CN101489939A - 包括辐射源模块和冷却装置的流体处理系统 - Google Patents

Abstract

一种流体处理系统，包括带有用于工艺流体的流体入口和流体出口的壳体、设置在该流体入口和流体出口之间的辐射区、和包括至少一个辐射源的至少一个辐射源模块，该辐射源包括具有外壁和内壁的放电容器，该内壁封闭内部体积，该内部体积具有至少一个开口和用于点火并维持放电的装置，该辐射源模块还包括可潜入框架，该框架具有将该工艺流体导入并导出该辐射源的内部体积的引导装置。在放电间隙中通过放电产生的、经由这种灯的内部体积内的流体流动并与这些内部电极接触的热耗散基本上比经由从该内部电极分离的冷却通道的耗散更有效。因此基本上比较容易将这种放电气体保持在近乎最佳的温度。

Description

包括辐射源模块和冷却装置的流体处理系统

技术领域

本发明涉及一种用于通过将流体暴露给高能辐射来对流体进行处理的流体处理系统。这种流体处理系统包括用于接收流体流动的壳体，该壳体具有流体入口、流体出口、设置在流体入口与流体出口之间的辐射区以及设置在该辐射区内的至少一个辐射源模块。所述至少一个辐射源模块包括至少一个高能辐射源以及用于该高能辐射源的冷却装置。

特别构思出一种作为辐射源的介质阻挡放电灯。

背景技术

对于使用向高能辐射尤其是高能紫外辐射暴露的流体处理系统而言，有多种用途，如灭菌、漆和合成树脂的固化、烟道气净化、特殊化学复合物的分解和合成。

根据本发明的这种器件的其它应用与水和废水技术有关，在这种技术中，污水是要被处理的流体。可提及的这类处理的实例有a)消毒，b)污染物和染料的分解及异味的去除，以及c)消灭存在于水中的溶剂残留。

根据本发明的器件也可用于除了水之外的其他液体和溶剂的处理，以及用于气体的处理。

这些应用一般以光物理或光化学工艺为基础。为了在这些过程中的任何过程中使用，辐射源必须能够用高能辐射(如(V)UV辐射)有效地照射工艺流体，因为(V)UV光子启动了所希望的光物理或光化学反应。而且，应该非常精确地将所述辐射的波长调节到预期工艺。

因此，通过光物理或光化学过程进行的流体处理需要提供高强度UV辐射(优选地为UV辐射)的辐射源，这些辐射源发射在窄的波长范围内的特定辐射。

准分子灯(excimer lamp)(尤其是以介质阻挡放电(DBD)灯的形式提供的)可以极佳地满足这些要求。在DBD灯中，电能由电容装置耦合到放电体积。当在充气放电隙上施加高电压时，可实现DBD灯，该DBD灯由至少一个介质阻挡从多个电极中分隔开。介质阻挡包括如玻璃或石英。由于放电产生在大气压力下的非热等离子体的特性，所以在将稀有气体或混合稀有气体以及卤素用作放电气体时，产生受激双原子分子(准分子)。在这些准分子衰变时，它们会在紫外光谱范围内发射高能辐射。

介质阻挡放电灯具有多种优点，这些优点是常规的低压汞灯和常规的高压放电灯所不具备的；例如，可实现具有短波的紫外辐射的放射和具有单个高效波长的光的同时生成，这些短波如172nm、222nm和308nm，且这些波长大致类似于线谱。这种放射波长取决于充气的类型，例如，充填的氙气提供172nm的放射。

