JP2021146231A - ガス供給装置 - Google Patents
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Abstract
Description
ラジカル源となる原料物質を含有する原料ガスが流入されるガス流入口と、
前記ガス流入口から流入された前記原料ガスが通流するガス通流路と、
前記ガス通流路内の光照射領域に向かって紫外光を発する光源と、
前記紫外光が照射された後の前記原料ガスである処理後ガスを外部に流出させるガス流出口と、
前記光照射領域よりも前記ガス流入口側の位置において、前記原料ガスの温度を昇温する第一加熱部とを備えたことを特徴とする。
O(3P) + O2 → O3 ‥‥(1)
O3 → O(3P) + O2 ‥‥(2)
図1は、本実施形態のガス供給装置の一構成例を模式的に示す断面図である。図1に示すガス供給装置1は、筒状の筐体3と、筐体3内に配置された光源5と、処理対象となる原料ガスG1が流入されるガス流入口11と、この原料ガスG1が通流するガス通流路10と、加熱部51(「第一加熱部」に対応する。)とを備える。また、ガス供給装置1は、ガス通流路10に連絡され、ガス流入口11とは反対側の端部(後述する対象物40側の端部)に、ガス流出口12を備える。加熱部51については後述される。
O2 + hν(λ) → O(1D) + O(3P) ‥‥(3)
O2 + hν(λ) → O(3P) + O(3P) ‥‥(4)
O(3P) + O2 → O3 ‥‥(1)
O3 → O(3P) + O2 ‥‥(2)
ガス供給装置1の構造は、種々の変形が可能である。以下、これらの構成例について説明する。
ガス供給装置1によれば、ガス流出口12から排出される処理後ガスG2に高濃度のラジカルが含有される点につき、シミュレーションを用いて検証した。
3 :筐体
5 :光源
5a :発光面
5b :光照射領域
10 :ガス通流路
11 :ガス流入口
11a :ガス流入口
11b :ガス流入口
12 :ガス流出口
13 :狭小部
21 :発光管
21a :外側管
21b :内側管
23G :発光ガス
31 :第一電極
32 :第二電極
33 :反射部材
40 :対象物
40a :対象面
51 :加熱部(第一加熱部)
52 :配管
53 :保温部材
55 :加熱部(第二加熱部)
100 :ガス供給装置モデル
G1 :原料ガス
G1a :原料ガス
G1b :原料ガス
G2 :処理後ガス
L1 :紫外光
Claims (7)
- ラジカル源となる原料物質を含有する原料ガスが流入されるガス流入口と、
前記ガス流入口から流入された前記原料ガスが通流するガス通流路と、
前記ガス通流路内の光照射領域に向かって紫外光を発する光源と、
前記紫外光が照射された後の前記原料ガスである処理後ガスを外部に流出させるガス流出口と、
前記光照射領域よりも前記ガス流入口側の位置において、前記原料ガスの温度を昇温する第一加熱部とを備えたことを特徴とする、ガス供給装置。 - 前記ガス通流路は、少なくとも前記第一加熱部と前記光照射領域との間の位置において、保温部材で覆われていることを特徴とする、請求項1に記載のガス供給装置。
- ガス温度の異なる複数の前記原料ガスが流入される、複数の前記ガス流入口を備えたことを特徴とする、請求項1又は2に記載のガス供給装置。
- 前記光照射領域内を通流する前記原料ガス又は前記処理後ガスを加熱する第二加熱部を備えたことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のガス供給装置。
- 前記光源から出射される前記紫外光は、波長が230nm未満の領域に光強度を示すことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のガス供給装置。
- 前記光源から出射される前記紫外光は、主たる発光波長が230nm未満であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のガス供給装置。
- 前記原料物質が、酸素原子を含む物質であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のガス供給装置。
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WO2023038084A1 (ja) | 2021-09-08 | 2023-03-16 | 日本製鉄株式会社 | 熱延鋼板 |
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2020
- 2020-03-16 JP JP2020045543A patent/JP2021146231A/ja active Pending
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