JP3303389B2 - 誘電体バリヤ放電ランプを使用した処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光化学反応を利用した
処理方法、例えば、フロンガス、各種の廃ガスの処理、
あるいは上水、下水、各種の工場廃水の処理、あるいは
洗浄、または太陽電池などに使用される水素化アモルフ
ァスシリコン薄膜等を製造する成膜方法などに関する。
特に、光化学反応用の光源として誘電体バリヤ放電ラン
プを使用した処理方法の改良に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明に関連した技術としては、例え
ば、日本国公開特許公報平３−２１１２８３号には、誘
電体バリヤ放電（別名オゾナイザ放電あるいは無声放
電。電気学会発行改定新版「放電ハンドブック」平成１
年６月再版７刷発行第２６３ページ参照）を使用したラ
ンプから放射される紫外線を利用したＣＶＤ法による薄
膜の製造装置について記載されている。また、１９８８
年発行のJAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 第２６
巻６号の８０５から８１１ページには、被処理物である
シリコンウエハと処理用流体であるジシランガスと酸素
の混合ガスを収納した処理室の外側から、重水素ランプ
とキセノンランプからの放射光でシリコンウエハとジシ
ランガスと酸素の混合ガスを照射し、該シリコンウエハ
上に酸化シリコンの薄膜を形成する方法が記されてい
る。

【０００３】誘電体バリヤ放電ランプを利用した処理方
法は、誘電体バリヤ放電ランプが従来の低圧水銀放電ラ
ンプや高圧アーク放電ランプには無い種々の特長、特に
狭い波長領域に単色光的に光を放射する、管壁温度が低
いなどの特徴を有しているため、特長ある処理が得られ
るため、有用である。しかし、一般的に、ある物質を光
化学反応によって活性化、分解、イオン化あるいは合成
するのに最適な条件、すなわち照射する紫外線の波長と
強度などは、物質の種類によって異なる。従って、被処
理物と処理用流体を接触させて該被処理物を処理する方
法において、被処理物と処理用流体に誘電体バリヤ放電
ランプからの１種の紫外線照射を照射して処理する方法
は、処理が不完全であったり、あるいは処理の速度ある
いは処理効率が必ずしも十分ではないという問題があっ
た。また、従来のアーク放電ランプは広い波長範囲に渡
って放射光を有しているので、むしろ処理にとって有害
である波長の光も同時に照射されることになり、従来の
アーク放電ランプを２種類使用したとしても、１種類の
ランプを使用した場合に比較し、改善は必ずしも十分で
はなかった。

【０００４】

【本発明が解決しようとする課題】 本発明の課題は、各
種の処理を高品位で行い、かつ、高速度であるいは高効
率で行うことが出来る誘電体バリヤ放電ランプを利用し
た処理方法を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、被
処理物と処理用流体を接触させた状態で、波長の異なる
光を放射する少なくとも２種類以上の光源によって、前
記被処理物と処理用流体を同時に照射して処理する方法
であって、前記光源の少なくとも１種類を誘電体バリヤ
放電ランプとし、且つ、この誘電体バリヤ放電ランプ
を、前記被処理物と前記処理用流体を収納している処理
室内に配置して処理することを特徴とする。

【０００６】

【上記手段の有する作用】被処理物と処理用流体を接触
させた状態において、波長の異なる光を放射する少なく
とも２種類以上の光源によって該被処理物と処理用流体
を同時に照射して該被処理物を処理する処理方法におい
て、該光源の少なくとも１種を誘電体バリヤ放電ランプ
にし、且つ該誘電体バリア放電ランプを該被処理物と処
理用流体を収納している処理室内に設けたことにより、
該誘電体バリヤ放電ランプは、狭い波長領域に単色的に
高効率で光を放射する、ランプへの入力電力を変化させ
ることによって分光分布を変えること無く光出力を変化
できるなど、従来のアーク放電ランプにはない特徴を有
しているため、従来のアーク放電ランプだけの組み合わ
せでは得ることの出来ない特徴ある分光分布の光を高効
率で照射することが可能になり、従って小型の装置で高
効率、高速度で、高品位の処理が可能になる。

