CN101506885B - 绘制方法、绘制装置和信息记录介质 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种绘制方法和装置，电子束被照射到物体表面上，以在物体表面上沿着扫描线绘制图案。通过物体相对于电子束的相对运动，由电子束在物体表面上沿着扫描线形成图案。沿着与扫描线相交的第一方向和与第一方向相反的第二方向中的一个方向，以不导致在物体表面上形成图案的速度偏转电子束，而不进行中断，使得被偏转的电子束的束点定位在物体表面上的其中一条扫描线上。绘制步骤和偏转步骤交替重复进行。

Description

绘制方法、绘制装置和信息记录介质
技术领域
本发明涉及一种绘制方法、绘制装置和信息记录介质。更具体地说，本发明涉及其中电子束照射到物体的表面上以在物体表面上绘制图案的绘制方法和绘制装置。并且本发明涉及利用绘制方法和装置在记录表面上形成图案的信息记录介质。
背景技术
近年来，在信息数字化领域，对光盘的大存储容量的需求越来越大。下一代光盘的研发迅猛进行，在这种光盘上，例如，利用波长400nm量级的照射紫外光束记录和再现信息，从而取代现有光盘如CD(致密盘)或DVD(数字多用途盘)的研究和发展。
而且，在磁盘装置如硬盘驱动器的领域中，磁盘装置的小型化和记录密度的提高是重要议题。近年来，已经出现了构图介质，在该构图介质上，在介质的表面上事先形成用于实现记录头高级寻轨(advanced tracking)的图案。
在构图介质和下一代光盘的底层衬底(母盘)的制造过程中，在这些介质的相应记录层上形成非常小凹坑的图案。已经广泛采用能够在记录介质上绘制极其细的线的图案的电子束绘制装置。
例如，日本专利申请公开说明书第2002-288890号和日本专利申请公开说明书第2003-248983号公开了这种类型的电子束绘制装置。这种类型的电子束绘制装置设置成在衬底上绘制极其细的线的图案，该衬底诸如是硅晶片，其上涂覆光阻材料。在衬底上绘制这种图案时，照射到衬底上的电子束被偏转同时衬底被旋转。电子束中断(blanking)和衬底被电子束照射反复进行，使得在衬底表面上绘制出螺旋或同心圆图案。
但是，根据现有技术的绘制方法和装置对于在记录介质表面上以足够精度高速绘制图案来说是不足够的。
发明内容
根据本发明的一个方面，提供了一种改善的绘制方法和装置，其中消除了上述问题。
根据本发明的一个方面，提供了一种绘制方法，该方法在物体表面上以足够精度高速绘制图案。
根据本发明的一个方面，提供了一种绘制装置，该绘制装置在物体表面上以足够精度高速绘制图案。
在解决或减轻一个或多个问题的本发明的实施方式中，提供了一种绘制方法，其中电子束被照射到物体的表面上，以在物体的表面上沿着扫描线绘制图案，该绘制方法包括如下步骤：通过物体相对于电子束的相对运动，借助于电子束在物体表面上沿着扫描线绘制图案；在与扫描线相交的第一方向和与第一方向相反的第二方向中的一个方向上，以不会导致在物体表面上形成图案的速度偏转电子束，而不执行中断，使得被偏转的电子束的束点(beam spot)位于物体表面上的其中一条扫描线上；以及交替地重复绘制步骤和偏转步骤。
上述绘制方法可以被设计成使得偏转步骤设置成在第一方向和第二方向中的一个方向上周期地偏转电子束，使得被偏转的电子束的束点交替地定位于扫描线中的第一扫描线和第二扫描线中的一条上。
上述绘制方法可以被设计成绘制步骤被设置成转动物体以使得物体相对于电子束相对运动。
在解决或减轻一个或多个问题的本发明的实施方式中，提供了一种信息记录介质，在该信息记录介质上，通过上述绘制方法在记录表面上形成周期图案。
