CN101395097B - 玻璃基板的加工方法以及玻璃基板加工用漂洗剂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种玻璃基板的加工方法，其包括利用氧化铈等研磨材料对玻璃基板进行研磨加工的工序，以及供给包括下述(1)、(2)或(3)的、pH为7～12的漂洗剂组合物进行漂洗加工的工序，其中，(1)水溶性镁化合物的水溶液，(2)水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，(3)包含下述胶体状粒子的悬浮液，所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的。通过本发明的玻璃基板加工方法，能够得到表面粗糙度极小的玻璃基板。

Description

玻璃基板的加工方法以及玻璃基板加工用漂洗剂组合物
技术领域
本发明涉及能够有效率地除去用氧化铈、胶体二氧化硅等研磨材料进行了研磨的玻璃基板表面上附着的研磨材料、研磨屑，减小研磨面的表面粗糙度的玻璃基板的加工方法以及该方法中所使用的漂洗剂组合物。
本申请对2006年4月14日在日本提出的专利申请第2006-111934号主张优先权，并将其内容引入本说明书中。
背景技术
在玻璃研磨加工中，很久以来就使用氧化铈、氧化锆、氧化铁、胶体二氧化硅等研磨材料，但目前，为了获得高加工速度以及高品质的研磨面，主要使用以氧化铈为主要成分的研磨用组合物(下面称为氧化铈系研磨材料)。玻璃基板的研磨加工通常是通过在覆盖了聚氨酯系垫、仿麂皮系垫等垫的平台与工件之间流入研磨材料的浆料，并施加规定的负荷使其相对运动来实施的。通常，玻璃基板可以分多阶段实施这样的研磨，进行精加工。
氧化铈系研磨材料虽然能够得到高研磨加工速度，但是，对玻璃表面的粘着性高，容易在玻璃表面残留研磨材料和玻璃屑等研磨渣，在研磨加工之后的洗涤工序费时费力。
例如，在专利文献1中，公开了将镜面研磨之后的盘状基板放在转盘上在水平面内进行低速旋转，并从玻璃基板的上方喷射纯水冲刷玻璃基板来进行洗涤的方法。但是，仅通过水进行洗涤时不能充分除去研磨材料。
在专利文献2中，公开了将玻璃基板浸渍在80～90℃的磷酸中除去附着在玻璃基板上的研磨材料的方法，另外，还公开了然后将玻璃基板浸渍在加热的硫酸和过氧化氢水的混合物中，除去附着在玻璃基板上的金属或有机物的方法。另外，专利文献3中，公开了将研磨后的玻璃基板浸渍在氢氟酸与硫酸、硝酸、磷酸等酸的混合酸液中，进行超声波洗涤，除去附着残存在玻璃基板上的研磨粒子的方法。这些利用酸进行的研磨粒子除去法，有时会使玻璃表面产生暗伤、洗涤斑。
作为除去研磨磨粒的其他方法，在专利文献4第0017段中，公开了水研磨(有时也称为漂洗研磨)、带研磨、擦洗研磨等通过机械作用除去研磨磨粒的方法。
水研磨是将供应到研磨装置中的研磨材料浆料替换为水(也称为漂洗剂)进行研磨的方法。但是，在使用水的漂洗研磨的情况下，有时不能完全除去氧化铈等研磨材料。另外，在水研磨中还会发生被称为“鸣响”的来自工件附件的咯吱声。
另一方面，作为使用固体粒子的悬浮液作为擦洗洗涤时的洗涤液的方法，有例如在专利文献5中公开的那样的使用胶体二氧化硅悬浮液、碱性水溶液等，使用海绵这样的弹性发泡体垫擦拭玻璃基板面的方法。同样地，在专利文献6中，公开了用包含氢氧化镁、碳酸镁、碱性碳酸镁、磷酸镁等镁的碱性盐的组合物，来对利用氧化铈、氧化锆、氧化铁、二氧化硅等研磨材料进行了研磨的玻璃进行研磨的方法。但是，在该方法中，由于需要对实施了研磨加工的产品进行再次研磨加工，因此存在加工机所需要的台数增加的问题。另外，在专利文献6的例子中存在下述问题：氢氧化镁的粒径大、粒子在研磨机内部沉降，当用作漂洗剂时容易混入到氧化铈系研磨材料中。
在专利文献7中，公开了包含研磨材料和研磨促进剂的研磨用组合物，所述研磨促进剂包括含有氧化性基团的铝盐和含有氧化性基团的镁盐。这样的研磨用组合物通过具有氧化力的离子、铝离子的水解引起的组合物的氧化性作用等，可以用作对由金属或者碳组成的、容易被酸或者氧化剂侵入的加工物的研磨促进剂，但是不能除去附着在玻璃基板上的研磨粒子。
另外，在专利文献8中，公开了在以氧化铈为主成分的研磨材料中包含氯化镁从而形成的玻璃研磨用研磨材料。专利文献8中暗示了，利用该研磨材料，能够获得暗伤少的玻璃基板，但是该研磨材料不能除去附着在玻璃基板上的研磨粒子。
专利文献1：特开平8-153344号公报
专利文献2：特开平9-227170号公报
专利文献3：特开2000-140778号公报
专利文献4：特开2002-109727号公报
专利文献5：特开2000-343390号公报
专利文献6：特开平11-209745号公报
专利文献7：特开平9-100465号公报
专利文献8：特开平3-146585号公报
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够有效率地除去在通过氧化铈、胶体二氧化硅等研磨材料进行了研磨的玻璃基板表面上附着的研磨材料、研磨屑，并能够减少其后的洗涤工序的负荷的玻璃基板的加工方法以及该方法中所使用的漂洗剂组合物，特别地，提供适合玻璃制硬盘基板的漂洗加工的加工方法以及漂洗剂组合物。
本发明者为了达到上述目的，对漂洗剂组合物进行了研究，结果发现，通过在研磨加工结束时或者结束后使用下述漂洗(rinse)剂组合物，能够有效率地除去附着在玻璃表面的研磨材料、研磨屑，进而能够显著降低研磨面的表面粗糙度，其中所述漂洗剂组合物包括：水溶性镁化合物的水溶液，或者，水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，或者，包含下述胶体状粒子的悬浮液，所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的，并且是具有特定的pH的漂洗剂组合物。本发明是基于这些认识并进而研究得到的。