【０００７】また、処理室と光源の間の窓部材による吸
収が無くなり、かつ被処理物と光源が近接するため、高
効率で照射することが可能になり、従って小型の装置で
高効率、高速で、高品位の処理が可能になる。更に、該
誘電体バリヤ放電ランプは、形状の自由度が大きい、管
壁の温度変化による光出力特性、特に分光分布の変化が
無い、管壁の温度が低いなど、従来のアーク放電ランプ
などの光源を処理室内に設けた場合に問題となる事項を
解決できるという、従来のアーク放電ランプにはない特
長を有しているため、小型の装置で高効率、高速で高品
位の処理が可能になる。

【０００８】該誘電体バリヤ放電ランプが、気密な放電
空間を有し、紫外線を透過する光取り出し窓部材を通し
て紫外線を放射する場合には、ｎｍ単位で表した波長範
囲１８０から２００、１６５から１９０、２４０から２
５５、２００から２４０、１２０から１９０、および３
００から３２０の波長範囲の紫外線を放射させる事によ
り、高効率、高品位の処理方法が達成される。なぜな
ら、上記の波長範囲の紫外線は、少なくとも、それぞれ
主たる発光用ガスとして、アルゴンとフッ素、アルゴン
と塩素、クリプトンとフッ素、クリプトンと塩素、キセ
ノン、およびキセノンと塩素の混合ガスを使用すること
により、それぞれの混合ガスのエキシマ分子によって発
光可能であるが、これらのガスを使用することにより、
発光用ガスの劣化が少なく、かつ光取り出し窓部材の劣
化が少ない状態を実現できるからである。

【０００９】

【００１０】

【実施例】本発明の第１の実施例である水処理方法の概
略図を図１に示す。箱型の反応容器５内には異なった波
長の紫外線を放射する第１の誘電体バリヤ放電ランプ６
ａ，６ｂおよび第２の誘電体バリヤ放電ランプ７ａ，７
ｂの２種類の誘電体バリヤ放電ランプが交互に設けられ
ている。第１の実施例に使用した同軸円筒形誘電体バリ
ヤ放電ランプの概略図を図２に示す。放電容器１３は石
英ガラス製で内側管１４と外側管１５を同軸に配置して
中空円筒状にしたものである。内側管１４と外側管１５
は誘電体バリヤ放電の誘電体バリヤと光取り出し窓部材
を兼任しており、それぞれの外面に光を透過する金属網
からなる電極１６，１７が設けられている。放電空間１
９の一端にリング状のゲッター１８が設けられている。
気密に形成された放電空間１９内に誘電体バリヤ放電に
よってエキシマ分子を形成する放電用ガスを封入して、
誘電体１４，１５の表面に設けられた金属網からなる透
明電極１６，１７に交流電源２６によって電圧を印加す
ると、放電空間１９内にいわゆる誘電体バリヤ放電、別
名オゾナイザ放電あるいは無声放電が発生して、誘電体
１４，１５、透明電極１６，１７を通して、高効率で紫
外線が放射される。図には示していないが、必要に応じ
て、透明電極１６，１７の表面を紫外線透過性の樹脂、
ガラスなどで覆い電気的に絶縁する。また、被処理物あ
るいは処理用流体に直接接触する外側の電極１７は、ア
ース電位で使用することが望ましい。

【００１１】第１の誘電体バリア放電ランプ６ａ，６ｂ
は、発光ガスの主成分としてキセノンガスが封入されて
おり、１７２ｎｍ付近で最大値を有する１２０から１９
０ｎｍの波長範囲の紫外線を放出する。また、第２の誘
電体バリヤ放電ランプ７ａ，７ｂは、発光ガスの主成分
としてクリプトンと塩素の混合ガスが封入されており、
２２２ｎｍ付近で最大値を有する２００から２４０ｎｍ
の波長範囲の紫外線を放出する。処理用流体である酸素
１が処理用流体供給口２から多孔質の泡発生器８を通し
て泡状にして反応容器５に供給され、被処理物供給口４
から反応容器５に供給された被処理物である水３に混合
される。該被処理物である水と処理用流体である酸素の
混合物に、反応空間領域１０，１１において第２および
第１の誘電体バリヤ放電ランプ７ａ，７ｂおよび６ａ，
６ｂからの紫外線が同時に照射される。第１の誘電体バ
リヤ放電ランプ６ａ，６ｂから放射される紫外線によっ
て酸素から非常に活性である酸素原子とオゾンとが生成
される。該オゾンは第２の誘電体バリヤ放電ランプ７
ａ，７ｂから放射される紫外線と第１の誘電体バリヤ放
電ランプ６ａ，６ｂら放射される紫外線によって活性酸
素原子と酸素分子に分解されるが、第１の紫外線と第２
の紫外線のオゾンによる吸収係数が異なるので、反応空
間領域１０，１１の広い範囲において活性酸素原子が生
成される。

