CN101581887B - 流体处理结构、光刻设备和器件制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种流体处理结构、一种光刻设备和一种器件制造方法，其中实施测量以提高弯液面发生破裂的速度。测量包括流体处理结构中的多个流体抽取开口的形状和多个流体供给开口的形状和密度。

Description

流体处理结构、光刻设备和器件制造方法

技术领域

本发明涉及一种流体处理结构、光刻设备和一种制造器件的方法。 

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。 

曾有提议将光刻投影设备中的衬底浸没到具有相对高的折射率的液体中(例如水)，以便填充投影系统的最终元件和衬底之间的空间。期望地，液体是蒸馏水，但是其他液体也是可以使用的。本发明的实施例将用液体进行描述。然而，其他流体也是合适的，特别地，浸湿流体、不能压缩的流体和/或具有高于空气的折射率的流体，期望地，折射率比水的高的液体。尤其地，希望是不含气体的流体。这能够实现更小特征的成像，因为曝光辐射在液体中具有更短的波长。(液体的效果也可以认为是提高系统的有效数值孔径同时增加了焦深)其他的浸没液体也有提到，包括含有 悬浮其中的固体(例如，石英)颗粒的水，或具有纳米颗粒悬浮物的液体(例如，具有最大尺寸达到10nm的粒子)。悬浮的粒子与它们悬浮其中的液体可以具有或可以不具有类似的或相同的折射率。其他合适的液体是碳氢化合物，例如芳(香)族的和/或氟代烃，和水溶液。 

将衬底或衬底和衬底台浸入到液体的浴器中(例如，见美国专利第US 4,509,852号)意味着在扫描曝光过程中必须加速很大的液体主体。这需要附加的或更大功率的电动机，并且液体中的湍流也可能会导致不希望的或不能预期的效果。 

在一种浸没设备中，浸没液体通过流体处理系统或设备进行处理。在一个实施例中，流体处理系统可以供给浸没流体，因而是一种流体供给系统。在一个实施例中，流体处理系统限制流体，因此是一种流体限制系统。在一个实施例，流体处理系统可以提供阻挡件给流体，因此是一种阻挡构件。在一个实施例，流体处理系统会产生或利用流体(例如气体)的流动，例如用以帮助处理液体。在一个实施例中，浸没液体可以被用作浸没流体。在那种情况下，流体处理系统可以是液体处理系统。 

所提出的结构中的一个是用于液体供给系统，使用液体限制系统用以仅提供液体到衬底的局部区域上和在投影系统的最终元件和衬底之间(衬底大体上具有比投影系统的最终元件大的表面积)。PCT专利申请公开No.WO99/49504中公开了有关配置这种设备的方法。如图2和图3所示，优选地液体沿着衬底相对于最终元件移动的方向，通过至少一个入口IN提供到衬底上，在已经通过投影系统下面后，液体通过至少一个出口OUT移除。也就是说，当所述衬底在所述元件下沿-X方向扫描，液体在所述元件的+X侧被供给，而在-X侧被移除。图2是配置示意图，其中液体通过入口IN提供，而在所述元件的另一侧通过出口OUT移除，该出口连接到低压源上。在图2的例子中，虽然液体沿着衬底相对于最终元件的移动方向供给，但不是必需的。例如通过入口和出口并跨过衬底的液体的供给和移除的流动方向用箭头示出。可以在最终元件周围设置各种方向和数目的入口和出口，图3示出了一个实施例，其中在最终元件的周围在每一侧以规则的图案设置了四个入口和出口。箭头示出了通过入口和出口供给和移除液体。 

根据本发明的实施例，图4示意地示出了用在光刻投影设备中的示例性的液体供给系统。液体通过在投影系统PL的任一侧的两个凹槽入口IN提供，而通过配置在入口IN的径向外侧的多个不连续的出口OUT被移除。通过入口和出口的液体流动方向和衬底支撑结构的相对移动方向用箭头示出。在图4的实施例中，入口IN和出口OUT配置在具有孔的板中，通过该孔进行辐射束的投影。液体通过投影系统PL一侧的一个凹槽入口IN提供，通过投影系统PL的另一侧的多个不连续的出口OUT被移除，这引起投影系统PL和衬底W之间的液体薄膜流。选择使用哪组入口IN和出口OUT组合合并到液体供给系统中依赖于衬底W的移动方向(另外的入口IN和出口OUT组合是不被激活的) 

欧洲专利申请出版物第EP1420300号和美国专利申请出版物第US2004-0136494号中，这里以参考的方式全文并入本文，在该专利中公开了一种两个或双台的浸没光刻设备。这样的设备设置有两个用于支撑衬底的台。调平测量由在第一位置的没有浸没液体的台执行，而由第二位置的台执行曝光，该台有浸没液体。可选地，该设备仅有一个台。 

PCT专利申请出版物第WO 2005/064405号公开一种全浸湿的结构，其中浸没液体是非限制的。在这样的系统中，基本上整个衬底的顶部表面覆盖有液体。这是有利的，因为随后整个衬底的顶部表面在相同的条件下曝光。这对于衬底的温度控制和加工是有利的。在专利WO 2005/064405中，液体供给系统提供液体到投影系统的最终元件和衬底之间的间隙。液体允许泄露到衬底的剩余部分上。衬底台的边缘上的阻挡构件阻止液体流失，使得液体可以以控制的方式从衬底台的顶部表面上移除。虽然这种系统可以改善衬底的温度控制和加工，但是仍然会存在浸没液体的蒸发。消除这个问题的一种方法在美国专利申请出版物第US 2006/119809号中有描述，其中设置一种构件，其覆盖衬底W的所有位置并且配置成使浸没液体在该构件和衬底和/或保持衬底的衬底台的顶部表面之间延伸。 

期望地，可以在投影系统下面尽可能快地移动衬底。为了这个目的，液体限制系统或流体处理系统，尤其是局部区域流体处理系统应该设计成实现高速的扫描动作，而没有明显的液体损失或气泡的形成。如果步进和扫描动作基本上不是相同的速度，期望地，步进和扫描动作可以以更接近 的或类似的速度执行。 

