CN101561729B - 触控电路的透明基板双面导电膜的制法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法，包含在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层，并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层；对该第一光阻层进行曝光，促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具可供识别颜色的电路图形；利用第一次曝光的电路图形作为第二光阻层的曝光的对位基准，并对该第二光阻层进行曝光；对该透明基板双面进行显影及蚀刻，促使该第一导电基材层形成一触控电路的一第一导电膜，且该第二导电基材层形成该触控电路的一第二导电膜，据以简化触控电路的布设程序，进而具备缩减工时与降低成本的优点。
Description
技术领域
本发明涉及一种触控电路的制法，具体涉及一种以溅镀、曝光、显影、蚀刻等方法在透明基板双面布设形成触控电路的导电膜的制作方法。
背景技术
现在常见的触控板(Touch Panel)，通常为电阻式和电容式的触控板。其中电阻式的触控板，可用手指、笔或其它媒介物对面板表面进行按压，产生触控讯号，但是相对于电阻式触控板来说，电容式触控板仅需用手指对面板表面轻微触压，即可产生触控讯号，在使用上具有较佳的灵敏度；因此，现有较为先进的行动电话、全球定位系统(GPS)、个人数位助理(Personal Digital Assistant，PDA)、掌上型电脑(Palm-Sized PC)和资讯家电(Information Appliance)等电子产品的触控板，大都是以电容式触控板为主。上述电容式触控板内一般都具有一触控电路，利用溅镀、曝光、显影、蚀刻等方法，将透明导电材料(如氧化铟锡Indium Tin Oxide，ITO)逐一堆迭在一玻璃基板(Glass Substrate)的双侧表面上，形成触控板，触控板包含一形成于透明基板顶面的上层导电膜和一形成于透明基板底面的下层导电膜；因此，可利用上层和下层导电膜与人体之间所产生的电容效应，检测因电容效应所产生的诱导电流来进一步计算其触控位置的座标。
且知，上述触控电路的制作方式，传统上是在一玻璃基板的顶面及底面分别真空溅镀一上层导电基材和一下层导电基材，并在该上层导电基材表面粘和(Contact)一上光阻层，然后于该下层导电基材表面粘和一保护层；使用一具镂空电路图样的光罩覆盖在该上光阻层上方，并使用紫外线光通过该镂空电路图样对该上光阻层进行曝光；在该上光阻层表面分布显影剂以进行显影，促使该上层导电基材裸露出一待接受蚀刻的区域；将该上层导电基材裸露出的区域浸泡蚀刻剂以进行蚀刻，促使该上层导电基材形成一上层导电膜，并除去该上层导电膜表面的残余光阻，以及该下层导电基材表面的保护层；随后，在该下层导电基材表面附着一下光阻层，同时于该上层导电膜表面粘和一保护层；使用另一具镂空电路图样的光罩覆盖在该下光阻层上方，并利用该上层导电膜作为光罩，并根据上光阻电路图形的对位基准，所述光罩覆盖于该下光阻层上方，使用一影像视觉器(CCD)撷取该上层导电膜的影像供光罩进行对位，并使用紫外线光通过该镂空电路图样对该下光阻层进行曝光；在该下光阻层表面分布显影剂以进行显影，促使该下层导电基材裸露出一待接受蚀刻的区域；将该下层导电基材裸露出的区域浸泡蚀刻剂以进行蚀刻，促使该下层导电基材形成一下层导电膜，并除去该下层导电膜表面的残余光阻，以及该上层导电基材表面的保护层。
但是，上述传统的触控电路制作方式，必须先后重复进行多次附着及除去光阻层、保护层的步骤，且还必须重复进行多次显影和蚀刻等制程，具有耗费制程工时与材料成本的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可对透明基板双面同时进行显影及蚀刻，以简化触控电路的布设形成程序的触控电路的透明基板双面导电膜的制法。
为达上述目的，本发明具体的内容为：
一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法，包含：
在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层，并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层；
对该第一光阻层进行曝光，促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具供识别颜色的电路图形；
利用该电路图形作为第二光阻层曝光用的对位基准进行位置调整，并对该第二光阻层进行曝光；
对该透明基板双面同时进行显影，使第一导电基材层及第二导电基材层各自裸露出一待接受蚀刻的区域；
对第一导电基材层及第二导电基材层裸露的区域同时进行蚀刻，促使第一导电基材上层形成一触控电路的一第一导电膜，且第二导电基材上层形成该触控电路的一第二导电膜。
其中该透明基板为一触控板的透明基板或一显示面板的上层透明基板。
其中光阻层为正光阻或负光阻。
其中该第一导电基材层与该第二导电基材层由透明的导电材料制成。