即，本发明包含如下内容。
玻璃基板的加工方法，其包括：
对玻璃基板进行研磨加工的工序，以及
供给pH为7～12的选自下述(1)～(3)之一的漂洗剂组合物，对玻璃基板进行漂洗加工的工序，
(1)水溶性镁化合物的水溶液，
(2)水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，
(3)包含下述胶体状粒子的悬浮液，其中，所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的。
另外，本发明优选为如下技术方案。
根据上述[1]所述的玻璃基板的加工方法，其中，使用氧化铈研磨材料或者氧化硅研磨材料或者它们的混合物进行研磨加工工序。
根据上述[1]或[2]所述的玻璃基板的加工方法，其中，水溶性镁化合物为氯化镁、硫酸镁、或硝酸镁。
根据上述[1]～[3]的任一项所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2。
根据上述[1]～[3]的任一项所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2，漂洗剂组合物进而包含碱金属碳酸盐或者碱金属碳酸氢盐。
根据上述[5]所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的摩尔量Z满足如下关系：5X/4≤Y≤3X/2以及X/2≤Z≤3X/4，漂洗剂组合物是可以进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子的液体。
根据上述[6]所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝3X/2以及Z＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
根据上述[6]所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝5X/4以及Z＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
根据上述[5]所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：X/2≤Y≤X以及X/2≤Z’≤3X/4，漂洗剂组合物是可进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子的液体。
根据上述[9]所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：Y＝X以及Z’＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
根据上述[9]所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：Y＝X/2以及Z’＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
或者，本发明是如下方案。
玻璃基板加工用漂洗剂组合物，是pH为7～12的漂洗剂组合物，并选自下述(1)～(3)之一，
(1)水溶性镁化合物的水溶液，
(2)水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，
(3)包含下述胶体状粒子的悬浮液，所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的。
或者，本发明优选下述技术方案。
根据上述[12]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，水溶性镁化合物为氯化镁、硫酸镁、或硝酸镁。
根据上述[12]或[13]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2。
根据上述[12]或[13]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2，漂洗剂组合物进而包含碱金属碳酸盐或者碱金属碳酸氢盐。
根据上述[15]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：5X/4≤Y≤3X/2以及X/2≤Z≤3X/4，漂洗剂组合物是可进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子的液体。
根据上述[16]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝3X/2以及Z＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
根据上述[16]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝5X/4以及Z＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
