CN101452713B - 光记录介质、光记录装置和光再现装置 - Google Patents

光记录介质、光记录装置和光再现装置 Download PDF

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Abstract

一种光记录介质,具有:第1记录层;和相对所述第1记录层沿积层方向排列配置的第2记录层。在所述第1记录层和第2记录层中进行记录,以使再现信号的频带互不相同。

Description

光记录介质、光记录装置和光再现装置
技术领域
本发明涉及一种在积层方向上具有多个记录层的光记录介质、和适用于该光记录介质的记录/再现的光记录装置和光再现装置。 
背景技术
近年来,正推进着记录介质的高容量化。记录介质的高容量化除提高记录密度外,也可通过在积层方向上形成多个记录层来实现。但是,若如此积层记录层,则来自再现对象以外的记录层的反射光(杂散光(stray light))入射到光检测器,产生信号品质恶化等问题。 
该问题可通过在第1记录层与第2记录层之间配置使具有特定偏振光方向的光选择性地透过的偏振光分离层来消除。此时,在对第1记录层的记录再现时,以未透过偏振光分离层的偏振光方向向记录介质照射激光,另外,在对第2记录层的记录进行再现时,以透过偏振光分离层的偏振光方向向记录介质照射激光。根据该构成,可抑制来自未构成记录再现对象的记录层的杂散光,实现信号品质的提高。 
但是,根据这种构成,相对于第1记录层与第2记录层,偏振光方向分别被固定,所以一个记录介质中最多仅能配置两个记录层。即,记录介质的高容量化最终受到配置两层记录层的限制。 
发明内容
本发明的目的在于可不受记录层数量的限制地实现高容量化。 
本发明的第1方面涉及一种光记录介质。涉及该方面的光记录介质具备第1记录层、和相对所述第1记录层沿积层方向排列配置的第2记录层。这里,在所述第1记录层和所述第2记录层中进行记录,以使基于再现所述第1记录层时由所述第1记录层调制的光的信号的频带、与基于该再现时由所述第2记录层调制的光的信号的频带互不相同。 
本发明的第2方面涉及一种在沿积层方向具有多个记录层的光记录介质中进行记录的光记录装置。涉及该方面的光记录装置具备以对应于第1记录层的第1调制方式来调制记录信号的第1调制电路;以与沿所述积层方向邻接所述第1记录层的第2记录层相对应的第2调制方式来调制记录信号的第2调制电路;和根据被作为记录对象的记录层,来选择所述第1调制电路和所述第2调制电路的其中之一作为调制所述记录信号的调制电路的选择电路。这里,所述第1调制方式和所述第2调制方式是调制后的信号频带互不相同的调制方式。 
本发明的第3方面涉及一种光再现装置。涉及该方面的光再现装置再现沿积层方向具有多个记录层的光记录介质,具备:从基于由所述光记录介质检测出的已调制的光的再现信号中,分别抽取对应于第1记录层的第1频率成分和与沿积层方向邻接所述第1记录层的第2记录层相对应的第2频率成分的抽取电路;解调所述第1频率成分的再现信号的第1解调电路;解调所述第2频率成分的再现信号的第2解调电路;和根据被作为再现对象的记录层,来选择由所述第1解调电路进行了解调的第1解调信号和由所述第2解调电路进行了解调的第2解调信号的其中之一作为该再现中的解调信号的选择电路。 
附图说明
本发明的所述及其他目的与新的特征通过参照下面的附图并阅读下示的实施方式的说明而变得显而易见。 
图1A和图1B是表示实施方式的光盘的构成图。 
图2A是表示实施方式的光提取装置的光学系统的俯视图。 
图2B是表示实施方式的光提取装置的光学系统的局部侧面图。 
图3是表示实施方式的光盘装置的构成图。 
图4A和图4B是表示实施方式的调制方式(代码变换表格)的图。 
图5A和图5B是表示实施方式的第1、第2滤波电路的滤波特性的图。 
图6是表示实施方式的光盘装置的再现时的处理流程图。 
