JP7206810B2 - 気体処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、気体処理装置に関し、特にガス中の酸素に紫外線を照射することで発生するオゾンによってガス処理を行う気体処理装置に関する。
所定濃度のオゾンを含むガスは、殺菌、脱臭作用があり、種々の分野で利用されている。このようなオゾンを生成する方法として、紫外線光源を用いた光化学反応が知られている。
しかし、オゾンは反応性が高く、気体処理装置を構成する部品がオゾンに曝されると、酸化が促進し、部品の劣化や破損を進行させてしまうことが知られている。そこで、下記特許文献１には、オゾンが外側へ漏れ出さないようするため、放電ランプが収容されている管体の吸気口と排気口に、それぞれ電磁弁を配置し、オゾンの濃度に応じて弁の開閉を制御する構成が開示されている。
特開２０１１－１０１７４８号公報
処理対象ガスに含まれる酸素に、紫外線が照射されることで発生するオゾンは、処理対象ガスに含まれる物質と反応することによって消費される。しかし、処理対象ガスに含まれる物質と反応しなかった一部のオゾンは、気体処理装置内の部品と接触し、部品の劣化や破損を進行させてしまう。
上述の特許文献１のように、放電ランプを専用の筐体に収容し、オゾンが発生する空間を隔離して、筐体の内側と外側のオゾン濃度を制御することで、部品等が高濃度のオゾンに曝されないようにする構成が考えられる。しかしながら、放電ランプと電気的に接続される給電線は、放電ランプとは分離できないため、一部が高濃度のオゾンに曝されてしまい、劣化や破損の進行を免れられない。
本発明は、上記の課題に鑑み、給電線が放電ランプから放射された紫外線によって発生したオゾンに曝されない構成とすることで、給電線の劣化の促進を抑えた気体処理装置を提供することを目的とする。
本発明に係る気体処理装置は、
吸気口から吸気された、酸素を含む処理対象ガスに対して紫外線を照射した後、前記吸気口とは異なる位置に設けられた排気口から排気する気体処理装置であって、
前記吸気口を構成する第一開口領域を有する第一端部、前記第一端部に対して第一方向に離間した位置に配置されると共に、前記排気口を構成する第二開口領域を有する第二端部、及び前記第一開口領域と前記第二開口領域とを連絡する中空部が内側に形成されている本体部を含む筐体と、
前記中空部内に配置されると共に、前記第一方向に延伸する形状を呈した管体と、第一電極と、第二電極とを有し、前記第一電極と前記第二電極との間に電圧が印加されることで前記管体から前記紫外線を放射する放電ランプと、
前記筐体の外側に配置された電源部と、
前記本体部よりも前記第一端部側を通過するように配線された、前記電源部と前記第一電極とを電気的に接続する第一給電線と、
前記本体部よりも前記第一端部側を通過するように配線された、前記電源部と前記第二電極とを電気的に接続する第二給電線とを備えたことを特徴とする。
本発明の気体処理装置は、排気ダクト等に連結され、流れてくる処理対象ガスを吸気口から取り込み、排気口に向かって通流させながら、放電ランプから放射された紫外線により発生したオゾンに、処理対象ガスを接触させることよって処理を行う。
オゾンは、処理対象ガスに含まれる酸素に、放電ランプから放射された紫外線が照射されることで発生する。紫外線が処理対象ガスに含まれる酸素に照射されると、下記（１）～（２）式の反応が進行しオゾンが生成される。（１）式において、Ｏ（1Ｄ）は、励起状態の酸素原子であり、高い反応性を示す。Ｏ（3Ｐ）は基底状態の酸素原子である。また、（１）式において、ｈνは、紫外線が吸収されていることを示す。（１）式で生成されたＯ（3Ｐ）は、処理対象ガスに含まれる酸素（Ｏ2）と反応して、（２）式に従ってオゾン（Ｏ3）を生成する。
Ｏ2+ ｈν → Ｏ（1Ｄ） + Ｏ（3Ｐ） ‥‥（１）
Ｏ（3Ｐ） + Ｏ2 → Ｏ3 ‥‥（２）
第一開口領域は、処理対象ガスを、気体処理装置の外側から、中空部へと導くための開口領域である。中空部には、放電ランプが収容されており、中空部に導かれた処理対象ガスは、放電ランプから紫外線が照射されることで発生したオゾンによって処理が行われる。
