JP7283842B2 - 紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法 - Google Patents

紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7283842B2
JP7283842B2 JP2019101619A JP2019101619A JP7283842B2 JP 7283842 B2 JP7283842 B2 JP 7283842B2 JP 2019101619 A JP2019101619 A JP 2019101619A JP 2019101619 A JP2019101619 A JP 2019101619A JP 7283842 B2 JP7283842 B2 JP 7283842B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
excimer lamp
less
ozone
fluid
inlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019101619A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020198145A (ja
Inventor
友樹 ▲濱▼
工 五味
和泉 芹澤
剛 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Orc Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Orc Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Orc Manufacturing Co Ltd filed Critical Orc Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2019101619A priority Critical patent/JP7283842B2/ja
Priority to CN202010277974.XA priority patent/CN112010264B/zh
Publication of JP2020198145A publication Critical patent/JP2020198145A/ja
Priority to JP2023079945A priority patent/JP7437551B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7283842B2 publication Critical patent/JP7283842B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/10Preparation of ozone
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J65/04Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels

Description

本発明は、エキシマランプによって紫外線を照射する紫外線照射装置に関する。
酸化力の強いオゾンを生成する方法として、大気など酸素を含む原料ガスに紫外線を照射することによってオゾンを発生させることが可能であり、紫外線を照射する光源としてエキシマランプが用いられる(特許文献1参照)。そこでは、筐体の上面に吸気口、底面に排気口を設け、吸気口にファンなどを設け、筐体内に空気を流入させる。
エキシマランプでは、発光管の管壁温度が上昇すると、光強度が低下し、また、発生したオゾンの熱分解が発光管付近で生じてしまう。これを防ぐため、エキシマランプを配置した管内に流れる原料ガスの流速を所定値以上に定め、層流状態で流すことによって、オゾン発生の効率を高めることが提案されている(特許文献2参照)。
特開2016-139462号公報 特許第6070794号公報
エキシマランプを空気など原料ガスの流れる管内に配置する構成では、原料ガスが下流側へ流れていく間、エキシマランプから放射される熱によって加熱される。また、酸素分子に吸収されやすいピーク波長をもつ真空紫外線の場合、効率良く紫外線を原料ガスに照射させるために、エキシマランプを配置した管内壁とエキシマランプの外表面との距離を小さくすると、エキシマランプから放射される熱による原料ガスの昇温が促進される。原料ガスが高温になると、生成されたオゾンの分解が促進され、オゾン生成効率が低下する。
したがって、原料ガスの昇温を抑制する紫外線照射装置およびそれを含むオゾン生成装置を提供することが求められる。
本発明の紫外線照射装置は、オゾン生成装置に装備可能であり、例えば、装置下側から空気を吸入し、装置上側からオゾンを排出するオゾン生成装置、あるいは、オゾンを、装置側面もしくは側面付近から排出するオゾン生成装置に組み込まれる。
本発明の紫外線照射装置は、波長200nm以下にピーク波長を有する紫外線を放射するエキシマランプと、エキシマランプを軸方向に沿って収納し、流体が流入口から流出口へ流れる流路が形成された流体管とを備える。例えば、エキシマランプは、172nmのピーク波長を有する紫外線を放射可能である。また、流体管の流入口もしくは流出口に配置される軸流ファンを備えることが可能である。