【００１２】上記のようにして生成したオゾンと、第１
と第２の誘電体バリヤ放電ランプから放射された紫外線
が同時に被処理物に作用する結果、水に不純物として含
まれているメタノール、イソプロピルアルコール、メチ
ルエチルケトン、トリクロルエチレン、ドデシルベンゼ
ンスルフォン酸、ポリオキシエチレンオクチルフェニル
エーテル、トリメチルアミン、テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド等が分解され、無害な炭酸ガス、
水等に変換される。処理された水は、排出口１２から排
出される。

【００１３】本実施例の利点として、第１に、オゾンの
生成とオゾンの分解用のランプを別の種類に構成したの
で、それぞれの化学反応が最適になるように紫外線の波
長および強度を調節でき、且つ、第１および第２の光源
が誘電体バリヤ放電ランプなのでランプへの入力電力を
調節することによって分光分布を変えること無く光出力
を変更することが出来るので、従って高効率の処理が可
能になり、第２に、被処理物と処理用流体の混合物に、
第２の誘電体バリヤ放電ランプからの紫外線に加えて、
第１の誘電体バリヤ放電ランプによって従来の低圧水銀
放電ランプや高圧アークランプでは発生できない短波長
の紫外線を高効率で照射することが出来るので、従来の
方法では分解が困難であったトリメチルアミン、テトラ
メチルアンモニウムハイドロオキサイド等が分解可能に
なり、第３に、第１および第２の誘電体バリヤ放電ラン
プの光出力特性が周囲温度によって変化しないので、比
較的低温度でしかも温度の一定化には多大のエネルギー
が必要である水の処理を安定に行うことが出来、第４
に、第１および第２の誘電体バリヤ放電ランプの形状の
変更に大きな自由度があるので、反応容器に合致した最
適なランプ形状にする事が可能であり、従って高効率の
処理が出来る等が生じる。

【００１４】該２種類の誘電体バリヤ放電ランプの一種
を、２５４ｎｍを効率よく発生できかつ少量の１８５ｎ
ｍの紫外線も発生できる従来の低圧水銀ランプに置き換
えると、２５４ｎｍと１８５ｎｍの強度比及び強度を自
由に変更できない等の不利点があるが、誘電体バリヤ放
電ランプは進相負荷であるのに対して低圧水銀ランプの
点灯システムは遅相負荷なので、両者を同時に使用する
ことによって力率を１に近い状態にすることが出来、従
って主電源の電流容量を小さく出来るという利点が生じ
る。

【００１５】本発明の第２の実施例は、第１の実施例に
おいて、被処理物供給口４を閉じてしまい、被処理物３
と処理用流体１の混合物を処理用流体供給口２から混合
供給する方法である。この方法は装置が簡単になる利点
がある。本発明の第３の実施例は、第１あるいは第２の
実施例において、処理用流体として過酸化水素水を使用
したものである。供給された過酸化水素水は、紫外線の
照射によってヒドロキシラジカルを生成する。被処理物
と過酸化水素水の混合物に、反応空間領域１０，１１に
おいて両ランプからの紫外線が同時に照射され、被処理
物が処理される。本発明の第４の実施例は、第１から第
３の実施例において、被処理物を工業廃水や、下水とし
たものである。この実施例においても、被処理物に含ま
れている固形物の分離などの前処理工程が必要になる場
合があるが、第１から第３の実施例と同様の機構で被処
理物が処理される。

【００１６】第１から第４までの実施例は被処理物が液
体であったが、第５の実施例は第１から第４の実施例に
おける被処理物を、ガスに置き換えたものである。例え
ば、被処理物を成層圏オゾン層を破壊するＣＦＣ−１
１，ＣＦＣ−１２，ＣＦＣ−１１４およびＣＦＣ−１１
２等のフロンガスとし、処理用流体として過酸化水素水
を使用すると、炭素、塩素、フッ素の化合物であるフロ
ンを、該処理方法によって無害な低級フッ素樹脂、炭酸
ガス、或いは塩化水素に変換する事が可能になる。な
お、塩化水素ガスは、別工程でナトリウム化合物等にし
て処理する。四塩化炭素やメチルクロロホルムなどを含
む工業廃ガスなど各種の廃ガスも第５の実施例の方法で
処理することが出来る。