其中该第一光阻层使用一具镂空电路图样的第一光罩覆盖而接受紫外线光进行曝光，该第二光阻层也使用一具镂空电路图样的第二光罩覆盖而接受紫外线光进行曝光，且第一光阻层使用的具镂空电路图样作为第二光阻层与第二光罩的对位基准。
其中该第一光阻层与该第二光阻层为非同步曝光。
其中还包含：在该第一导电膜与该第二导电膜形成后一同以除光阻剂除去残余的第一及第二光阻层，完全裸露第一导电膜与第二导电膜。
其中该感光变色剂为有机双键烯类物质所组成。
其中该透明基板的第一表面位于该透明基板的顶面，该第一导电基材层位于该透明基板顶面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜，该透明基板的第二表面是位于该透明基板的底面，该第二导电基材层位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜。
其中该透明基板的第一表面是位于该透明基板的底面，该第一导电基材层位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜，该透明基板的第二表面是位于该透明基板的顶面，该第二导电基材层位于该透明基板底面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜。
依据上述可知本发明方法的效果在于，所述透明基板双面的导电膜能在单一次的显影及蚀刻制程中布设形成，以简化触控电路的布设制程，进而具备缩减工时与降低成本的优点。
附图说明
图1：为本发明第一实施例的配置状态剖示图。
图2：为图1的实施状态剖示图。
图3：为图1的另一实施状态剖示图。
图4：为图1的次一实施状态剖示图。
图5：为图1的再一实施状态剖示图。
图6：为图1的又一实施状态剖示图。
图7：为本发明第二实施例的配置状态剖示图。
图8：为图7的施状态剖示图。
图9：为图7的另一实施状态剖示图。
图10：为图7的次一实施状态剖示图。
图11：为图7的再一实施状态剖示图。
图12：为图7的又一实施状态剖示图。
具体实施方式
以下就本发明触控电路的透明基板双面导电膜的制法的步骤和所能产生的功效，配合附图以较佳实施例详细说明如下：
请参阅图1所示，为本发明实施例的配置状态剖示图，并配合图2至图6说明本发明触控电路的透明基板双面导电膜的制法，包含有下列步骤：
(1)将一透明基板1摆放于溅镀设备内，以真空溅镀的方式在透明基板1的第一表面溅镀形成一第一导电基材层；在本实施上，透明基板1的第一表面是位于该透明基板1的顶面，第一导电基材层为该透明基板1顶面的上导电基材层21(如图1所示)，同时在透明基板1的第二表面溅镀形成一第二导电基材层；在本实施上，该透明基板1的第二表面是位于该透明基板1的底面，该第二导电基材层为该透明基板1底面的下导电基材层22；该透明基板1可为玻璃、胶膜或胶壳，且该透明基板1实质上可为一触控板的透明基板；或者，该透明基板1可为一显示面板的上层透明基板；该上导电基材层21与该下导电基材层22可由透明的导电材料制成，该透明的导电材料可以选用氧化铟锡(ITO)或其他导电材料，而以溅镀或其他等效方式附着于该透明基板1的顶面及底面。
(2)在该上导电基材层21表面附着一具有感光变色剂的第一光阻层31(如图1所示)，并在该下导电基材层22表面附着一第二光阻层32，其中附着的形式可以是以涂布、喷洒或其它的等效方式完成。该第一光阻层31和第二光阻层32在本实施上为正光阻(Positive Photoresist)，该正光阻接受紫外线光照射(曝光)的区域可被浸泡显影剂溶解，且正光阻在未接受紫外线光照射的区域难以被显影剂溶解，这样可以保留正光阻未接受紫外线光照射的区域；该感光变色剂为有机双键烯类物质所组成，且该感光变色剂接受紫外线光照射后会改变颜色。
(3)使用一具有镂空电路图样41的第一光罩4(如图2所示)，覆盖在该第一光阻层31上方，并使用一紫外线灯提供紫外线光，通过该镂空电路图样41对第一光阻层31实施照射，以进行第一光阻层31的曝光制程，促使第一光阻层31接受曝光区域形成一具有可供识别颜色的电路图形311，其中之所以能识别颜色，是因形成第一光阻层的感光变色剂材质具有敏感性低的特性，因此在曝光时会造成光阻层的色差，进而提供识别的效果。
(4)翻转该透明基板1，让第二光阻层32朝向上方(如图3所示)；使用一具有镂空电路图样51的第二光罩5，覆盖于该第二光阻层32上方，并利用电路图形311作为该第二光罩5与该第二光阻层32的对位基准；使用一影像对比器(例如：CCD)经由识别该电路图形311的色差颜色以撷取该电路图形311的影像，并为第二光罩5进行对位，进而校正该第二光罩5在第二光阻层32上方的位置；使用紫外线灯提供紫外线光，通过镂空电路图样51对该第二光阻层32实施照射，进行第二光阻层32的曝光制程。
(5)在第一光阻层31与第二光阻层32表面附着显影剂，同时对透明基板1双面进行显影程序，致使第一光阻层31与第二光阻层32接受曝光的区域受到显影剂溶解(如图4所示)，使上导电基材层21和下导电基材层22各自裸露出一待接受蚀刻的区域。