在解决或减轻一个或多个问题的本发明的实施方式中，提供了一种绘制装置，该绘制装置将电子束照射到物体表面上，以在物体表面上沿着扫描线绘制图案，该绘制装置包括：发射电子束的电子源；将由电子源发射的电子束会聚到物体表面上的物镜；输出脉冲信号的脉冲振荡器，该脉冲信号限定要绘制在物体表面上的图案；偏转单元，该偏转单元响应于来自脉冲振荡器的脉冲沿着与扫描线相交的第一方向和与第一方向相反的第二方向中的一个方向，以不会导致在物体表面上形成图案的速度偏转电子束，而不进行电子束的中断，使得被偏转的电子束的束点定位于物体表面上的其中一条扫描线上，以及移动单元，该移动单元使得物体相对于电子束相对运动。
上述绘制方法可以被设计成偏转单元在第一方向和第二方向中的一个方向上周期地偏转电子束，使得被偏转的电子束的束点交替地定位于扫描线中第一扫描线和第二扫描线中的一条上。
上述绘制方法可以被设计成移动单元旋转物体，使得物体相对于电子束相对运动。
在解决或减轻一个或多个上述问题的本发明的实施方式中，提供了一种信息记录介质，通过利用绘制装置在记录表面上形成周期性图案，该绘制装置将电子束照射到信息记录介质的表面上，以在信息记录介质的表面上沿着扫描线绘制图案，该绘制装置包括：发射电子束的电子源；将电子源发出的电子束汇聚在信息记录介质表面上的物镜；输出脉冲信号的脉冲振荡器，该脉冲信号限定了要在信息记录介质表面上绘制的图案；偏转单元，该偏转单元响应于来自脉冲振荡器的脉冲信号以不会导致在信息记录介质表面上形成图案的速度沿着与扫描线相交的第一方向和与第一方向相反的第二方向中的一个方向在信息记录介质表面上偏转电子束，而不执行中断，使得被偏转的电子束的束点定位在信息记录介质表面上的其中一条扫描线上；以及移动单元，该移动单元相对于电子束移动信息记录介质。
根据本发明的绘制方法和绘制装置的实施方式，有可能以足够的精度在物体表面上高速绘制图案。
附图说明
在结合附图考虑时，本发明的其它目的、特征和优点将从下面详细描述中理解到，图中：
图1是示出本发明的实施方式中真空绘制装置的结构的示意图；
图2示出在图1的真空绘制装置中照射装置的结构的放大图；
图3A是衬底W的平面图；
图3B是示出在图3A的衬底W的区域MA内，在小区域PA内形成的图案的放大图；
图4是示出施加到第二偏转电极上的脉冲电压PV的波形的示意图；
图5是用于解释在衬底W的表面上绘制标记M的方法的示意图；
图6A是用于解释在轨道上形成的标记M的改进的示意图；
图6B是用于解释在轨道上形成的标记M的改进的示意图；以及
图7是用于解释本发明的绘制方法的改进的示意图。
具体实施方式
参照附图给出对本发明实施方式的描述。
图1示出在本发明实施方式中的真空绘制装置100的结构。真空绘制装置100在例如真空度被设定为10-4Pa的环境下将电子束照射到圆盘状衬底W上，在该衬底W中，通过涂覆光阻材料形成绘制表面，使得极其细的线的图案被绘制在衬底W的绘制表面上。
如图1所示，真空绘制装置100通常包括转台单元30、照射装置10、传输单元40、第一真空室50、门阀52、第二真空室53和主控单元(未示出)。
衬底W放置在转台单元30上。照射装置10将电子束照射向衬底W的表面。传输单元40执行将衬底W装载到转台单元30上以及将衬底W从转台单元30上卸载。
在第一真空室50中，容纳转台单元30。第二真空室53通过门阀52连接到第一真空室50。主控单元控制真空绘制装置100的各个零件。
第一真空室50是一个长方体形状的中空零件，并且这个第一真空室50具有底端(-Z侧)开口。第一真空室50的纵向平行于X方向，且下端部无间隙地固定到面板51的顶部上。
第一真空室50在上表面具有开口，照射装置10的底端插入该开口，并且在-X侧表面上具有矩形开口50c。开口50c的纵向平行于Y方向。