根据上述[15]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)按照满足X/2≤Y≤X以及X/2≤Z’≤3X/4的关系配合，漂洗剂组合物是可进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子的液体。
根据上述[19]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足Y＝X和Z’＝X/2的关系，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
根据上述[19]所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)按照满足Y＝X/2和Z’＝3X/4的关系配合，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
通过使用本发明的玻璃基板的加工方法，能够有效率地除去因研磨加工而附着的研磨材料、研磨屑等，并能够减小随后的洗涤工序的负荷，能够减小玻璃基板的研磨处理整体的成本。另外，通过应用本发明的加工方法，能够容易地得到具有表面粗糙度小的研磨面的玻璃基板，有助于玻璃基板的品质的提高。
由于本发明的漂洗剂组合物几乎不具有研磨作用，因此，能够在保持由研磨加工产生的高精度的研磨面的尺寸精度、端部形状的状态下，只除去研磨材料等附着物。另外，如果使用本发明的漂洗剂组合物，则能够比水研磨大幅减小工件产生的咯吱声“鸣响”。特别地，“鸣响”的减小效果在由包含胶体状粒子的悬浮液构成的漂洗剂组合物中特别显著。另外，虽然并不清楚该“鸣响”减小的详细原因并不清楚，但是，这对于大幅减小玻璃基本的伤痕量、提高玻璃基板的品质是非常有效的。
具体实施方式
下面，针对本发明的玻璃基板的加工方法、以及该方法中所使用的漂洗剂组合物进行详细的说明。
本发明的玻璃基板的加工方法包含对玻璃基板进行研磨加工的工序、对玻璃基板进行漂洗加工的工序。
(对玻璃基板进行研磨加工的工序)
计算机硬盘等中所使用的玻璃基板要求具有高平滑性、且无异物、附着物。本发明的方法适用于这样的要求严格的硬盘用玻璃基板。在硬盘用玻璃基板的制造中，通常，通过分两阶段的研磨工序对实施了打磨(lapping)加工的玻璃基板进行研磨，加工成具有低表面粗糙度的表面的玻璃基板。并且，一般来说，在第一阶段的研磨工序中，使用例如硬质聚氨酯垫进行研磨，在第二阶段的研磨工序(也称为精加工研磨工序)中，使用例如仿麂皮垫进行研磨。
对研磨加工中所使用的研磨材料并没有特别的限制，优选氧化铈系研磨材料或者氧化硅系研磨材料或者它们的混合物，特别优选氧化铈系研磨材料。
在本发明的加工方法中，可以在第一阶段的研磨加工结束时或者结束后进行后述的漂洗加工，但是如果在第二阶段的研磨加工结束时或者结束后进行后述的漂洗加工，则本发明的效果更显著，故优选。
(对玻璃基板进行漂洗加工的工序)
漂洗加工工序中所使用的本发明的漂洗剂组合物为(1)水溶性镁化合物的水溶液，(2)水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，或(3)包含下述胶体状粒子的悬浮液，其中所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的，并且本发明的漂洗剂组合物的pH为7～12。
(1)水溶性镁化合物的水溶液构成的pH为7～12的漂洗剂组合物：
作为水溶性镁化合物的例子，可以列举出硫酸镁、硝酸镁、氯化镁等镁盐。其中，从排水处理的负荷的观点考虑，优选氯化镁或硫酸镁，进而，从对水的溶解性、物流运输成本的角度考虑，最优选氯化镁。水溶性镁化合物的浓度(组合物中的总的镁浓度)优选为1mmol/L～1mol/L。如果浓度过低，则仅能够得到与纯水同等的洗涤效果，本发明的效果有降低的倾向。另外，如果浓度过高，则用作研磨材料的氧化铈容易凝集，有难以除去残留于垫上的氧化铈粒子的倾向。
(2)由水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液构成的pH为7～12的漂洗剂组合物：
作为碱金属氢氧化物，可以列举出氢氧化钠、氢氧化钾等。
水溶性镁化合物和碱金属氢氧化物，按照碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2的比例进行混合
作为碱金属的碳酸盐或者碳酸氢盐，可以列举出碳酸钠、碳酸钾；碳酸氢钠、碳酸氢钾等。这些化合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上。水溶性镁化合物的浓度(组合物中的总的镁浓度)优选为1mmol/L～1mol/L。对碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐的量并没有特别的限定。如果使用水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液(2)，则与上述水溶性镁化合物的水溶液(1)相比，容易得到具有表面粗糙度小的研磨面的玻璃基板。
(3)由包含下述胶体状粒子的悬浮液构成的pH为7～12的漂洗剂组合物，其中，所述胶体状粒子由水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到：
随着水溶性镁化合物的水溶液中添加的碱金属的氢氧化物中的羟基的物质的量、以及碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐的碳酸基的物质的量的比例的不同，水难溶性的镁化合物等的固体粒子析出。