(6)将透明基板1浸泡在蚀刻用的蚀刻剂中，同时对透明基板1双面进行蚀刻制程，使上导电基材层21及下导电基材层22裸露的区域受到该蚀刻剂溶解(如图5所示)，促使该上导电基材层21形成触控电路6的第一导电膜；在本实施上，该第一导电膜为上导电基材层21形成的上层导电膜61，且下导电基材层22形成触控电路6的第二导电膜；在本实施上，第二导电膜为下导电基材层22形成的下层导电膜62。
(7)在该上层导电膜61表面残余的第一光阻层31与该下层导电膜62表面残余的第二光阻层32上涂洒去除光阻用的除光阻剂，以同时除去该上层与下层导电膜61、62表面残余的第一及第二光阻层31、32，并完全裸露上层导电膜61与下层导电膜62(如图6所示)。
依据上述可知，该透明基板1双面的导电膜61、62能在单一次的显影及蚀刻制程中同时布设形成，进而简化触控电路6的布设制程。
在上述实施例中，是以正光阻的曝光方式进行，其方发为显影并去除光阻层的曝光区域，而以下将提及的另一实施例则是以负光阻的曝光形式进行，其与正光阻曝光形式相反，即曝光区域会被留下来进行后续的蚀刻制程。
请参阅图7所示，为本发明第二实施例的配置状态剖示图，并配合图8至图12说明本发明触控电路的透明基板双面导电膜的制法，包含有下列步骤：
(1)以真空溅镀的方式在一透明基板1a的第一表面溅镀形成一第一导电基材层；在本实施上，透明基板1a的第一表面是位于该透明基板1a的顶面，第一导电基材层为透明基板1a顶面的上导电基材层21a(如图7所示)，同时在透明基板1a的第二表面溅镀形成一第二导电基材层；在本实施上，该透明基板1a的第二表面是位于该透明基板1a的底面，该第二导电基材层为透明基板1a底面的下导电基材层22a；该透明基板1a可为玻璃、胶膜或胶壳，且该透明基板1a实质上可为一触控板的透明基板；或者，该透明基板1a也可为一显示面板的上层透明基板；该上导电基材层21a与该下导电基材层22a可由透明的导电材料制成，该透明的导电材料可以是选用氧化铟锡或其它导电材料，并以溅镀或其它等效方式附着在透明基板1a的顶面及底面。
(2)在该上导电基材层21a表面附着一具有感光变色剂的第一光阻层31a(如图7所示)，并在该下导电基材层22a表面附着一第二光阻层32a；该第一光阻层31a和第二光阻层32a在本实施上为负光阻(Negative Photoresist)，该负光阻未接受紫外线光照射的区域能经浸泡显影剂而溶解，且负光阻接受紫外线光照射的区域难以被显影剂溶解，所以可以保留负光阻接受紫外线光照射的区域；该感光变色剂为有机双键烯类物质所组成，且该感光变色剂接受紫外线光照射后会改变颜色。
(3)使用一具有镂空电路图样41a的第一光罩4a(如图8所示)，覆盖于第一光阻层31a上方，并使用一紫外线灯提供紫外线光，通过镂空电路图样41a对第一光阻层31a实施照射，以进行第一光阻层31a的曝光制程，使第一光阻层31a接受曝光区域形成具有可供识别颜色的电路图形311a。
(4)翻转该透明基板1a，让第二光阻层32a朝向上方(如图9所示)；使用一具有镂空电路图样51a的第二光罩5a，覆盖于第二光阻层32a上方，并利用电路图形311a作为第二光罩5a与第二光阻层32a的对位基准；使用一影像对比器(例如：CCD)识别该电路图形311a的颜色以撷取电路图形311a的影像，并提供给第二光罩5a进行对位，进而校正第二光罩5a位于第二光阻层32a上方的位置；使用紫外线灯提供的紫外线光，通过该镂空电路图样51a对该第二光阻层32a实施照射，以进行该第二光阻层32a的曝光制程。
(5)在第一光阻层31a与第二光阻层32a表面附着显影剂，以同时对该透明基板1a双面进行显影程序，使第一光阻层31a与第二光阻层32a未接受曝光的区域受到显影剂溶解(如图10所示)，使上导电基材层21a及下导电基材层22a各自裸露出一待接受蚀刻的区域。
(6)将该透明基板1a浸泡于蚀刻用的蚀刻剂中，同时对透明基板1a双面进行蚀刻程序，使上导电基材层21a及下导电基材层22a裸露的区域受到蚀刻剂溶解(如图11所示)，促使该上导电基材层21a形成一触控电路6a的第一导电膜；在本实施上，该第一导电膜为该上导电基材层21a形成的上层导电膜61a，且下导电基材层22a形成触控电路6a的第二导电膜；在本实施上，该第二导电膜为下导电基材层22a形成的下层导电膜62a。
(7)在该上层导电膜61a表面残余的第一光阻层31a与该下层导电膜62a表面残余的第二光阻层32a上涂洒去除光阻用的除光阻剂，同时除去该上层与下层导电膜61a、62a表面残余的第一及第二光阻层31a、32a，并完全裸露上层导电膜61a与下层导电膜62a(如图12所示)。
据此，该透明基板1a双面的导电膜61a、62a能在一次的显影及蚀刻制程中同时布设形成，进而简化触控电路6a的布设程序，而缩减工时。
此外，该透明基板1a的第一表面还可位于该透明基板的底面，该第一导电基材层亦可位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜，该透明基板的第二表面也可位于该透明基板的顶面，该第二导电基材层也可位于该透明基板底面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜。