图7是表示实施方式的光盘装置的记录时的处理流程图。 
但是,附图只是用于说明,不限定本发明的范围。 
具体实施方式
下面,参照附图来说明本发明的实施方式。其中,本实施方式中示例了可记录种类的光盘,作为光记录介质。 
图1A、B表示实施方式的盘(光记录介质)10的构成。其中,图1A是表示将局部切口成扇形的盘10的示意图,图1B是示意性地表示图1A的A部分的截面构造的图。 
如图1B所示,盘10构造成在基板11上沿积层方向依次配置记录层12与中间层13。基板11由聚碳酸酯构成。记录层12通过将记录膜和半透过膜进行积层而形成。在记录层12的膜构造和材料中,使用与现有的多层盘一样的膜构造和材料。中间层13由UV固化树脂等透光性树脂构成。 
距激光入射面最远的记录层14通过将记录膜与反射膜(例如铝膜)进行积层而形成。在该记录层14上,形成覆盖层15。覆盖层15例如由UV固化树脂构成。 
各记录层的轨道构造与现有的多层盘一样构成。例如,在盘10的各记录层中,螺旋状形成脊与沟,在盘内周部,螺旋状排列比特列。 
图2A、B中示出本实施方式的光提取装置的构成。图2A是去除上升镜106之后段侧的构成的光学系统的俯视图,图2B是上升镜106之后的局部侧面图。其中,在图2B中,作为剖视图,示出了1/4波长板107、物镜108和透镜支架109的部分。 
如图所示,光提取装置的光学系统具备半导体激光器101、准直透镜102、偏振光分束器103、构成光束扩展器(象差补正用)的凹透镜104a和凸透镜104b、沿光轴方向驱动凸透镜104b的透镜驱动器105、上升镜106、1/4波长板107、物镜108、物镜支架109、物镜驱动器110、变形透镜111、和光检测器112。 
半导体激光器101射出规定波长的激光(直线偏振光)。从半导体激光器101射出的激光在被准直透镜102变为平行光之后,入射到偏振光分束器103。这里,半导体激光器101配置成激光以P偏振光入射到偏振光分束器103。由此,激光原样透过偏振光分束器103。 
之后,当激光透过凹透镜104a与凸透镜104b时,根据象差补正,从平行光收敛或扩散,由上升镜106沿指向物镜108的方向反射。之后,激光被1/4波长板107变换为圆偏振光,由物镜108收敛到盘10上。此时,物镜108被物镜驱动器110沿聚焦方向和跟踪方向驱动。由此,激光追随目标记录层上的轨道。 
由盘10反射的激光在指向盘10时的光路中逆行,并入射到偏振光分束器 103。此时,激光再次透过1/4波长板107,从而对偏振光分束器103变为S偏振光。由此,激光基本上全部光量都由偏振光分束器103反射。之后,激光在由变形透镜111导入象散后,聚光到光检测器112上。 
而且,在本实施方式中,作为聚焦错误信号的生成方法,采用象散法,作为跟踪错误信号的生成方法,采用1光束推挽法。从而,在光检测器112上配置了对应于象散法和1光束推挽法的传感器图案(4分割传感器)。 
图3表示本实施方式的光盘装置的构成。其中,图中,仅示出与记录和再现关联的电路系统。 
图中,编码器201进行对记录数据附加纠错码等编码处理。开关电路202根据来自控制器214的指令,将来自编码器201的信号提供给第1调制电路203a或第2调制电路203b之一。 
第1调制电路203a对输入的信号实施按照第1调制方式的调制。第2调制电路203b对输入的信号实施根据第2调制方式的调制。在从激光的入射侧对第奇数个记录层进行记录的情况下,选择第1调制电路203a,对第偶数个记录层进行记录的情况下,选择第2调制电路203b。 
图4A是表示适用于第1调制电路203a的第1调制方式的图。这里,将5比特的数据串变换为16比特的数据串,以使0的连续个数变为2个、4个、5个、6个、7个或9个,且1不连续。因此,若NRZI调制(Non Return to Zero Inversion)该数据串,则生成信号幅度为3T、5T、6T、7T、8T、9T或10T的信号。第1调制电路203a在根据图4A的变换表格进行代码变换之后,进行NRZI调制,生成信号幅度为3T、5T、6T、7T、8T、9T或10T的信号,并将该信号输出到开关电路204。 