发明内容

本发明旨在例如提供一种流体处理系统，其将液体保持在投影系统的最终元件和衬底之间的空间内。 

根据本发明的一方面，提供一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有多个在平面上以有角的形状配置的开口，所述流体处理结构构建使得所述开口在使用时被取向朝向衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台，其中 

a)所述有角的形状具有带负半径的边；和/或 

b)有角的形状具有半径在0.05-4mm范围内的角。 

根据本发明的一方面，提供一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有多个在平面上以第一有角的形状配置的流体抽取开口，和多个在平面上以第二有角的形状配置的流体供给开口，所述多个流体抽取开口和流体供给开口在使用时被取向朝向衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台，所述第一和第二有角的形状基本上是类似的，其中流体抽取开口位于第一有角的形状的至少一个角的顶点上和/或流体供给开口位于第二有角的形状的至少一个角的顶点上。 

根据本发明的一方面，提供一种用于光刻设备的流体处理结构，所述流体处理结构具有多个在平面上以有角的形状配置的开口，所述流体处理结构构建成使得所述开口在使用时被取向朝向衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台，其中所述开口在角附近比其他位置更靠近地间隔。 

根据本发明的一方面，提供一种器件制造方法，包括： 

提供流体在投影系统和衬底之间； 

通过施加负压到流体处理结构中的多个开口上从所述衬底和所述投影系统之间重新回收液体，所述开口在平面上以有角的形状配置围绕在所述投影系统和所述衬底之间的所述流体周围，其中 

a)所述有角的形状具有带负半径的边；和/或 

b)有角的形状具有半径在0.05-4mm范围内的角。 

根据本发明的一方面，提供一种器件制造方法，包括： 

提供流体在投影系统和衬底之间； 

通过施加负压到流体处理结构中的多个流体抽取开口上从所述衬底和所述投影系统之间重新回收液体，所述流体抽取开口在平面上以第一有角的形状配置；和 

通过多个流体供给开口供给流体到所述衬底和所述投影系统之间，所述流体供给开口在平面上以第二有角的形状配置， 

其中所述第一和第二有角的形状基本上是类似的，并且其中流体抽取开口位于第一有角的形状的至少一个角的顶点上和/或流体供给开口位于第二有角的形状的至少一个角的顶点上。 

根据本发明的一方面，提供一种器件制造方法，包括： 

通过流体处理结构的多个开口供给流体到所述衬底和所述投影系统之间，其中所述开口在平面上以有角的形状配置并且所述开口在角附近比其他位置更靠近地间隔。 

根据本发明的一方面，提供一种用于光刻设备的流体处理结构。所述流体处理结构具有多个在平面上以第一有角的形状配置的流体抽取开口，和多个在平面上以第二有角的形状配置的流体供给开口。所述流体抽取开口和流体供给开口在使用时被取向朝向衬底和/或构建成支撑所述衬底的衬底台。所述第一和第二有角的形状基本上是类似的。第一有角的形状的角，或第二有角的形状的角，或两者的角，被构建成在使用时与流体处理结构和衬底台之间的相对运动的方向对准。 

附图说明

在此仅借助示例，参照所附示意图对本发明的实施例进行描述，在所附示意图中，相对应的附图标记表示相对应的部分，且其中： 

图1示出根据本发明的实施例的光刻设备； 

图2和3示出用于光刻投影设备中的液体供给系统； 

图4示出用在光刻投影设备中的另一液体供给系统； 

图5示出用在光刻投影设备中的另一液体供给系统； 

图6是根据本发明实施例的弯液面销住系统(meniscus pinning system)的平面示意图； 

图7示出根据本发明实施例的弯液面销住系统在基本上平行于投影系统的光学轴线的平面内的横截面图； 

图8以平面的形式示出根据本发明实施例的流体处理结构的实际实施例； 

图9示出对于不同类型的流体处理结构不同的流体速度下可获得的最大扫描速度； 

图10a-d示出图8的实施例的四种变体； 

图11示出图8实施例的一种变体； 

图12a和12b示出图8和11的实施例的变体； 

图13示出三种不同流体处理结构不同的流速下的最大扫描速度； 

图14是根据本发明实施例的流体处理结构的横截面示意图； 

图15a和15b分别以平面图的形式示出没有落入本发明实施例范围内的流体处理结构和落入本发明实施例范围内的流体处理结构；和 

图16以平面图的形式示出本发明实施例的另一流体处理系统。 

具体实施方式

图1示意地示出了根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括： 

照射系统(照射器)IL，其构建用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或远紫外(EUV)辐射)； 

支撑结构(例如掩模台)MT，其构建用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连； 

衬底台(例如晶片台)WT，其构建用于支撑衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；和 

投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，其构建用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或多根管芯)上。 

照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性 型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。 

所述支撑结构MT支撑图案形成装置。支撑结构MT以依赖于图案形成装置的取向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置。所述支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其他夹持技术保持图案形成装置。所述支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构MT可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。 

这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上所需的图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。 

图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，可以独立地倾斜每一个小反射镜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。 

应该将这里使用的术语“投影系统”广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里使用的任何术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。 

如这里所示的，所述设备可以是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用上面提到的可编程反射镜 阵列的类型，或采用反射式掩模)。 

所述光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台(和/或两个或更多的图案形成装置台)的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台，或可以在将一个或更多个其它台用于曝光的同时，在一个或更多个台上执行预备步骤。 

参照图1，所述照射器IL接收从辐射源SO发出的辐射。该源和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源考虑成光刻设备的组成部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射从所述源SO传到所述照射器IL。在其他情况下，所述源可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述源是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时的所述束传递系统BD一起称作辐射系统。 

所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器。通常，可以对所述照射器的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其他部件，例如积分器IN和聚光器CO。所述照射器可以用来调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀度和强度分布。 