转台单元30布置在面板51上第一真空室50之内。转台单元30包括转台31、心轴电机32和滑动单元33。衬底W放置在转台31上。心轴电机32水平支撑转台31并且围绕轴32a以预定转速转动转台31。滑动单元33支撑心轴电机32并且在X方向上以预定冲程移动心轴电机32。
第二真空室53是长方体形状的中空零件，且这个第二真空室53的纵向平行于X方向。第二真空室53通过门阀52连接到第一真空室50的-X侧表面。第二真空室53在+X侧表面上具有矩形开口53a，并且开口53a的形状与开口50c的相同。
第二真空室53在上表面具有开口53b，且开口53b的尺寸大于衬底W的尺寸。盖53布置在第二真空室53的上表面上，以便盖53在X方向可滑动。滑动盖53c能够将开口53b向外部空间打开和关闭。
门阀52包括框架部分和闸门52b。在框架部分中，形成开口52a，该开口52a在X方向穿透。闸门52b在Z方向上可滑动，并且滑动闸门52b能够打开和关闭开口52a。
门阀52的框架部分的+X侧端和-X侧端分别无间隙地固定到第一真空室50的开口50c以及第二真空室53的开口53a的周围侧壁上。于是，当门阀52的闸门52b沿着+Z方向滑动以关闭开口52a时，由第一真空室50和面板51形成的内部空间(称为真空处理室101)以及第二真空室53的内部空间(称为装载闭锁室102)保持在预定的真空度下。
另一方面，当闸门52b在-Z方向上滑动，以打开开口52a时，真空处理室101和装载闭锁室102打开以与外部空间自由连通。
下面，通过滑动闸门52b打开和关闭开口52a的操作称为门阀52的打开和关闭。
传输单元40布置在第二真空室53的底壁的顶面上。这个传输单元40包括保持衬底W的臂；以及驱动臂移动的驱动机构，以将衬底W在X方向上传送。
图2是示出在图1的真空绘制装置100中的照射装置10的结构的放大图。
如图2所示，照射装置10包括壳体10a，且壳体10a的纵向平行于Z方向。在照射装置10的壳体10a中，从顶到底依次布置有电子源11、静电透镜12、轴向对准线圈13、会聚透镜14、第一偏转电极15、孔径16、象散补偿线圈17、第二偏转电极18、物镜19、动态聚焦校正透镜20、照射控制单元70和脉冲振荡器21。
壳体10a是圆柱状壳体，具有下端开口，这个壳体10a无间隙地配装到第一真空室50的顶面内形成的开口中。
壳体10a的-Z侧端部分布置在第一真空室50的内侧，它具有锥形结构，其中，端部的直径沿着-Z方向减小。
电子源11布置在壳体10a内侧的最上位置。电子源11是热电场发射性电子源，其中通过施加热和电场，发射出从阴极产生的电子。典型地，电子源11向下(沿着-Z方向)发射直径在20-50nm数量级的电子束。
静电透镜12具有一对圆柱形透镜12a和12b，它们布置在电子源11之下，使得圆柱形透镜12a和12b在Z方向上相邻。相互不同的电压施加到圆柱形透镜12a和12b上。当从电子源11发出的电子穿过圆柱形透镜12a和12b时，赋予静电场，使得电子束在会聚方向上变形。
会聚透镜14经轴向对准线圈13布置在静电透镜12之下。会聚透镜14作用为会聚穿过静电透镜12的电子束。
轴向对准线圈13布置在静电透镜12和会聚透镜14之间。轴向对准透镜13具有一对环形线圈13a和13b，它们布置成线圈13a和13b在Z方向上相邻。轴向对准线圈13作用为校正穿过静电透镜12和会聚透镜14之间的空间的电子束的轴向偏离。
第一偏转电极15布置在会聚透镜14之下。第一偏转电极15具有一对电极，它们布置在会聚透镜14的光轴的+X侧和-X侧，使得电极彼此面对。第一偏转电极15响应于照射控制单元70所施加的电压，在+X方向和-X方向的其中之一上选择性偏转穿过会聚透镜14的电子束。