紫外線照射装置(オゾン生成装置)の動作中、エキシマランプの周囲の圧力は0.3MPa以下であり、流体の流量は5.0m3/min以下となる。このような動作状態では、大気圧との圧力差によって室内空気が攪拌せず、また、オゾン排出によって室内空気が攪拌されない。
本発明では、エキシマランプ発光管の流入口付近と流出口付近との温度差を20℃以下にすることによって、オゾン生成装置を設置する空間内におけるオゾン分解促進およびオゾン滞留の抑制を実現できることを導き、そして、流体管内のスペースに占めるエキシマランプ発光管の割合が、流入口付近と流出口付近との温度差に影響を与えるという新たな知見に基づき、エキシマランプ発光管の軸方向長さと流体管の内壁からの離間距離とを、温度差20℃以下にする値に定めている。特に、流体管の流入口付近と流出口付近との温度差を10℃以下にする、軸方向長さと流体管の内壁までの離間距離をもつ発光管を構成するのがよい。
大気中で吸収されやすい紫外線を照射する場合、エキシマランプ付近を流れる空気などの原料ガスに対して十分な紫外線強度を持たせることを考慮し、離間距離は、エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも短くすればよい。
一方、昇温する原料ガスの割合を抑えることを考慮すると、離間距離は、エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも長くすればよい。
本発明の他の態様であるオゾン生成方法は、波長200nm以下にピーク波長を有する紫外線を放射するエキシマランプと、エキシマランプを軸方向に沿って収納し、流体が流入口から流出口へ流れる流路が形成された流体管とを備えたオゾン生成装置において、エキシマランプの周囲の圧力が0.3MPa以下であり、流体管を流れる流量が5.0m/min以下でオゾン生成装置を動作させ、流入口付近と流出口付近との温度差を、20℃以下にする。
上述したように、本発明は、エキシマランプ発光管の流入口付近と流出口付近との温度差を20℃以下にすることによって、オゾン生成装置を設置する空間内におけるオゾン分解促進およびオゾン滞留の抑制を実現できることを初めて見出したことに基づくオゾン生成方法であり、オゾン生成装置の構成は上記条件で動作する範囲で任意であり、また、設置場所も様々である。
本発明によれば、原料ガスの昇温を抑制する紫外線照射装置およびそれを含むオゾン生成装置を提供することができる。
本実施形態である紫外線照射装置の概略的構成図である。 オゾン生成装置の配置図である。
以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態である紫外線照射装置の概略的構成図である。図2は、オゾン生成装置の配置図である。
図2に示すように、オゾン生成装置1は、ここでは床置き型として構成され、部屋Rの床中央などに設置される。オゾン生成装置1は、装置下側から空気を吸入し、装置上側から生成されたオゾンを排出し、部屋Rの空気の脱臭や殺菌などの処理をする。
オゾン生成装置1は、図1に示す紫外線照射装置10を備える。紫外線照射装置10は、軸流ファン20、流体管30、エキシマランプ40を備える。エキシマランプ40は、管状の発光管40Aを有し、200nm以下のピーク波長をもつ真空紫外線を放射する。ここでは、発光管40Aは断面円状であって、172nmのピーク波長を有する紫外線が放射される。発光管40Aは、図示しない支持部材によって支持されている。
流体管30は、紫外線照射部を有し、原料ガス(被照射体)の流れる流路を形成し、流入口30Aから流出口30Bに向けて原料ガスが流れる。原料ガスは、酸素を含むガスであり、ここでは空気である。流体管30は、ここでは円筒状に構成され、流体管30の軸Cが鉛直方向を向くように紫外線照射装置10が設置されている。
軸流ファン20は、ファンモータ部22と、ファン羽24とを備え、流体管30と実質的に同じ外径であって、流体管30の流入口30Aに対して同軸的に配置されている。エキシマランプ40は、発光管40Aの軸(ランプ軸)が流体管30の軸Cと一致する、すなわち軸流ファン20の軸上に沿うように、流体管30内に配置されている。
軸流ファン20が回転すると、周囲の空気が流体管30の流入口30Aに流れ込み、流体管30に沿って移動する。エキシマランプ40は、図示しない電源部による制御によって点灯し、紫外線を放射する。その結果オゾンが生じ、生成されたオゾンは流出口30Bを通って装置外へ排出される。
オゾン生成装置1を動作させる間、エキシマランプ40への入力電力が、ここでは1.5~140Wの範囲に定められ、エキシマランプ40の照度は、10~17mW/cmの範囲に収まる。また、軸流ファン20が動作している間、エキシマランプ40の周囲の圧力が0.3MPa以下、流体管30を流れる流量が5.0m/min以下となる。
エキシマランプ40の周囲の圧力が0.3MPa以下となることで、大気圧との圧力差によって室内空気を攪拌するようにオゾンが排出されない。また、流体管30を流れる原料ガスの流量が5.0m/min以下となることで、室内空気を攪拌するようにオゾンが排出されない。
上述したように、エキシマランプ40は、流体管30内で同軸的に配置されている。エキシマランプ40は、軸方向長さKを有し、また、ランプ外表面40Sと流体管の内壁30Cとの間に離間距離dをもって配置されている。本実施形態では、上記動作条件の下、流入口30A付近と流出口30B付近の温度差が20℃以下となるように、軸方向長さKおよび離間距離dのエキシマランプ40が構成されている。