所生成的水难溶性镁化合物是絮凝状地柔软地凝集的胶体状粒子。这里，所谓胶体状是按照化学大辞典第5版缩印版第37页所记载的氢氧化镁的表现而言的。如果使用包含胶体状的粒子的悬浮液(3)，则与上述(1)或(2)相比，容易得到具有表面粗糙度小的研磨面的玻璃基板。
即使使氢氧化镁粉末或者碱性碳酸镁粉末(饱和溶解度以上的量)在水中悬浮，也不能形成包含胶体状粒子的悬浮液。即，在仅仅悬浮有粉末的情况下，粒子不是形成絮凝状而是结实地沉淀，并且根据情况的不同，有时形成砂粒状的沉淀物。这样，本发明的漂洗剂组合物与现有产品的形态不同。
本发明的漂洗剂组合物中的总的镁浓度优选为1mmol/L～1mol/L。如果总的镁浓度过低，则本发明的效果有降低的倾向。相反，如果总的镁浓度过高，则在混入到用作研磨材料的氧化铈、胶体二氧化硅中时容易发生凝集，有难以除去残留在垫上的氧化铈粒子、胶体二氧化硅粒子的倾向。
本发明的漂洗剂组合物为中性至碱性，因此能够促进残留在垫上的研磨粒子的除去。特别地，由于在中性至碱性的条件下使用氧化铈，因此在研磨加工与漂洗加工交替反复进行的本发明的加工方法中，优选研磨加工用组合物与漂洗剂组合物的pH尽可能接近。具体来说，pH优选为7～12，更优选为9～11.5。如果pH小于7，则有研磨材料的除去能力降低的倾向。如果pH超过12，则在漂洗加工时有容易产生条纹状的研磨痕迹的倾向。
pH的调整，通过使用选自上述碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种无机碱；氨、胺等有机碱来进行。其中，优选无机碱。
本发明的漂洗剂组合物可以使用市售的水溶性镁化合物，由于市售的水溶性镁化合物有时受到具有pH缓冲作用的杂质的影响而显示出中性，而无机酸的镁盐缺乏pH缓冲作用，并且容易受到在溶解水溶性镁化合物的水中含有的离子的影响、空气中的二氧化碳气体等的影响而导致pH变得不稳定，故优选通过添加氢氧化钾等进行pH的调整。
碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比例(Y/X)优选为0.001～2的范围。更优选组合物中总的镁浓度为10mmol/L以上，且Y/X为0.5～2。通过设定在该范围内，能够使胶体状的水难溶性的镁化合物析出，能够进而提高漂洗效果。更优选组合物中的总的镁浓度为10mmol/L以上，且Y/X为0.5～1.5。通过添加足以使组合物中的镁全部形成氢氧化物的量以下的氢氧化物，使得组合物中适量存在水溶性镁化合物，能够提高漂洗效果。如果碱金属氢氧化物的量过少，则调节pH的效果差，不能获得作为漂洗剂稳定的性能。如果碱金属氢氧化物过多，则pH变得过高，结果有时导致在漂洗加工时侵入玻璃，在玻璃表面上产生条纹状的研磨痕迹。
优选进而添加碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐，因为这样能够具有利用碳酸离子的缓冲作用使得漂洗剂组合物的pH稳定化的效果。如果pH被稳定化，则漂洗效果稳定，能够促进附着于玻璃基板的研磨材料等的除去。另外，通过添加碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐，与单独使用氢氧化物的情况比较，能够提高离子浓度，离子对研磨材料粒子、玻璃基板表面的吸附作用提高，从而防止被除去了的研磨材料等的再附着，可以认为漂洗效果提高了。另外，与单独使用氢氧化物的情形相比，混合了氢氧化物和碳酸盐的水溶液的pH比水溶性碱的单独的水溶液稍低，在操作性方面更优异，故优选。
通过调节镁化合物与碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐的配合比例，能够调整漂洗剂组合物中的固相的析出量以及特性。本发明优选的漂洗剂组合物，优选按照组合物中总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足5X/4≤Y≤3X/2、以及X/2≤Z≤3X/4的关系那样进行配合。
更具体地来说，通过按照满足Y＝3X/2以及Z＝X/2的关系那样进行配合，能够得到组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L且生成了胶体状粒子的漂洗剂组合物。
另外，按照满足Y＝5X/4以及Z＝3X/4的关系那样进行配合得到的组合物，组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L并生成固体粒子。以该组成得到的固体粒子如果用纯水稀释则容易溶解，因此除了适合用作漂洗加工液之外，也适合用于擦洗工序。
在使用碳酸盐代替碱金属碳酸氢盐的情形中，优选按照组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足X/2≤Y≤X以及X/2≤Z’≤3X/4的关系来进行配合。
更具体地来说，按照满足Y＝X以及Z’＝X/2的关系进行配合得到的组合物，能够得到组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L且生成了胶体状粒子的漂洗剂组合物。
另外，按照满足Y＝X/2以及Z’＝3X/4的关系那样进行配合得到的组合物，组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L并生成了固体粒子。以该组成得到的固体粒子如果用纯水稀释则容易溶解，因此除了适合用作漂洗加工液之外，也适合用于擦洗工序。