【００１７】第６の実施例である湿式洗浄方法の概略図
を図３に示す。箱形の洗浄槽３０内の両側に第１の誘電
体バリヤ放電ランプ６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄと第２の誘
電体バリヤ放電ランプ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄが交互に
設置されている。誘電体バリヤ放電ランプの構造は、実
施例１と実質的に同一である。第１の誘電体バリヤ放電
ランプ群は、発光ガスの主成分としてキセノンガスが封
入されており、１７２ｎｍ付近で最大値を有する１２０
から１９０ｎｍの波長範囲の紫外線を放出する。また、
第２の誘電体バリヤ放電ランプ群は、発光ガスの主成分
としてクリプトンとフッ素の混合ガスが封入されてお
り、２４９ｎｍ付近で最大値を有する２４０から２５５
ｎｍの波長範囲の紫外線を放出する。処理用流体である
空気１と水１ａが処理用流体供給口２および２ａから支
持具３５によって支持された被処理物、例えばプラスチ
ックの瓶３４の周辺に供給される。被処理物と処理用流
体が接触した状態において、第１の誘電体バリヤ放電ラ
ンプ群から放射される１７２ｎｍ付近で最大値を有する
１２０から１９０ｎｍの範囲の紫外線によって空気１中
の酸素から非常に活性な酸素原子とオゾンが生成され
る。該オゾンは、第２の誘電体バリヤ放電ランプ群から
放射される２４９ｎｍ付近で最大値を有する２４０から
２５５ｎｍの波長範囲の紫外線を照射され、活性酸素原
子と酸素分子に分解される。上記したように被処理物、
例えばプラスチックの瓶３４の外表面付近には高濃度の
オゾンと活性酸素原子が存在し、且つ、第１および第２
の誘電体バリヤ放電ランプからの紫外線の同時照射を受
けるので、外表面が洗浄される。該洗浄によって、瓶３
４の外表面への印刷などが高品位で行えるようになる。
支持具３５を回転させることにより被処理物であるプラ
スチックの瓶３４を回転させる方法や、処理用流体の温
度を変えることによって、処理速度を大きくすることが
できる。尚、処理後の水は、排出口１２から排出され
る。

【００１８】第７の実施例であるフォトレジストの灰化
方法の概略図を図４に示す。灰化ダクト４０内に第１の
誘電体バリヤ放電ランプ４１ａ，４１ｂ，４１ｃと第２
の誘電体バリヤ放電ランプ４２ａ，４２ｂが被処理物で
あるフォトレジストが塗布されたシリコンウエハ４３に
近接して設けられている。第１の誘電体バリヤ放電ラン
プ４１ａ，４１ｂ，４１ｃが、比較的波長の短い１８０
から２００ｎｍ，１６０から１９０ｎｍ，１２０から１
９０ｎｍの範囲の紫外線を放射するように発光物質を選
択し、第２の誘電体バリヤ放電ランプ４２ａ，４２ｂ
が、比較的波長の長い２４０から２５５ｎｍ，２００か
ら２４０ｎｍ，３００から３２０ｎｍの範囲の紫外線を
放射するように発光物質を選択する。処理用流体供給口
２より注入された処理用流体酸素１は、灰化ダクト４０
内に設けられた第１の誘電体バリヤ放電ランプ群から放
射される短波長の紫外線によって非常に活性な酸素原子
とオゾンに変換される。さらに、オゾンは第２の誘電体
バリヤ放電ランプ群から放射された紫外線によって活性
な酸素原子と酸素分子に分解される。上記の活性な酸素
原子、オゾン、酸素分子の混合物と接触した状態で、被
処理物であるフォトレジストに第１の誘電体バリヤ放電
ランプと第２の誘電体バリヤ放電ランプから放射された
紫外線が同時に照射され、被処理物であるシリコンウエ
ハ４３に塗布されたフォトレジストは灰化される。

【００１９】誘電体バリヤ放電ランプへの入力電力を調
整する事により、第２の誘電体バリヤ放電ランプから放
射される比較的波長の長い紫外線の量に対する第１の誘
電体バリヤ放電ランプから放射される短波長の紫外線の
割合を大きくすると、フォトレジストに照射される短波
長の該紫外線は、酸素分子の吸収断面積が大きいので基
板表面近くにおいて化学活性の高い酸素原子の密度を極
めて高くすることが出来、かつ、シリコンウエハ４３に
照射される光子のエネルギーが大きいので、イオンが注
入されて灰化しにくくなったフォトレジストも灰化する
ことが出来るという利点が生じる。また、第２の誘電体
バリヤ放電ランプから放射される比較的波長の長い紫外
線の量を多くすると、フォトレジストに照射される光子
のエネルギーが小さいので、基板であるシリコンウエハ
を損傷することが少ないという利点が生じる。