第二開口領域は、気体処理装置にて処理を行ったガスを、処理対象ガスの外側へと導くための開口領域である。本発明の気体処理装置においては、第一開口領域が配置された端部が第一端部であり、第二開口領域が配置された端部が第二端部である。
中空部は、上述のとおり、内側を第一開口領域で取り込まれた処理対象ガスに、オゾンを接触させて処理する領域である。つまり、処理対象ガスは、第一開口領域から気体処理装置の内側に取り込まれ、中空部を通過して、第二開口領域から気体処理装置の外側に排出される。処理対象ガスが通流する第一開口領域、中空部及び第二開口領域を含めた全体が本体部である。
放電ランプは、電圧を印加する第一電極及び第二電極を備えている。第一電極及び第二電極は、それぞれ、筐体の外側に配置された電源部と給電線（第一給電線、第二給電線）を介して電気的に接続され、電源部より第一電極と第二電極の間に電圧が印加されることで、放電ランプが紫外線を放射する。
本発明の気体処理装置は、放電ランプの第一電極と電源部を接続する第一給電線と、第二電極と電源部を接続する第二給電線のいずれもが、処理対象ガスを気体処理装置の外側から気体処理装置の内側に取り込むための第一開口領域が配置された第一端部側を通過するように構成されている。
本体部を流れる処理対象ガスは、上述のとおり、第一開口領域で取り込まれて中空部へ向かい、第二開口領域から排出される。つまり、処理対象ガスが気体処理装置の内側に取り込まれている間は、中空部には常に第一端部側から第二端部側への気流が発生している。このため、中空部内で発生し、処理対象ガスと反応しなかったオゾンのほとんどは、第一端部側へ向かうことなく、第二端部側へと向かい、第二開口領域から排出される。
従って、第一給電線と第二給電線のいずれもを、第一端部側を通過するように配線することで、第一給電線と第二給電線は、中空部で発生したオゾンに曝されることがなくなり、第一給電線と第二給電線の劣化や破損の進行が抑制される。
なお、処理対象ガスには、少なからず水分も含まれる。処理対象ガス中の水分に、放電ランプが放射する紫外線が照射されると、上記（１）式と、下記（３）式の反応が進行し、ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）も生成される。
Ｏ（1Ｄ） + Ｈ2Ｏ → ・ＯＨ + ・ＯＨ ‥‥（３）
ヒドロキシラジカルをはじめとするラジカル生成物も、オゾンと同様に反応性が高く、部品等の劣化や破損を促進させてしまう。しかし、本発明の構成によれば、中空部で発生したラジカル生成物も、第一端部側へ向かうことなく、ほとんど全てが第二端部側へと向かい、第二開口領域から排出される。つまり、ラジカル生成物による、第一給電線及び第二給電線の劣化や破損の進行も抑制することができる。
前記第一開口領域は、前記第二開口領域に向かって進行するにつれて、狭くなるように形成されていても構わない。
第一開口領域が第二開口領域に向かって狭くなるように形成されると、流れてくる処理対象ガスは、第一開口領域において、圧縮されながら中空部へと導かれる。圧縮されながら中空部へと進行する処理対象ガスは、進行方向に対する圧力が高くなり、流速が速まる。従って、中空部内のガスは、より強い圧力で第二端部側へ押し出されることとなり、中空部内で発生したオゾンやラジカル生成物は、第一端部へは向かいにくくなり、第一給電線と第二給電線がオゾンやラジカル生成物に曝されるリスクが、さらに低減される。
前記筐体は、前記第一端部側において、前記第一給電線と前記第二給電線を内設することができる溝が形成されている、前記放電ランプを支持する支持部材を備えていても構わない。
上記構成とすることで、中空部から第一開口領域に微量のオゾンが流れ込んできた場合においても、第一給電線と第二給電線は、支持部材に内設されていることによって、オゾンと直接接触することから守られる。