所述辐射束B入射到保持在支撑结构(例如，掩模台)MT上的所述图案形成装置(例如，掩模)MA上，并且通过所述图案形成装置来形成图案。已经穿过图案形成装置MA之后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述PS将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，例如在从掩模库的机械获取之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(在图1中未明确示出)用于将图案形成装置MA相对于所述辐射束B的路径精确地定位。通常，可以通过形成所述第一定位装置PM的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现支撑结构MT的移动。类似地，可以采用形成所述第二定位装置PW的一部分的长行程模块和短行程模块来 实现所述衬底台WT的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，所述支撑结构MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。可以使用图案形成装置对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记占据了专用目标部分，但是他们可以位于目标部分之间的空间(这些公知为划线对准标记)上。类似地，在将多于一个的管芯设置在图案形成装置MA上的情况下，所述图案形成装置对准标记可以位于所述管芯之间。 

可以将所述设备用于以下模式的至少一种： 

1.在步进模式中，在将赋予所述辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上的同时，将支撑结构MT和衬底台WT保持为基本静止(即，单一的静态曝光)。然后将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。 

2.在扫描模式中，在将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上的同时，对支撑结构MT和衬底台WT同步地进行扫描(即，单一的动态曝光)。衬底台WT相对于支撑结构MT的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的动态曝光中的所述目标部分的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描移动的长度确定了所述目标部分的高度(沿所述扫描方向)。 

3.在另一个模式中，将用于保持可编程图案形成装置的支撑结构MT保持为基本静止状态，并且在将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上的同时，对所述衬底台WT进行移动或扫描。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻中。 

也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。 

用于在投影系统PS的最终元件和衬底之间提供液体的结构可以分成两种一般类型。它们是：浴器类型结构，其中基本上整个衬底W和可选 地衬底台WT的一部分浸入到液体的浴器中；和使用液体供给系统的所谓局部浸没系统，其中液体仅提供到衬底的局部区域。在后一种类型中，由液体填满的空间在平面上小于衬底的顶部表面，并且当衬底W在液体填满的区域下面移动的时候该区域相对于投影系统PS保持静止。本发明实施例指出的另一结构是全浸湿解决方案，其中液体是非限制的。在这种结构中，基本上整个衬底顶部表面和衬底台的全部或一部分被浸没液体覆盖。至少覆盖衬底的液体的深度小。液体可以是位于晶片上的液体膜、例如液体薄膜。图2-5中的任何液体供给装置也用于这种系统中。然而，密封特征是不存在的，是未被激活的，没有通常有效或对于将液体仅密封到局部区域是无效的。图2-5中示出了四种不同类型的局部液体供给系统。上面描述了在图2-4中公开的液体供给系统。 

已经提出另一种结构，以提供具有阻挡构件的液体供给系统，阻挡构件沿投影系统的最终元件和衬底台之间的空间的至少一部分边界延伸。这种结构在图5中示出。 

图5示意地示出了具有阻挡构件12的局部液体供给系统或流体处理结构，阻挡构件沿投影系统的最终元件和衬底台WT或衬底W之间的空间的至少一部分边界延伸。(要说明的是，在下文中提到的衬底W的表面如果没有特别地规定，也附加地或可选地表示衬底台的表面)阻挡构件12相对于投影系统在XY平面内基本上是静止的，但是在Z方向上可以存在一些相对移动(在光学轴线的方向上)。在实施例中，在阻挡构件和衬底W的表面之间形成密封，并且可以是非接触密封，例如气体密封或流体密封。 

阻挡构件12至少部分地将液体限制在投影系统PL的最终元件和衬底W之间的空间11内。到衬底W的非接触密封16可以形成在投影系统的像场周围，使得液体被限制在衬底W表面和投影系统PL的最终元件之间的空间内。该空间至少部分地由位于投影系统PL的最终元件的下面和周围的阻挡构件12形成。液体通过液体入口13被引入到投影系统下面和阻挡构件12内的所述空间中。液体可以通过液体出口13被去除。所述阻挡构件12在投影系统的最终元件上面一点延伸。液面高于最终元件使得能提供流体的缓冲器。在一个实施例中，所述阻挡构件12的内周的上端处 的形状与投影系统的形状或投影系统的最终元件的形状一致，例如可以是圆形。在底部，内周与像场的形状大致一致，例如矩形，虽然并不是必须的。 

流体通过在使用时阻挡构件12的底部和衬底W的表面之间形成的气体密封16被限制在空间11中。气体密封由气体形成，例如空气或合成空气，在一个实施例中为氮气N₂或其他惰性气体。该气体密封的气体在压力下通过入口15提供到阻挡构件12和衬底W之间的间隙。该气体通过出口14抽取。气体入口15处的过压、出口14处的真空水平和间隙的几何形状配置成使得形成向内的高速气流16，从而限制液体。气体作用在阻挡构件12和衬底W之间的液体上的力将液体限制在空间11内。入口/出口可以是围绕空间11的环形槽。环形槽可以是连续的或非连续的。气流16有效地将液体限制在空间11中。这种系统在美国专利申请出版物no.US2004-0207824中公开。 

本发明的实施例涉及一种特定类型的用在流体处理结构中的抽取器，其用于防止弯液面向前超出特定的点。也就是说，本发明的实施例涉及一种弯液面销住装置，其将投影系统的最终元件和衬底和/或衬底台之间的空间中的液体的边缘销定在合适的位置。弯液面销住装置依赖于所谓气体阻力抽取器原理，其已经例如在2007年11月30日递交的美国专利申请第US 11/987,569号中描述。在那个系统中，抽取孔以有角的形状设置。这些角与步进和扫描方向对准。与两个出口沿垂直于步进或扫描方向对准相比，这减小了在给定速度时沿步进或扫描方向作用在两个出口之间的弯液面上的力。 

本发明的一个实施例是在这种系统上的改进，其中开口排列形成的有角形状的几何形状允许在扫描和步进两个方向上对准的角为锐角(大约60°到90°之间，希望地75°到90°之间，最希望地是75°到85°之间)。这允许在每个对准的角的方向上提高速度。这是因为减少了由于扫描或步进方向上不稳定的弯液面产生的液滴。在角与扫描和步进方向对准的情况下，可以实现在那些方向上的速度的提高。期望地，在扫描和步进方向上的移动速度可以基本上是相等的。 