对于流体处理系统而言，典型地使用双管型的介质阻挡放电灯，其包括内管和外管。

也就是说，该内管的壁跨越腔体，这种腔体同样在该放电容器内形成内翻类型的区段，一个或者多个内电极位于该放电容器内。

为了安全起见，该内电极位于高压侧，且在外管的电极位于接地侧。这样就保护了这些内电极免于被无意进入。

存在一种趋势：使用可能的最小数量的灯并以高功率密度运行这些灯。

由于以高功率密度运行的灯具有比以较低功率运行的灯更高的内部温度，所以存在这样的问题：这些电极和放电气体在使用过程中可能会过热。这些电极过热改变了所发射的辐射的波长、降低了灯的效率并且可能导致这些电极和介质材料的降质，从而降低灯的使用寿命

出于放电容器内的温度差异的原因，在这种灯所产生的发射辐射的波长中也可能存在差异。这就导致所发射的辐射的更宽光谱，这种更宽光谱可在流体处理过程中产生并不希望的结果。

因此，本领域中一个重要的问题是如何克服这些器件内的局部温度差异，以及如何保持灯足够冷以有效地产生UV或VUV辐射。

从US5834784中可知一种灯，这种灯是以两个同心石英柱体的形式构成，这两个柱体在末端密封，且在这两个柱体之间有准分子气体填充。穿过内石英柱体内的中心区域抽运冷却液体，其中，并不与该内柱体接触的导电管道用于提供这种冷却液体。虽然这种导电管道不与该内石英柱体接触，但该中心管道也起到该高压电极的作用。电缆将该中心管道附接到高电压AC电源，但该高电压电极通过长度适合的也提供这种冷却液体的电绝缘管与冷却液体源电绝缘。

在水处理厂简陋条件下，若该电绝缘管不受到谨慎保护而意外破裂，则这种灯可能会对安全性造成威胁。

发明内容

因此，本发明的主要目的在于创建一种用于根据现有技术的辐射源的内部冷却，这种内部冷却并不降低这种流体处理系统的操作安全性，而却可以使这种辐射源的内管有效地冷却。

为了解决这些问题，本发明提供一种流体处理系统，这种流体处理系统包括具有用于工艺流体的流体入口和流体出口的壳体、设置在该流体入口与流体出口之间的辐射区、以及包括至少一个辐射源的至少一个辐射源模块，该辐射源包括带有外壁和内壁的放电容器，该内壁封闭内部体积，该内部体积具有至少一个开口以及用于点火并维持放电的装置，该辐射源模块还包括可潜入框架，这种框架具有引导装置，以将工艺流体导入和导出该辐射源的内部体积。

在操作期间，使工艺流体通过该辐射源的内部体积并起到冷却剂的作用。

本发明的主要优点可以从下述事实看出：在放电间隙中通过放电产生的、经由这种灯的内部体积中的流体流动并与这些内部电极接触的热耗散基本上比经由从该内部电极分离的冷却通道的耗散更有效。这样基本上就比较容易将这种放电气体保持在近乎最佳的温度。同时，提供更强的冷却而无额外成本。

这两种改进均允许将这种UV源用于水处理中的大功率应用。

根据本发明的优选实施例，该辐射源是一种介质阻挡放电灯。这些灯具有在所希望波长范围内的狭窄的光谱、具有所发射的辐射的窄强度分布、并且有助于相对廉价地制造和操作。

根据本发明，将工艺流体导入和导出该辐射源内部体积的引导装置包括紧固所述辐射源的内部体积的至少一个开口的至少一个终端帽，并且包括用于该工艺流体的入口端口和出口端口。