さらに、放電ランプは、発光時に第一電極と第二電極の間に高電圧が印加され、第一給電線と第二給電線の間には高い電圧差が生じている。この時、それぞれの給電線の被膜の素材等によっては、給電線同士が接触するだけで、電流リークが発生してしまうおそれもある。そこで、支持部材にそれぞれの給電線を独立して内設できる溝を構成することで、電流リークの抑制もできる。ただし、給電線同士の接触で、電流リークが発生しない場合には、各給電線をまとめて収容できる溝を形成するものであっても構わない。
前記放電ランプは、前記管体の外壁面上において、前記第一電極と前記第二電極が前記管体を介して対向するように形成され、前記第一方向に向かって見たときに、前記第一電極と前記第二電極の対向する方向と、前記放電ランプに対して前記電源部が配置されている方向とが非平行となるように配置されていても構わない。
上記構成とすることで、第一開口領域内において、第一給電線と第二給電線とで捻れが生じにくく、給電線同士を接触しにくくさせることができる。
前記放電ランプは、Ｘｅを含む放電用ガスが充填されたエキシマランプであっても構わない。
エキシマランプの特徴は、オゾンを発生させるための紫外線を照射するランプであることに加え、点灯後すぐに安定した出力が得られることであり、不要時に消灯させたとしても、待機時間なく再稼働ができる。
つまり、放電ランプをエキシマランプとすることで、処理対象ガスが流れてこない時は、消灯してオゾンやラジカル生成物が発生しない状態にすることができる。また、再稼働時に待機時間を要する場合には、その間に発生するオゾンが第一端部側へ流れ込み、第一給電線と第二給電線に接触してしまうおそれがあるが、エキシマランプであれば、待機時間を要しない。
上記構成によれば、電源部を適宜制御することで、処理対象ガスの通流が停止している場合などに、不必要なオゾンやラジカル生成物が発生することを止めることができ、各給電線がオゾンやラジカル生成物に曝されることがないようにすることができる、
上記気体処理装置は、
前記電源部を収容する電源ボックスを備え、
前記筐体の側面に形成された平面上に、前記電源ボックスの一平面が接触するように配置されていても構わない。
気体処理装置が電源部を収容できる電源ボックスを備え、電源ボックスの一平面が、筐体の側面に形成された平面上に接触するように配置されることで、筐体と電源ボックスとが一体型の気体処理装置が構成できる。例えば、電源ボックスと筐体の接触する面の形状を合わせて構成し、全体として直方体形状となるように構成すれば、同一の気体処理装置をダクトの本数に併せて複数配置する場合に、積み重ねや整列が容易となり、柔軟な配置構成をとることができる。
前記電源ボックスは、冷却用吸気口と、冷却用排気口と、冷却用ファンとを備え、
前記冷却用ファンが稼働することで前記冷却用吸気口から前記電源ボックス内に取り込まれた、前記処理対象ガスとは異なる外気が、前記電源部を冷却した後、前記冷却用排気口から排気されるように構成されていても構わない。
上記構成とすることで、電源部を処理対象ガスではなく、外気で冷却することができる。外気によって電源部を冷却することで、電源ボックス内に配置された電源部や給電線の一部は、処理対象ガスや処理済みガスに曝され続けるよりも、清浄な状態を維持することができ、劣化や破損の進行が抑制される。
本発明によれば、給電線が放電ランプから放射される紫外線により発生したオゾンに曝されず、給電線の劣化の促進を抑えた気体処理装置が実現される。
気体処理装置の一実施形態の模式的な全体斜視図である。 図１に示す気体処理装置の側面視の模式的な断面図である。 図１の気体処理装置を処理対象ガスの進行方向に向かって、第一端部側から見た正面視の図面である。 扁平管構造の放電ランプによる気体処理装置の側面視の模式的な断面図である。 扁平管構造の放電ランプによる気体処理装置の上面視の模式的な断面図である。 扁平管構造の放電ランプによる気体処理装置の正面視の模式的な断面図である。 気体処理装置の別実施形態の側面視の模式的な断面図である。
以下、本発明の気体処理装置について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図面は、いずれも模式的に図示されたものであり、図面上の寸法比や個数は、実際の寸法比や個数と必ずしも一致していない。