图6示意地以平面图示出本发明实施例的流体处理结构或系统的弯液 面销住特征。示出的弯液面销住装置的特征可以例如替代或增大图5中的弯液面销住结构14、15和16。图6中的弯液面销住装置包括多个离散的开口50。这些开口50的每一个以圆形示出，但是这并不是必须的。实际上，这些开口50的一个或更多个可以是选自下面的形状中的一个或更多个形状：正方形、矩形、椭圆形、三角形、伸长的狭缝等。每个开口具有在平面上大于0.2mm的长度尺寸(也就是，从一个开口到邻近开口的方向上)，期望地，大于0.5mm或1mm，在一个实施例中是0.1mm到10mm之间，在一个实施例中是0.25到2mm之间。在一个实施例中，每个开口的宽度在0.1mm到2mm之间。在另一实施例中，每个开口的宽度在0.25mm到1mm之间。 

图6中的弯液面销住装置的开口50中的每一个可以连接到分离的负压源。可选地或附加地，这些开口50的每个或多个可以连接到共同的室(可以是环形的)，该室本身保持在负压下。在这种方式中，可以在这些开口50的每个或多个处获得均衡的负压。开口50可以连接到真空源和/或围绕该流体处理结构或系统(或限制结构、阻挡构件或液体供给系统)的大气可以增大压力以产生所需的压力差。 

在图6中的实施例中，开口是流体抽取开口。也就是说，它们是用于将气体和/或液体通入流体处理结构中的入口。也就是说，入口可以看作从空间11的出口。这将在下文中更详细地描述。然而，当描述图14-16中的实施例时，将会更加清楚，开口同样可以是用于将流体(例如，液体)排出流体处理结构12的出口。也就是说，开口是进入空间11的入口。 

开口50形成在流体处理结构的表面中。该表面在使用时面对衬底和/或衬底台。在一个实施例中，开口在流体处理结构的平的表面上。在一个实施例中，在衬底构件的底部表面上可能存在脊。在该实施例中，开口可以在脊上。在一个实施例，开口50可以由针限定。这些针中的一些针(例如，邻近的针)的主体可以连接在一起。这些针可以连接在一起形成单个主体。单个主体可以形成有角的形状(corner shape)。 

如图7所示，开口50是例如管或伸长的通道55的末端。期望地，开口定位成使得在使用时它们面对衬底W。开口50的边缘(也就是表面外的出口)基本上平行于衬底W的顶部表面。在使用时，开口被取向朝向 衬底和/或构建成支撑衬底的衬底台。这种考虑的另一种方式是，连接开口50的通道55的伸长的轴线基本上是垂直于衬底W的顶部表面的(偏离垂直方向的+/-45°，期望地在偏离垂直方向的35°内、在25°内、甚至在15°内)。 

每个开口50被设计成抽取液体和气体的混合物。液体从空间11中抽取，而气体从位于开口50的另一侧的大气中被抽取到液体中。这产生了如箭头100所示的气流，并且这个气流有效地将开口50之间的弯液面90销住在如图6所示合适的位置。气流有助于通过气流引起的压力梯度和/或通过气流对液体的阻力(剪切)保持由动量阻塞(momentum blocking)限制的液体。 

开口50围绕流体处理结构供给液体的空间。也就是说，开口50基本上是围绕空间连续地间隔(虽然，如下面将要说到的，邻近的开口50之间的间隔可以变化)。这与2007年5月17日递交的美国专利申请no.11/798,928不同，在该专利申请中抽取开口是四个分离的带角的线，而不是有角的形状(沿角之间的边缘的一部分没有开口)。这是因为在美国专利申请no.11/798,928中，在由气刀抽取的位置，液体受迫基本上沿朝向角的切线。在本发明的实施例中，在围绕有角的形状的所有位置抽取液体，并且基本上在液体接触该有角的形状的点处抽取液体。这可以实现，因为围绕(有角的形状)空间的所有位置形成有开口50。 

正如图6所示，开口50被设置成在平面上形成有角的形状(也就是具有角52的形状)。在图6所示的情况中，这是具有弯曲的边缘或边54的方形。边54具有负半径。也就是说，它们在远离角52的区域朝向有角的形状的中心弯曲。 

该方形具有主轴110、120，它们与衬底W在投影系统下面移动的主方向对准。这有助于确保最大扫描速度比开口50被配置成圆形的情况快。这是因为作用在两个开口50之间的弯液面上的力被以因子cosθ减小。这里的θ是连接两个开口50的线相对于衬底移动的方向的角度。 

因此，方形的使用允许在步进和扫描方向上的移动可以处于相同的最大速度。如果在所述方向中的一个方向上的移动，例如希望扫描方向上的移动比步进方向上的移动更快，则可以使用菱形。在这样的设置中，菱形 的主轴可以与扫描方向对准。对于菱形，虽然每个角都可以是锐角，但是菱形的相邻边之间的角，例如在步进方向上的角可以是钝角，也即是大于90°的角(例如在大约90°到120°之间，在一个实施例中是90°到105°之间，或在一个实施例中是85°到105°之间)。 

因而，通过使开口50的形状的主轴与衬底移动的主方向(通常是扫描方向)对准并且使第二主轴与衬底移动的另一主方向(通常是步进方向)对准可以实现最优化的产量。可以认识到，θ不等于90°的任何结构将会是有利的。因而，将主轴与移动的主方向精确对准并不是至关重要的。还可以认识到，如果所述形状是圆形的，将总是存在两个开口，它们与移动方向垂直地对准，使得这两个开口之间的弯液面通过衬底W的移动受到最大的可用的作用力。 