通过水溶性镁化合物与选自碱金属的氢氧化物、碱金属的碳酸盐和碱金属的碳酸氢盐的至少1种反应形成的胶体状粒子的浓度，换算成氧化物质量，优选为0.01质量％～2质量％，更优选为0.05质量％～2质量％，特别优选为0.1质量％～2质量％。其中所述的氧化物换算浓度是指通过利用定量滤纸进行过滤法来回收所生成的胶体状粒子，使用质量已知的氧化铝坩埚烧结得到的氧化物，由该氧化物的质量求得的浓度。
虽然可以认为不含胶体状粒子的漂洗剂组合物(1)或者漂洗剂组合物(2)都具有充分的漂洗效果和降低表面粗糙度Ra的效果，但是包含胶体状粒子的漂洗剂组合物(3)的漂洗效果更大。如果胶体状粒子的量增多，则粘度上升，难以供给到研磨机中，因此优选胶体状粒子的量为2质量％以下。
本发明的漂洗剂组合物并不受其制备方法的特别限制。例如，可以通过下述方法进行制备，即，制备低浓度的水溶性镁化合物水溶液，向其中添加选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐和碱金属碳酸氢盐中的至少一种的水溶液使微粒析出，形成胶体，从而获得。如果将高浓度的水溶性镁化合物水溶液与高浓度的碱金属氢氧化物水溶液、或碱金属氢氧化物与碱金属碳酸盐或碱金属碳酸氢盐的混合水溶液进行混合，则会引起粘度的极度上升，故不优选。优选制备所需要的浓度的氯化镁水溶液，并向其中缓慢添加混合碱金属氢氧化物、或者碱金属氢氧化物与碱金属碳酸盐或碱金属碳酸氢盐的混合水溶液。与在水溶性镁化合物的水溶液中仅仅添加碱金属氢氧化物的水溶液的情形相比，在水溶性镁化合物的水溶液中添加碱金属氢氧化物与碱金属的碳酸盐或碳酸盐的混合物的情况下，所生成的胶体状粒子不易固化成块状。
为了防止在漂洗剂组合物中混入异物，优选使用高精度的过滤器等来对水溶性镁化合物水溶液、选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐和碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液进行过滤，除去异物，然后将两水溶液进行混合生成胶体状粒子。
本发明的由含胶体状粒子的悬浮液构成的漂洗剂组合物优选在用于漂洗加工的现场进行制备。这是因为，在生成胶体状粒子后，如果长期保管、运输，则有时会发生胶体状粒子沉降，该沉降物难以再分散返回到悬浮液中。
因此，本发明的漂洗剂组合物的运输或保管，优选将高浓度的水溶性镁化合物的水溶液、以及选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐和碱金属碳酸氢盐的至少一种的水溶液分开进行。另外，通过制成在低温下不会析出的程度的高浓度的水溶液，能够降低运输、保管成本。
虽然本发明的漂洗剂组合物即使保持原来的状态也能够得到充分的漂洗效果，但是为了进而提高附着物除去性、防止垫的堵塞、改善滚落等效果，也可以根据需要，混合聚丙烯酸、其盐、丙烯酸-马来酸共聚物及其盐、羧酸-磺酸系共聚物、萘磺酸-甲醛缩合物等芳族磺酸盐及其盐、羧甲基纤维素钠、聚乙烯醇、羟基丙基纤维素等水溶性高分子。
另外，也可以视需要适当混合乙二胺四乙酸、1，1，1-羟基亚乙基二膦酸等具有螯合作用的物质、以及草酸、甲酸、乙酸等有机酸或其盐。
本发明的漂洗剂组合物还可以包含杂质水平的铝、铁、硅等金属元素。这些杂质元素在不含具有螯合作用的物质的情况下，可以认为是以氢氧化物、氧化物的形态存在的，其实质上不妨碍作为漂洗剂的效果。但是，铁、铝的氢氧化物经常为微粒，作为漂洗剂组合物，优选尽量不含这类物质。另外，本发明的漂洗剂组合物还可以包含除镁以外的碱土类金属离子、其他的水溶性金属盐或者非水溶性金属盐。
本发明的漂洗剂组合物对于作为玻璃研磨加工对象的玻璃的种类没有要求。作为玻璃，可以列举出铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、钠铝硅酸盐玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、石英玻璃、链状硅酸盐玻璃或结晶化玻璃等玻璃陶瓷等。
对使用本发明的漂洗剂组合物进行漂洗加工方法并没有特别的限制。例如，可以通过将在研磨加工工序中供应于研磨加工机中的研磨材料的浆料替换为本发明的漂洗剂组合物来进行。利用漂洗剂组合物进行漂洗加工工序时的研磨加工机的加工压力优选低于研磨加工工序时的加工压力。漂洗加工时的加工压力优选为30g/cm2～70g/cm2。如果加工压力过高，则可能会损害被加工物。如果过低，则容易出现被加工物从载体飞出的现象。漂洗加工的时间优选几乎完全除去研磨材料浆料所需的时间。优选为2分钟以上，更优选为5分钟以上，进而在大型加工机的情形中，优选进行7分钟以上。
漂洗剂组合物的供应量只要是能够除去研磨材料等的量即可，并没有特别的限制，优选与实施氧化铈的循环研磨时的供应量相同程度的量。本发明的漂洗剂组合物的固体成分浓度低，排水处理的负荷小，因此，即使使用与水漂洗加工时所使用的水量同样大量使用，加工成本也不会升高。
另外，本发明的漂洗剂组合物中的胶体状粒子能够利用酸容易地溶解除去。在作为除去氧化铈系研磨材料的已知的方法的酸洗涤法中，为了溶解氧化铈，必须满足严格的条件，但是本发明的漂洗剂组合物能够在温和的条件下进行洗涤，因此能够降低洗涤成本。
实施例
下面给出实施例，并通过与比较例进行比较，对本发明进行更具体的说明，但是本发明并不限于下述实施例。另外，在实施例的记述中，关于份、％和比例，如果没有特别的说明，都是以质量为基准的。
[实施例1]
(研磨加工用浆料的制备)
将氧化铈系研磨材料与水与市售的分散剂混合，将研磨材料分散到水中，制备研磨材料浓度为5％的研磨加工用浆料1。