図１は、気体処理装置の一実施形態の模式的な全体斜視図である。本実施形態における気体処理装置１は、処理対象ガスが通流する筐体１０と、電源部１５が収容された電源ボックス１６が積み重なって、全体として直方体形状をなしている。筐体１０及び電源ボックス１６の構造の詳細な説明は後述される。
図２は、図１に示す気体処理装置１の側面視の模式的な断面図である。図２に示すように、筐体１０は、中空部１２ｂを含む本体部１２と、本体部１２の両端側に位置する第一端部１２ｄ及び第二端部１２ｅを備える。第一端部１２ｄは、中空部１２ｂに連絡された第一開口領域１２ａを備える。第二端部１２ｅは、第一開口領域１２ａとは反対側の位置において、中空部１２ｂに連絡された第二開口領域１２ｃを備える。中空部１２ｂの内部には、本体部１２の管軸に沿うように放電ランプ１１が配置されている。
図２に示すように、電源ボックス１６内には電源部１５が配置されている。放電ランプ１１は、電源部１５から電圧が印加されて紫外線Ｌ１を照射する。処理対象ガスＧ１は、気体処理装置１の外側から第一開口領域１２ａを通じて取り込まれると、中空部１２ｂへと導かれる。中空部１２ｂ内を通流してきた処理対象ガスＧ１は、放電ランプ１１から紫外線Ｌ１が照射されることで生成されたオゾンやラジカル生成物と反応し、処理対象ガスＧ１に含まれる物質（処理対象物質）が処理される。このようにして処理された後の処理済みガスＧ２は、第二開口領域１２ｃ側から気体処理装置１の外部へと排出される。放電ランプ１１の構造については、後述される。
さらに、図２に示す気体処理装置１は、第一端部１２ｄと第二端部１２ｅの位置において、中空部１２ｂ内に配置された放電ランプ１１を支持するための支持部材１３が備えられている。
第一開口領域１２ａと第二開口領域１２ｃは、いずれも中空部１２ｂに向かって進行するにつれて狭くなるように形成されている。第一開口領域１２ａが、第二開口領域１２ｃに向かって進行するにつれて狭くなることで、中空部１２ｂを通流する処理対象ガスＧ１の進行方向に向かう圧力が高まり、処理対象ガスＧ１の流速が速まる。従って、放電ランプ１１から放射された紫外線Ｌ１によって発生したオゾンを、第二開口領域１２ｃ側へと押し出す効果が高まる。
気体処理装置１は、例えば建物の空調用ダクトや、工場の排気処理用ダクトに直接連結させて使用される場合が想定される。この場合、第一開口領域１２ａと第二開口領域１２ｃは、第一端部１２ｄ及び第二端部１２ｅにおける開口径は、空調ダクトの径と同じサイズで構成することが好ましく、多くは開口径が約１５ｃｍで構成される。
中空部１２ｂは、処理対象ガスＧ１が、オゾンに接触するように、できる限り放電ランプ１１を構成する管体２１の外壁面と筐体１０の当該中空部１２ｂの箇所における内壁面との隙間が狭くなるように構成される。その隙間は、約１ｃｍ程度であることが好ましい。中空部１２ｂ内に配置される放電ランプ１１は、具体的には、管体２１の直径又は幅は約３ｃｍ～５ｃｍで構成され、筐体１０の中空部１２ｂの開口径は、約４ｃｍ～６ｃｍで構成される。
また、本実施形態では、上述したように、電源部１５は、専用の電源ボックス１６に収容されている。この電源ボックス１６は、筐体１０の外壁面を構成する平面上に接触するように配置されている。さらに、電源ボックス１６は、電源部１５を冷却するための冷却風Ｗ１を取り込むための冷却用吸気口１７ａと、冷却風Ｗ１を排気するための冷却用排気口１７ｂと、冷却風Ｗ１を送風するための冷却用ファン１８とを備えている。本実施形態では、冷却用ファン１８は、冷却用排気口１７ｂに配置されているが、冷却用吸気口１７ａに配置されていても構わない。
電源ボックス１６に収容されている電源部１５は、冷却用吸気口１７ａを通して取り込まれた外気によって冷却されるため、電源部１５は処理対象ガスＧ１や処理済みガスＧ２によって冷却される場合と比較すると、より清浄な状態を長期間保つことができる。
放電ランプ１１と電源部１５は、第一給電線１４ａと第二給電線１４ｂによって電気的に接続される。電源部１５から第一給電線１４ａと第二給電線１４ｂとの間に電圧が印加されることで、放電ランプ１１から紫外線Ｌ１が放射される。