根据本发明的优选实施例，该辐射源的内部体积包括由第一端帽和第二端帽终结的第一开口和第二开口，其中，该第一端帽包括入口端口，且该第二端帽包括出口端口。

根据另一个优选实施例，引导装置包括阻挡装置。

该框架还可以包括增强穿过该辐射源的内部体积的工艺流体的流动的装置。这提高了第一流体的速度并改进了热传递。

优选地，用于点火和维持放电的装置包括附接到该放电容器的外壁的至少一个第一低压接地电极以及附接到该放电容器的内壁的至少一个第二高压电极。

根据优选实施例，该辐射源的第一电极包括该工艺流体，且该工艺流体导电。

若这种工艺流体邻近于该辐射源放电间隙的外壁并与之热接触，则这种工艺流体用于将过量的热从该放电容器带走。

附图说明

附图示意性地且特别地示出了本发明的示范性实施例。

图1示出了同轴灯形式的本发明的示范性实施例的截面图，这种灯带有引导工艺流体穿过该灯的内部体积的装置。

图2示出了同轴灯形式的本发明的示范性实施例的截面图，这种灯带有引导工艺流体穿过该灯的内部体积的阻挡装置。

具体实施方式

本发明提供一种流体处理系统，这种流体处理系统包括用于接收流体流的壳体以及至少一个辐射源模块，该壳体包括流体入口、流体出口以及设置在该流体入口与流体出口之间的照射区，所述至少一个辐射源模块包括照射这种流体的辐射源，

如本领域技术人员所知，这种流体所接收的辐射量是辐射强度与暴露时间的乘积。辐射强度随着辐射所通过的距离的平方而变化，而暴露时间随着流体的流动速度而线性变化。因此，所希望的是保持尽可能接近于这些辐射源对这种流体进行处理。

为了这种目的，所述至少一个辐射源模块包括安装在可潜入框架内的至少一个辐射源。在操作期间，将封闭该辐射源的框架浸入要被处理的流体中，然后根据需要照射该流体。

常规的系统通常包括多于一个辐射源，即附接到共用框架辐射源阵列。

该辐射源是选自但不限于低压力或中压力汞灯、脉冲氙灯和汞放电灯以及介质阻挡放电灯。

优选地，将介质阻挡放电灯用作这种辐射源。用于产生并发射紫外辐射的介质阻挡放电(DBD)灯包括至少部分地由至少一个内壁和一个外壁形成和/或包围的放电间隙，因此，这些壁中的至少一个是介质壁，且这些壁中的至少一个具有至少部分地透明的部分。将该外壁和内壁侧向地互相密封，以形成所述放电容器。

在用于本发明的灯中，该放电容器的内壁包围内部体积。反过来，该内部体积也由环状放电容器包围。另外，该辐射源的几何形状可在宽限度内适合于使用这种辐射源的工艺。优选地，这种灯的几何形状选自大面积平板箱形灯的几何形状、同轴灯的几何形状、圆拱形灯的几何形状等。

特别适用于本发明的辐射源是细长的并且具有基本上垂直于或平行于通过该照射区的流体流动方向的纵轴并且完全浸在通过该照射区的流体中。因此，这种灯的内部体积是带有垂直于或平行于流体流动方向的纵轴的伸长空间。

为了工业目的，内部体积的直径比放电间隙的直径大的同轴DBD灯优选地将实现易于制造的灯，且该灯包括大的有效面积和高的机械稳定性。

对于同轴灯，放电容器通常呈圆柱形并且包括内管壁和外管壁，内管壁和外管壁被同轴设置在该环状放电容器的中心轴周围，并且在端部与该放电容器密封在一起，且气体填充在该内管与外管之间。该内部体积包括两个侧向移位的开放末端。

对于圆拱形灯，放电容器通常呈圆柱形并且包括内管壁和外管壁，内管壁和外管壁被同轴设置在该环状放电容器的中心轴周围，并且该内壁以及外壁被护盖、板等侧向闭合。该内部体积包括一个闭合端和在该内部体积的远端的一个开口。

这些介质壁的材料选自介质材料。而且，必须对这些介质壁的材料进行选择，以使在放电间隙内产生的辐射能够穿过该外介质壁的至少一部分，以施加用于流体处理的辐射。石英玻璃是优选的介质材料。