(漂洗剂组合物的制备)
将氯化镁6水合物(赤穗化成制造)溶解于水中，制备浓度为280mmol/L的氯化镁水溶液(A液)。
另一方面，将25％氢氧化钠水溶液、碳酸氢钠无水物(旭硝子制造)溶解在水中，制备浓度420mmol/L氢氧化钠与浓度140mmol/L的碳酸氢钠的混合水溶液(B液)。
将A液100mL溶解到19.8L纯水中，然后一边搅拌一边缓慢向其中添加B液100mL，制备漂洗剂组合物1。
(研磨加工)
将25块第一阶段的研磨加工过的铝硅酸盐类玻璃基板(直径65mm、厚度0.64mm)安装到具有仿麂皮垫(N0058：カネボ—株式会社制造)的4通道型的9B双面加工机中，以1.5L/分钟的速度循环供应约8L的研磨加工浆料，加工压力为90g/cm2、下平台转速为35转/分钟；将上平台、工件公转和工件自转速度设定为对应于该加工机的下平台转速的标准设定值，进行研磨加工。
从上述研磨加工开始到经过20分钟时，分别将加工压力变更为70g/cm2、下平台转速变更为25转/分钟、并将上平台、工件公转和工件自转速度设定为对应于该加工机的下平台转速的标准设定值，同时停止研磨加工用浆料1的循环供应，然后取而代之，以1.5L/分钟的供应速度一次性(1Pass)供应7.5L的漂洗剂组合物，进行5分钟的漂洗加工。
漂洗加工结束后，使用酸性洗涤剂对玻璃基板进行超声波洗涤，使用表面活性剂水溶液进行擦洗，进而进行纯水洗涤，最后进行旋转干燥，得到评价用玻璃基板。
加工机在漂洗加工结束后，使用刷子载体，一边以3L/分钟的供应量供应纯水，一边进行2分钟的垫洗涤，作为第二次的使用，用于研磨加工和漂洗加工。另外，在本发明中，加工速度(第一次)为第一次使用加工机时，即，最初的25块基板的研磨加工速度，加工速度(第二次)为第二次使用加工机时，即，接下来的25块基板的研磨加工速度。评价结果如表1所示。
表1
Figure G2007800072309D00171
使用上述评价用玻璃基板进行评价。结果如表1所示。
评价用玻璃基板，按照下述方法测定加工速度、通过原子间力显微镜(AFM)测定算术平均粗糙度(Ra)和附着性、通过触针式形状测定器(Tencor P-12)测定端部形状，来进行评价。
(算术平均粗糙度Ra)
通过原子间力显微镜(AFM)观察研磨面的10μm的四方形，求得算术平均粗糙度(Ra)。
(加工速度)
通过将加工量除以研磨加工时间20分钟，求得加工速度(μm/分钟)
加工速度(μm/分钟)＝加工量(μm)/20(分钟)
加工量是通过测定加工前后的玻璃基板的质量减少量，由质量减少量的测定值，按照下式换算得到的。
加工量(μm)＝质量减少量(g)×133(μm/g)
(附着性)
通过原子间力显微镜(AFM)观察研磨面的10μm的四方形，计算视野内的突起物的数目，按照每个视野内的个数为0～1个记为A、2～4个记为B、5～10个记为C、11个以上记为D进行评价。
(端部形状)
从距离基板端部2mm～3mm的2个部位平行选取，按照5mm的测定长度，使用触针式形状测定器(Tencor P-12)测定距离基板端部0.5mm的部位以及距离基板端部2.5mm的部位的形状。按照将向上翻转的状态记为滑雪跳高态(J)、笔直状记为平坦态(F)、向下翻转的状态记为凹陷(R)进行评价。
(加工机内堆积状态的观察)
通过目视观察加工机内堆积物的有无。
[实施例2～5]
在纯水中加入规定量的实施例1制备的A液、B液，制备表1所示的配方的漂洗剂组合物2～5。研磨加工用浆料使用与实施例1相同的材料，与实施例1同样进行加工试验。评价结果如表1所示。
[实施例6]
将33.8g硫酸镁无水盐(关东化学制造)溶解于水中，总量达到19L。在该水溶液中混合实施例1制备的B液1L，制备漂洗剂组合物6。研磨加工用浆料使用与实施例1相同的材料，实施例1同样实施加工试验。评价结果如表1所示。
[实施例7]
将71.91g硝酸镁6水合物(和光纯药制造)溶解于水中，总量达到19L。在该水溶液中混合实施例1制备的B液1L，制备漂洗剂组合物7。研磨加工用浆料使用与实施例1相同的材料，与实施例1同样实施加工试验。评价结果如表1所示。
[实施例8～12]
按照表1和表2所述的配方制备氯化镁、氢氧化钠和碳酸氢钠水溶液，得到漂洗剂组合物8～12。研磨加工用浆料使用与实施例1相同的材料，与实施例1同样实施加工试验。评价结果如表1和表2所示。
[实施例13～18]
按照表2所述的配方制备氯化镁、及氢氧化钠水溶液，得到漂洗剂组合物13～18。研磨加工用浆料使用与实施例1相同的材料，与实施例1同样实施加工试验。评价结果如表2所示。
[实施例19]
按照表2所述的配方制备氯化镁水溶液，得到漂洗剂组合物19。研磨加工用浆料使用与实施例1相同的材料，与实施例1同样实施加工试验。评价结果如表2所示。
表2
Figure G2007800072309D00201
[比较例1]
除了使用纯水代替漂洗剂组合物1之外，在与实施例1相同的条件下实施加工试验。评价结果如表3所示。
[比较例2]
除了使用14mmol/L的氯化镁和14mmol/L的硝酸铝的混合液(表3中，记为“Mg-Al”)代替漂洗剂组合物1之外，与实施例1同样操作，实施加工试验。评价结果如表3所示。
[比较例3]
除了使用21mmol/L的氢氧化钠水溶液(表3中，记为“NaOH”)代替漂洗剂组合物1之外，与实施例1同样操作，实施加工试验。评价结果如表3所示。
[比较例4]
将氧化铈系研磨材料与水与市售的分散剂混合，将研磨材料分散到水中，进而添加0.025％的氯化镁6水合物(相对于分散介质的水为1.2mmol/L)，制备研磨材料浓度为5％的研磨加工用浆料2。使用该浆料2进行研磨加工，除此之外，与比较例1同样，利用纯水进行漂洗加工。评价结果如表3所示。