第一給電線１４ａと第二給電線１４ｂは、いずれも第一端部１２ｄ側を通過するように配線されている。この点について、図３も参照しながら説明する。図３は、図１の気体処理装置１を放電ランプ１１の管軸方向に向かって、第一端部１２ｄ側から見た正面視の図面である。図３に示すように、支持部材１３には、２本の溝１３ａが形成されており、各給電線（１４ａ，１４ｂ）が独立して内設されている。これにより、万一、中空部１２ｂで発生したオゾンやラジカル生成物が、第一開口領域１２ａに流れ込んできた場合でも、給電線（１４ａ，１４ｂ）と接触しにくくさせることができる。
また、それぞれの給電線（１４ａ，１４ｂ）を溝１３ａ内に独立して内設させることで、両者を一定距離以上離間させることができる。これにより、放電ランプ１１の点灯時に高い電圧が印加されている場合であっても、給電線（１４ａ，１４ｂ）間に発生するリーク電流を抑制できるという効果も得られる。給電線（１４ａ，１４ｂ）は、高電圧が印加されると、各給電線（１４ａ，１４ｂ）の被膜の素材や厚さにも依存するが、両者が接触するだけでリーク電流が発生する場合がある。このため、両給電線（１４ａ，１４ｂ）を離間させて配線するのが好ましく、上述したように溝１３ａを利用して配線することで、その離間距離が確保できる。
なお、給電線（１４ａ，１４ｂ）を支持部材１３に内設する構成は、溝１３ａの他に、支持部材１３の内側に空洞を形成し、その中に給電線（１４ａ，１４ｂ）を配線するものであっても構わない。
図２に示すように、放電ランプ１１は、円筒状の管体２１内において、管軸に沿って延伸する円筒状の第一電極２２ａと、網目状に管体２１の外壁面を覆う第二電極２２ｂで構成され、管体２１の内部は、Ｘｅを含む放電用ガスが充填されている。ここで、第一電極２２ａと第二電極２２ｂは、第一端部１２ｄ側においてそれぞれ第一給電線１４ａと第二給電線１４ｂと電気的に接続されている。
また、放電ランプ１１は、いわゆる二重管構造の放電ランプ１１であっても構わない。二重管構造の放電ランプ１１は、二重円筒構造を有すると共に、内管の内壁面に一方の電極２２ａが配設され、外管の外壁面に他方の電極２２ｂが配設されてなる放電ランプ１１である。
さらに、放電ランプ１１は、いわゆる扁平管構造の放電ランプ１１であっても構わない。扁平管構造の放電ランプ１１については、図４Ａ、図４Ｂ及び図４Ｃを参照しながら説明する。図４Ａは、扁平管構造の放電ランプ１１による気体処理装置１の側面視の模式的な断面図である。図４Ｂは、扁平管構造の放電ランプ１１による気体処理装置１の上面視の模式的な断面図である。図４Ａに示すように、扁平管構造の放電ランプ１１は、矩形管形状を呈する管体２１を有すると共に、管体２１の向かい合う一対の外壁のうちの、一方の外壁に電極２２ａが設けられ、他方の外壁に電極２２ｂが設けられることで、両電極（２２ａ，２２ｂ）が離間して設けられた放電ランプ１１である。また、図４Ｂに示すように、扁平管構造の放電ランプ１１の両電極（２２ａ，２２ｂ）は、いずれも網目状に構成されている。
図４Ｃは、扁平管構造の放電ランプ１１による気体処理装置１の正面視の模式的な断面図である。図４Ｃに示すように、扁平管構造の放電ランプ１１は、管体２１の管軸方向から見たときに、第一電極２２ａと第二電極２２ｂの対向方向４１ａと、放電ランプ１１に対する電源部１５の配置方向４１ｂとが直交するように配置されている。放電ランプ１１が、このように配置されることで、図４Ｂに示すように、各給電線（１４ａ，１４ｂ）が互いに離間するように配線され、第一給電線１４ａと第二給電線１４ｂとで捻れが生じにくく、給電線（１４ａ，１４ｂ）同士を接触しにくくさせることができ、給電線（１４ａ，１４ｂ）間の電流リークを抑制することができる。
放電ランプ１１が、Ｘｅを含む放電用ガスが充填されているエキシマランプである場合において、図２～図４Ｃに示す構造はあくまで一例であって、この形状には限られない。また、放電ランプ１１が放射する紫外線Ｌ１によってオゾンが発生するためには、短波長の紫外線Ｌ１であることが好ましく、具体的には、波長が２００ｎｍ以下の紫外線Ｌ１を照射できるランプであることが好ましい。