图4B是表示适用于第2调制电路203b的第2调制方式的图。这里,将5比特的数据串变换为16比特的数据串,以使0的连续个数变为1个或3个,且1不连续。因此,若NRZI调制该数据串,则生成信号幅度为2T或4T的信号。第2调制电路203b在根据图4B的变换表格进行代码变换之后,进行NRZI调制,生成信号幅度为2T或4T的信号,并将该信号输出到开关电路204。 
返回图3,开关电路204根据来自控制器214的指令,将来自第1调制电路203a或第2调制电路203b之一的信号提供给激光驱动电路205。激光驱动电路205根据来自控制器214的指令,对光提取装置206内的半导体激光器101进行驱动。即,在记录时输出由从开关电路204输入的信号进行了调制的高功率的 激光,在再现时输出比记录功率低的固定电平的激光。 
光提取装置206具有上述图2的构成。光提取装置206由提取发送机构(未图示)以可沿盘10的径向移动的方式支撑。 
信号运算电路207运算处理来自光提取装置206内的光检测器112的信号,生成各种信号(再现RF信号、聚焦错误信号、跟踪错误信号等),分别提供给对应的电路。 
伺服电路208根据从信号运算电路207输入的聚焦错误信号和跟踪错误信号,生成聚焦伺服信号和跟踪伺服信号,并提供给光提取装置206内的物镜驱动器110。另外,当对目标记录层进行聚焦搜索时,根据来自控制器214的指令,将使物镜108沿光轴方向位移的信号提供给物镜驱动器110。 
其中,伺服电路208在聚焦搜索时,如后所述,计数聚焦错误信号上的S字曲线,进行对目标记录层的聚焦引入。另外,伺服电路208为了使再现RF信号成为最好,向光提取装置206内的透镜驱动器105供给驱动信号。 
开关电路209根据来自控制器214的指令,将从信号运算电路207输入的再现RF信号提供给第1滤波电路210a和第2滤波电路210b的其中之一。 
第1滤波电路210a由透过再现了盘10的第奇数个记录层时的再现RF信号的频带、即1/(6T)、1/(10T)、1/(12T)、1/(14T)、1/(16T)、1/(18T)和1/(20T)的频带的梳型滤波器构成。第2滤波电路210b由透过再现了盘10的第偶数个记录层时的再现RF信号的频带、即1/(4T)和1/(8T)的频带的梳型滤波器构成。图5A是第1滤波电路210a的透过特性,图5B是第2滤波电路210b的滤波特性。 
当再现第奇数个记录层时,来自沿积层方向与再现目标记录层邻接的记录层的再现信号成分(基于杂散光的噪声成分)由第1滤波电路210a去除。同样,当再现第偶数个记录层时,来自沿积层方向与再现目标记录层邻接的记录层的再现信号成分(基于杂散光的噪声成分)由第2滤波电路210b去除。从而,通过分别以对应于第奇数个和第偶数个记录层的解调方式来解调从第1滤波电路210a和第2滤波电路210b输出的再现RF信号,得到可靠性高的解调信号。 
返回图3,第1解调电路211a将从第1滤波电路210a输入的再现RF信号进行NRZI解调来生成数据串,并对所生成的数据串进行与第1调制电路203a中的编码变换相反的变换来生成数据串。即,第1解调电路211a根据图4A所示的变换表格,依次将16比特的数据串变换为5比特的数据串,而输出到开关电路212。 
第2解调电路211b将从第2滤波电路210b输入的再现RF信号进行NRZI解调来生成数据串,并对所生成的数据串进行与第2调制电路203b中的编码变换相反的变换来生成数据串。即,第2解调电路211b根据图4B所示的变换表格,依次将16比特的数据串变换为5比特的数据串,而输出到开关电路212。 