本发明虽由前述实施例来描述，但仍可变化其形态与细节，在不脱离本发明的精神下制作。前述为本发明最合理的使用方法，仅为本发明可以具体实施的方式之一，但并不以此为限。
Claims (10)
1.一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，包含：
在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层，并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层；
对该第一光阻层进行曝光，促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具供识别颜色的电路图形；
利用该电路图形作为第二光阻层曝光用的对位基准进行位置调整，并对该第二光阻层进行曝光；
对该透明基板双面同时进行显影，使第一导电基材层及第二导电基材层各自裸露出一待接受蚀刻的区域；
对第一导电基材层及第二导电基材层裸露的区域同时进行蚀刻，促使第一导电基材上层形成一触控电路的一第一导电膜，且第二导电基材上层形成该触控电路的一第二导电膜。
2.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该透明基板为一触控板的透明基板或一显示面板的上层透明基板。
3.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中光阻层为正光阻或负光阻。
4.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该第一导电基材层与该第二导电基材层由透明的导电材料制成。
5.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该第一光阻层使用一具镂空电路图样的第一光罩覆盖而接受紫外线光进行曝光，该第二光阻层也使用一具镂空电路图样的第二光罩覆盖而接受紫外线光进行曝光，且第一光阻层使用的具镂空电路图样作为第二光阻层与第二光罩的对位基准。
6.如权利要求5所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该第一光阻层与该第二光阻层为非同步曝光。
7.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中还包含：在该第一导电膜与该第二导电膜形成后一同以除光阻剂除去残余的第一及第二光阻层，完全裸露第一导电膜与第二导电膜。
8.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该感光变色剂为有机双键烯类物质所组成。
9.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该透明基板的第一表面位于该透明基板的顶面，该第一导电基材层位于该透明基板顶面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜，该透明基板的第二表面是位于该透明基板的底面，该第二导电基材层位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜。
10.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该透明基板的第一表面是位于该透明基板的底面，该第一导电基材层位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜，该透明基板的第二表面是位于该透明基板的顶面，该第二导电基材层位于该透明基板底面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜。
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Owner name: WEIHONG (XIAMEN) OPTICAL CO., LTD. Free format text: FORMER OWNER: TRENDON ELECTRONICS CO., LTD. Effective date: 20120705 |
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Effective date of registration: 20120705 Address after: 361026 40, Seaview Road, Haicang export processing zone, Fujian, Xiamen Patentee after: Weihong (Xiamen) Optical Co., Ltd. Address before: Taiwan, Taipei, China Charity road 3 paragraph 136, No. 14F Patentee before: TrendOn Electronics Co., Ltd. |
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