产生微波的高频发生装置，上述烹调盘上具有吸收上述微波进行发热的发热层。

4.根据权利要求1或2所述的高频加热用烹调器具，其特征在于包括：上述加热装置是产生微波的高频发生装置，上述烹调盘由金属制成。

5.一种高频加热装置，其特征在于：包括如权利要求1至4项中任1项所记载的高频加热用烹调器具。

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