设置具有负半径的边的优点在于角可以变得更尖锐。对于对准扫描方向的角52和对准步进方向的角52，可以获得75到85°之间的角度，或甚至更小的角。如果不是这样的形状，那么为了使沿两个方向对准的角52具有相同的角度，这些角将不得不是90°。如果希望小于90°，将需要选择一个方向具有小于90°的角，结果另一个角将大于90°。正如参照图11和12将要叙述的，可以使这些开口具有星形的形状，其中代替设置弯曲的边，这些边是直的，但是在两个角之间的直线的径向内侧的点处相交(见图11)。然而，正如图13示出的，这种结构可以不如连接这些开口的线是平滑的结构成功，也就是由开口50限定的线和限定有角的形状的线是连续的并且具有连续改变的方向的结构。在星形的实施例中，沿该形状的边的角将销住弯液面。对于尖锐的角，销住弯液面的力集中在该角上，也就是该形状的长度短的边上。更平滑地弯曲的角，例如具有大的曲率半径的角，将销住力沿角的更长的曲线程度分布，也就是在角的周围分布。因此，对于特定的衬底和流体处理结构之间的相对速度，施加到两个角上的有效的弯液面销住力是相等的。但是，对于限定长度的边，对尖锐的角的有效销住力比对于平滑弯角的有效销住力大。这使得销住在尖锐的角处的弯液面在更低的衬底和流体处理结构之间的相对速度时，比由平滑弯角销住的弯液面的稳定性差。 

在实施例中，每个开口50在平面上彼此间隔分开它们的平面尺寸的 0.25到10倍之间。在一个实施例中，开口50之间的间隔是0.1mm到15mm之间。在另一实施例中，开口之间的间隔在1mm到5mm之间。 

图7显示的是开口50设置在流体处理结构的底部40的表面51内。然而这并不是必需的，并且出口50可以位于流体处理结构的底部表面的突出部。箭头100示出从流体处理结构外部进入与开口50相关的通道55的气流，而箭头150示出从空间进入开口50的液体流通。期望地，通道55和开口50设计成使得期望以环状流模式进行两相(也就是液相和气相)抽取，其中气体基本上通过通道55的中心流动，而液体基本上沿通道55的壁流动。这导致脉动低发的平滑流动。 

沿出口50径向内侧可以没有弯液面销住特征。沿开口50径向外侧可以没有其他部件或弯液面特征。因而，对比图5中的液体限制系统，不存在气体入口15或等价物，并且出口14已经被分成几个离散的开口50，每个开口连接到例如负压源。弯液面被销住在具有由进入开口50的气流引起的阻力的开口50之间。大于大约15m/s，期望地20m/s的气体阻力速度是足够的。通过避免使用气刀，来自衬底的液体蒸发量减小，并因而减小液体飞溅和热膨胀/收缩效应。然而，本发明的实施例不限于所示出的结构，并且进一步地弯液面销住特征可以位于开口50的径向内侧和/或径向外侧。 

至少三十六(36)个离散的每个直径为1mm且隔开3.9mm的开口50可以有效地销住弯液面。在另一实施例中，存在一百一十二(112)个开口50。开口50可以是具有0.5mm边长的方形。在这种系统中总的气流是100l/min。在一个实施例中，总的气流在70到130l/min之间。 

流体处理结构的底部的其他几何形状也是可以的。例如，在美国专利申请出版物no.US 2004-0207824中公开的结构中任一个都可以应用到本发明的实施例中。 

图8以平面形式示出本发明的实用的实施例。在图8中，开口50被设置成类似于图6中的开口的有角的形状。然而，在图8中几何形状存在一点不同。那就是，开口50更加密集，并且宽度更小。在图8的实施例中，每边存在27个开口。在实施例中，每条边的长度在50到90mm之间。每个开口50外形接近方形，每边具有0.5mm的长度。 

与图6的实施例一样，图8中的实施例在每个角的顶点位置存在开口。这确保角的顶部开口50在每个与步进或扫描方向不垂直的方向上的边上具有邻近的开口。如果两个开口50在角的顶点的每一边上是等间距的，则这两个开口50之间的线将会垂直于扫描或步进方向，从而在这两个开口50之间的液体弯液面上带来全作用力(full force)。在实施例中，每个角具有0.05-4.0mm范围内的半径。在一个实施例中，该半径在0.5-4.0mm范围内。在一个实施例中，该半径在1-3mm范围内，或在1.5-2.5mm范围内。如果该半径太大，将会减小液体限制性能，因为弯液面的不稳定性将会形成，导致液体的泄露。虽然尖锐的角(根本没有半径)不会降低限制性能，但是半径非常小的角会导致稳定性差的弯液面。期望地，有角的形状至少具有一个这样平滑地弯曲的角。在一个实施例中，角可以没有半径，或在0mm到4mm之间的半径。 

每条边的负半径期望是零或更小。负半径依赖于在(60-90°)的角处所期望的夹角和角之间的间距(在一个实施例中50mm-150mm)而进行选择。因而具有负半径的边沿其长度的至少一部分以连续的方式改变方向。也就是说，不存在方向改变的阶跃改变。看它的可选的方式是，贯穿开口50的线是平滑的。这有助于确保实现弯角的角度在所需范围内的效果。应该认识到，如果使用太小的半径，两个接近不与移动方向对准的角的开口50之间的正切将会比直边的情况更接近于垂直移动方向。然而，尖锐角的效果补偿这个缺点。 

在一个实施例中，开口的有角的形状具有四个角和四条边，每条边具有负的曲率半径。然而，其他有角的形状也是合适的。例如，八条边的形状是有利的，例如以有限的布局空间改善了扫描速度。图10的实施例可以看成八条边，如下所述。 

在图8中，示出了中心开口200。中心开口200限定空间11。在图8的实施例中，中心开口在平面上是圆形的。然而，可以使用其他形状，例如与开口50的形状一样的形状(或在后面所述的实施例中，与另一开口105的形状相同)。其他形状也是合适的。这适合所有的实施例。 

图9示出一些实验结果，说明本发明的实施例的优点。该实验结果是对应开口50的两种不同设置的。在两次实验过程中，衬底和流体处理系 统之间的间隙基本上是相同的。沿X轴线是通过开口的气体流速，沿Y轴线是弯液面破裂前最大扫描速度。菱形表示对应方形且具有直边的开口的最大可实现扫描速度。三角形表示开口50的形状是如图8中所示具有75°角度的弯角且边是弯曲的情形的结果。最大扫描速度在具有75°角度的弯角所在的移动方向的方向上被测量。正如看到的，本发明的实施例可实现的无液体损失的最大可实现扫描速度比方形的具有直边的情形的最大可实现扫描速度大。 