此外，可将磷光体或发光层覆盖或涂覆在这种灯的介质壁的内表面或外表面上，以用于将在放电间隙内产生的辐射的光谱向更高的波长变换/移位。

该放电管的环状放电空间充有放电气体，以产生由介质阻挡放电而导致的准分子。

所述放电气体典型地包括惰性气体或者在放电条件下形成准分子的物质，如稀有气体或稀有气体/金属蒸汽的混和物、稀有气体/卤素混合物，若有必要，将另一种稀有气体(Ar，He，Ne)用作缓冲气体。

辐射的波长根据放电气体的种类和发光涂层的类型而变化，并且可在如UV、(V)UV、红外线、可见光或者任何其他适用的范围内变化。

当在电极之间产生电场且在这些电极之间具有对电流的高电阻时产生形成这些辐射受激子种所必需的介质放电。

因此，用于点火和维持辐射源的放电的装置包括至少一个第一低压接地电极和至少一个第二高电压电极，该第二高电压电极由介质阻挡从放电间隙分开，以提供对这些电极之间的电流的大电阻，且这些电极具有高电容。

为了安全起见，将高压电极附接到放电容器的内壁，并且将低压电极附接到外壁并接地。这样做的原因是内部的高压电极接触到个人等仅仅是小概率事件。

内部电极可具有不透光特征，以防止从这种放电发射的高能辐射进入灯的内部体积。

内部电极优选地是一种与该内壁表面紧密接触的形状。因此，可通过其中的内部电极直接由金属涂层在内管的内表面上形成的方法或者通过其中将具有与内管的内面形状一致的形状的金属盘插入的方法或其它方法形成该内部电极。

用于这些内部电极的适当材料是抗腐蚀剂材料，如银、金、铂、不锈钢、铝、铝合金、铜、氧化铜、含铜合金、含氧化铜合金等。

该外部电极的形状还优选地与该放电容器的外表面紧密接触。

辐射可穿过该外部电极射出是重要的。可通过透光的导电层或者通过将细筛线栅、多孔板或淀积的线性带用作电极来解决这个问题，这些细筛线栅、多孔板或淀积的线性带基本上对辐射是透明的。

作为外部电极，优选地使用由银、金、白金、不锈钢、铝等制成的抗腐蚀材料。

在根据本发明的流体处理系统中，工艺流体与DBD灯的外表面直接接触。若这种工艺流体是良好的电导体，则它可以用作DBD灯的低压接地电极。

因此，根据本发明的一个优选实施例，直接将被照射的流体用作低压接地外部电极，以替代金属外部电极。

可替代地，若这种工艺流体导电，则第二高压电极可包括这种工艺流体。

这是有利的，因为用这种方式所产生的辐射直接穿透被照射的流体，同时，这种流体可用作冷却剂。

而且，金属网外部电极的缺失增加了发射的辐射量，因为没有由于金属网的吸收/反射而导致的辐射损失。

除了这些电极以外，用于点火和维持放电的装置还包括适合于将该电极对连接到高压高频电源的电导管构件，以在该电极对之间施加高压并且在这些电极表面之间的产生放电。这些器件是本领域中所公知的，并且不再进行进一步描述。

在受到辐射时，介质阻挡放电灯产生热。根据本发明，为了防止放电容器和这些电极过热，将这种工艺流体布置成流经这种灯的内部体积，以提供额外的冷却。

出于这种目的，将该辐射源模块包括在包括引导装置的可潜入框架中，以将这种工艺流体导入和导出该辐射源的内部体积，从而冷却该内部电极。

优选地，通过支撑构件将这种框架紧固到所述壳体。可将这些支撑构件附在这种处理系统中的流体液面以下的任何位置，且可将灯卸下。

根据优选实施例，辐射源的形状是带有纵轴的伸长管状，且所述框架包括支撑构件，以将该辐射源的纵轴保持在基本上垂直于工艺流体流动的位置。

该框架还包括至少一个终结端帽，以将这种灯的内部体积的至少一个开口从所述工艺流体分离。典型地，这种终结端帽集成在一种支撑构件中。

提供所述至少一个端帽以将这种灯的内部体积的所述至少一个开口密封在这种壳体中，以防止所述内部体积与壳体内的流体流的直接接触，进而避免用于电能的替代路径流动离开所述放电间隙以及接地电流的泄漏。