开关电路212根据来自控制器214的指令,将从第1解调电路211a和第2解调电路211b输入的解调信号中的任意一个输出到解码器213。解码器213解码处理从开关电路212输入的解调信号,而生成再现数据,并输出到后级电路。另外,解码器213将处理结果提供给控制器214。 
控制器214根据存储在内置存储器中的控制程序来控制各部。 
在图3的构成中,在第奇数个记录层中进行记录的情况下,控制器214对开关电路202、204,以便按编码器201、第1调制电路203a和激光驱动电路205的路径(下面称为“第1记录处理路径”)来处理记录数据。因此,在第奇数个记录层中,对信号幅度为3T、5T、6T、7T、8T、9T和10T的记录信号进行记录。 
另外,在第偶数个记录层中进行记录的情况下,控制器214对开关电路202、204进行控制,以便按编码器201、第2调制电路203b和激光驱动电路205的路径(下面称为“第2记录处理路径”)来处理记录数据。因此,在第偶数个记录层中,对信号幅度为2T和4T的记录信号进行记录。 
在再现第奇数个记录层的情况下,控制器214对开关电路209、212进行控制,以便按第1滤波电路210a、第1解调电路211a和解码器213的路径(下面称为“第1再现处理路径”)来处理来自信号运算电路207的再现RF信号。因此,当再现第奇数个记录层时,抽取信号幅度为3T、5T、6T、7T、8T、9T和10T的再现RF信号来再现。 
另外,在再现第偶数个记录层的情况下,控制器214对开关电路209、212进行控制,以便按第2滤波电路210b、第2解调电路211b和解码器213的路径(下面称为“第2再现处理路径”)来处理来自信号运算电路207的再现RF信号。因此,当再现第偶数个记录层时,抽取信号幅度为2T和4T的再现RF信号来再现。 
图6中示出再现动作时的处理流程。下面,将记录层称为层。 
若开始再现动作,则在设定了开关电路209、212以便对第1和第2再现处理路径中对应于再现目标层的再现处理路径进行选择之后(S101),开始聚焦搜索(S102)。当进行这种聚焦搜索时,伺服电路208对聚焦错误信号上的S字曲线进 行计算(S103),判断该计数值是否成为对应于目标层的计数值(目标值)(S104)。这里,当开始聚焦搜索时,目标值被从控制器214提供给伺服电路208。 
之后,若S字曲线的计数值成为目标值(S104:是),则伺服电路208结束聚焦搜索,并开始聚焦伺服(S105)。由此,将激光的焦点引入目标层。之后,让激光访问该层的管理区域(例如,比特形成区域),并进行该管理区域的再现(S106)。其中,在该管理区域中还以与再现对象层相同的信号幅度(第奇数个层:3T、5T、6T、7T、8T、9T和10T、第偶数个层:2T、4T)记录信息。在该管理区域中,保存该层的识别信息(例如,层序号)等。管理区域的再现信息(管理信息)被从解码器213提供给控制器214。 
控制器214参照从解码器213提供的管理信息,判断进行了聚焦引入的层是否是目标层(S107)。这里,若进行了聚焦引入的层不是目标层(S107:否),则返回S102,再次进行对目标区域的聚焦引入。另一方面,若进行了聚焦引入的层是目标层(S107:是),则进行对该层的再现处理(S108)。 
其中,在对沿积层方向邻接目标层的层进行聚焦引入的情况下,由于再现RF信号被由开关电路209、212选择设定的滤波电路截止(cut),所以在S106的处理步骤中,从解码器213向控制器214提供基于不能解码的信号。此时,控制器214判定进行了聚焦引入的层不是目标层(S107:否),并返回S102,再次进行对目标层的聚焦引入。 
图7示出记录动作时的处理流程。 
若开始记录动作,则进行与图6的S101-S107一样的处理,并进行对记录目标层的访问处理。但是,若访问目标层(S107:是),则对开关电路202、204进行设定,以便选择第1和第2记录处理路径中对应于目标层的记录处理路径(S110)。之后,使光提取装置206访问该层的目标位置,并进行记录处理(S111)。 