【００２０】第８の実施例である表面改質方法は第７の
実施例と類似である。第８の実施例における被処理物
は、シリコンウエハ４３の代わりにプラスチックであ
り、第１の誘電体バリヤ放電ランプ４１ａ，４１ｂ，４
１ｃが、比較的波長の短い１６０から１９０ｎｍの範囲
の紫外線を放射するように発光物質を選択し、第２の誘
電体バリヤ放電ランプ４２ａ，４２ｂが、比較的波長の
長い３００から３２０ｎｍの範囲の紫外線を放射するよ
うに発光物質を選択する。その他は第７の実施例と同一
である。処理用流体供給口２より注入された処理用流体
酸素１は、処理ダクト４０内に設けられた第１の誘電体
バリヤ放電ランプ群から放射される短波長の紫外線によ
って非常に活性な酸素原子とオゾンに変換される。第１
の誘電体バリヤ放電ランプから放射された比較的短波長
の紫外線が被処理物に強く照射されないように、第１の
誘電体バリヤ放電ランプへの入力電力と、第１の誘電体
バリヤ放電ランプと被処理物との距離を調節する。上記
の活性な酸素原子、オゾン、酸素分子の混合物と接触し
た状態で、被処理物であるプラスチックに第２の誘電体
バリヤ放電ランプから放射された紫外線が照射される
と、表面に存在する分子の結合が切断され、表面に−Ｃ
００Ｈ基、−ＯＨ基が形成される。上記のような処理に
よって、プラスチック表面への印刷、接着などが高品位
で出来るようになる。第２の誘電体バリヤ放電ランプか
ら放射される紫外線の波長が比較的長いので、被処理物
であるプラスチックの幹ポリマーが分解される等の被処
理物の損傷が無いという利点が生じる。さらに、この実
施例では被処理物は大気圧以上の雰囲気にあるので、被
処理物の移動が簡単であるという利点が生じる。

【００２１】第９の実施例である成膜方法の概略図を図
５に示す。反応容器７０の上部に設けられた発光用ガス
供給口７５に近接して窓部材を有さない第１の誘電体バ
リヤ放電ランプ６ａ，６ｂと、第２の誘電体バリヤ放電
ランプ７ａ，７ｂ，７ｃが設けられている。発光用ガス
供給口７５から発光用ガスアルゴン７４が供給されるの
で、第１の誘電体バリヤ放電ランプ群からはアルゴンの
エキシマ分子から放射される１０７から１６５ｎｍの波
長範囲の紫外線が放射される。第２の誘電体バリヤ放電
ランプ群は、比較的長い波長の紫外線を放射する。処理
用流体供給口２から供給された処理用流体モノシランガ
スとメタンガスの混合ガス１は基板７１と接触した状態
で第１と第２の誘電体バリヤ放電ランプから同時に照射
され、１０７から１６５ｎｍの波長範囲の紫外線によっ
て分解、活性化され、被処理物である基板７１の表面に
おいて第２の誘電体バリヤ放電ランプ群からの紫外線の
支援のもとに水素化アモルファス炭化シリコンの薄膜を
形成する。第２の誘電体バリヤ放電ランプ群として比較
的長い波長の紫外線を放射するランプを採用し、第１と
第２の誘電体バリヤ放電ランプの紫外線の出力を調整す
ることにより、膜を損傷することが少なく、高品質の膜
を生成することが出来る。

【００２２】被処理物支持装置７２に被処理物の温度を
調整する機構を組み込み被処理物の温度を調整したり、
支持具７３によって被処理物と第１の誘電体バリヤ放電
ランプとの距離を調整することにより、さらに良質の膜
を形成することが可能になる。尚、７６は使用済みガス
の排出口である。