一般的に、紫外線照射によって生じたオゾンは、温度、相対湿度、流速が高くなると分解が促進され半減期は短くなる。温度によるオゾン分解は約40℃に達すると始まり、約60℃になるとオゾン分解が活発になる。空調機が設置されたビルなどでは、常時20℃前後で室内温度が維持されることが多く、室内の床側と天井側での温度差が20℃前後となることが多い。そのため、流入口30A付近と流出口30B付近の温度差を20℃以下とすることで、オゾン生成装置1付近で空気温度が40℃を超えるのを抑え、天井側に排出されたオゾンが天井側付近で滞留することを抑制することができる。また、空調機による温度調整がされていない場合でも、温度差を20℃以下に抑えることで、排出口30B付近の気温が60℃に達するのを抑えることができる。さらに、温度差を10℃以下にするエキシマランプ40を構成することで、室内温度が30℃付近に達してもオゾン分解やオゾン滞留を確実に抑制することができる。
ところで、特定のピーク波長の真空紫外線は、大気中で吸収されやすく、エキシマランプ40から放射される紫外線はすぐに減衰し、紫外線強度が低下する。この減衰の程度は、紫外線の大気中に対する吸収係数の大きさに従う。理想的な測定環境では波長172nmの紫外線の場合、約3mmの進行で紫外線強度比が50%まで減衰し、約6mmで20%、そして約30mmで紫外線がすべて吸収されてしまう。以下では、所定の紫外線強度比まで減衰した時の紫外線の進行距離を透過距離Lとして表す。実際の測定環境においては、真空紫外線の波長域に感度を有する紫外線照度計を発光管の外表面に近接させた状態からの紫外線強度比の減衰として把握できる距離である。
エキシマランプ40付近を流れる空気に対してオゾン生成に十分な紫外線強度を有する紫外線を照射するためには、エキシマランプ40の外表面40Sと流体管30の内壁30Cとの離間距離dを比較的短い距離にすればよい。発光管40Aの外径Dによって定まる領域の大きさを流体管30の内径Tによって定まる流路空間に占める割合をすなわち、発光管40Aの外径Dによって定まる領域の大きさを、流体管30の内径Tによって定まる流路空間に占める割合を比較的大きくすることで、離間距離dを短くすることできる。例えば、発光管40Aの外径Dを4mm以上として、離間距離dを、エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも短くする。
また、原料ガスが昇温される原因(熱源)に応じて、離間距離dが比較的短い場合、軸方向長さKが比較的短いエキシマランプ40を構成してもよく、離間距離dが比較的長い場合、軸方向長さKが比較的長いエキシマランプ40構成することも可能である。離間距離dが短いほど軸方向長さKを短くするようにエキシマランプ40を構成してもよい。
一方で、エキシマランプ40の流体管30内に占める領域の割合が大きくなり過ぎると、空気がエキシマランプ40を通過するときに流れにくくなり、圧力損失となってしまう。また、エキシマランプから放射された熱によって昇温した原料ガスの割合が多くなり、流出口30B付近の空気の温度が高くなる。
したがって、離間距離dを、エキシマランプ40から放射される紫外線の紫外線強度比が20%に達する透過距離よりも短くする場合には、温度差20℃以下に抑えるように軸方向長さKを有するエキシマランプ40を構成するのが良い。一方、離間距離dを、エキシマランプ40から放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも長くすることもできる。この場合、エキシマランプから放射された熱によって昇温した原料ガスの割合が少なくなるため、温度差10℃以下に抑えるように、エキシマランプ40を構成すればよい。
このように本実施形態では、紫外線照射装置10を備えたオゾン生成装置1において、紫外線照射装置10の流体管30にエキシマランプ40を同軸配置し、軸流ファン20を回して装置下側(床側)から吸入した空気を装置上側(天井側)へ流し、オゾンを発生させる。オゾン生成装置1の動作中、流体管30の入口30A付近の温度と、流出口30B付近の温度差が20℃以下となる、軸方向長さK、離間距離dをもつエキシマランプ40が構成される。
オゾン生成装置1は床置きタイプで構成されているが、空調機のように天井付近に設置し、装置側面あるいは側面付近からオゾンを排出するように構成してもよい(図2の符号1’参照)。この場合、軸流ファンを流体管の流出口に配置してもよい。エキシマランプ40を複数配置することも可能である。さらに、流体管を冷却するなどにより温度差が20℃以下となるように構成してもよい。
オゾン生成装置1の紫外線照射部に加えて、オゾン除去部を設けても良い。この場合でも、装置下側からオゾンを含むガスを吸入し、装置上側からオゾンを除去したガスを排出し、部屋Rの空気に含まれるオゾンを除去する。さらに、オゾンは空気よりも重いので、紫外線照射部の流入口30Aよりも下側に別の流入口を設けて、オゾン除去部へ流すとよい。ここで、オゾンの除去とは、分解や吸着のように流体に含まれるオゾンを減らす機能全般を含む概念であり、オゾンを吸着分解する活性炭や触媒、波長254nmの光を放射してオゾンを分解する低圧水銀ランプ等、任意のものをオゾン除去部として選択できる。活性炭や触媒を用いるときは、紫外線照射部よりも下側にオゾン除去部を設けて別の流路を形成するとよい。波長254nmの光を放射して分解するときは、紫外線照射部と同じ流路とするとよい。
10 紫外線照射装置
20 軸流ファン(流体供給部)
30 流体管(紫外線照射部)
40 エキシマランプ
d 離間距離
K 軸方向長さ