图10a-d示出几种开口50的有角形状的不同的实施例。每个有角的形状具有至少一个具有负曲率半径的边的至少一部分。然而，每条边也可以具有曲率半径为正的部分。具有正半径的部分的顶点可以看成是角，使得该形状是八条边或角的形状。这导致每个形状具有沿每条边的中心部分或角59。中心位置或角59可以比边的其他部分更接近连接两个角52的直线58。相对于其他部分，中心位置或角59可以从直线沿径向更向外侧。直线58可以看成是想象的线，因为其并不存在，仅是用来连接两个邻近的角52的线。 

在图10a中，中心部分59突出，使得其实际上位于两个角52之间的直线58上。 

在图10b中，中心部分59延伸超出两个角52之间的直线，使得其在径向上比直线58更远离中心轴线。 

在图10c中，所有的边在径向上都比直线58更远离中心轴线。图10c的实施例是负半径最小值的形状，也就是基本上是零。在空间对于该形状是有限时该实施例是有用的。 

图10d类似于图10a的实施例，除了中心部分59没有突出足够远以致于其比两个角52之间的假想直线58更接近中心轴。这表明具有负半径的大的值。 

图11示出一个实施例，其类似于图8中的实施例。每个角52具有从两个角52之间的直线径向内侧突出的边。然而，在图11中这些边每一个具有两个直的部分(没有弯曲部分)。直的部分会合到两个角52之间的直线的径向内侧的点。因而，对比于图8的实施例中方向的改变是连续的情形，边的方向的改变是突变的(也就是在点处改变)。这种形状具有弯液 面，特别地在直线的径向内侧的点处有弯液面，其不如由具有平滑地弯曲的边的形状销住的弯液面稳定。 

图12a和12b示出分别类似图8和11的实施例，除了每个角的角度是60°，而图8和11中是75°。这说明对于本发明的实施例角可以具有不同的角度。角的角度在60°到90°之间，或在75°到90°之间，或75°到85°之间可以实现最佳的性能。 

图13示出了类似于图9中的实验结果。在图13中，菱形结果由与图9中的菱形结果相同的流体处理结构得到。在图13中三角形的结果是对应图8中的流体处理系统(与图9中的相同)的。图13中用方形示出的结果是对应图11中的实施例的(具有与三角形结果相同的75°角度的角)，但是具有不连续的边方向。正如看到的，图8中的实施例在多种流速下的性能最佳。图11的实施例性能最差。这说明边的形状是平滑的(也就是方向连续地改变)而不是尖锐(也就是具有方向的突变)的重要性。 

图14示出本发明实施例的流体处理结构的一部分的横截面。流体处理结构形成围绕投影系统PL的最终元件和衬底W之间的空间的阻挡构件12。液体通过如图5中的实施例的入口/出口13被供给到空间11。如参考图6-13所述，一系列的开口50形成在阻挡构件12的底部表面51。在底部表面还形成一个或更多个另一开口105，其是用于使流体(例如液体)排出流体处理结构的出口。另一开口105可以看成供给液体进入空间11的入口。从流体处理系统的出口105出来的液体被引导朝向衬底W。这种类型出口前面已经提供，以便减小因为在衬底W的边缘和衬底台WT之间的间隙内捕获的气体在浸没液体中产生气泡的机会。然而，出口105的几何形状对流体处理结构限制液体的效力有影响。 

具体地，期望流体供给出口105具有这样的形状，在平面上其是有角的，仅类似于开口50的形状。实际上，出口105和开口50的有角的形状期望是基本上类似的。在一个实施例中，每个形状在每个角的顶点处具有出口105和开口50。期望地，多个出口105中的每一个在10mm内，期望地开口50是5mm。也就是说，由开口50组成的形状的所有部分是在由出口105组成的形状的一部分的10mm内。 

以相同的形状设置出口105和开口50的原因在图15a和15b中示出。 在图15a和15b中，开口50每一个具有方形。然而，在图15a中出口105具有圆形，其与投影系统的最终元件的形状相同。相对比，在图15b中出口105与开口50具有基本上相同的形状。 

图15a和15b是流体处理系统在玻璃板上移动时从流体处理系统下面的视图。该视图是通过玻璃板的视图，使得能过看到弯液面90相对于开口50和出口105的位置。在图15a和15b中示出的两种情况中，流体处理系统是静止的，而玻璃板向下移动。 

从图15a中可以看到，在移动过程中弯液面90的位置，尤其是在顶部的角处，从开口50移开，向下朝向出口105。这会导致液滴110留在阻挡构件12的底部表面上。当流体处理系统12与玻璃板的相对移动方向改变，液滴的存在会导致当这些液滴110与弯液面90接触(例如与弯液面碰撞)时气泡会进入液体。所有这样的气泡会乘机进入投影系统PL和衬底W之间的空间11，因而引起成像缺陷。 

在图15b示出的情况中，正如看到的，弯液面90仍然连接到每个开口50。这是因为出口105具有与开口50在平面上基本上相同的形状。实际上，开口50更靠近出口105，如上面讨论的那样。 

出口105在开口50的径向内侧。开口50可以被看成是流体抽取入口，出口105可以看成是流体供给出口。这些开口50可以被看成是具有第一有角的形状，而这些出口105可以被看成是具有第二有角的形状。因而，第一有角的形状和第二有角的形状被同心地配置。开口50或出口105围绕各自的第一和第二有角的形状间隔开。第一和第二有角的形状具有共同的中心和/或轴线(光学轴线)。第二有角的形状形成在第一有角的形状内。 

在图15a中的流体处理结构中从出口105排出朝向开口50的液体的泄露比图15b中的少。可以认为，出口105的径向内侧的液流至少部分地响应于图15b实施例的弯液面稳定性的改善。这种弯液面稳定性的改善允许更快的扫描速度，因而实现更高的产量。 