[比较例5]
将氯化镁的添加量变更为0.25％(相对于分散介质的水为12mmol/L)，除此之外，与比较例4同样制备研磨加工用浆料3。使用该浆料3进行研磨加工，除此之外，与比较例1同样，利用纯水进行漂洗加工。评价结果如表3所示。
[比较例6]
将氯化镁的添加量变更为0.5％(相对于分散介质的水为24mmol/L)，除此之外，与比较例4同样制备研磨加工用浆料4。使用该浆料4进行研磨加工，除此之外，与比较例1同样，利用纯水进行漂洗加工。评价结果如表3所示。
[比较例7]
使用0.5质量％的胶体二氧化硅(表3中，记为“SiO2”)代替漂洗剂组合物1，除此之外，与实施例1同样，实施加工试验。评价结果如表3所示。
[比较例8]
将氢氧化镁粒子与水及市售的分散剂混合，将氢氧化镁粒子悬浮于水中，制备包含5％的氢氧化镁粒子的研磨加工用浆料5。仅使用该浆料5进行研磨加工，而不实施加工试验。评价结果如表3所示。
[比较例9]
除了使用0.5质量％的氢氧化镁悬浮液(表3中，记为“Mg”)代替漂洗剂组合物1之外，与实施例1同样实施加工试验。评价结果如表3所示。
表3
Figure G2007800072309D00221
如比较例1所示的那样，即使使用纯水研磨，也不能减少玻璃基板上的附着物，表面粗糙度Ra也为2.5
Figure G2007800072309D0022143101QIETU
以上。
另外可知，在水溶性镁化合物的酸性水溶液(比较例2)中，表面粗糙度Ra比纯水漂洗加工得到的产品的表面粗糙度低，但是附着物的除去效果弱。另外，加工速度的降低(第一次使用时的加工速度与第二次使用时的加工速度的差)也比实施例大。如果观察浆料，可以发现发生轻度的凝集，即使在氧化铈系研磨材料中微量混合，也会成为凝集产生源。
作为比较例3，在使用氢氧化钠水溶液作为漂洗剂的情况下，结果是虽然能发现附着的改善，但是用AFM测定得到的表面粗糙度变得稍高。另外，虽然没有通过数字来表示，但是可以发现，通过AFM观测的研磨面有条纹状的研磨痕迹，与实施例相比，加工物表面的形态变差。
在如比较例4～比较例6所示的那样，使用氧化铈系研磨材料与氯化镁组成的研磨加工用浆料进行研磨加工，然后使用纯水进行漂洗加工的情形中，未发现附着改善的效果，并观察到加工速度的降低。
另外，在使用胶体二氧化硅作为漂洗剂的比较例7中，未发现对附着性和表面粗糙度的改善效果。
另外，在比较例8中，用氢氧化镁粉末悬浮到水中得到的浆料进行研磨加工，结果发现，虽然能够观察到非常低的Ra和对附着的效果，但是加工速度极低。在将第二阶段的研磨加工中该浆料使用氧化铈、通过仿麂皮垫实施加工得到的加工物，进行第三阶段的加工的情况下，虽然能够得到表面缺陷少的研磨面，但是在用聚氨酯垫进行的第一阶段的加工后的基板中，加工速度过于缓慢，第一阶段的加工缺陷未被消除、表面粗糙Ra没有降低。
作为比较例9，虽然氢氧化镁粉末的悬浮液适用于漂洗加工，但是，在加工机内产生堆积物，如果不除去堆积物，则难以继续进行研磨加工。
与此相反，使用本发明的加工方法得到的玻璃基板(实施例1～19)的表面粗糙度Ra均为1.5
Figure 2007800072309100002G2007800072309D0022143101QIETU
以下，可知附着物的数量显著降低。另外，自第二次之后的加工速度的降低率也小。
产业可利用性
通过使用本发明的玻璃基板的加工方法，能够有效率地除去由于研磨加工而附着的研磨材料、研磨屑等，并能够减小后续的洗涤工序的负荷，降低玻璃基板的研磨处理整体的成本。另外，通过使用本发明的加工方法，能够容易地得到具有表面粗糙度小的研磨面的玻璃基板，有助于提高玻璃基板的品质。
另外，本发明的漂洗剂组合物几乎不具有研磨作用，能够在保持通过研磨加工所得到的高精度的研磨面的尺寸精度、端部形状的状态下，仅仅除去研磨材料等附着物。另外，如果使用本发明的漂洗剂组合物，则与水研磨相比，能够大幅降低工件所产生的咯吱声“鸣响”。特别地，“鸣响”的减弱效果在包含胶体状粒子的悬浮液的漂洗剂组合物中尤为显著。进而，虽然不清楚该“鸣响”减小的详细原因，但是，这对于大幅减小玻璃基板的伤痕量、提高玻璃基板的品质是非常有效的，在产业上具有重大的意义。

Claims (21)

1.玻璃基板的加工方法，包括：
对玻璃基板进行研磨加工的工序，以及
供给pH为7～12的选自下述(1)～(3)之一的漂洗剂组合物，对玻璃基板进行漂洗加工的工序，
(1)水溶性镁化合物的水溶液，
(2)水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，
(3)包含下述胶体状粒子的悬浮液，所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的，
其中，所述漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的加工方法，其中，使用氧化铈研磨材料或者氧化硅研磨材料或者它们的混合物进行研磨加工工序。
3.根据权利要求1所述的玻璃基板的加工方法，其中，水溶性镁化合物为氯化镁、硫酸镁、或硝酸镁。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板的加工方法，其中，碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2。