如上所述,根据本实施方式,即使在来自邻接于目标层的上下层的无用反射光(杂散光)同时入射到用于感光来自目标层的反射光(信号光)的光检测器112上,基于杂散光的再现信号成分也被第1滤波电路210a或第2滤波电路210b截止。由此,抑制基于杂散光的解调信号的品质恶化,实现再现动作的平滑化或适当化。 
另外,在本实施方式中,例如当再现从激光入射侧起第3个层(层3)时,由第1个层(层1)和第5个层(层5)反射的光(杂散光)同时入射到光检测器112。由于基于这些杂散光的再现信号成分的频带与基于来自第3个层的反射光(信号光) 的再现信号成分的频带相同,所以不能被第1滤波电路210a截止。 
但是,由于层1与层5从作为目标层的层3沿层间方向被远远地隔离开,所以由层1与层5反射的光(杂散光)在光检测器112上广泛扩展,基本上不影响来自光检测器112的信号。由此,即使由层1与层5反射的光(杂散光)同时入射到光检测器112,也基本上不会使再现RF信号的品质恶化,而实现适当的再现动作。 
以上说明了本发明的实施方式,但本发明不限于上述实施方式。另外,本发明的实施方式除上述外,也可适当进行各种变更。 
例如,在上述实施方式中,虽然示出了可记录的光盘作为光记录介质,但本发明也可适用于再现专用的光盘。此时,在各层(半透过型)的记录区域中,例如螺旋状地形成比特列。之后,在第奇数个层上,排列比特列,以使再现信号的时间幅度成为3T、5T、6T、7T、8T、9T和10T,在第偶数个层上,排列比特列,以使再现信号的时间幅度成为2T和4T。 
另外,在上述实施方式中,如图3所示,来自编码器201的信号由开关电路202提供给第1调制电路203a和第2调制电路203b之一,但也可将来自编码器201的信号提供给第1调制电路203a和第2调制电路203b双方,利用开关电路204有选择地将来自任一调制电路的信号提供给激光驱动电路205。 
另外,在上述实施方式中,如图3所示,来自信号运算电路207的信号由开关电路209提供给第1滤波电路210a和第2滤波电路210b之一,但也可将来自信号运算电路207的信号提供给第1滤波电路210a和第2滤波电路210b双方,利用开关电路212,有选择地将来自第1解调电路211a和第2解调电路211b之一的信号提供给解码器213。 
另外,变换表格不限于图4所示表格,也可使用除此以外的变换方式。 
本发明的实施方式在权利要求的范围所示的技术思想的范围内,可适当地进行各种变更。 

Claims (2)

1.一种光记录装置,用于在沿积层方向具有多个记录层的光记录介质中进行记录,其具备:
第1调制电路,其以对应于第奇数个记录层的第1调制方式来调制该第奇数个记录层的记录信号;
第2调制电路,其以与沿所述积层方向邻接所述第奇数个记录层的第偶数个记录层相对应的第2调制方式来调制该第偶数个记录层的记录信号;和
选择电路,其根据被作为记录对象的记录层,来选择所述第1调制电路和所述第2调制电路的其中之一,作为调制所述记录信号的调制电路,
所述第1调制方式和所述第2调制方式是调制后的信号的频带互不相同的调制方式。
2.一种光再现装置,再现沿积层方向具有多个记录层的光记录介质,其具备:
抽取电路,从基于由所述光记录介质检测出的已调制的光的再现信号中,分别抽取对应于第奇数个记录层的第1频率成分和与沿积层方向邻接所述第奇数个记录层的第偶数个记录层相对应的第2频率成分;
解调所述第1频率成分的再现信号的第1解调电路;
解调所述第2频率成分的再现信号的第2解调电路;和
选择电路,根据被作为再现对象的记录层,来选择由所述第1解调电路进行了解调的第1解调信号和由所述第2解调电路进行了解调的第2解调信号的其中之一,作为该再现中的解调信号。
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