虽然在从出口105排出的液流变得更大时是可能增大扫描速度的，但是这并不是期望的，因为存在热调节差的液体乘机进入投影系统PS和衬底W之间的空间11的风险。那会导致重叠误差。替代地，提出增大靠近角的出口105的密度并且减小边中间的出口密度，同时保持通过出口105 的总液体流量。这实现所需的效果，即在更高的扫描速度保持稳定的弯液面，而不会增大通过出口105的总的液体流量。可选地，这允许对于给定的最大扫描速度，通过出口的流量被减小。 

图16示出一个这样的实施例。可以明显地看到，在四个角中的每一个角处出口105的密度比其他位置上的出口的密度大。相反，远离角(例如在每条边的中心)的开口的密度一般小于每毫米0.5个开口。在一个实施例中，在角部的开口的密度是远离角部的开口密度的1到5倍之间。在另一实施例中，在角部的开口的密度是远离角部的开口密度的1到3倍之间。 

正如认识到的，上面所述的特征的任一个可以与任何其他特征一起使用，并且不仅是在本申请中包含的明确描述的那些组合。 

虽然本专利详述了光刻设备在制造ICs中的应用，应该理解到，这里描述的光刻设备可以有其它的应用，例如制造集成光电系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCDs)、薄膜磁头等。本领域技术人员应该看到，在这种替代应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、测量工具和/或检验工具中。在可应用的情况下，可以将这里公开内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。 

这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)。这里使用的术语“透镜”可以认为是一个或多种光学元件的组合体，包括折射型和反射型光学部件。 

上面已经描述了本发明的特定的实施例，但应该理解本发明可以应用到除上面所述以外的情形。例如，本发明可以具有至少一个包含至少一个可机读的指令序列的计算机程序描述以上公开的方法，或一个存储所述的计算机程序的数据存储媒介(例如半导体存储器、磁盘或光盘)。此外， 机器可读指令可以装入两个或更多个计算机程序。该两个或更多个计算机程序可以存储在一个或更多个不同的存储器和/或数据存储媒介中。 

当通过光刻设备内的至少一个部件内的一个或更多个计算机处理器读取一个或更多个计算机程序时，这里所述的控制器可以单个或组合进行操作。控制器可以每个或组合具有任何合适的用于接收、处理和发送信号的结构。一个或更多个处理器被构建成与至少一个控制器连接。例如，每个控制可以包括一个或更多个用于处理计算机程序的处理器，该计算机程序包括用于上面所述方法的机器可读指令。控制器包括用于存储这种计算机程序的数据存储媒介，和/或用以接收这种媒介的硬件。因而，控制器可以根据一个或更多个计算机程序的机器可读指令运行。 

本发明的一个或更多个实施例可以应用到任何浸没光刻设备中，具体地，但不排他地，应用到上面提到的那些类型以及那些浸没液体是以浴器的形式提供、仅提供到衬底的局部表面区域、或没有被限制的光刻设备中。在非限制的配置中，浸没液体可以在所述衬底和/或衬底台的所述表面上流动，使得整个未覆盖的衬底和/或衬底台的表面都被浸湿。在这种非限制浸没系统中，液体供给系统不限制浸没流体，或者提供一定比例的浸没液体限制，但基本上不是完全的浸没液体限制。 

这里提到的液体供给系统应该是广义的解释。在某些实施例中，液体供给系统是一种装置或结构的组合，其提供液体到投影系统和衬底和/或衬底台之间的空间。液体供给系统包括一个或更多个结构、包括一个或更多个液体开口的一个或更多个流体开口、一个或更多个气体开口或一个或更多个用于两相流动的开口的组合。所述开口可以每一个是进入浸没空间的入口(或流体处理结构的出口)或浸没空间的出口(或进入流体处理结构的入口)。在一个实施例中，所述空间的表面是衬底和/或衬底台的一部分，或者所述空间的表面完全覆盖衬底和/或衬底台的表面，或者所述空间包围衬底和/或衬底台。液体供给系统可以任意地进一步包括一个或更多个元件用以控制位置、数量、质量、形状或液体的其他任何特征。 

在实施例中，提供一种用于光刻设备的流体处理结构。流体处理结构具有多个在平面上以有角的形状布置的开口。流体处理结构被配置成使得所述开口在使用时被取向朝向衬底和/或配置成支撑所述衬底的衬底台。有角的形状具有半径为负的边。有角的形状具有半径在0.05-4mm范围内的弯角。

有角的形状具有四个角和四条边，每条边具有负的曲率半径。有角的形状具有半径为负的边，并且有角的形状具有至少一个平滑地弯曲的角。有角的形状具有沿其长度的至少一部分连续地改变方向的半径为负的边。有角的形状的角具有0.05-4.0mm范围内的半径。有角的形状具有至少一个平滑地弯曲的角。该平滑地弯曲的角具有0.5-4.0mm范围内的半径。该半径在1-3mm范围内，或在1.5-2.5mm范围内。 

开口是用于使气体和/或液体进入流体处理结构的入口。该开口是用于使流体从流体处理结构中排出的出口。该开口在角附近比其他位置更靠近地间隔。贯穿开口的线是平滑的。开口位于有角的形状的至少一个角的顶点处。开口围绕空间，流体处理结构配置成供给流体到该空间。开口围绕该空间所有位置形成。 

在实施例中，有角的形状的至少一个角具有60到90度之间的角，或75到90度之间的角，或75到85度之间的角。该角或每个角具有60到90度之间的角，或75到90度之间的角，或75到85度之间的角。有角的形状包括八个角。由开口限定且限定有角的形状的线是连续的并且具有连续改变的方向。 

在实施例中，光刻设备包括流体处理结构。在使用时，有角的形状的至少一个角指向扫描或步进的方向。 

在实施例中，提供用于光刻设备的流体处理结构。该流体处理结构具有多个在平面上以第一有角的形状布置的流体抽取开口，和多个在平面上以第二有角的形状布置的流体供给开口。流体抽取开口和流体供给开口在使用时被取向朝向衬底和/或配置成支撑该衬底的衬底台。第一和第二有角的形状基本上是类似的。流体抽开口位于第一有角的形状的至少一个角的顶点和/或流体供给开口位于第二有角的形状的至少一个角的顶点。 