孔径16是板状部件，在板状部件的中心形成一个开口，且电子束穿过该孔径开口。孔径16布置在第一偏转电极15之下，使得孔径开口位于会聚透镜14的光轴上。
象散补偿线圈17是环形线圈，它布置在孔径16之下，且象散补偿线圈17作用为校正穿过孔径16的电子束的象散。
第二偏转电极18布置在象散补偿线圈17之下。第二偏转电极18具有一对电极，它们布置在会聚透镜14的光轴的+X侧和-X侧，使得电极彼此面对。第二偏转电极18响应于照射控制单元70通过脉冲振荡器21施加的电压，在+X方向和-X方向的其中一个方向上选择性偏转穿过孔径16的电子束。
物镜19布置在第二偏转电极18之下，且这个物镜将穿过第二偏转电极18的电子束会聚到衬底W的表面上，所述衬底W放置在转台31上。
动态聚焦校正透镜20作用为精细调节电子束的束点的直径，该电子束由物镜19会聚在衬底W的表面上。
脉冲振荡器21根据来自照射控制单元70的指令向第二偏转电极18施加脉冲电压，该脉冲电压例如由频率为几兆赫兹的方波表示。
照射控制单元70驱动电子源11，并且分别控制上述照射装置的零部件12-21。
在上述照射装置10中，从电子源11发出的电子束在穿过静电透镜12和会聚透镜14时被会聚，并且电子束的会聚点形成在孔径16的开口的附近(会聚点将被称为交叉点(crossover point)。
随后，穿过交叉点的电子束发散并且穿过孔径16，使得电子束直径被调节。
随后，电子束的象散被象散补偿线圈17校正，并且电子束由物镜19会聚到衬底W的表面上，该衬底W放置在转台31上。
电子束会聚到衬底W表面上且形成束点的位置将被称为会聚位置。
与上述操作并行，施加到第一偏转电极15上的电压被控制，且电子束在-X方向上被偏转并由孔径16覆盖，如图2中虚线所示，使得电子束对衬底W的中断得以实现。
此外，施加到第二偏转电极18上的电压被控制，且电子束在-X方向和+X方向的其中一个方向上被偏转，使得电子束的束点的位置沿着衬底W的径向移动。
下面，将解释通过利用上述真空绘制装置100在衬底W上形成图案的方法。
为了便于解释的缘故，假设图案被绘制在衬底W的区域MA上，该区域由围绕衬底W的中心半径为r1的圆圈和半径为r2的圆圈所围绕，衬底W的区域MA由图3A中的阴影部分所表示。
图3B示出图3A的衬底W的区域MA中的较小区域PA的放大图，在区域MA中沿着多个轨道Tr形成围绕衬底W的中心O的同心圆形状的多个标记M，其中所述轨道Tr以大约0.4微米的间隔限定。
在这个实施方式中，在图3B所示的区域PA中(以及在整个区域MA中的)的轨道Tr沿着区域PA的从-X侧到+X侧的左右方向称为Tr1、Tr2、...Trm(m＝1、2、...)。且沿着轨道Trm绘制的标记M被定义为从区域PA的-Y侧到+Y侧的下上方向的Mmn(m＝1、2、...)。
假设沿着轨道的每个标记M的长度以及沿着轨道每个标记M之间的距离大约为0.25微米。而且假设，在照射装置10中，电子源11被照射控制单元70驱动，驱动电压施加到第一偏转电极15上，且照射装置10处于电子束的中断借助于孔径16来执行的状态。
当衬底W被传输系统(未示出)传送到装载闭锁腔102的上部时，主控单元控制盖53c的驱动，以在-X方向上滑动，以打开开口53b。而且当衬底W被传输单元40接收并传送到传输单元40时，盖53c的驱动被控制以沿着+X方向滑动，以关闭开口53b，使得装载闭锁室102的内部空间被保持在气密状态。
随后，利用真空泵(未示出)，主控单元对保持在气密状态的装载闭锁室102的内部空间执行抽真空，直到达到与真空处理室101内侧的真空度相当的预定真空度(例如，10-4Pa)。此后，主控单元打开门阀52。