所述框架还包括用于导管装置的穿通，其将内电极连接到高频高压激励电压源，相对于所述端帽和壳体通过绝缘环将这种高频高压激励电压源紧固。

所述辐射源的相反端也附接到支撑构件上，该支撑构件又附接到所述壳体。在灯的设计包括相反的一端的第二开口的情况下，也将这种开口紧固在该支撑构件内并将该端帽集成在在支撑构件中。

所述框架还包括用于将工艺流体引入这种灯的内部体积的入口端口和用于将工艺流体从这种灯的内部体积排出的出口端口。

将所述入口端口、灯的内部体积以及出口端口相连接，以限定基本上贯穿整个灯的宽度的流体流动通道。

应当理解，所述入口端口和出口端口的设计可根据该流体流动通道的构造而变化。

根据本发明的一个实施例，所述框架包括至少一个终结帽，该至少一个终结帽包括用于这种工艺流体的入口端口和/或出口端口。

入口端口和出口端口其中之一或两者可包括垂直于穿过该壳体的流体流的锥形区段。可替代地，可使用漏斗状或钟口形的入口和出口。

该入口通过孔与这种灯的内部体积连通，该孔形式为形成于该端帽中的歧管的形式。在附图中将该入口歧管示为矩形截面的弓形弯曲。

该出口端口通过类似形状的出口歧管与这种灯的内部连通。虽然所示出的这些歧管呈矩形，但应当理解，这些歧管可以是任何适当的截面形状，如圆形。

应当注意，高压内部电极和接地电极经由穿过这种灯的内部体积的冷却渠道流体流通道而被电连接。

对于在该高压电极与接地电极之间的潜在隔离，必须将这种流体流通道设计成长的路径，该路径具有足够大的电阻以将冷却剂成为用于内电极与外电极之间的电流流动的可替换通道的可能性减到最低。

通过使该通道薄且尽可能地长，冷却剂渠道上方的电极之间的侧向电阻高于这些电极上的介质层与该放电空间内的放电气体的阻抗之和。因此，优选的电流通过介质层、通过气体以及通过一个电极的另一部分从该电极发生，而不是直接经由所述第二电极的流体通道途径介质层在这些电极之间发生。

为了使该途径尽可能地长，可将这些孔设计成多个弧形弯曲或螺旋结构。

在本发明的一个实施例中，该辐射源的内部体积包括由第一端帽和第二端帽终结的第一开口和第二开口，其中，该第一帽包括入口端口，且该第二帽包括出口端口，该出口端口与穿过这种灯的内部体积的轴向途径流体连通，且该第一入口和该第一出口轴向隔开。

在这种构造中，工艺流体的流动平行于该内部电极，并因此而垂直于该放电间隙。

因此，可充分地将该放电容器的内壁以及所述内部电极可以被充分冷却，因为引导装置容纳沿轴向方向的工艺流体的流动，这种轴向方向平行于穿过这种灯的内部体积的这些内部电极。

对于内部电极与外部电极之间特别长的分离，可将阻碍装置用在流体通道内，以使流体沿着在具有轴向和/或径向分量的通道上的流体通路行进，如在弯曲的、螺旋形的或正弦通道上。该阻碍装置也起到湍流增强器的作用，以增强热交换。

优选地，阻碍装置可包括作为导流装置的轴向或径向片，从而使流体在该入口与出口之间流动时多次轴向或径向转弯。

在图2所示的本发明的一个示范性实施例中，提供作为直径减小的中空管的轴向片，该中空管的外径小于这种灯的内壁，其仅沿着这种灯的内壁长度的一部分延伸并且在该中空管本身与该内壁之间留下环状间隙。