Claims (9)

  1. 波長200nm以下にピーク波長を有する紫外線を放射するエキシマランプと、
    前記エキシマランプを軸方向に沿って収納し、流体が流入口から流出口へ流れる流路が形成された流体管とを備え、
    前記エキシマランプの周囲の圧力が0.3MPa以下であり、前記流体の流量が5.0m3/min以下であり、前記エキシマランプの発光管が、前記流入口付近と前記流出口付近との温度差を20℃以下にする、軸方向長さと前記流体管の内壁からの離間距離とをもち、
    前記離間距離が、前記エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも短いことを特徴とする紫外線照射装置。
  2. 前記発光管が、前記流体管の流入口付近と流出口付近との温度差を10℃以下にする、軸方向長さと前記流体管の内壁までの離間距離とをもつことを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。
  3. 波長200nm以下にピーク波長を有する紫外線を放射するエキシマランプと、
    前記エキシマランプを軸方向に沿って収納し、流体が流入口から流出口へ流れる流路が形成された流体管とを備え、
    前記エキシマランプの周囲の圧力が0.3MPa以下であり、前記流体の流量が5.0m3/min以下であり、前記エキシマランプの発光管が、前記流入口付近と前記流出口付近との温度差を20℃以下にする、軸方向長さと前記流体管の内壁からの離間距離とをもち、
    前記離間距離が、前記エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも長いことを特徴とする紫外線照射装置。
  4. 前記流体管の流入口もしくは流出口に配置される軸流ファンをさらに備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の紫外線照射装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれかに記載の紫外線照射装置を備えたことを特徴とするオゾン生成装置。
  6. 装置下側から空気を吸入し、装置上側からオゾンを排出することを特徴とする請求項5に記載のオゾン生成装置。
  7. オゾンを、装置側面もしくは側面付近から排出することを特徴とする請求項5に記載のオゾン生成装置。
  8. 波長200nm以下にピーク波長を有する紫外線を放射するエキシマランプと、前記エキシマランプを軸方向に沿って収納し、流体が流入口から流出口へ流れる流路が形成された流体管とを備えたオゾン生成装置において、
    前記エキシマランプの周囲の圧力が0.3MPa以下であり、前記流体管を流れる流量が5.0m3/min以下で前記オゾン生成装置を動作させ、
    前記エキシマランプの発光管に対し、前記流入口付近と前記流出口付近との温度差を20℃以下にする、軸方向長さと前記流体管の内壁からの離間距離とをもたせ、
    前記離間距離を、前記エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも短くすることを特徴とするオゾン生成方法。
  9. 波長200nm以下にピーク波長を有する紫外線を放射するエキシマランプと、前記エキシマランプを軸方向に沿って収納し、流体が流入口から流出口へ流れる流路が形成された流体管とを備えたオゾン生成装置において、
    前記エキシマランプの周囲の圧力が0.3MPa以下であり、前記流体管を流れる流量が5.0m3/min以下で前記オゾン生成装置を動作させ、
    前記エキシマランプの発光管に対し、前記流入口付近と前記流出口付近との温度差を20℃以下にする、軸方向長さと前記流体管の内壁からの離間距離とをもたせ、
    前記離間距離を、前記エキシマランプから放射される紫外線の紫外線強度比が20%になる透過距離よりも長くすることを特徴とするオゾン生成方法。