放電ランプ１１と電源部１５とは、各給電線（１４ａ，１４ｂ）によって接続されている。放電ランプ１１内で、給電線１４ａが、第一開口領域１２ａ側で電極２２ａと電気的に接続され、放電ランプ１１外で、給電線１４ｂが、第一開口領域１２ａ側で電極２２ｂと電気的に接続されている。電源部１５から出力される電圧が、給電線（１４ａ，１４ｂ）を通して、各電極（２２ａ，２２ｂ）に印加されることで、放電ランプ１１が発光し、処理対象ガスＧ１に対して紫外線Ｌ１が放射される。
給電線（１４ａ，１４ｂ）の被膜素材としては、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、テフロン（登録商標）がある。ポリ塩化ビニルやポリエチレンは、これらのオゾンやラジカル生成物に対する耐性が非常に弱く、高濃度のオゾンやラジカル生成物に曝されると、短期間で劣化や破損が生じてしまう。また、テフロン（登録商標）はポリ塩化ビニルやポリエチレンと比較すると耐性は強いが、僅かながらにも劣化は進行してしまう。
放電ランプ１１の近傍では、処理対象ガスＧ１が通流し、放電ランプ１１が紫外線Ｌ１を放射している間は、常にオゾンやラジカル生成物が発生し続けている。そして、中空部１２ｂ内で発生したオゾンやラジカル生成物は、上流から流れてくる処理対象ガスＧ１によって、下流である第二開口領域１２ｃ側へと押し流される。
第一給電線１４ａと第二給電線１４ｂは、中空部１２ｂの上流である第一開口領域１２ａ側に配線されており、中空部１２ｂで発生したオゾンやラジカル生成物に曝されることなく、オゾンやラジカル生成物による劣化や破損の進行は抑制される。
［別実施形態］
以下、気体処理装置１の別実施形態について説明する。
〈１〉 図５は、気体処理装置１の側面視の模式的な断面図である。図５に示すように、本体部１２内の処理対象ガスＧ１、処理済みガスＧ２、及び中空部１２ｂで発生したオゾンやラジカル生成物が、常に第二開口領域１２ｃに向かって流れるように、第一開口領域１２ａ、若しくは第二開口領域１２ｃに送風用ファン３１を備えていてもよい。
なお、送風用ファン３１は、第二開口領域１２ｃに配置すると、中空部１２ｂ内で発生したオゾンやラジカル生成物に曝されてしまう。従って、送風用ファン３１が劣化してしまうことを防止する観点から、第一開口領域１２ａに送風用ファン３１を設けることが好ましい。
〈２〉 中空部１２ｂで発生したオゾンやラジカル生成物が、第一開口領域１２ａへと流れないように、第一開口領域１２ａと中空部１２ｂの間に弁を備えていてもよい。
〈３〉 上述した気体処理装置１が備える構成は、あくまで一例であり、本発明は、図示された各構成に限定されない。
例えば、本体部１２は第一端部１２ｄから第二端部１２ｅまで、同じ開口径であっても構わない。また、給電線（１４ａ，１４ｂ）も、支持部材１３に形成された溝１３ａに内設されていなくても構わない。
図１及び図２では、電源ボックス１６の一面が、筺体１０の面に接触するように配置されている場合を例示したが、両者が離れた位置に配置されていても構わない。更に、図１及び図２では、電源部１５が電源ボックス１６によって覆われた空間内に配置されている場合が図示されているが、電源部１５は、筺体１０の外側の位置において露出されていても構わない。この場合、冷却用給気口１７ａ、冷却用排気口１７ｂ、及び冷却用ファン１８は必ずしも必要ではない。
〈４〉 上記実施形態では、図４Ｃに示すように、扁平管構造の放電ランプ１１の場合は、管体２１の管軸方向から見たときに、第一電極２２ａと第二電極２２ｂの対向方向４１ａと、放電ランプ１１に対する電源部１５の配置方向４１ｂとが直交するように配置されているものとした。しかし、対向方向４１ａと配置方向４１ｂがなす角度は、少なくとも非平行であればよく、好ましくは６０°以上１２０°以下、より好ましくは７０°以上１１０°以下である。対向方向４１ａと配置方向４１ｂがなす角度を、当該角度範囲内となるように設計することで、給電線（１４ａ，１４ｂ）同士が、捻れにくく、離間距離（絶縁距離）を確保するように配線しやすくなり、給電線（１４ａ，１４ｂ）間の電流リークを抑制することができる。装置設計の観点から、電源部１５をこのように配置することが望ましい。