阻碍装置的供应确保了该轴向片的所述至少一个端部与所述入口端口和/或出口端口密封的连通，从而确保了这些轴向流通道的有效延伸。

在根据图2的示范性实施例中，所述直径减小的中空管延伸到这些端帽的入口端口或出口端口的孔内并且因此而与该壳体内的流体流连通。

因此，在该入口端口和出口端口之间形成轴向流体流通道，以容纳在交替方向上的工艺流体流，这些交替方向平行于穿过这种灯的内部体积的这些内部电极。这就增加了流体通道的长度并且改进了热传递。

在根据图2的示范性实施例中，工艺流体经由阻碍装置的流入和排出发生在这种灯的内部体积的同一端。提供具有作为阻碍装置的多于一个的同轴或平行中空管道当然在本发明的范围之内，这些中空管道相对于多个交替远端帽相互偏置。

虽然这里所示出和描述的优选管道包括圆柱形管道，但应当理解，这些管道可以是其它任何适当的形状。例如，该管道可具有选自圆形和多边形的相同或不同的截面形状。优选的圆形包括环形、卵形、椭圆形等，而优选的多边形包括规则的或不规则的多边形，如正方形、矩形、五边形、六边形等。这些管道与所述放电容器的内壁之间的这些环状空间当然可以采取各种形状，这些形状由这些管道和该内壁的形状所决定。

另一种可替代方案是向每个端帽提供入口端口和出口端口，并在这种灯的内部体积内提供适当的阻碍装置，以用于相反流动方向的两个轴向流通道。

在根据本发明的该可替代方案的实施例中，该中空管沿着这种灯的内部体积的整个长度轴向延伸，并被紧固到第一端帽的入口端口和所述远端帽的出口端口。

随后，穿过该直径减小的中空管从该第一端帽的入口端口至该第二端帽的出口端口限定第一轴向流体流通道。这样就避免了这种工艺流体与该内部电极的接触。

而且，穿过该直径减小的中空管与这种灯的内部体积之间的环状间隙从该第二端帽的入口端口至该第一端帽的出口端口的相反方向限定第二轴向流体流。

在本发明的又一个实施例中，冷却渠道可包括阻碍装置，以容纳工艺流体穿过这种灯的内部体积以垂直于这些内部电极的方向流动，以进一步增大这种距离。这种阻碍装置可包括单个卷曲的或多个卷曲的中空管或以发卡形式弯曲的管道。

除了引导这种工艺流体穿过这种灯的内部体积的装置之外，冷却装置还可包括增强穿过这种灯的内部体积的工艺流体的循环的装置。

穿过这种灯的内部体积的流体流的增强循环源并不特别受限。例如，可通过静水压力或湍流压力或这种工艺流体的大气压强产生这种循环。可在入口端口和/或出口端口局部修改静水压力和液体压力，以增强冷却流。例如，接近于该内部冷却的入口端口的工艺水速度的局部增加会提高该端口上的液体(流动)压力，从而通过灯的内部引导大量的冷却流体流。

作为可替代方案，可通过液压或气动或电力驱动泵来维持冷却流，这些驱动泵位于用于处理工艺流体的壳体的内部。优选地，使用液压驱动泵。从这种工艺流体获取驱动这种泵所要求的能量，而无需具有到这种容器的外部的任何额外连接。由于DBD灯具有适当的形状且这些泵具有适当的几何结构，所以这些元件也可包括在这种灯的内部体积中。

本发明的特定实施例

图1示出了根据本发明的流体处理系统的截面图。将被照射的流体加到壳体1内，该壳体包括流体入口、流体出口、设置在该流体入口和流体出口之间的流体处理区2，该流体处理区具有作为设置在该流体处理区内的辐射源3的DBD灯。