随后，主控单元驱动传输单元40以将衬底W从装载闭锁室102经门阀52传输到真空处理室101，并将衬底W放置在转台31上。此后，传输单元40被撤出到装载闭锁室102，且门阀52关闭。
随后，利用来自照射装置10的电子束，标记Mmn沿着区域PA内的轨道Tr1和轨道Tr2中的一个连续形成，使得沿着轨道Tr1和轨道Tr2绘制图案。
下面，将给出绘制图案的方法的详细描述。
如上所述，当衬底W被放置在转台31上时，主控单元控制滑动单元33的驱动，以将衬底W定位成电子束的束点的会聚位置处于轨道Tr1上。
随后，主控单元向照射控制单元70输出操作开始指令，并驱动转台单元30的心轴电机32，以转动转台31。
于是，放置在转台31上的衬底W被沿着图3A中箭头d所示的方向转动，其圆周速度为1m/s(相当于束点在记录介质的每条轨道上的移动速度)。
同时，在从主控单元接收到操作开始指令时，照射控制单元70通过脉冲振荡器21向第二偏转电极18施加电压(脉冲电压)PV，该脉冲电压由频率大约1MHz的脉冲波形表示。同时，照射控制单元70停止向第一偏转电极15施加电压。
图4示出施加到第二偏转电极18上的脉冲电压PV的波形。
如图4所示，脉冲电压PV由电压波形表示，包括off时间T1和on时间T2，且在on时间的电压设定为100mV。
当图4所示的脉冲电压PV施加到第二偏转电极18上时，从电子源11发射的电子束周期性由第二偏转电极18偏转，使得电子束与脉冲电压PV的上升同步地在+X方向上偏转，且与脉冲电压PV的下降同步地在-X方向上偏转。
详细的说，在时刻t0的轨道Tr1上的束点在时刻t1沿着+X方向移动(在off时间T1经过后脉冲电压PV设定为ON)，并且定位在轨道Tr2上。且束点在时刻t2(在从时刻t1经过off时间T2后脉冲电压PV设定为OFF)沿着-X方向移动，并且定位在轨道Tr1上。
随后，这个操作在脉冲电压PV被设定为ON的每个时刻(t3、t5、t7、...)，并且对于美重电压PV被设定为OFF的每个时刻(t4、t6、t8...)重复进行。
由于束点的移动由第二偏转电极18执行，在该第二偏转电极18被施加矩形波形的脉冲电压PV，束点在轨道之间移动所需的时间非常短。由此，在束点在轨道之间移动的过程中，不会在区域PA内绘制任何图案。
图5是用于解释在衬底W的表面上绘制标记的方法的视图。
如图5所示，位于轨道Tr1上的电子束的束点SP在off时间T1经过的过程中，在时刻t0在区域PA内沿着+Y方向移动，使得标记M11沿着衬底W上的轨道Tr1形成。当电子束在时刻t2偏转时位于轨道Tr2上的束点SP在on时间T2经过过程中在区域PA内沿着+Y方向移动，使得标记M21沿着衬底W上的轨道Tr2形成。
随后，上述操作反复进行，使得标记M12、M22、M13、M23...M1m、和M2m依次沿着每个轨道Tr1和Tr2形成。
于是，如图3B所示，标记M以等间隔排列的重复图案沿着轨道Tr1和轨道Tr2分别形成。
在绘制轨道Tr1和轨道Tr2的图案完成之后，主控单元驱动滑动单元33，以将束点定位到轨道Tr3。类似的，电子束的偏转周期性进行，并且沿着轨道Tr3和Tr4分别形成标记M等间隔排列的重复图案。
当通过反复进行上述操作对衬底W的区域MA内所包括的所有轨道形成标记M完成时，主控单元停止转台31的转动，并且同时，向照射控制单元70发出电子束中断指令。
随后，按照卸载程序衬底W从真空绘制装置100中卸载，该卸载程序与上述装载程序相反。