JP2019101619A 2019-05-30 2019-05-30 紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法 Active JP7283842B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019101619A JP7283842B2 (ja) 2019-05-30 2019-05-30 紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法
CN202010277974.XA CN112010264B (zh) 2019-05-30 2020-04-10 紫外线照射装置和臭氧生成装置
JP2023079945A JP7437551B2 (ja) 2019-05-30 2023-05-15 紫外線照射装置および紫外線照射方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019101619A JP7283842B2 (ja) 2019-05-30 2019-05-30 紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023079945A Division JP7437551B2 (ja) 2019-05-30 2023-05-15 紫外線照射装置および紫外線照射方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020198145A JP2020198145A (ja) 2020-12-10
JP7283842B2 true JP7283842B2 (ja) 2023-05-30

Family

ID=73506832

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019101619A Active JP7283842B2 (ja) 2019-05-30 2019-05-30 紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法
JP2023079945A Active JP7437551B2 (ja) 2019-05-30 2023-05-15 紫外線照射装置および紫外線照射方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023079945A Active JP7437551B2 (ja) 2019-05-30 2023-05-15 紫外線照射装置および紫外線照射方法

Country Status (2)

Country Link
JP (2) JP7283842B2 (ja)
CN (1) CN112010264B (ja)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020089275A1 (en) 2001-01-08 2002-07-11 Zoran Falkenstein Dielectric barrier discharge-driven (V)UV light source for fluid treatment
JP2003197152A (ja) 2001-12-25 2003-07-11 Harison Toshiba Lighting Corp 誘電体バリア放電ランプ、誘電体バリア放電ランプ部品、放電ランプ点灯装置及び光照射装置
JP2005317555A (ja) 2005-07-12 2005-11-10 Quark Systems Co Ltd エキシマランプ及びエキシマ照射装置
WO2008010132A2 (en) 2006-07-13 2008-01-24 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Fluid treatment system comprising radiation source module and cooling means
JP2012212576A (ja) 2011-03-31 2012-11-01 Ushio Inc 光照射装置
JP2016037416A (ja) 2014-08-07 2016-03-22 ウシオ電機株式会社 紫外線照射式オゾン生成装置
JP2019017808A (ja) 2017-07-19 2019-02-07 株式会社オーク製作所 オゾン処理装置
JP2019064842A (ja) 2017-09-28 2019-04-25 株式会社オーク製作所 オゾン生成装置およびエキシマランプ点灯方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6503464B1 (en) 1999-08-12 2003-01-07 Sipec Corporation Ultraviolet processing apparatus and ultraviolet processing method
JP4123011B2 (ja) * 2003-03-03 2008-07-23 ウシオ電機株式会社 エキシマランプ装置
US20090041632A1 (en) 2007-08-08 2009-02-12 Novapure Systems Inc. Air Purifier System and Method
JP2013103184A (ja) * 2011-11-15 2013-05-30 Nec Lighting Ltd 浄化装置
JP6070794B1 (ja) 2015-08-26 2017-02-01 ウシオ電機株式会社 オゾン発生器
US20170080373A1 (en) 2015-09-22 2017-03-23 Rolf Engelhard Air purification system
JP6778003B2 (ja) * 2016-03-24 2020-10-28 株式会社オーク製作所 オゾン生成装置及びオゾン処理装置