【００２３】第１０の実施例である乾式洗浄方法は第７
の実施例と類似である。図４において、第１０の実施例
における被処理物は、シリコンウエハ４３の代わりに成
型後のプラスチックであり、第１の誘電体バリヤ放電ラ
ンプ４１ａ，４１ｂ，４１ｃが、比較的波長の短い１６
０から１９０ｎｍの範囲の紫外線を放射するように発光
物質を選択し、第２の誘電体バリヤ放電ランプ４２ａ，
４２ｂが、比較的波長の長い３００から３２０ｎｍの範
囲の紫外線を放射するように発光物質を選択する。処理
用流体供給口２より注入された処理用流体酸素１は、処
理ダクト４０内に設けられた第１の誘電体バリヤ放電ラ
ンプ群から放射される短波長の紫外線によって非常に活
性な酸素原子とオゾンに変換される。上記の活性な酸素
原子、オゾン、酸素分子の混合物と接触した状態で、被
処理物であるプラスチックに第１の誘電体バリヤ放電ラ
ンプ群と第２の誘電体バリヤ放電ランプ群から放射され
た紫外線が同時に照射され、プラスチックの外面に付着
した有機物を短時間で分解、除去することが出来る。

【００２４】第１１の実施例であるエッチング方法の概
略図を図６に示す。処理ダクト４０内に第１の誘電体バ
リヤ放電ランプ４１ａ，４１ｂ，４１ｃと第２の誘電体
バリヤ放電ランプ４２ａ，４２ｂが被処理物に近接して
設けられている。第１の誘電体バリヤ放電ランプ４１
ａ，４１ｂ，４１ｃが、比較的波長の短い１８０から２
００ｎｍ，１６０から１９０ｎｍ，１２０から１９０ｎ
ｍの範囲の紫外線を放射するように発光物質を選択し、
第２の誘電体バリヤ放電ランプ４２ａ，４２ｂが、比較
的波長の長い２４０から２５５ｎｍ，２００から２４０
ｎｍ，３００から３２０ｎｍの範囲の紫外線を放射する
ように発光物質を選択する。処理ダクト４０に注入され
た処理用流体である塩素ガス１は、処理ダクト４０内に
設けられた誘電体バリヤ放電ランプ群のランプの間を通
過する間に誘電体バリヤ放電ランプ群から放射された紫
外線によって、活性塩素原子に変換される。この活性塩
素原子は、酸化シリコン６１でマスクされたシリコン基
板６２に吹きつけられ、第１と第２の誘電体バリヤ放電
ランプからの紫外線の同時照射のもとにシリコン基板と
反応して塩化シリコンを生成し、シリコン基板をエッチ
ングする。第２の誘電体バリヤ放電ランプからの比較的
波長の長い紫外線はシリコン基板に直接作用するので、
異方性エッチングが可能になる。

【００２５】

【発明の効果】上記したように、本発明によれば、各種
の処理を高品質で、高効率で、十分な速度で行うことが
できる処理方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を使用した水処理方法の説明図である。

【図２】誘電体バリヤ放電ランプの概略図である。

【図３】本発明を使用した湿式洗浄方法の説明図であ
る。

【図４】本発明を使用したフォトレジストの灰化方法の
説明図である。

【図５】本発明を使用した成膜方法の説明図である。

【図６】本発明を使用したシリコン基板のエッチング方
法の説明図である。

【符号の説明】 ６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ 誘電体バリヤ放電ランプ １０，１１ 反応空間領域 １４，１５ 誘電体 １６，１７ 透明電極 １８ ゲッター １９ 放電空間 ２０ 交流電源

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−7122（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−197697（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C02F 1/30 - 1/32

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 水からなる被処理物と処理用流体を接触
   させた状態で、波長の異なる光を放射する少なくとも２
   種類以上の光源によって、前記被処理物と処理用流体を
   同時に照射して処理する水処理方法であって、 前記処理用流体は酸素を含む流体からなり、 前記光源の少なくとも１種類を誘電体バリヤ放電ランプ
   とし、且つ、この誘電体バリヤ放電ランプを、前記被処
   理物と前記処理用流体を収納している処理室内に配置し
   て処理することを特徴とする誘電体バリヤ放電ランプを
   使用した処理方法。
2. 【請求項２】 廃水からなる被処理物と処理用流体を接
   触させた状態で、波長の異なる光を放射する少なくとも
   ２種類以上の光源によって、前記被処理物と処理用流体
   を同時に照射して処理する廃水処理方法であって、 前記処理用流体は酸素を含む流体からなり、 前記光源の少なくとも１種類を誘電体バリヤ放電ランプ
   とし、且つ、この誘電体バリヤ放電ランプを、前記被処
   理物と前記処理用流体を収納している処理室内に配置し
   て処理することを特徴とする誘電体バリヤ放電ランプを
   使用した処理方法。