在本实施方式的真空绘制装置100中，在脉冲电压PV施加到第二偏转电极18上时，会聚在衬底W(衬底以相当于大约1m/s的圆周速度的速度转动，且该速度不会使电子束在衬底W上形成图案)的区域MA上的电子束沿着+X方向和-X方向中的一个方向周期性偏转，而不进行电子束的中断。
由此，电子束的束点SP周期性定位在区域MA中限定的其中一条轨道上，且电子束总是作用为沿着其中一条轨道绘制标记Mmn。于是，可以在衬底表面上快速绘制图案。
例如，如果沿着轨道Trm形成图3B的图案通过反复进行绘制和中断来进行的话，需要在on时间T1的过程中在绘制完成之后在off时间T2的过程中进行电子束的中断。为此，电子束的利用率可以由1/2(T1/(T1+T2))表示。因此，在绘制图案过程中不需要中断的真空绘制装置100可以在大约一般的时间内完成在衬底W上绘制图案M。
通常，为了进行电子束的中断，需要极大偏转电子束。但是，在本实施方式的真空绘制装置100中，采用稍微偏转电子束，使得束点在轨道之间移动，并且束点在轨道上的定位精度可得到改善。
具体地说，在中断时，需要产生大约10V的电势差施加到第一偏转电极15上。但是，在束点在轨道之间移动时，对于本实施方式的真空绘制装置100，产生大约10mV的电势差来施加到第二偏转电极18上就足够了。
为此，可以减小由于电极的时间常数带来的影响，并且可以显著提高响应和定位精度特性。
置于上述实施方式的真空绘制装置100，已经描述了相同形状的标记M形成在轨道Tr1和轨道Tr2的情况。另外，上述实施方式的真空绘制装置100可以进行改进，以便通过改变脉冲电压PV的波形到具有不同的off时间T1和/或不同的on时间T2将不同形状的标记M形成在轨道Tr1和Tr2上。
例如，如图6A所示，上述实施方式的真空绘制装置100可以通过缩短脉冲电压PV的on时间T2进行改进，以便在轨道Trm上形成与上述标记M相同的标记，而在轨道Trm+1上形成长度比上述标记M的长度短的标记M。
此外，电子束偏转宽度取决于脉冲电压PV的振幅。例如，如果脉冲电压PV的振幅增加，束点的移动量增大，而如果脉冲电压PV的振幅减小，束点的移动量可以减小。
在用于构图介质的记录盘是上述衬底W的情况下，上述实施方式的真空绘制装置100可以通过将on时间T1、off时间T2和脉冲电压PV的振幅分别设定为较小值来改进，如图6B所示。在这种情况下，通过用电子束照射衬底表面，可以在衬底W上形成以蜂窝形状靠近排列的小点标记M的图案。
而且在这种情况下，不执行电子束的中断，可以缩短在衬底W上绘制图案所需的时间。此外，可以提高在衬底W上绘制图案的精度。
对于上述实施方式的真空绘制装置100，已经描述了图3B所示标记M排列方式的示例。另外，上述实施方式可以通过如图7所示以不同方式偏转电子束来加以改进。在这种替代实施方式中，束点SP定位在区域PA中轨道Tr1、Tr2、Tr3中的一条轨道上，且标记M选择性地形成在轨道Tr1、Tr2、Tr3中的一条轨道上。
简要的说，本发明的真空绘制装置100被沟槽成使得电子束被偏转，而不进行电子束的中断，使得以循环方式在其中一条轨道上形成标记。
而且，在这种情况下，电子束不变地用于沿着其中一条轨道Trm绘制标记，可以提高绘制图案的精度。
在上述实施方式中，束点SP的定位可以针对轨道Tr1、Tr2、Tr3中的一条轨道进行。另外，束点SP的定位可以相对于其他轨道，如Tr1、Tr3、Tr6中的一条轨道进行，也可以将束点SP交替定位到四条或多条轨道中的一条轨道上。
对于上述实施方式，已经解释了在每条相邻轨道上形成标记M的情况。另外，上述实施方式可以修改成电子束在以特定轨道为中心的+X方向和-X方向中的一个方向上偏转，并且标记M连续形成在轨道两侧的其中一侧上。