JP6826815B2 (ja) * 2016-03-30 2021-02-10 株式会社オーク製作所 オゾン処理装置
JP6804882B2 (ja) * 2016-06-30 2020-12-23 日本電子株式会社 紫外線照射装置および真空容器装置
JP6604339B2 (ja) * 2017-01-20 2019-11-13 ウシオ電機株式会社 紫外線殺菌装置
JP6558376B2 (ja) * 2017-01-10 2019-08-14 ウシオ電機株式会社 紫外線放射装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020089275A1 (en) 2001-01-08 2002-07-11 Zoran Falkenstein Dielectric barrier discharge-driven (V)UV light source for fluid treatment
JP2003197152A (ja) 2001-12-25 2003-07-11 Harison Toshiba Lighting Corp 誘電体バリア放電ランプ、誘電体バリア放電ランプ部品、放電ランプ点灯装置及び光照射装置
JP2005317555A (ja) 2005-07-12 2005-11-10 Quark Systems Co Ltd エキシマランプ及びエキシマ照射装置
WO2008010132A2 (en) 2006-07-13 2008-01-24 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Fluid treatment system comprising radiation source module and cooling means
JP2009542437A (ja) 2006-07-13 2009-12-03 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 放射線源及び冷却手段を含む流体処理システム
JP2012212576A (ja) 2011-03-31 2012-11-01 Ushio Inc 光照射装置
JP2016037416A (ja) 2014-08-07 2016-03-22 ウシオ電機株式会社 紫外線照射式オゾン生成装置
JP2019017808A (ja) 2017-07-19 2019-02-07 株式会社オーク製作所 オゾン処理装置
JP2019064842A (ja) 2017-09-28 2019-04-25 株式会社オーク製作所 オゾン生成装置およびエキシマランプ点灯方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020198145A (ja) 2020-12-10
JP7437551B2 (ja) 2024-02-22
JP2023120184A (ja) 2023-08-29
CN112010264A (zh) 2020-12-01
CN112010264B (zh) 2024-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6070794B1 (ja) オゾン発生器
JP7232428B2 (ja) 気体処理装置
US20170056543A1 (en) Air decontamination device & method
JP6282678B2 (ja) 空気調和方法及び空気調和システム
WO2013157202A1 (ja) 浄化装置
JP2018162898A (ja) 空気調和装置
JP7283842B2 (ja) 紫外線照射装置およびオゾン生成装置、オゾン生成方法
JP2018021752A (ja) 空気調和方法及び空気調和システム
WO2020262478A1 (ja) 気体処理方法、気体処理装置
JP7313764B2 (ja) 紫外線照射装置およびオゾン生成装置
JP7048700B1 (ja) 空気浄化装置
JP7024021B2 (ja) オゾン処理装置
JP7305380B2 (ja) 紫外線照射装置およびオゾン発生器
JP7206810B2 (ja) 気体処理装置
JP7399007B2 (ja) オゾン生成装置および放電ランプ装置
JP2021146231A (ja) ガス供給装置
JP2015109911A (ja) 空気浄化装置
KR200276040Y1 (ko) 공기 살균 장치
JP2022124566A (ja) 紫外線照射装置およびオゾン発生装置
JP7399004B2 (ja) 紫外線照射装置およびオゾン生成装置
JP7300105B2 (ja) ガス処理装置及びガス処理方法
JP2015109910A (ja) 空気浄化装置
JP2022039527A (ja) オゾン発生装置およびオゾン発生方法
KR100605728B1 (ko) 다단 광촉매 여과기가 구비된 프로젝션 텔레비젼
JP2022039563A (ja) オゾン発生装置およびオゾン発生方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220408

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230308

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230322

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230328

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230515

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7283842

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150