5.根据权利要求1所述的玻璃基板的加工方法，其中，碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2，漂洗剂组合物进而包含碱金属碳酸盐或者碱金属碳酸氢盐。
6.根据权利要求5所述的玻璃基板的加工方法，其中，水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：5X/4≤Y≤3X/2以及X/2≤Z≤3X/4，漂洗剂组合物是进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子的液体。
7.根据权利要求6所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝3X/2以及Z＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
8.根据权利要求6所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝5X/4以及Z＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
9.根据权利要求5所述的玻璃基板的加工方法，其中，水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：X/2≤Y≤X以及X/2≤Z’≤3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：Y＝X以及Z’＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
11.根据权利要求9所述的玻璃基板的加工方法，其中，漂洗剂组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：Y＝X/2以及Z’＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
12.玻璃基板加工用漂洗剂组合物，是pH为7～12的漂洗剂组合物，并选自下述(1)～(3)之一，
(1)水溶性镁化合物的水溶液，
(2)包含水溶性镁化合物和选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种的水溶液，
(3)包含下述胶体状粒子的悬浮液，所述胶体状粒子是水溶性镁化合物与选自碱金属氢氧化物、碱金属碳酸盐、以及碱金属碳酸氢盐中的至少1种在水中反应得到的，
其中，所述漂洗剂组合物中的总的镁浓度为1mmol/L～1mol/L。
13.根据权利要求12所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，水溶性镁化合物为氯化镁、硫酸镁、或硝酸镁。
14.根据权利要求12或13所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2。
15.根据权利要求12所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)与水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)的比(Y/X)为0.001～2，并进而包含碱金属碳酸盐或者碱金属碳酸氢盐。
16.根据权利要求15所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：5X/4≤Y≤3X/2以及X/2≤Z≤3X/4，漂洗剂组合物由包含它们在水中反应得到的胶体状粒子的液体构成。
17.根据权利要求16所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝3X/2以及Z＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
18.根据权利要求16所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸氢盐中的碳酸基的物质的量Z(mol)满足如下关系：Y＝5X/4以及Z＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
19.根据权利要求15所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：X/2≤Y≤X以及X/2≤Z’≤3X/4，漂洗剂组合物包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
20.根据权利要求19所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为7mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：Y＝X和Z’＝X/2，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
21.根据权利要求19所述的玻璃基板加工用漂洗剂组合物，其中，组合物中的总的镁浓度为150mmol/L～1mol/L，且水溶性镁化合物中的镁的物质的量X(mol)、碱金属氢氧化物中的羟基的物质的量Y(mol)和碱金属碳酸盐中的碳酸基的物质的量Z’(mol)满足如下关系：Y＝X/2和Z’＝3X/4，漂洗剂组合物进而包含它们在水中反应得到的胶体状粒子。
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