至于上述实施方式，已经描述了形成同心圆形状的轨道Trm的情况，另外，上述实施方式可以修改成在衬底W被转台31转动的同时，衬底W被滑动单元33以预定速度在X方向上滑动，使得标记M沿着螺旋轨道形成。
至于上述描述了放置在转台31上的衬底W被转动，且标记M构成的图案被沿着轨道绘制的情况，但是这个发明不局限于这个实施方式。例如，上述实施方式可以改进成衬底W放置在可以在X方向和Y方向上移动的XY台上，衬底W相对于电子束在Y方向上移动，且电子束被第一偏转电极15周期性偏转，使得标记M构成的图案可以沿着平行于Y方向的扫描线形成。
在上述实施方式的真空绘制装置100中，通过照射装置10的第一偏转电极15执行电子束的中断，且电子束的偏转由第二偏转电极18执行，使得束点在轨道之间移动。另外，上述实施方式可以改进成脉冲电压施加到第一偏转电极15上，以便周期性偏转电子束，并且在轨道之间执行束点的移动。
此外，如果位置精度落入公差范围内，第一偏转电极15和第二偏转电极18可以形成为公共的偏转电极。这能实现真空绘制装置的小型化和低成本生产。
在这个实施方式中衬底W上限定的轨道Tr应该解释成不仅包括实际形成在衬底W上的轨道，而且包括在形成标记M时用作基准线并且由绘制在衬底上的标记限定的设计轨道。
本发明不局限于上述实施方式，在不背离本发明的范围的前提下，可以作出变动和改进。
本申请基于2006年8月31日提交的日本专利申请2006-235419号，并要求其优先权，该日本在先申请的全部内容通过引用结合于此。

Claims (6)

1.一种绘制方法，其中电子束被照射到信息记录介质的表面上，以在该信息记录介质的表面上沿着扫描线绘制图案，所述绘制方法包括以下步骤：
通过所述信息记录介质相对于电子束的相对运动，由电子束在信息记录介质的表面上沿着扫描线绘制图案；
在与扫描线相交的第一方向和与第一方向相反的第二方向中的一个方向上，以不会导致在信息记录介质的表面上形成图案的速度偏转电子束，而不进行中断，使得被偏转的电子束的束点定位于所述信息记录介质的表面的其中一条扫描线上；以及
交替重复绘制步骤和偏转步骤。
2.如权利要求1所述的绘制方法，其中，所述偏转步骤被设计成在第一方向和第二方向中的一个方向上周期性偏转电子束，使得被偏转的电子束的束点交替定位在扫描线中的第一扫描线和第二扫描线中的一条上。
3.如权利要求1所述的绘制方法，其中，所述绘制步骤被设计成旋转所述信息记录介质，使得该信息记录介质相对于电子束运动。
4.一种绘制装置，该绘制装置将电子束照射到信息记录介质的表面上，以在该信息记录介质的表面上沿着扫描线绘制图案，所述绘制装置包括：
发射电子束的电子源；
将电子源发射的电子束会聚到信息记录介质表面上的物镜；
输出脉冲信号的脉冲振荡器，该脉冲信号限定了要被绘制在该信息记录介质表面上的图案；
偏转单元，该偏转单元响应于来自脉冲振荡器的脉冲信号，沿着与扫描线交叉的第一方向和与第一方向相反的第二方向中的一个方向，以不导致在信息记录介质表面上形成图案的速度偏转电子束，而不进行电子束的中断，使得被偏转的电子束的束点定位在该信息记录介质表面上的其中一条扫描线上；以及
移动单元，该移动单元导致所述信息记录介质相对于所述电子束相对运动。
5.如权利要求4所述的绘制装置，其中，所述偏转单元在第一方向和第二方向中的一个方向上周期性偏转电子束，使得被偏转的电子束的束点交替定位在扫描线中的第一扫描线和第二扫描线中的一条上。
6.如权利要求4所述的绘制装置，其中，所述移动单元转动所述信息记录介质，导致所述信息记录介质相对于所述电子束相对运动。
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