流体供给开口位于流体抽取开口的径向内侧。第一有角的形状和第二有角的形状共心地设置。流体供给开口在角附近比其他位置更靠近地间隔。流体抽取开口或流体供给开口分别彼此等间隔地围绕各自的第一或第二有角的形状。第一和第二有角的形状具有共同的中心和/或轴。第二有角 的形状形成在第一有角的形状内。 

第一有角的形状、或第二有角的形状、或两者具有半径为负的边和平滑地弯曲的角。第一有角的形状、或第二有角的形状、或两者具有半径在0.05-4mm范围之间的角。第一有角的形状或第二有角的形状、或两者具有四个角和四条边，每条边具有负的曲率半径。 

流体抽取开口和/或流体供给开口分别围绕第一和/或第二形状所有位置形成。第一有角的形状的所有部分在第二有角的形状的一部分的10mm内。 

提供一种光刻设备，其包括流体处理结构。在使用时，第一和第二有角的形状的至少一个角指向扫描或步进方向。 

提供一种用于光刻设备的流体处理结构。流体处理结构具有多个平面上以有角的形状布置的开口。流体处理结构配置成使得该开口在使用时被取向朝向衬底和/或配置成支撑衬底的衬底台。该开口在角附近比其他位置更靠近地间隔。 

在角部的开口的密度是远离角部的开口密度的1到5倍之间。在角部的开口的密度是远离角部的开口的密度的1到3倍之间。开口是流体供给出口。流体处理结构包括多个该开口的径向内侧的流体抽取入口。提供一种包括流体处理结构的光刻设备。在使用时，有角的形状的至少一个角指向扫描或步进的方向。 

提供一种器件制造方法。该方法包括：提供流体在投影系统和衬底之间；和通过施加负压到流体处理结构中的多个开口上而从所述衬底和所述投影系统之间重新回收液体。开口在平面上以有角的形状布置围绕投影系统和衬底之间的流体。有角的形状具有半径为负的边和/或有角的形状具有半径在0.05-4.0mm范围内的角。 

提供一种器件制造方法。该方法包括：提供流体在投影系统和衬底之间；和通过施加负压到流体处理结构中的多个流体抽吸开口上从所述衬底和所述投影系统之间重新回收液体，流体抽取开口在平面上以第一有角的形状布置；以及通过多个流体供给开口供给流体到衬底和投影系统之间。流体供给开口在平面上以第二有角的形状布置。第一和第二有角的形状基本上是类似的。流体抽取开口位于第一有角的形状的至少一个角的顶点和 /或流体供给开口位于第二有角的形状的至少一个角的顶点。 

提供一种器件制造方法。该方法包括：通过流体处理结构的多个开口在投影系统和衬底之间供给液体。该开口在平面上以有角的形状布置，并且该开口在角附近比其他位置更接近地间隔。 

提供一种用于光刻设备的流体处理结构。该流体处理结构具有多个在平面上以第一有角的形状布置的流体抽取开口，和多个在平面上以第二有角的形状布置的流体供给开口。流体抽取开口和流体供给开口在使用时被取向朝向衬底和/或衬底台。衬底台被配置成支撑衬底。第一和第二有角的形状基本上是类似的。第一有角的形状的角、或第二有角的形状的角或两者被配置成在使用时与流体处理结构和衬底台之间的相对移动的方向对准。 

光刻设备包括配置成支撑衬底的衬底台和流体处理结构。光刻设备包括配置成控制流体处理结构和衬底台的相对移动方向、使得第一有角的形状和第二有角的形状中的至少一个角与相对移动的方向对准的控制器。 

上面描述的内容是例证性的，而不是限定的。因而，应该认识到，本领域的技术人员在不脱离以下所述权利要求的范围的情况下，可以对上述本发明进行更改。 

Claims (15)

1.一种用于光刻设备的流体处理结构，光刻设备包括投影系统和用于支撑衬底的衬底台，流体处理结构提供浸没液体以填充投影系统的最终元件和衬底台、由衬底台支撑的衬底的表面或两者之间的空间，流体处理结构围绕空间的边界延伸并将液体限制在该空间，

所述流体处理结构具有多个在平面上以有角的形状排列并布置的开口，所述流体处理结构配置成使得所述开口在使用时被取向朝向衬底和/或配置成支撑所述衬底的衬底台，其中

所述有角的形状具有半径为负的边使得所述边在远离角的区域朝向有角的形状的中心弯曲。

2.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有半径在0.05-4mm范围内的角。

3.如权利要求1或2所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有至少四个角和至少四条边，每条边具有负的曲率半径。

4.如权利要求1或2所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有半径为负的边，并且有角的形状具有至少一个平滑地弯曲的角。

5.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有半径为负且沿其长度的至少一部分连续地改变方向的边。

6.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述有角的形状具有至少一个平滑地弯曲的角。

7.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述开口是用于使气体和/或液体通入所述流体处理结构的入口。

8.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述开口是用于使流体从所述流体处理结构中流出的出口。

9.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述有角的形状的至少一个角具有60到90度之间的角度。

10.如权利要求1所述的流体处理结构，其中所述有角的形状的至少一个角具有75到90度之间的角度。

11.如权利要求1所述的流体处理结构，其中由所述开口限定且限定所述有角的形状的线是连续的，并且具有连续改变的方向。

12.一种包括前面权利要求中任一个所述的流体处理结构的光刻设备。

13.如权利要求12所述的光刻设备，其中在使用时所述有角的形状的至少一个角指向扫描或步进的方向。

14.一种器件制造方法，包括：

提供流体在投影系统和衬底之间；和

通过施加负压到流体处理结构中的多个开口上而从所述衬底和所述投影系统之间重新回收液体，所述开口在平面上以有角的形状排列并布置在所述投影系统和所述衬底之间的所述流体周围，其中

所述有角的形状具有半径为负的边使得所述边在远离角的区域朝向有角的形状的中心弯曲。

15.如权利要求14所述的器件制造方法，其中所述有角的形状具有半径在0.05-4.0mm范围内的角。

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