１ ： 気体処理装置
１０ ： 筐体
１１ ： 放電ランプ
１２ ： 本体部
１２ａ ： 第一開口領域
１２ｂ ： 中空部
１２ｃ ： 第二開口領域
１２ｄ ： 第一端部
１２ｅ ： 第二端部
１３ ： 支持部材
１４ａ ： 第一給電線
１４ｂ ： 第二給電線
１５ ： 電源部
１６ ： 電源ボックス
１７ａ ： 冷却用吸気口
１７ｂ ： 冷却用排気口
１８ ： 冷却用ファン
２１ ： 管体
２２ａ ： 第一電極
２２ｂ ： 第二電極
３１ ： 送風用ファン
４１ａ ： 対向方向
４１ｂ ： 配置方向
Ｇ１ ： 処理対象ガス
Ｇ２ ： 処理済みガス
Ｌ１ ： 紫外線
Ｗ１ ： 冷却風

Claims (7)

  1. 吸気口から吸気された、酸素を含む処理対象ガスに対して紫外線を照射した後、前記吸気口とは異なる位置に設けられた排気口から排気する気体処理装置であって、
    前記吸気口を構成する第一開口領域を有する第一端部、前記第一端部に対して第一方向に離間した位置に配置されると共に、前記排気口を構成する第二開口領域を有する第二端部、及び前記第一開口領域と前記第二開口領域とを連絡する中空部が内側に形成されている本体部を含む筐体と、
    前記中空部内に配置されると共に、前記第一方向に延伸する形状を呈した管体と、第一電極と、第二電極とを有し、前記第一電極と前記第二電極との間に電圧が印加されることで前記管体から前記紫外線を放射する放電ランプと、
    前記筐体の外側に配置された電源部と、
    前記本体部よりも前記第一端部側を通過するように配線された、前記電源部と前記第一電極とを電気的に接続する第一給電線と、
    前記本体部よりも前記第一端部側を通過するように配線された、前記電源部と前記第二電極とを電気的に接続する第二給電線とを備えたことを特徴とする気体処理装置。
  2. 前記第一開口領域は、前記第二開口領域に向かって進行するにつれて、狭くなるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の気体処理装置。
  3. 前記筐体は、前記第一端部側において、前記第一給電線と前記第二給電線を内設することができる溝が形成されている、前記放電ランプを支持する支持部材を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の気体処理装置。
  4. 前記放電ランプは、前記管体の外壁面上において、前記第一電極と前記第二電極が前記管体を介して対向するように形成され、前記第一方向に向かって見たときに、前記第一電極と前記第二電極の対向する方向と、前記放電ランプに対して前記電源部が配置されている方向とが非平行となるように配置されていることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の気体処理装置。
  5. 前記放電ランプは、Ｘｅを含む放電用ガスが充填されたエキシマランプであることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の気体処理装置。
  6. 前記電源部を収容する電源ボックスを備え、
    前記筐体の側面に形成された平面上に、前記電源ボックスの一平面が接触するように配置されていることを特徴する請求項１～５のいずれか１項に記載の気体処理装置。
  7. 前記電源ボックスは、冷却用吸気口と、冷却用排気口と、冷却用ファンとを備え、
    前記冷却用ファンが稼働することで前記冷却用吸気口から前記電源ボックス内に取り込まれた、前記処理対象ガスとは異なる外気が、前記電源部を冷却した後、前記冷却用排気口から排気されるように構成されていることを特徴とする請求項６に記載の気体処理装置。
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