该DBD灯3包括双壁石英管31，该双壁石英管由内壁32和该外壁33组成并包含填充气体34。位于内壁32与外壁33之间的环状空间形成该放电间隙。

该DBD灯3潜入这种工艺流体中，该工艺流体用作第一外低压接地电极。将第二高压电极35构造成在这种灯的内壁32的上的金属层。将交流电源(未示出)连接到这两个电极。

该DBD灯3通过带有集成的端帽5、5′的支撑构件4、4′紧固到该壳体，端帽5、5′通过垫圈7、7′固定到这种灯的内部体积的第一通道6和第二通道6′。通过这些垫圈将该辐射源的内部体积和该内部电极相对于该壳体内的流体密封，以避免可替代的电流通路。

端帽5设有流体入口端口50，该流体入口端口包括入口漏斗51和延伸到这种灯的第一开口的伸长孔52。端帽5′设有流体出口端口50′，该流体出口端口包括延伸到这种灯的第二开口的伸长孔52′。

流体通道由入口端口50、这种灯的内部体积以及出口端口50′限定。这种工艺流体的流动方向由多个箭头表示。

在操作期间，以基本上垂直于该辐射源的方式从该流体入口至该流体处理区提供这种流体流；该流体流由流体处理区内的DBD灯照射；并且这种流体流经由该流体出口离开该壳体。同时，将这种工艺流体的一部分进行分路并输送到这种灯的内部体积，并且同时用作这种灯的内部体积和内部电极的冷却剂。

图2中示意性地示出了根据本发明的流体处理系统的另一种实施方式。

虽然该流体处理系统的总体的设计与根据图1的实施例的相同，但在根据图2的设计中，端帽5设有流体入口端口50，该流体入口端口包括入口漏斗51和延伸到这种灯的第一开口的伸长孔52，该端帽还设有流体出口端口50′，该流体出口端口包括也延伸到这种灯的第一开口的伸长孔52′。

此外，将直径减小的中空管8插入这种灯的内部体积并紧固到入口端口50的孔。

这里，该流体通道由入口端口50、直径减小的中空管8、中空管8与这种灯的内壁之间的环形回路通道、以及出口端口50′限定。

应当理解，虽然在这里已对本发明的示范性实施例进行了描述，但本发明并不仅限于这些示范性实施例，并且且在不背离由所附的权利要求所限定的本发明的范围的情况下，本领域技术人员可以想到本发明的变形和替代方案。

Claims (9)

1.一种流体处理系统，所述流体处理系统包括：

带有用于工艺流体的流体入口和流体出口的壳体；

设置在所述流体入口和流体出口之间的照射区；以及

包括至少一个辐射源的至少一个辐射源模块，所述辐射源包括带有外壁和内壁的放电容器，所述内壁封闭具有至少一个开口和用于点火并维持放电的装置的内部体积，所述辐射源模块还包括可潜入的框架，所述可潜入的框架带有引导装置以将所述工艺流体导入和导出所述辐射源的内部体积。

2.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述辐射源是介质阻挡放电灯。

3.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述引导装置包括固定所述至少一个开口的至少一个终结端帽，并且包括用于所述工艺流体的入口端口和出口端口。

4.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述辐射源的内部体积包括由第一端帽和第二端帽终结的第一开口和第二开口，其中所述第一端帽包括入口端口而所述第二端帽包括出口端口。

5.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述引导装置包括阻碍装置。

6.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述框架包括增强通过所述辐射源的内部体积的所述工艺流体的流动的装置。

7.如权利要求1所述的流体处理系统，其中，所述用于点火和维持放电的装置包括附接到所述放电容器的外壁的至少一个第一低压接地电极和附接到所述放电容器的内壁的至少一个第二高电压电极。

8.如权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述第一低压电极包括所述工艺流体，所述工艺流体是导电的。

9.如权利要求7所述的流体处理系统，其中，所述第二高电压电极包括所述工艺流体，所述工艺流体是导电的。

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